WO2004090960A1 - 載置台構造及びこの載置台構造を有する熱処理装置 - Google Patents

Abstract

処理容器４の底部より支柱を介して起立されて内部に加熱手段３８が埋め込まれた載置台３２の上面に被処理体Ｗを載置し、該被処理体に対して所定の熱処理を施すようにした熱処理装置において、前記載置台の上面、側面及び下面に、それぞれ耐熱性のカバー部材７２、７４、７６を設ける。これにより、載置台から汚染原因となる金属原子等が熱拡散することを防止でき、従って、金属汚染及び有機汚染等の各種のコンタミネーションが発生することを防止することが可能となる。

Description

明 細 書 載置台構造及びこの載置台構造を有する熱処理装置 技 術 分 野

本発明は、 半導体ウェハ等の被処理体を載置する載置台構造及びこの載置台構 造を有する熱処理装置に関する。 背 景 技 術

一般に、 半導体集積回路を製造するには、 半導体ウェハ等の被処理体に、 成膜 処理、 エッチング処理、 熱処理、 改質処理、 結晶化処理等の各種の枚葉処理を繰 り返し行なって、 所望する集積回路を形成するようになっている。 上記したよう な各種の処理を行なう場合には、 その処理の種類に対応して必要な処理ガス、 例 えば成膜処理の場合には成膜ガスを、 改質処理の場合にはオゾンガス等を、 結晶 化処理の場合には N₂ ガス等の不活性ガスや 0₂ ガス等をそれぞれ処理容器内へ 導入する。

例えば半導体ウェハに対して 1枚毎に熱処理を施す枚葉式の熱処理装置を例に とれば、 真空引き可能になされた処理容器内に、 例えば抵抗加熱ヒー夕を内蔵し た載置台を設置し、 この上面に半導体ウェハを載置した状態で所定の処理ガスを 流し、 所定のプロセス条件下にてウェハに各種の熱処理を施すようになっている。

ところで、 上記した載置台は、 一般的には処理容器内にその表面を露出した状 態で設置されている。 このため、 この載置台を構成する材料、 例えば A 1 N等の セラミックや金属材料からこれに含まれる僅かな重金属等が熱によって処理容器 内へ拡散して金属汚染や有機汚染等のコン夕ミネーシヨンを発生する原因となつ ていた。 この金属汚染や有機汚染等のコン夕ミネーシヨンに関しては、 最近のよ うに成膜用の原料ガスとして有機金属材料を用いる場合には、 特に厳しい汚染対 策が望まれている。

また、 通常は載置台に設けられる加熱ヒー夕は、 例えば同心円状に複数のゾー ンに分離区画されており、 それらのゾーン毎に個別独立的に温度制御を行ってゥ ェハ処理に最適な温度分布を実現するようになっているが、 この場合、 ゾーン毎 によって投入する電力が大きく異なる時には、 この載置台を構成する材料のゾ一 ン間における熱膨張差が大きく異なってしまって載置台自体が破損する場合があ る。 また A 1 N等の材料では高温の場合、 A 1 N材料の絶縁抵抗が著しく低下し、 漏洩電流が流れてしまう。 この様な理由によりプロセス温度を 6 5 0 °C程度以上 には上げることができなかった。

また、 熱処理としてウェハ表面に薄膜を堆積させる成膜処理を行う場合には、 薄膜が目的とするウェハ表面のみならず、 載置台の表面や処理容器の内壁面等に も不要な膜として付着してしまうことは避けられない。 この場合、 この不要な膜 が剥がれ落ちると、 製品の歩留り低下の原因となるパ一ティクルが発生するので、 定期的、 或いは不定期的に処理容器内へエッチングガスを流して上記不要な膜を 除去したり、 或いは処理容器内の構造物を硝酸等のエツチング溶液中に浸漬して 不要な膜を除去したりするクリーニング処理が行われている。

この場合、 上記した汚染対策ゃクリーニング処理の回数を減らすこと等を目的 とし、 特開昭 6 3 - 2 7 8 3 2 2号公報に開示されているように発熱体ヒ一夕を 石英ケーシングで覆って載置台を構成したり、 特開平 0 7— 0 7 8 7 6 6号公報 に開示されているように密閉された石英製のケース内に抵抗発熱体を設けてこの 全体を載置台として用いるようにしたり、 特開平 0 3— 2 2 0 7 1 8号公報及び 特開平 0 6 - 2 6 0 4 3 0号公報に開示されているようにヒー夕自体を石英板で 挟み込んで載置台として用いることが行われている。

ところで、 上記した各従来技術にあっては、 載置台を石英カバーで覆うなどし ているのである程度の金属汚染等のコン夕ミネーシヨンの発生は抑制できるが、 まだその対策は十分とはいえなかった。 また、 用いる石英板が透明な場合にはヒ —夕線の温度分布がウェハ温度に投影される場合が生じ、 ウェハの面内温度分布 に不均一を生じてしまう問題もあった。 更には、 載置台の裏面やこの裏面側を覆 うカバ一に不要な薄膜がまだら状に、 或いは凹凸状に付着する場合がある。 この 場合には、 付着した不要な膜の厚い部分と薄い部分とで熱の輻射率が異なること からこれが原因で載置台の表面温度に分布を生ぜしめ、 ひいてはウェハ面内の温 度の不均一性を引き起こしてしまい、 ウェハに対する熱処理の面内均一性を低下 させる原因となっていた。

また、 載置台の表面やカバーの表面に付着した不要な膜は、 比較的に早く剥が れ易いので、 これが剥がれ落ちる前にクリーニング処理を行う必要からクリ一二 ング処理などのメンテナンス作業の間隔が短くなり、 このメンテナンス作業を頻 度良く行わなければならなかった。 更には、 加熱体である載置台がゾーン毎に加 熱できる場合、 各ゾーン毎に投入する電力差が大きいと、 ヒー夕材質の熱膨張の 問題により、 載置台に破損が生ずるなどの問題があつた。

本発明は、 以上のような問題点に着目し、 これを有効に解決すべく創案された ものである。

本発明の目的は、 金属汚染等のコン夕ミネーションの発生を確実に抑制するこ とができるのみならず、 熱伝導よく高温の熱処理にも対応し、 均熱をとるために 広範囲のゾーン調整をすることが可能な載置台構造及び熱処理装置を提供するこ とにある。

本発明の他の目的は、 不要な膜が載置台側にまだら状に付着してもその熱的悪 影響を排除して載置台の面内温度の均一性を高く維持することが可能な載置台構 造及び熱処理装置を提供することにある。

本発明の更に他の目的は、 不要な膜が載置台等に付着してもそれができるだけ 剥がれ落ちることを防止して、 クリーニング処理等のメンテナンスサイクルの長 期化を図ることが可能な載置台構造及び熱処理装置を提供することにある。

また本発明の他の目的は、 複数の加熱ゾーンからなる載置台において、 ゾーン 間の投入電力差を自由に指定できることで、 面内温度の均一性を高く維持するこ と、 または特殊な加熱を行うことができる載置台構造及びこの載置台構造を有す る熱処理装置を提供することにある。 発 明 の 開 示

上記目的を達成するために、 請求の範囲第 1項に記載の発明は、 処理容器内に て被処理体に対して所定の熱処理を施すために前記被処理体を載置するとともに、 前記被処理体を加熱する加熱手段を有する載置台と、 前記載置台を前記処理容器 の底部より起立させて支持する支柱とを有する載置台構造において、 前記載置台 の上面、 側面及び下面に、 耐熱性を有する上面カバー部材、 側面カバー部材、 下 面カバ一部材をそれそれ設けたことを特徴とする。

このように、 被処理体を載置する載置台の上面、 側面及び下面に、 それぞれ耐 熱性のカバ一部材を設けるようにしたので、 載置台から汚染原因となる金属原子 等が熱拡散することを防止でき、 従って、 金属汚染や有機汚染等の各種のコン夕 ミネーシヨンが発生することを防止することが可能となる。

請求の範囲第 2項に記載の発明は、 処理容器内にて被処理体に対して所定の熱 処理を施すために前記被処理体を載置するとともに、 前記被処理体を加熱する加 熱手段を有する載置台と、 前記載置台を前記処理容器の底部より起立させて支持 する支柱とを有する載置台構造において、 前記載置台の下面側に、 耐熱性の不透 明裏面カバー部材を設けたことを特徴とする。

このように、 被処理体を載置する載置台の下面側に耐熱性の不透明裏面カバー 部材を設けるようにしたので、 載置台の裏面においてこの不透明裏面カバー部材 の表面 (下面) に例えばまだら状 (凹凸状) に不要な膜が付着してもこの不透明 裏面カバー部材の表面からの輻射率は面内において略均一に保たれており、 従つ て、 載置台の表面温度の面内均一性及び被処理体の面内温度の均一性を高く維持 することが可能となる。

請求の範囲第 3項に記載の発明は、 前記載置台の上面、 側面、 前記不透明裏面 カバー部材の下面に、 耐熱性を有する上面カバー部材、 側面カバー部材、 下面力 バー部材をそれぞれ設けたことを特徴とする。

これによれば、 被処理体を載置する載置台の上面、 側面及び不透明裏面カバー 部材の下面に、 それぞれ耐熱性のカバー部材を設けるようにしたので、 載置台か ら汚染原因となる金属原子等が熱拡散することを防止でき、 従って、 金属汚染や 有機汚染等の各種のコン夕ミネーシヨンが発生することを防止することが可能と なる。

請求の範囲第 4項に記載の発明は、 前記上面カバー部材は、 前記載置台の直径 と実質的に同じ直径に設定されており、 前記上面カバー部材の上面には凸部が形 成されているとともに、 この凸部には凹部状に窪ませて前記被処理体を載置する ための収容凹部が形成されていることを特徴とする。 請求の範囲第 5項に記載の発明は、 前記上面カバー部材の周縁部の上面は、 前 記側面カバー部材の一部と接触して覆われていることを特徴とする。

請求の範囲第 6項に記載の発明は、 前記載置台の側面には、 不透明石英カバ一 部材が設けられることを特徴とする。

請求の範囲第 7項に記載の発明は、 前記不透明裏面カバー部材と前記下面カバ 一部材との間には隙間が形成されていることを特徴とする。

請求の範囲第 8項に記載の発明は、 前記不透明裏面カバー部材の下面には、 前 記隙間を形成するための突起状の脚部が形成されていることを特徴とする。 請求の範囲第 9項に記載の発明は、 処理容器内にて被処理体に対して所定の熱 処理を施すために前記被処理体を載置する載置台と、 前記載置台を前記処理容器 の底部より起立させて支持する支柱とを有する載置台構造において、 前記載置台 と前記支柱とをそれぞれ石英ガラスにより形成し、 前記載置台内に加熱手段を埋 め込んだことを特徴とする。

これによれば、 載置台から汚染原因となる金属原子等が熱拡散することを防止 でき、 従って、 金属汚染等の各種のコンタミネ一シヨンが発生することを防止す ることが可能となる。

請求の範囲第 1 0項に記載の発明は、 前記支柱を円筒体状に形成すると共に、 前記加熱手段に対する給電線を前記載置台の中心部より引き出して前記円筒状の 支柱内を下方に向けて挿通させるようにしたことを特徴とする。

請求の範囲第 1 1項に記載の発明は、 前記載置台は、 上板と中板と下板とを接 合してなり、 前記上板の下面と前記中板の上面との内のいずれか一方に、 前記加 熱手段を収容するための配線溝が形成されており、 前記中板の下面と前記下板の 上面との内のいずれか一方に前記加熱手段から延びる前記給電線を収容する配線 溝が形成されていることを特徴とする。

請求の範囲第 1 2項に記載の発明は、 前記載置台の上面には、 不透明な上面力 バー部材が設けられていることを特徴とする。

これによれば、 載置台の上面に不透明な均熱板を設けたので、 被処理体の温度 分布の面内均一性を高めることが可能となる。

請求の範囲第 1 3項に記載の発明は、 前記載置台には、 前記載置台の上面にパ ージ用のガスを供給するバックサイ ド用ガス孔が形成され、 前記バックサイ ド用 ガス孔にはガスを供給するための石英管が接続されていることを特徴とする。 請求の範囲第 1 4項に記載の発明は、 前記石英管は、 前記支柱の外側に配置さ れて、 その上下端が溶着により取り付け固定されることを特徴とする。

請求の範囲第 1 5項に記載の発明は、 前記石英ガラスは透明石英ガラスである ことを特徴とする。

請求の範囲第 1 6項に記載の発明は、 前記載置台の下面側に、 耐熱性の不透明 裏面カバー部材を設けたことを特徴とする。

このように、 被処理体を載置する載置台の下面側に耐熱性の不透明裏面カバー 部材を設けるようにしたので、 この不透明裏面カバー部材の表面 （下面） に例え ばまだら状 （凹凸状） に不要な膜が付着してもこの不透明裏面カバー部材の表面 からの輻射率は面内において略均一に保たれており、 従って、 載置台の表面温度 の面内均一性及び被処理体の面内温度の均一性を高く維持することが可能となる 請求の範囲第 1 7項に記載の発明は、 前記載置台の上面、 側面及び下面に、 そ れぞれ耐熱性を有する上面カバー部材、 側面カバ一部材、 下面カバー部材を設け たことを特徴とする。

このように、 被処理体を載置する載置台の上面、 側面及び下面に、 それぞれ耐 熱性のカバー部材を設けるようにしたので、 載置台から汚染原因となる金属原子 等が熱拡散することを防止でき、 従って、 金属汚染等の各種のコンタミネーショ ンが発生することを防止することが可能となる。

また載置台、 その側面、 下面カバー部材の材質が例えば石英でできているため、 これらの部品から熱拡散による金属汚染等のコンタミ発生を低減できる。 更に、 成膜ガスが載置台に付着することを防ぐことができる。 これによつて、 載置台の ゥエツトクリーニングサイクルを延ばせるので、 長時間のラィフタイムと初期形 状を確保できる。

請求の範囲第 1 8項に記載の発明は、 前記支柱の下端部には、 この支柱の破損 を防止するためのクヅシヨン部材が介設されていることを特徴とする。

請求の範囲第 1 9項に記載の発明は、 前記不透明裏面カバー部材は不透明石英 ガラスであることを特徴とする。 請求の範囲第 2 0項に記載の発明は、 前記支柱の側面に、 耐熱性を有する支柱 カバー部材を設けたことを特徴とする。

これによれば、 載置台の支柱にもカバー部材を設けるようにしたので、 金属汚 染を防止できるのみならず、 支柱に成膜ガスが付着することを防ぐことができる。 請求の範囲第 2 1項に記載の発明は、 前記上面カバー部材、 前記側面カバー部 材、 前記下面カバー部材と、 前記ま柱カバー部材とは、 カバー部材を構成し、 前 記下面カバ一部材と前記支柱カバー部材とは一体的に成形されており、 前記カバ 一部材の全体は分解及び組み立てが可能になされていることを特徴とする。

これによれば、 各カバ一部材は分解及び組み立てができるようになっているの で、 ゥェヅトクリーニング処理等のメンテナンス作業を迅速に行うことができる。 請求の範囲第 2 2項に記載の発明は、 前記載置台の上面に形成した上面カバー 部材及び前記不透明裏面カバー部材を除く他のカバ一部材は、 それそれ透明石英 ガラスよりなり、 この透明石英ガラスのカバ一部材の表面には、 これに付着する 膜の剥がれを防止するための表面粗化処理が施されていることを特徴とする。

これにより、 カバ一部材の表面に付着したパーティクルとなりうる不要な膜が 容易に剥がれ落ちることを防止できるので、 その分、 クリーニング処理等のメン テナンス作業のサイクルを長くすることができる。

請求の範囲第 2 3項に記載の発明は、 前記支柱の下端部の接合部には、 シール 部材が設けられると共に、 該シール部材の近傍には、 前記シール部材に前記載置 台側から放出される熱を遮断するための不透明部材が設けられることを特徴とす る。

これにより、 支柱の下端部の接合部に設けたシール部材は、 この近傍に設けた 不透明部材により載置台側からくる輻射熱が遮断されるので、 熱による損傷を受 けることがない。

請求の範囲第 2 4項に記載の発明は、 前記支柱の全体が不透明部材からなり、 かつ前記支柱の内部に不透明部材を設置し、 前記支柱下端部のシール部材を前記 載置台側から放出される熱から守ることを特徴とする。

請求の範囲第 2 5項に記載の発明は、 真空引き可能になされた処理容器と、 請 求の範囲第 1項ないし第 2 4項のいずれか 1項に記載された載置台構造と、 前記 処理容器内へ所定の処理ガスを供給するガス供給手段とを備えたことを特徴とす る ο

請求の範囲第 2 6項に記載の発明は、 前記載置台の加熱手段が内側及び外側の 2つの加熱ゾーンから構成されていることを特徴とする。 図面の簡単な説明

図 1は、 本発明に係る載置台構造を有する熱処理装置の一実施の形態を示す概 略断面図である。

図 2は、 本発明に係る載置台構造の第 1の実施の形態を示す断面図である。 図 3は、 図 2に示す載置台構造のカバー部材を示す分解斜視図である。

図 4は、 本発明に係る載置台構造の第 2の実施の形態を示す断面図である。 図 5は、 図 4に示す載置台構造の支柱の下端部を示す部分拡大断面図である。 図 6は、 図 4に示す載置台構造の載置台の一部を示す拡大断面図である。

図 7は、 図 4に示す載置台構造の載置台の接合前の状態を示す分解図である。 図 8は、 図 4に示す載置台構造のカバー部材を示す分解斜視図である。

図 9は、 所定の圧力範囲における載置台の温度分布の面内均一性を示すグラフ め 。

図 1 0は、 本発明に係る載置台構造の第 2の実施の形態の変形例を示す断面図 である。

図 1 1は、 本発明に係る載置台構造の第 2の実施の形態の他の変形例を示す断 面図である。 ·

図 1 2は、 図 1 1に示す他の変形例を示す分解斜視図である。

図 1 3は、 本発明に係る載置台構造の第 3の実施の形態を示す断面図である。 発明を実施するための最良の形態

以下、 本発明に係る載置台構造を有する熱処理装置の実施の形態について図 1 ないし図 1 3に基づいて詳述する。

図 1ないし図 3は、 本発明に係る第 1の実施形態を示す図である。

図 1は本発明に係る載置台構造を有する熱処理装置を示す断面構成図、 図 2は 載置台構造を示す断面図、 図 3は図 2に示す載置台構造のカバー部材を示す分解 図である。

図示するようにこの熱処理装置 2は、 例えば断面の内部が略円形状になされた アルミ二ゥム製の処理容器 4を有している。 この処理容器 4内の天井部には必要 な処理ガス、 例えば成膜ガスを導入するためにガス供給手段であるシャワーへヅ ド部 6が設けられており、 この下面のガス噴射面 8に設けた多数のガス噴射孔か ら処理空間 Sに向けて処理ガスを吹き出すようにして噴射するようになっている。 このシャワーへヅド部 6内には、 中空状の 2つに区画されたガス拡散室 1 2 A、 1 2 Bが形成されており、 ここに導入された処理ガスを平面方向へ拡散した後、 各ガス拡散室 1 2 A、 1 2 Bにそれぞれ連通された各ガス噴射孔 1 0 A、 1 0 B より吹き出すようになつている。 すなわち、 ガス噴射孔 1 0 A、 1 0 Bはマトリ クス状に配置されている。 このシャヮ一へッド部 6の全体は、 例えばニッケルや ハステロィ (登録商標) 等のニッケル合金、 アルミニウム、 或いはアルミニウム 合金により形成されている。 尚、 シャワーヘッド部 6としてガス拡散室が 1つの 場合でもよい。 そして、 このシャワーへヅド部 6と処理容器 4の上端開口部との 接合部には、 例えば 0リング等よりなるシール部材 1 4が介在されており、 処理 容器 4内の気密性を維持するようになっている。

また、 処理容器 4の側壁には、 この処理容器 4内に対して被処理体としての半 導体ウェハ Wを搬入搬出するための搬出入口 1 6が設けられると共に、 この搬出 入口 1 6には気密に開閉可能になされたゲートバルブ 1 8が設けられている。 そして、 この処理容器 4の底部 2 0に排気落とし込め空間 2 2が形成されてい る。 具体的には、 この容器底部 2 0の中央部には大きな開口 2 4が形成されてお り、 この開口 2 4に、 その下方へ延びる有底円筒体状の円筒区画壁 2 6を連結し てその内部に上記排気落とし込め空間 2 2を形成している。 そして、 この排気落 とし込め空間 2 2を区画する円筒区画壁 2 6の底部 2 8には、 これより起立させ て本発明の特徴とする載置台構造 2 9が設けられる。 具体的には、 この載置台構 造 2 9は、 例えば A 1 N等のセラミックよりなる円筒体状の支柱 3 0と、 この支 柱 3 0の上端部に設けられた載置台 3 2とを有している。

そして、 上記排気落とし込め空間 2 2の入口開口 2 4は、 載置台 3 2の直径よ りも小さく設定されており、 上記載置台 3 2の周縁部の外側を流下する処理ガス が載置台 3 2の下方に回り込んで入口開口 2 4へ流入するようになっている。 そ して、 上記円筒区画壁 2 6の下部側壁には、 この排気落とし込め空間 2 2に臨ま せて排気口 3 4が形成されており、 この排気口 3 4には、 図示しない真空ポンプ が介設された排気管 3 6が接続されて、 処理容器 4内及び排気落とし込め空間 2 2の雰囲気を真空引きして排気できるようになつている。

そして、 この排気管 3 6の途中には、 開度コントロールが可能になされた図示 しない圧力調整弁が介設されており、 この弁開度を自動的に調整することにより、 上記処理容器 4内の圧力を一定値に維持したり、 或いは所望する圧力へ迅速に変 化させ得るようになつている。

また、 上記載置台 3 2は、 加熱手段として例えば内部に所定のパターン形状に 配置された例えばモリブデンよりなる抵抗加熱ヒー夕 3 8を有しており、 この外 側は焼結された例えば A 1 N等よりなるセラミックスにより構成され、 上面に被 処理体としての半導体ウェハ Wを載置し得るようになつている。 また、 上記抵抗 加熱ヒー夕 3 8は上記支柱 3 0内に配設された給電線 4 0に接続されて、 電力を 制御しつつ供給できるようになつている。 そして、 この給電線 4 0は石英管 3 9 内に揷通され、 またこの給電線 4 0は、 上記支柱 3 0の下部にて電源ケーブルと 接続されている。 尚、 抵抗加熱ヒータ 3 8は、 例えば内側ゾーンと、 その外側を 同心円状に囲む外側ゾーンとに分割されており、 各ゾーン毎に個別に電力制御で きるようになつている。 図示例では給電線 4 0は 2本しか記載していないが、 こ の場合は 4本設けられることになる。

上記載置台 3 2には、 この上下方向に貫通して複数、 例えば 3本のピン揷通孔 4 1が形成されており (図 1においては 2つのみ示す) 、 上記各ピン揷通孔 4 1 に上下移動可能に遊嵌状態で挿通させた押し上げピン 4 2を配置している。 この 押し上げピン 4 2の下端には、 円形リング形状に形成された例えばアルミナのよ うなセラミックス製の押し上げリング 4 4が配置されており、 この押し上げリン グ 4 に、 上記各押し上げピン 4 2の下端を固定されない状態にて支持させてい る。 この押し上げリング 4 4から延びるアーム部 4 5は、 容器底部 2 0を貫通し て設けられる出没ロッド 4 6に連結されており、 この出没ロッド 4 6はァクチュ エータ 4 8により昇降可能になされている。 これにより、 上記各押し上げピン 4 2をウェハ Wの受け渡し時に各ピン挿通孔 4 1の上端から上方へ出没させるよ うになつている。 また、 ァクチユエ一夕 4 8の出没ロッド 4 6の容器底部の貫通 部には、 伸縮可能なベローズ 5 0が介設されており、 上記出没ロッド 4 6が処理 容器 4内の気密性を維持しつつ昇降できるようになつている。

そして、 図 2に示すように、 載置台 3 2を支持固定する例えば A 1 N等の円筒 体状の支柱 3 0の下端部には、 拡径されたフランジ部 5 2が形成されている。 尚、 図 2においては載置台 3 2の内部構造や押し上げピン 4 0等の記載は省略してい る。 そして、 底部 2 8の中心には所定の大きさの開口 5 4が形成されており、 そ の閧ロ 5 4をその内側から塞く、ようにして上記閧ロ 5 4より少し大きい直径の例 えばアルミニウム合金製のベース板 5 6をボルト 5 8により締め付け固定してい る。 この底部 2 8の上面と上記ベース板 5 6の下面との間には、 例えば 0リング 等のシール部材 6 0が介設されており、 この部分の気密性を保持している。

そして、 上記ベース板 5 6上に上記支柱 3 0を起立させて、 この支柱 3 0のフ ランジ部 5 2にリング状になされた断面 L字状の例えばアルミニウム合金製の押 さえ部材 6 2を嵌装し、 この押さえ部材 6 2と上記ベース板 5 6とをボルト 6 4 で固定することにより、 上記フランジ部 5 2を上記押さえ部材 6 0で挟み込んで 固定している。 ここで上記ベース板 5 6の上面と上記フランジ部 5 2の下面との 間には、 例えば 0リング等のシール部材 6 6が介設されており、 この部分の気密 性を保持するようになっている。 そして、 上記べ一ス板 5 6には、 複数の揷通孔 6 8が形成されており、 この揷通孔 6 8を介して上記給電線 4 0を外へ引き出す ようになつている。 従って、 この円筒状の支柱 3 0内は大気圧雰囲気になってい る。 尚、 この支柱 3 0の上端部は、 載置台 3 2の裏面の中心部に気密に溶接等に より接続固定されている。 また上記支柱 3 0内は気密に封止してもよい。

そして、 このように取り付け固定された載置台構造 2 9に、 本発明の特徴とす るカバー部材が設けられる。 具体的には、 図 3にも示すように上記カバー部材と しては、 上記載置台 3 2の上面の半導体ウェハ Wを載置する部分を覆う円板状の 上面カバ一部材 7 2と、 この載置台 3 2の周縁部とその側面の一部、 或いは全部 を覆うリング状の周縁部カバー部材 7 4と、 この載置台 3 2の側面の一部、 或い は全部と載置台 3 2の下面とを覆う下面カバー部材 7 6と、 上記支柱 3 0の側面 全体を覆う支柱カバー部材 7 8と、 支柱 3 0の下端部を覆う脚部カバー部材 8 0 とがそれぞれ設けられる。 また、 特にこの実施例においては、 上記載置台 3 2の 下面 （裏面） と直接的に接触してこれと上記下面カバー部材 7 6との間に介在さ せて、 リング状の不透明裏面カバー部材 8 2が設けられる。 従って、 この場合に は上記下面カバー部材 7 6は上記不透明裏面カバ一部材 8 2の下面を覆うことに なる。

上記全てのカバ一部材 7 2、 7 4、 7 6、 7 8、 8 0、 8 2は耐熱性及び耐腐 食性材料よりなる。 特に、 上面カバ一部材 7 2は、 この上面にウェハ Wを直接的 に載置することから金属汚染や有機汚染等のコン夕ミネ一シヨンが発生する恐れ が極めて少なくて、 且つ熱伝導性の良好な材料、 例えば S i C等のセラミックよ りなる。 また、 不透明裏面カバー部材 8 2は、 金属汚染や有機汚染等のコン夕ミ ネーションが発生する恐れが極めて少なくて且つ熱線を透過し難いような材料、 例えば不透明石英ガラスよりなる。 また他のカバー部材 7 4、 7 6、 7 8、 8 0 は、 金属汚染や有機汚染等が発生する恐れが極めて少ない材料、 例えば透明な石 英ガラスよりなる。

伝熱性の良好な S i Cよりなる上記上面カバー部材 7 2は、 円板状に形成され て中央部にウェハ Wを直接的に載置するための収容凹部 8 4が形成されており、 この収容凹部 8 4の深さは、 ウェハ Wの厚さと略同等になされている。 この上面 カバ一部材 7 2には、 押し上げピン 4 2 (図 1参照) を通すピン揷通孔 4 1が形 成されている。 そして、 この上面カバ一部材 7 2の厚みは例えば 3 . 0 mm程度 め 。

透明石英ガラスよりなる上記周縁部カバー部材 7 4は、 リング状に成形されて おり、 上述したように載置台 3 2の上面の周縁部と側面の一部、 或いは全部を覆 うように、 断面逆 L字状に成形されており、 載置台 3 2の周縁部に図 2に示すよ うに着脱可能に嵌装し得るようになつている。 そして、 この周縁部カバー部材 7 4の内周面には、 その周方向に沿って係合段部 8 '6がリング状に形成されてお り、 この係合段部 8 6に上記上面カバー部材 7 2の周縁部を当接させて、 この上 面カバー部材 7 2を着脱可能 （分解可能） に支持するようになっている。 この周 縁部カバ一部材 7 4の厚みは例えば 2 . 0〜3 . 0 mm程度である。 透明石英ガラスよりなる上記下面カバ一部材 7 6と同じく透明石英ガラスより なる上記支柱カバー部材 7 8とは、 溶接により一体的に成形されている。 まず、 下面カバー部材は、 前述したように載置台 3 2の側面の一部、 或いは全部と載置 台 3 2の下面全体とを覆うように円形の容器状に成形されており、 その中心部に は支柱 3 0 (図 2参照） を通すための閧ロ 8 8が形成されている。 そして、 この 開口 8 8の周縁部に上記支柱カバー部材 7 8の上端部が溶接されている。 上記容 器状の下面カバー部材 7 6内に上記載置台 3 2の全体を揷脱可能に収容し得るよ うになつている。 この場合、 上記周縁部カバ一部材 7 4の側壁の内径は、 上記下 面カバー部材 7 6の側壁の外径よりも僅かに大きく設定されており、 図 2に示す ように、 上記周縁部カバー部材 7 4の側壁の下端部が、 上記下面カバー部材 7 6 の側壁の外周面の全体を覆ってこれに接するような状態で両端部が重なるように 分解可能に嵌装される。

これにより、 上記載置台 3 2の側面は完全に覆われることになる。 そして、 こ の下面カバ一部材 7 6には、 上記押し上げピン 4 2 (図 1参照） を揷通するため のビン揷通孔 4 1が形成されている。

またこの下面カバー部材 7 6に一体的に接合されている上記支柱カバ一部材 7 8の内径は、 フランジ部 5 2の外径よりも僅かに大きく設定されており、 その 下端部は、 上記押さえ部材 6 2 (図 2参照） の上面に達している。 ここで上述の ようにこの下面カバー部材 7 6と支柱カバー部材 7 8とは一体的に結合された状 態で、 載置台 3 2の分解時に支柱 3 0側から下方に抜けるようになつている。 こ の下面カバー部材 7 6の厚みは例えば 3 . 0 mm程度であり、 支柱カバー部材 7 8の厚みは例えば 5 . 0 mm程度である。

また、 透明石英ガラスよりなる上記脚部カバー部材 8 0は、 上記押さえ部材 6 2の露出表面と上記ベース板 5 6の露出表面とを覆うように断面逆 L字状にな されて全体がリング状に形成されている。 この脚部カバー部材 8 0は、 着脱が容 易にできるように 2分割可能に半割り状態になされている。 この脚部カバ一部材 8 0の厚みは例えば 3 . 0 mm程度である。 尚、 上記脚部カバー部材 8 0は 2分 割ではなく、 リング状に一体型に成形してもよい。 また、 上記フランジ部 5 2の直径は、 上記支柱カバー部材 7 8の内径よりも僅 かに小さく設定されており、 ボルト 5 8、 6 4を緩めてベース板 5 6や押さえ部 材 6 2を取り外した際に、 支柱カバー部材 7 8内の支柱 3 0を上方へ抜き出して 分解できるようになつている。

一方、 上記不透明裏面カバ一部材 8 2は、 上記載置台 3 2の下面 （裏面） の略 全体 （支柱 3 0との接続部を除く） を覆うように円板状に形成されており、 その 中心部には支柱 3 0を通す開口 9 0が形成されている。 またこの不透明裏面カバ —部材 8 2には、 押し上げピン 4 2を揷通するためのピン揷通孔 4 1が形成され ている。 更にこの不透明裏面カバ一部材 8 2は載置台 3 2の下面と密接状態で介 在されているが、 不透明裏面カバー部材 8 2の下面には 3個 （図 2では 2個のみ 示す） の突起状の脚部 1 2 0が設けられ、 不透明裏面カバ一部材 8 2と下面カバ 一部材 7 6との間に隙間 1 2 2を形成することにより、 不透明裏面カバー部材 8 2に移動の自由度を持たせて不透明裏面カバー部材 8 2の割れを防止するよう になっている。 尚、 この脚部 1 2 0を、 下面力パー部材 7 6の上面に突起状に設 けてもよい。

上記不透明裏面カバー部材 8 2は、 前述したように例えば多数の微細な気泡を 含んで白濁状態になされた不透明石英ガラスを用いており、 載置台 3 2の下面か らの熱線が外方へ透過することを阻止し得るようになつていると共に、 熱線を上 面へ反射する。 よってこの不透明裏面カバー部材 8 2の材料としては少なくとも 不透明で耐熱性がある材料ならよく、 反射率が高いほどよい。

そして、 本実施例では上記透明石英ガラスよりなるカバー部材、 すなわち周縁 部カバー部材 7 4、 下面カバー部材 7 6、 支柱カバ一部材 7 8及び脚部カバー部 材 8 0の各表面には、 予めサンドプラスト等による表面粗化処理が施されており、 その表面に微細な凹凸が形成されて、 この表面に付着した不要な膜がアンカ一効 果により剥がれ難くなるようにしている。

尚、 図示されてないが、 この載置台 3 2には、 温度制御のためにこの温度を検 出する熱電対が押し付けられて設けられ、 また、 ウェハ Wの裏面側にウェハ Wと の熱伝導性を良好にするために例えば N₂ や A rガス等の不活性ガスを供給する ガス供給口が形成されている。 次に、 以上のように構成された熱処理装置の動作について説明する。 まず、 未処理の半導体ウェハ Wは、 図示しない搬送アームに保持されて開状態 となったゲートバルブ 1 8、 搬出入口 1 6を介して処理容器 4内へ搬入され、 こ のウェハ Wは、 上昇された押し上げピン 4 2に受け渡された後に、 この押し上げ ピン 4 2を降下させることにより、 ウェハ Wを載置台 3 2の上面、 具体的には上 面カバ一 7 2の上面の収容凹部 8 4に載置してこれを支持する。

次に、 シャワーへヅド部 6へ処理ガスとして例えば T i C 1 ₄ 、 H₂ 、 N H₃ 、 W F₆ 、 S i K 、 H₂ 、 P E T、 0₂ 等の成膜ガスを流量制御しつつ供給して、 このガスをガス噴射孔 1 0より吹き出して噴射し、 処理空間 Sへ導入する。

そして、 図示してないが排気管 3 6に設けた真空ポンプの駆動を継続することに より、 処理容器 4内や排気落とし込め空間 2 2内の雰囲気を真空引きし、 そして、 圧力調整弁の弁開度を調整して処理空間 Sの雰囲気を所定のプロセス圧力に維持 する。 この時、 ウェハ Wの温度は例えば 4 0 0〜 7 0 0 °C程度に維持されている c これにより、 半導体ウェハ Wの表面に T iヽ T i Nヽ W、 W S iヽ T a= 0₅ 等 の薄膜が形成されることになる。

このような成膜過程において、 高温に加熱されている例えば A 1 N材よりなる 載置台 3 2からは、 これに非常に僅かに含まれている重金属等が熱拡散して処理 容器 4内側へ放出される恐れが存在する。 しかしながら、 本実施例においては、 載置台 3 2の全表面は、 耐熱性が高く、 且つ金属汚染や有機汚染等のコン夕ミネ ーシヨンの恐れのない材料、 例えば S i Cにより形成されている上面カバ一部材 7 2や、 同じく耐熱性が高く、 且つ金属汚染や有機汚染等のコンタミネーシヨン の恐れのない材料である透明石英ガラスよりなる周縁部カバ一部材 7 4や下面力 バー部材 7 6により完全に覆われているので、 重金属等が処理容器 4内側へ拡散 することを阻止でき、 従って半導体ウェハ Wが金属汚染や有機汚染等されること を防止することが可能となる。 この場合、 上記 3つのカバー部材、 すなわち上面 カバ一部材 7 2、 周縁部カバ一部材 7 4及び下面カバ一部材 7 6だけを設けても 金属汚染や有機汚染等のコン夕ミネ一シヨンの防止効果を十分に得ることができ る o

そして、 本実施例では、 例えば A 1 N材よりなる支柱 3 0を同じく例えば透明 石英ガラスよりなるま柱カバ一部材 7 8によりその周囲を完全に覆っているので、 金属汚染や有機汚染等のコンタミネーシヨンの防止効果を一層向上させることが できる。 また、 この支柱 3 0の下端部を固定する押さえ部材 6 2やベース板 5 6 の表面も、 透明石英ガラスよりなる脚部カバー部材 8 0により覆っているので、 更に金属汚染や有機汚染等のコンタミネーシヨンの防止効果を向上させることが できる。

また、 載置台 3 2とウェハ Wとの間に介在される上面カバー部材 7 2は、 透明 石英ガラスよりも熱伝導性の良好な材料、 例えば S i Cにより形成しているので、 載置台 3 2内に埋め込まれた抵抗加熱ヒー夕 3 8からの熱を効率良くウェハ Wに 伝達してこれを効率的に加熱することが可能である。 また石英ガラスによって上 面カバ一部材 7 2を形成してもよく、 この場合には実験では S i Cよりヒ一夕 3 8とウェハ Wとの温度差が少なくなつた。

また成膜の進行に従って、 ウェハ Wの表面に目的とする必要な膜が堆積するの みならず、 各カバー部材 7 4、 7 6、 7 8、 8 0の露出面には、 不要な膜が付着 することは避けられない。 この場合、 本実施例においては、 各カバ一部材 7 4、 7 6、 7 8、 8 0の表面には、 表面粗化処理が施されて微細な凹凸が形成されて いるので、 上記不要な膜が付着した場合、 上記微細な凹凸によるアンカ一効果で 不要な膜が剥がれ落ち難くなる。 従って、 その分、 クリーニング処理等のメンテ ナンスサイクルを長くすることができ、 装置の稼働率も向上させることができる。 また、 成膜処理時には載置台 3 2の下面側、 すなわちここでは下面カバ一部材 7 6の下面側には不要な膜がまだら状に付着する傾向にあり、 従来装置にあって はこのまだら状に付着する膜が載置台からの輻射熱に分布を生ぜしめる原因とな つていたが、 本実施例の場合には、 載置台 3 2の下面全体に接するようにしてリ ング状の不透明裏面カバー部材 8 2を設けているので、 上記不要な膜がまだら状 に付着しても載置台 3 2からの輻射熱に分布が生ずることはなく、 このため載置 台 3 2の温度分布は目標とする温度分布、 例えば面内均一に維持されるので、 ゥ ェハ Wの温度の面内均一性も高めることが可能となる。

そして、 この点よりも、 本発明のように抵抗加熱ヒー夕 3 8をゾーン毎に温度 調整できるようにした場合には、 成膜処理時における温度チューニングの必要性 も減少させることができる。 またこの不透明裏面カバー部材 8 2は載置台 3 2か らの熱線を反射して輻射熱の放出を抑制することができるので、 その分、 抵抗加 熱ヒ一夕 3 8の熱効率も高めることができる。

. 尚、 本実施例では複数のカバ一部材を設けているが、 上記載置台 3 2の下面に 上記不透明裏面カバ一部材 8 2のみを設けてもよく、 この場合には、 上述したよ うに不要な膜がまだら状に付着しても載置台 3 2及びウェハ Wの温度分布の面内 均一性を高く維持でき、 また、 輻射熱を抑制できるので、 その分、 抵抗加熱ヒー 夕 3 8の熱効率も向上させることができる。

また、 ここでは載置台 3 2の下面側に、 下面カバー部材 7 6と不透明裏面カバ 一部材 8 2の 2枚のカバ一部材を設けたが、 これに限定されず、 下面カバー部材

7 6の設置を省略し、 支柱カバー部材 7 8の上端部に上記不透明裏面カバー部材

8 2を直接溶接して両者を一体化させるようにしてもよい。

また、 クリーニング処理の場合には、 ウエット洗浄やドライ洗浄は各カバ一部 材 7 2、 7 4、 7 6、 7 8、 8 0のみを対象として施せばよいので、 メンテナン ス性を向上させることができる。

尚、 上記実施例にあっては、 載置台 3 2及びこれを起立させる支柱 3 0を、 共 に A 1 N材料で形成した場合を例にとつて説明したが、 これらはどのような材料 で形成した場合にあっても、 本発明を適用することができる。

次に、 本発明の第 2の実施形態について、 図 4ないし図 9に基づき説明する。 図 4は、 第 2の実施形態の載置台構造 2 2 9の具体的な構成を示すものである c この載置台構造 2 2 9の载置台 2 3 2及び支柱 2 3 0は共に耐熱性及び耐腐食性 に優れた材料、 例えば透明石英ガラスにより形成されている。 そして、 載置台 2 3 2及び支柱 2 3 0を覆うようにして、 上面カバー部材 2 7 2、 周縁部カバー 部材 2 7 4、 下面カバ一部材 2 7 6、 支柱カバー部材 2 7 8、 脚部カバー部材

2 8 0及び不透明裏面カバ一部材 2 8 2が設けられている。 尚、 カバ一部材につ いては後述する。 具体的には、 上記載置台 2 3 2は、 図 6にも示すように上板

3 0 O Aと、 中板 3 0 0 Bと、 下板 3 0 0 Cとを、 それぞれこの順序で重ねて溶 着接合により接合した 3層構成になっている。 そして、 この上板 3 0 O A上には、 前述のように例えば S i C等の不透明材料よりなる薄い上面カバ一部材 2 7 2が 着脱可能に設置されている。 上記中板 3 0 0 Bの上面側には、 その全面に亘つて 描かれた配線溝 3 0 2が形成されており、 この配線溝 3 0 2内にこの溝 3 0 2に 沿って例えばカーボンヒー夕よりなる抵抗加熱ヒ一夕 2 3 8が配設されている。 ここでは、 上記抵抗加熱ヒー夕 2 3 8は、 例えば同心円状に複数のゾーン毎に区 画して配設される。 尚、 この配線溝 3 0 2を上板 3 0 O Aの下面に形成してもよ い。 またこの抵抗加熱ヒータ 2 3 8はこれを上下層に配列して 2層構造にしても よく、 この場合には、 ヒー夕層の数によって、 石英板を更に重ねるように構成す また、 この中板 3 0 0 B及び下板 3 0 0 Cには、 必要な箇所に給電線を通すた めの配線孔 3 0 3が形成され、 更にこの中板 3 0 0 Bの下面には、 給電線を収容 するための配線溝 3 0 5が載置台 2 3 2の中心部に向けて形成されている。 尚、 この配線溝 3 0 5を、 下板 3 0 0 Cの上面に設けてもよい。 そして、 上記各配線 溝 3 0 2、 3 0 5及び配線孔 3 0 3に、 抵抗加熱ヒー夕 2 3 8や給電線 2 4 0を 屈曲させつつ配設した後に、 上述したように上記上板 3 0 0 A、 中板 3 0 0 B及 び下板 3 0 0 Cをそれぞれ溶着接合して一体化することにより載置台 2 3 2を形 成する。 また、 この載置台 2 3 2の下面の中心部に、 例えば透明石英ガラスより なる円筒状の支柱 2 3 0の上端部を溶接してこれらを一体化する。 ·

そして、 各給電線 2 4 0は、 載置台 2 3 2の中心部に集められて、 この载置台

2 3 2の略中心より下方に延びている。 この下方に延びる給電線 2 4 0は例えば 石英管 2 3 9内に揷通されている。 この石英管 2 3 9の上端部も上記下板 3 0 0 Cの下面に溶接されている。 また、 上記下板 3 0 0 C及ぴ中板 3 0 0 Bを貫通し て上記上板 3 0 O Aに届くようにして熱電対収容穴 3 0 4が形成されており、 こ の熱電対収容穴 3 0 4内に温度制御用の熱電対 3 0 6が設けられる。

また更に、 上記下板 3 0 0 C、 中板 3 0 0 B及び上板 3 0 O Aを貫通してパー ジ用のガスを供給するバックサイド用ガス孔 3 0 8が形成されており、 このバヅ クサイ ド用ガス孔 3 0 8には、 これより下方に延びる例えば透明石英管よりなる ガス管 3 1 0 (図 6参照） が接続されている。 この場合、 バックサイド用ガス孔

3 0 8の上端のガス出口は、 載置台 2 3 2の略中心部に位置されており、 その周 辺部に向けてガスを略均等に分散できるようになつている。 そして、 上記支柱 2 3 0の下端部の接合部の近傍には、 この接合部に介在される 0リング等のシー ル部材 2 6 0、 2 6 6 (図 4参照） を載置台 2 3 2から放射される熱から保護す るための不透明部材 3 1 2が設けられており、 上記熱を遮断するようになってい る。 具体的には、 まず上記支柱 2 3 0の途中は、 例えば不透明石英ガラスよりな る円筒体状の第 1の不透明部材 3 1 2 Aが溶接により接続して介在されている。 この第 1の不透明部材 3 1 2 Aの長さは例えば 7 0 mm程度に設定されている。 またこの第 1の不透明部材 3 1 2 Aの内側には、 同じく例えば不透明石英ガラ スよりなる円板体状の第 2の不透明部材 3 1 2 Bが嵌装されている。 更には、 上 記シール部材 2 6 0 , 2 6 6の直上であって上記支柱カバ一部材 2 7 8の下端部 と直接当接して支持するようにして例えば不透明石英ガラスよりなるリング状の 第 3の不透明部材 3 1 2 Cが設けられている。 そして、 載置台 2 3 2から放射さ れて上記シール部材 2 6 0、 2 6 6に向かう熱 (輻射熱) を、 上記第 1〜第 3の 不透明部材 3 1 2 A〜3 1 2 Cにより遮断することにより、 上記各シ一ル部材 2 6 0、 2 6 6が熱損傷を受けることを防止するようになっている。 ここで上記 不透明石英ガラスとは熱線や輻射熱を遮断できる石英ガラスを指し、 例えば多数 の微細な気泡を含んで白濁状態になされた石英ガラスのみならず、 また着色した 石英ガラスでもよい。 また支柱全体を、 あるいは、 不透明部材 3 1 2 Aから下側 の支柱全てを、 不透明石英ガラスで構成してもよい。 また押さえ部材 2 6 2及び' 第 3の不透明部材 3 1 2 Cには、 ガス通路 3 1 4となるガス管を通す溝が形成さ れている。 また上記ガス管 3 1 0を支柱 2 3 0の外に出すことで、 このガス管 3 1 0の上端は載置台 2 3 2側に溶着され、 下端はフランジ部 2 5 2に溶着され るので、 上下の両端部で強固に支持できる。 また支柱 2 3 0の外にガス管 3 1 0 を設けたので、 複数の給電線 2 4 0支柱 2 3 0内に収容することができる。 尚、 底部 2 2 8、 ベース板 2 5 6には上記ガス管 3 1 0に連通されるガス通路 3 1 4 が形成されている。

次に、 前記カバー部材について説明する。 具体的には、 図 8にも示すように上 記カバ一部材としては、 上記載置台 2 3 2の上面の半導体ウェハ Wを載置する円 板状の上面カバ一部材 2 7 2と、 この載置台 2 3 2の周縁部とその側面の一部、 或いは全部を覆うリング状の周縁部カバ一部材 2 7 4と、 この載置台 2 3 2の側 面の一部、 或いは全部と載置台 2 3 2の下面とを覆う下面カバ一部材 2 7 6と、 上記支柱 2 3 0の側面全体を覆う支柱カバー部材 2 7 8と、 支柱 2 3 0の下端部 を覆う脚部カバ一部材 2 8 0とがそれそれ設けられる。 そして、 上記上面カバー 部材 2 7 2の周縁部の上面で、 上記周縁部カバー部材 2 7 4の上端部を支持する ようになつている。 また、 特にこの実施例においては、 上記載置台 2 3 2の下面 (裏面） と直接的に接触してこれと上記下面カバ一部材 2 7 6との間に介在させ て、 リング状の不透明裏面カバー部材 2 8 2が設けられる。 従って、 この場合に は上記下面カバ一部材 2 7 6は上記不透明裏面カバー部材 2 8 2の下面を覆うこ とになる。

上記全てのカバー部材 2 7 2、 2 7 4、 2 7 6、 2 7 8、 2 8 0、 2 8 2は耐 熱性及び耐腐食性材料よりなる。 特に、 上面カバー部材 2 7 2は、 この上面にゥ ェハ Wを直接的に載置することから金属汚染等のコン夕ミネーシヨンが発生する 恐れが極めて少なくて、 且つ熱伝導性の良好な材料、 例えば高純度の S i C等の セラミックよりなる。 また、 不透明裏面カバー部材 2 8 2は、 金属汚染等のコン 夕ミネーシヨンが発生する恐れが極めて少なくて且つ熱線を透過し難いような材 料、 例えば不透明石英ガラスよりなる。 また他のカバ一部材 2 7 4、 2 7 6、 2 7 8、 2 8 0は、 金属汚染等が発生する恐れが極めて少ない材料、 例えば透明 な石英ガラスよりなる。

伝導性の良好な S i Cよりなる上記上面カバー部材 2 7 2は、 薄い円板状に形 成されて中央部にウェハ Wを直接的に載置するための収容凹部 2 8 4が形成され ており、 この収容略凹部 2 8 4の深さは、 ウェハ Wの厚さと略同等になされてい る。 この上面カバ一部材 2 7 2の周縁部 2 8 5は段部状に低く形成されている。 この上面カバー部材 2 7 2の周縁部 2 8 5は段部状に低く形成されている。 そし て、 この上面カバー部材 2 7 2は着脱可能に載置されており、 この上面カバ一部 材 2 7 2により載置台 2 3 2の上面の略全体が覆われる。 また、 この上面カバ一 部材 2 7 2には、 押し上げピン 4 2 (図 1参照） を通すピン挿通孔 4 1が形成さ れている。 そしてこの上面カバ一部材 2 7 2の厚みは例えば 6 . 5 mm程度であ

Ό ο

透明石英ガラスよりなる上記周縁部カバー部材 2 7 4は、 リング状に成形され ており、 上述したように載置台 2 3 2の上面の周縁部と側面の一部、 或いは全部 とを覆うように、 断面逆 L字状に成形されており、 上記上面カバ一部材 2 7 2の 上より嵌装させて載置台 2 3 2の周縁部に図 4に示すように着脱可能に装着し得 るようになっている。 そして、 この周縁部カバー部材 2 7 4の上端部の下面を、 上記上面カバー部材 2 7 2の周縁部 2 8 5の上面に当接させて、 この周縁部カバ 一部材 2 7 4を着脱可能 （分解可能） に支持するようになっている。 この周縁部 カバー部材 2 7 4の厚みは例えば 3 mm程度である。

透明石英ガラスよりなる上記下面カバー部材 2 7 6と同じく透明石英ガラスよ りなる上記支柱カバ一部材 2 7 8とは、 溶接により一体的に成形されている。 ま ず、 下面カバー部材は、 前述したように載置台 2 3 2の側面の一部、 或いは全部 と載置台 2 3 2の下面全体とを覆うように円形の容器状に成形されており、 その 中心部には支柱 2 3 0 (図 4参照） を通すための開口 2 8 8が形成されている。 そして、 この開口 2 8 8の周縁部に上記支柱カバ一部材 2 7 8の上端部が溶接さ れている。 上記容器状の下面カバー部材 2 7 6内に上記載置台 2 3 2の全体を揷 脱可能に収容し得るようになつている。 この場合、 上記周縁部カバー部材 2 7 4 の側壁の内径は、 上記下面カバー部材 2 7 6の側壁の外径よりも僅かに大きく設 定されており、 図 4に示すように、 上記周縁部カバー部材 2 7 4の側壁の下端部 が、 上記下面カバー部材 2 7 6の側壁の上端部の外周面に接するような状態で両 端部が僅かに重なるように分解可能に嵌装される。

これにより、 上記載置台 2 3 2の側面は完全に覆われることになる。 そして、 この下面カバー部材 2 7 6には、 上記押し上げピン 4 2 (図 1参照） を揷通する ためのピン揷通孔 4 1が形成されている。 またこの下面カバー部材 2 7 6に一体 的に接合されている上記支柱カバ一部材 2 7 8の内径は、 支柱 2 3 0、 具体的に はフランジ部 2 5 2の外径よりも僅かに大きく設定されており、 その下端部は、 上記押さえ部材 2 6 2 (図 4参照） の上面に達している。 ここで上述のようにこ の下面カバ一部材 2 7 6と支柱カバ一部材 2 7 8とは一体的に結合された状態で、 載置台 2 3 2の分解時に載置台 2 3 2が上方に抜けるようになつている。 この下 面カバー部材 2 7 6及び支柱カバー部材 2 7 8の厚みは例えば 3〜 5 mm程度で ある。 一方、 上記不透明裏面カバー部材 2 8 2は、 上記載置台 3 2の下面 （裏面） の 略全体 （支柱 2 3 0との接続部を除く） を覆うように円板状に形成されており、 その中心部には支柱 2 3 0を通す開口 2 9 0が形成されている。 またこの不透明 裏面カバ一部材 2 8 2には、 押し上げピン 4 2を揷通するためのピン揷通孔 4 1 が形成されている。 この不透明裏面カバ一部材 2 8 2は上述したように、 載置台 2 3 2の下面と下面カバー部材 2 7 6との間に図示しない突起で 3点で支えられ た状態で介在されている。 この不透明裏面カバー部材 2 8 2は、 前述したように 例えば多数の微細な気泡を含んで白濁状態になされた不透明石英ガラスを用いて おり、 載置台 2 3 2の下面からの熱線が外方へ透過することを阻止し得るように なっている。

一方、 図 4に示すように、 載置台 2 3 2を支持固定する例えば透明石英ガラス 製の円筒体状の支柱 2 3 0の下端部には、 拡径されたフランジ部 2 5 2が形成さ れている。 尚、 図 4においては載置台 2 3 2の内部構造や押し上げピン 4 2等の 記載は省略している。 そして、 底部 2 2 8の中心には所定の大きさの開口 2 5 4 が形成されており、 その開口 2 5 4をその内側から塞ぐようにして上記開口

2 5 4より少し大きい直径の例えばアルミニウム合金製のベース板 2 5 6をボル ト 2 5 8により締め付け固定している。 この底部 2 2 8の上面と上記ベース板

2 5 6の下面との間には、 例えば 0リング等のシール部材 2 6 0が介設されてお り、 この部分の気密性を保持している。

そして、 上記ベース板 2 5 6上に上記支柱 2 3 0を起立させて、 この支柱

2 3 0のフランジ部 2 5 2にリング状になされた断面 L字状の例えばアルミニゥ ム合金製の押さえ部材 2 6 2を嵌装し、 この押さえ部材 2 6 2と上記ベース板

2 5 6とをボルト 2 6 4で固定することにより、 上記フランジ部 2 5 2を上記押 さえ部材 2 6 2で挟み込んで固定している。 この際、 このフランジ部 2 5 2の上 面と押さえ部材 2 6 2の接合面との間には、 パーティクルが発生せず、 しかも、 クッシヨン機能を有する例えば厚さが 0 . 5 mm程度の円形リング状の例えば力 一ボンシートよりなるクッション材 2 6 3が介在されており、 上記フランジ部

2 5 2の破損を防止するようになっている。 ここで上記ベース板 2 5 6の上面と 上記フランジ部 2 5 2の下面との間には、 例えば 0リング等のシール部材 2 6 6 が介設されており、 この部分の気密性を保持するようにな ている。 そして、 上 記ベース板 2 5 6には、 大きな 1つの揷通孔 2 6 8が形成されており、 この揷通 孔 2 6 8を介して上記給電線 2 4 0を外へ引き出すようになつている。 従って、 この円筒状の支柱 2 3 0内は大気圧雰囲気になっているが、 この支柱 2 3 0内を 密封してもよい。

また、 透明石英ガラスよりなる上記脚部カバ一部材 2 8 0は、 上記押さえ部材 2 6 2の露出表面と上記ベース板 2 5 6の露出表面とを覆うように断面逆 L字状 になされて全体がリング状に形成されている。 この脚部カバ一部材 2 8 0の厚み は例えば 2 . 7 5〜7 . 8 5 mm程度である。

. また、 上記フランジ部 2 5 2の直径は、 上記支柱カバ一部材 2 7 8の内径より も僅かに小さく設定されており、 ボルト 2 5 8、 2 6 4を緩めてベース板 2 5 6 や押さえ部材 2 6 2を取り外した際に、 支柱カバ一部材 2 7 8内の支柱 2 3 0を 上方へ抜き出して分解できるようになつている。

そして、 本実施例では上記透明石英ガラスよりなるカバー部材、 すなわち周縁 部カバ一部材 2 7 4、 下面カバ一部材 2 7 6、 支柱カバー部材 2 7 8及ぴ脚部力 バー部材 2 8 0の各表面には、 予めサンドプラスト等による表面粗化処理が施さ れており、 その表面に微細な凹凸が形成されて、 この表面に付着した不要な膜が アンカ一効果により剥がれ難くなるようにしている。

次に、 以上のように構成された熱処理装置の動作について説明する。

まず、 未処理の半導体ウェハ Wは、 図示しない搬送アームに保持されて開状態 となったゲートバルブ 1 8、 搬出入口 1 6を介して処理容器 4内へ搬入され、 こ のウェハ Wは、 上昇された押し上げピン 4 2に受け渡された後に、 この押し上げ ピン 4 2を降下させることにより、 ウェハ Wを載置台 2 3 2の上面、 具体的には 上面カバー 2 7 2の上面の収容凹部 2 8 に載置してこれを支持する。

次に、 シャワーへッド部 6へ処理ガスとして例えば T i膜を堆積する場合には T i C l ₄ 、 H₂ 、 N H₃ 等の各成膜ガスを、 また T i N膜を堆積する場合には、 T i C l ₄ 、 N Hs 等の各成膜ガスを、 それぞれ流量制御しつつ供給して、 この ガスをガス噴射孔 1 0より吹き出して噴射し、 処理空間 Sへ導入する。 そして、 図示してないが排気管 3 6に設けた真空ポンプの駆動を継続することにより、 処 理容器 4内や排気落とし込め空間 2 2内の雰囲気を真空引きし、 そして、 圧力調 整弁の弁閧度を調整して処理空間 Sの雰囲気を所定のプロセス圧力に維持する。 この時、 ウェハ Wの温度は例えば 5 0 0 ~ 6 0 0 °C程度に維持されている。 これ により、 半導体ウェハ Wの表面に T i膜、 或いは T i N膜等の薄膜が形成される ことになる。

このような成膜過程において、 従来装置の場合には高温に加熱されている例え ば A 1 N材よりなる載置台からは、 これに非常に僅かに含まれている重金属等が 熱拡散して処理容器 4内側へ放出される恐れが存在する。 しかしながら、 本実施 例においては、 載置台 2 3 2や支柱 2 3 0を構成する材料が耐熱性、 耐腐食性が あり、 しかも重金属等をほとんど含まない透明石英ガラスにより形成されている ので、 ウェハ Wに対して熱伝導がよいと共に金属汚染等のコン夕ミネーシヨンを 引き起こすことを防止することができる。 更には、 載置台 2 3 2の全表面は、 耐 熱性が高く、 且つ金属汚染等のコン夕ミネ一シヨンの恐れのない材料、 例えば S i Cにより形成されている上面カバー部材 2 7 2や、 同じく耐熱性が高く、 且 つ金属汚染等のコン夕ミネーシヨンの恐れのない材料である透明石英ガラスより なる周縁部カバ一部材 2 7 4や下面カバー部材 2 7 6により完全に覆われている ので、 重金属等が処理容器 4内側へ拡散することを阻止でき、 従って半導体ゥェ ハ Wが金属汚染等されることを一層確実に防止することが可能となる。 この場合、 上記 3つのカバー部材、 すなわち上面カバ一部材 2 7 2、 周縁部カバー部材 2 7 4及び下面カバー部材 2 7 6だけを設けても金属汚染等のコン夕ミネーショ ンの防止効果を十分に得ることができる。

そして、 本実施例では、 上述のように支柱 2 3 0を石英ガラスで形成し、 しか もこの支柱 2 3 0を例えば透明石英ガラスよりなる支柱カバー部材 2 7 8により その周囲を完全に覆っているので、 金属汚染等のコン夕ミネーシヨンの防止効果 を一層向上させることができる。 また、 この支柱 2 3 0の下端部を固定する押さ え部材 2 6 2やベース板 2 5 6の表面も、 透明石英ガラスよりなる脚部カバ一部 材 2 8 0により覆っているので、 更に金属汚染等のコン夕ミネ一シヨンの防止効 果を向上させることができる。

また、 載置台 2 3 2とウェハ Wとの間に介在される上面カバ一部材 2 7 2は、 透明石英ガラスよりも熱伝導性の良好な材料、 例えば S i Cにより形成している ので、 載置台 2 3 2内に埋め込まれた抵抗加熱ヒ一夕 2 3 8からの熱を効率良く ウェハ Wに伝達してこれを効率的に加熱することが可能である。 尚、 透明石英ガ ラスは不透明石英ガラスより熱伝導性がよいので、 載置台 2 3 2を透明石英ガラ スで形成する方が伝熱ロスが少なくて済む。

この場合、 特にこの載置台 2 3 2の上面に例えば S i Cよりなる不透明な上面 カバー部材 2 7 2を設けているので、 抵抗加熱ヒータ 2 3 8に発生する温度分布 がウェハ W側に投影されることがなく、 この点よりウェハ Wの温度の面内均一性 を高めることができる。 すなわち、 この上面カバー部材 2 7 2は均熱板の機能を 併せ持つている。

また成膜装置の進行に従って、 ウェハ Wの表面に目的とする必要な膜が堆積す るのみならず、 各カバー部材 2 7 2、 2 7 4、 2 7 6、 2 7 8、 2 8 0の露出面 には、 不要な膜が付着することは避けられない。 この場合、 本実施例においては、 各カバ一部材 2 7 2、 2 7 4、 2 7 6、 2 7 8、 2 8 0の表面には、 表面粗化処 理が施されて微細な凹凸が形成されているので、 上記不要な膜が付着した場合、 上記微細な凹凸によるアンカ一効果で不要な膜が剥がれ落ち難くなる。 従って、 その分、 クリーニング処理等のメンテナンスサイクルを長くすることができ、 装 置の稼働率も向上させることができる。

また、 成膜処理時には載置台 2 3 2の下面側、 すなわちここでは下面カバー部 材 2 7 6の下面側には不要な膜がまだら状に付着する傾向にあり、 従来装置にあ つてはこのまだら状に付着する膜が載置台からの輻射熱に分布を生ぜしめる原因 となっていたが、 本実施例の場合には、 載置台 2 3 2の下面全体に約 1〜2 mm 程度の距離を隔ててリング状の不透明裏面カバー部材 2 8 2を設けているので、 上記不要な膜がまだら状に付着しても載置台 2 3 2からの輻射熱に分布が生ずる ことはなく、 このため載置台 2 3 2の温度分布は目標とする温度分布、 例えば面 内均一に維持されるので、 ウェハ Wの温度の面内均一性も高めることが可能とな る。

そして、 この点よりも、 本発明のように抵抗加熱ヒー夕 2 3 8をゾーン毎に温 度調整できるようにした場合には、 成膜処理時における温度チューニングの必要 性も減少させることができる。 また石英ガラスは熱膨張が少ないのでゾーン間の 温度差による破損の恐れがなく、 自由にゾーン加熱をすることができる。 またこ の不透明裏面カバー部材 2 8 2は輻射熱の放出を抑制することができるので、 そ の分、 抵抗加熱ヒー夕 2 3 8の熱効率も高めることができる。

また、 ここでは載置台 3 3 2の下面側に、 下面カバー部材 2 7 6と不透明裏面 カバ一部材 2 8 2の 2枚のカバー部材を設けたが、 これに限定されず、 下面カバ —部材 2 7 6の設置を省略し、 支柱カバー部材 2 7 8の上端部に上記不透明裏面 カバ一部材 2 8 2を直接溶接して両者を一体化させるようにしてもよい。

また、 クリーニング処理の場合には、 ウエット洗浄やドライ洗浄は各カバー部 材 2 7 2、 2 7 4、 2 7 6、 2 7 8、 2 8 0のみを対象として施せばよいので、 メンテナンス性を向上させることができる。

更には、 本実施例では載置台 2 3 2の全体を、 従来の載置台に用いた A I N等 のセラミヅクよりも熱膨張率の小さな透明石英ガラスにより構成しているので、 熱処理温度も従来装置よりも高い温度まで熱耐熱性を向上させることができる。 すなわち、 載置台 2 3 2の材質として熱膨張の少ない石英を使用しているので、 ゾーン毎に投入する電力差が大きくなつても、 これは破損することがない。 例え ば実験の結果、 A I N製の従来の載置台の場合には、 7 0 0 °C程度で載置台が破 損したが、 本発明の透明石英ガラス製の載置台 2 3 2の場合には、 処理温度を 7 2 0 °C程度まで昇温しても破損することはなかった。 特に、 載置台 2 3 2の温 度分布を最適化するために、 載置台 2 3 2の内側ゾーンと外側ゾーンとで投入す る電力比を異ならせる場合があるが、 内側ゾーンへの投入電力と外側ゾーンへの 投入電力の比 (内側ゾーンへの投入電力/外側ゾーンへの投入電力） を 0 . 2〜 1程度の広い範囲で変化させた実験を行ったが、 4 0 0〜7 2 0 °Cの範囲の熱処 理で載置台 2 3 2が破損することはなかった。 尚、 更に載置台 2 3 2の温度を上 げたが 1 2 0 0 °Cまではこれが破損することはなかった。

またこの時に上記温度範囲における載置台 2 3 2の温度分布の面内均一性につ いても評価をしたが、 この時の結果を図 9に示す。 尚、 プロセス圧力は 1 0―¹〜

6 6 6 P aの範囲で変化させている。 この図 9から明らかなように、 4 0 0〜

7 2 0 °Cの範囲に亘つて、 温度分布の面内均一性は ± 0 . 7 %以下 （平均は ± 0 . 5 % ) であり、 従来の載置台の場合は ± 1 . 2 %程度であったので、 従来 の載置台の場合と同等、 或いはそれ以上に良好な温度分布の面内均一性を実現で きることが確認できた。

また複数の石英ガラス板を重ねて内部に抵抗加熱ヒ一夕 2 3 8を埋め込むよう にしたので、 給電線 2 4 0を載置台 2 3 2の中心部から下方へ引き出すことが可 能になった。 また載置台 2 3 2を複数のガラス板 3 0 0 A、 3 0 0 B、 3 0 0 C で溶着することで、 この載置台 2 3 2を処理容器 4内から完全に分離することが できる。 また載置台 2 3 2の上面にバックサイ ド用ガスをパージすることにより、 載置台 2 3 2の上面、 上面カバー部材 2 7 2の下面、 熱電対収容穴 3 0 4に成膜 することを防止することができる。

なお、 上記第 2の実施形態において、 上面カバー部材 3 7 2と上板 3 0 O Aと の間に図 1 0に示すように、 例えば S i C等の不透明材料よりなる均熱板 4 0 1 を設けてもよい。 このようにすれば、 ウェハに対する熱の供給をより均一に行う ことができる。

また、 ガス管 4 1 0に連通するガス通路 4 1 4を、 図 1 0に示すように、 フラ ンジ部 2 5 2を通さず、 第 3の不透明部材 3 1 2 C、 押さえ部材 2 6 2、 ベース 板 2 5 6、 底部 2 2 8を通して外部へ引き出すようにしてもよい。

さらに、 不透明裏面カバー部材 2 8 2の下面に突起状の脚部 4 2 0を設けて下 面カバー部材 2 7 6との間に隙間 4 2 2を設けてもよい。

また、 上記第 1、 第 2の実施形態において、 図 1 1及び図 1 2に示すように、 この上面カバー部材 5 7 2の直径を、 載置台 5 3 2の直径と実質的に同じになる ように設定してもよい。 これにより、 載置台 5 3 2の上面全体をこの上面カバ一 部材 5 7 2で稷うことができる。 この場合、 図 1 0において説明した均熱板 4 0 1を用いてもよいし或いは用いないでもよい。

そして、 この上面カバー部材 5 7 2の周縁部を除いた中央部側は上方へ僅かに 突出させた円形状の凸部 5 2 4として形成されている。 そして、 この凸部 5 2 4 には凹部状に窪ませて、 ここにウェハ Wを収容して載置するための収容凹部 5 8 4が形成されている。 この収容凹部 5 8 4を区画する周辺部の段部 5 2 6の 内周面は、 その内側に向けて傾斜するテ一パ面 5 2 6 Aとして形成されており、 ウェハ Wの載置時にこの位置ずれが生じてもこのテーパ面 5 2 6 Aに沿ってゥェ ハ Wが滑り落ちることによってその位置ずれを修正できるようになつている。 そ して、 周縁部カバー部材 5 7 4の下面が、 上記上面カバー部材 5 7 2の一部であ る周縁部の上面と接触し、 これを覆うようになっている。

また、 上記第 1、 第 2の実施形態において、 図 1 1及び図 1 2に示すように、 載置台 5 3 2の外周側面には、 この周囲を覆うように不透明石英カバー 5 2 8を 設けており、 このようにすれば、 この不透明石英カバ一 5 2 8によって載置台 5 3 2側からの熱線を反射して熱効率を向上させることができる。 ここで、 不透 明石英カバー 5 2 8は、 載置台 5 3 2の下面を覆う不透明裏面カバー部材 5 8 2 と一体的に成形されているが、 両者を分割させて個別に設けてもよい。 なお、 こ の載置台 5 3 2側面に設ける不透明石英カバ一部材 5 2 8は、 図 2， 図 4に示す 上記第 1， 第 2の実施形態に適用しても同様の効果が得られる。

ここで載置台 5 3 2が例えば A 1 Nにより形成されている場合には、 上記上面 カバー部材 5 7 2は A 1 Nや石英ガラス (透明でも不透明でもよい) で形成され る。 これに対して、 載置台 5 3 2が図 1 0で説明したように透明な石英ガラスに より形成されている場合には、 上記カバー部材 5 7 2は A 1 Nや不透明石英ガラ スで形成されることになる。

尚、 上記実施例にあっては、 載置台 2 3 2と支柱 2 3 0とにカバー部材を設け たが、 これに限定されず、 図 1 3に示す本発明の第 3の実施例のようにカバ一部 材を設けないようにしてもよい。 すなわち、 図 1 3に示すように、 この載置台構 造 6 2 9においては、 図 4において示した周縁部カバー部材 2 7 4、 下面カバー 部材 2 7 6、 支柱カバ一部材 2 7 8、 脚部カバー部材 2 8 0を設けていない。 た だし、 載置台 2 3 2の下面には不透明裏面カバ一部材 2 8 2を設けており、 この カバー部材 2 8 2の下面にまだら状に不要な膜が付着しても、 これに起因して載 置台 2 3 2側に熱的悪影響が及ぶことを防止するようになっている。 また、 この 場合にも、 載置台 2 3 2の上面側には上面カバ一部材 2 7 2を設けて、 ウェハ温 度の面内均一性の向上を図っている。

更に、 この図 1 3に示す実施例の場合には、 載置台 2 3 2や支柱 2 3 0の透明 石英ガラス露出面に予めサンドプラスト等により表面粗化処理を施してパーティ クル対策を行うようにしてもよい。

また図 4及び図 1 3に示す実施例において、 載置台 2 3 2や支柱 2 3 0を構成 する材料として透明石英ガラスに替えて、 不透明石英ガラスを用いてもよいし、 或いは、 下板 3 0 0 Cのみを不透明石英ガラスに替えてもよい。 これによれば、 載置台 2 3 2の下面に設けた不透明裏面カバ一部材 2 8 2を不要にすることがで きる。

また上記実施例では処理として熱 C V Dによる成膜処理を例にとつて説明した が、 これに限定されず、 プラズマ C V D処理装置、 エッチング処理装置、 酸化拡 散処理装置、 スパッ夕処理装置等についても本発明を適用することができる。 また、 本実施例では被処理体として半導体ウェハを例にとって説明したが、 こ れに限定されず、 L C D基板、 ガラス基板等にも適用できるのは勿論である。 尚、 ここで透明石英とは、 向こう側が透けて見えるものは勿論、 透けて見えな くても所定値以上の光を通すものは透明である。 また不透明石英とは、 全く光を 通さないものは勿論、 所定値以下しか光を通さないものも含む。 またこの所定値 とは、 光が熱エネルギーとしてこの熱が載置台又は処理容器に影響を与えるか否 かが基準となる。 '

Claims

1 . 処理容器内にて被処理体に対して所定の熱処理を施すために前記被処理 体を載置するとともに、 前記被処理体を加熱する加熱手段を有する載置台と、 こ の載置台を前記処理容器の底部より起立させて支持する支柱とを有する載置台構 造において、 請

前記載置台の上面、 側面及び下面に、 耐熱性を有する上面カバー部材、 側面力 バー部材、 下面カバー部材をそれぞれ設けたことを特徴とする載置台構造。

の

2 . 処理容器内にて被処理体に対して所定の熱処理を施すために前記被処理 囲

体を載置するとともに、 前記被処理体を加熱する加熱手段を有する載置台と、 こ の載置台を前記処理容器の底部より起立させて支持する支柱とを有する載置台構

V^- ¾ V ^ しヽ

前記載置台の下面側に、 耐熱性の不透明裏面カバ一部材を設けたことを特徴と する載置台構造。

3 . 前記載置台の上面、 側面、 前記不透明裏面カバー部材の下面に、 耐熱性 を有する上面カバー部材、 側面カバー部材、 下面カバー部材をそれぞれ設けたこ とを特徴とする請求の範囲第 2項に記載の載置台構造。

4 . 前記上面カバー部材は、 前記載置台の直径と実質的に同じ直径に設定さ れており、 前記上面カバー部材の上面には凸部が形成されているとともに、 この 凸部には凹部状に窪ませて前記被処理体を載置するための収容凹部が形成されて いることを特徴とする請求の範囲第 1項又は第 3項に記載の載置台構造。

5 . 前記上面カバー部材の周縁部の上面は、 前記側面カバー部材の一部と接 触して覆われていることを特徴とする請求の範囲第 1項、 第 3項、 第 4項のいず れか 1項に記載の載置台構造。

6 . 前記載置台の側面には、 不透明石英カバ一部材が設けられることを特徴 とする請求の範囲第 1項ないし第 5項のいずれか 1項に記載の載置台構造。

7 . 前記不透明裏面カバー部材と前記下面カバ一部材との間には隙間が形成 されていることを特徴とする請求の範囲第 3項に記載の載置台構造。

8 . 前記不透明裏面カバー部材の下面には、 前記隙間を形成するための突起 状の脚部が形成されていることを特徴とする請求の範囲第 7項に記載の載置台構

9 . 処理容器内にて被処理体に対して所定の熱処理を施すために前記被処理 体を載置する載置台と、 前記載置台を前記処理容器の底部より起立させて支持す る支柱とを有する載置台構造において、

前記載置台と前記支柱とをそれぞれ石英ガラスにより形成し、 前記載置台内に 加熱手段を埋め込んだことを特徴とする載置台構造。

1 0 . 前記支柱を円筒体状に形成すると共に、 前記加熱手段に対する給電線 を前記載置台の中心部より引き出して前記円筒状の支柱内を下方に向けて揷通さ せるようにしたことを特徴とする請求の範囲第 9項に記載の載置台構造。

1 1 . 前記載置台は、 上板と中板と下板とを接合してなり、 前記上板の下面 と前記中板の上面との内のいずれか一方に、 前記加熱手段を収容するための配線 溝が形成されており、 前記中板の下面と前記下板の上面との内のいずれか一方に 前記加熱手段から延びる前記給電線を収容する配線溝が形成されていることを特 徴とする請求の範囲第 9項又は第 1 0項に記載の載置台構造。

1 2 . 前記載置台の上面には、 不透明な上面カバー部材が設けられているこ とを特徴とする請求の範囲第 9項ないし第 1 1項のいずれか 1項に記載の載置台 造。 32

1 3 . 前記載置台には、 前記載置台の上面にパージ用のガスを供給するバッ クサイ ド用ガス孔が形成され、 前記バックサイ ド用ガス孔にはガスを供給するた めの石英管が接続されていることを特徴とする請求の範囲第 9項ないし第 1 2項 のいずれか 1項に記載の載置台構造。

1 4 . 前記石英管は、 前記支柱の外側に配置されて、 その上下端が溶着によ り取り付け固定されることを特徴とする請求の範囲第 1 3項に記載の載置台構造 _c

1 5 . 前記石英ガラスは透明石英ガラスであることを特徴とする請求の範囲 第 9項ないし第 1 4項のいずれか 1項に記載の載置台構造。

1 6 . 前記載置台の下面側に、 耐熱性の不透明裏面カバー部材を設けたこと を特徴とする請求の範囲第 9項ないし第 1 5項のいずれか 1項に記載の載置台構 造。 '

1 7 . 前記载置台の上面、 側面及び下面に、 それそれ耐熱性を有する上面力 バー部材、 側面カバ一部材、 下面カバー部材を設けたことを特徴とする請求の範 囲第 9後ないし第 1 6項のいずれか 1項に記載の載置台構造。

1 8 . 前記支柱の下端部には、 この支柱の破損を防止するためのクッシヨン 部材が介設されていることを特徴とする請求の範囲第 9項ないし第 1 7項のいず れか 1項に記載の載置台構造。

1 9 . 前記不透明裏面カバー部材は不透明石英ガラスであることを特徴とす る請求の範囲第 2項、 第 3項、 第 7項、 第 8項、 第 1 6項のいずれか 1項に記載 の載置台構造。

2 0 . 前記支柱の側面に、 耐熱性を有する支柱カバ一部材を設けたことを特 徴とする請求の範囲第 1項ないし第 1 8項のいずれか 1項に記載の載置台構造。

2 1 . 前記上面カバー部材、 前記側面カバ一部材、 前記下面カバー部材と、 前記支柱カバー部材とは、 カバー部材を構成し、 前記下面カバー部材と前記支柱 カバー部材とは一体的に成形されており、 前記カバー部材の全体は分解及び組み 立てが可能になされていることを特徴とする請求の範囲第 2 0項記載の載置台構

2 2 . 前記載置台の上面に形成した上面カバー部材及び前記不透明裏面カバ —部材を除く他のカバー部材は、 それぞれ透明石英ガラスよりなり、 この透明石 英ガラスのカバ一部材の表面には、 これに付着する膜の剥がれを防止するための 表面粗化処理が施されていることを特徴とする請求の範囲第 3項、 第 7項、 第 8 項、 第 1 7項、 第 2 1項のいずれか 1項に記載の載置台構造。

2 3 . 前記支柱の下端部の接合部には、 シ一ル部材が設けられると共に、 該 シール部材の近傍には、 前記シール部材に前記載置台側から放出される熱を遮断 するための不透明部材が設けられることを特徴とする請求の範囲第 1項ないし第 1 8項のいずれか 1項に記載の熱処理装置。

2 4 . 前記支柱の全体が不透明部材からなり、 かつ前記支柱の内部に不透明 部材を設置し、 前記支柱下端部のシール部材を前記載置台側から放出される熱か ら守ることを特徴とする請求の範囲第 2 3項に記載の載置台構造。

2 5 . 真空引き可能になされた処理容器と、

請求の範囲第 1項ないし第 2 4項のいずれか 1項に記載された載置台構造と、 前記処理容器内へ所定の処理ガスを供給するガス供給手段と、

を備えたことを特徴とする熱処理装置。 .

2 6 . 前記載置台の加熱手段が内側及び外側の 2つの加熱ゾーンから構成さ れていることを特徴とする請求の範囲第 1 7項に記載の熱処理装置。