[go: up one dir, main page]

UA93471C2 - Ионно-плазменная установка - Google Patents

Ионно-плазменная установка Download PDF

Info

Publication number
UA93471C2
UA93471C2 UAA201005669A UAA201005669A UA93471C2 UA 93471 C2 UA93471 C2 UA 93471C2 UA A201005669 A UAA201005669 A UA A201005669A UA A201005669 A UAA201005669 A UA A201005669A UA 93471 C2 UA93471 C2 UA 93471C2
Authority
UA
Ukraine
Prior art keywords
magnetron
coatings
holder
details
coating
Prior art date
Application number
UAA201005669A
Other languages
English (en)
Ukrainian (uk)
Inventor
Александр Дмитриевич Гришкевич
Станислав Иванович Гринюк
Original Assignee
Институт Технической Механики Национальной Академии Наук Украины И Национальное Космическое Агенство Украины
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Технической Механики Национальной Академии Наук Украины И Национальное Космическое Агенство Украины filed Critical Институт Технической Механики Национальной Академии Наук Украины И Национальное Космическое Агенство Украины
Priority to UAA201005669A priority Critical patent/UA93471C2/ru
Publication of UA93471C2 publication Critical patent/UA93471C2/ru

Links

Landscapes

  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Abstract

Ионно-плазменная установка относится к технологическому оборудованию для нанесения биметаллических покрытий со слоистой наноструктурой различного состава и назначения. Существенным признаком установки является использование двух соосных магнетронных распылителей радиального типа с коническими катодами. Магнетронные распылители смонтировано на оси вакуумной камеры с возможностью регулирования расстояния между ними. Детали, на которые наносится покрытие, крепятся на карусельном держатели. Величина диаметра монтажной поверхности карусельного держателя может регулироваться. Держатель с деталями имеет возможность планетарного и возвратно-поступательного перемещения относительно оси вращения. Существует возможность регулирования соотношения расстояния между магнетронными распылителями и диаметром монтажной поверхности держателя деталей. Установка позволяет проводить совместную обработку деталей или нанесение покрытий на внутреннюю поверхность трубчатых изделий, повысить качество слоистых покрытий.
UAA201005669A 2010-05-11 2010-05-11 Ионно-плазменная установка UA93471C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201005669A UA93471C2 (ru) 2010-05-11 2010-05-11 Ионно-плазменная установка

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201005669A UA93471C2 (ru) 2010-05-11 2010-05-11 Ионно-плазменная установка

Publications (1)

Publication Number Publication Date
UA93471C2 true UA93471C2 (ru) 2011-02-10

Family

ID=50830396

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
UAA201005669A UA93471C2 (ru) 2010-05-11 2010-05-11 Ионно-плазменная установка

Country Status (1)

Country Link
UA (1) UA93471C2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU169200U1 (ru) * 2015-11-20 2017-03-09 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики прочности и материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук (ИФПМ СО РАН) Устройство вакуумно-плазменной однородной модификации поверхности деталей

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU169200U1 (ru) * 2015-11-20 2017-03-09 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики прочности и материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук (ИФПМ СО РАН) Устройство вакуумно-плазменной однородной модификации поверхности деталей

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7520965B2 (en) Magnetron sputtering apparatus and method for depositing a coating using same
CN103252938B (zh) 涂覆的马氏体钢制品和形成涂覆的钢制品的方法
US9115755B2 (en) Current insulated bearing components and bearings
US20060076231A1 (en) Method for magnetron sputter deposition
CN109267007B (zh) 用于在工件上沉积无氢四面体非晶碳层的装置和方法
US20090068450A1 (en) Method and Apparatus for Multi-Cathode PVD Coating and Substrate with PVD Coating
US7790003B2 (en) Method for magnetron sputter deposition
US6171454B1 (en) Method for coating surfaces using a facility having sputter electrodes
JP2016516134A5 (ru)
CN1993490A (zh) 引导等离子体流的内部通道涂覆装置
CN104213076A (zh) Pvd与hipims制备超硬dlc涂层方法及设备
CN109576641B (zh) 一种空间机构高结合力固体抗菌润滑膜层及其制备方法
EP3644343B1 (en) A coating system for high volume pe-cvd processing
CN102011102A (zh) 高界面强度类金刚石薄膜材料的常温沉积设备及其方法
US20220127726A1 (en) Methods and apparatuses for deposition of adherent carbon coatings on insulator surfaces
CN104862654B (zh) 一体化大尺寸高纯度超导钇钡铜氧旋转靶材及其制备方法
CN105441871A (zh) 一种pvd与hipims工业化制备超硬dlc碳涂层方法及装置
UA93471C2 (ru) Ионно-плазменная установка
CN211367703U (zh) 一种沉积dlc薄膜的磁控溅射镀膜机
US20120308810A1 (en) Coated article and method for making the same
CN112210752A (zh) 一种沉积dlc薄膜的磁控溅射技术和镀膜机
WO2005089272B1 (en) Pulsed cathodic arc plasma source
CN105112872A (zh) 制备圆筒零件内表面涂层的脉冲磁控溅射装置及其应用
Vetter et al. Domino platform: PVD coaters for arc evaporation and high current pulsed magnetron sputtering
CN105369199A (zh) 一种耐摩擦磨损抗腐蚀碳基薄膜的制备方法