[go: up one dir, main page]

UA93471C2 - Ion-plasma plant - Google Patents

Ion-plasma plant Download PDF

Info

Publication number
UA93471C2
UA93471C2 UAA201005669A UAA201005669A UA93471C2 UA 93471 C2 UA93471 C2 UA 93471C2 UA A201005669 A UAA201005669 A UA A201005669A UA A201005669 A UAA201005669 A UA A201005669A UA 93471 C2 UA93471 C2 UA 93471C2
Authority
UA
Ukraine
Prior art keywords
magnetron
coatings
holder
details
coating
Prior art date
Application number
UAA201005669A
Other languages
Russian (ru)
Ukrainian (uk)
Inventor
Александр Дмитриевич Гришкевич
Станислав Иванович Гринюк
Original Assignee
Институт Технической Механики Национальной Академии Наук Украины И Национальное Космическое Агенство Украины
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Технической Механики Национальной Академии Наук Украины И Национальное Космическое Агенство Украины filed Critical Институт Технической Механики Национальной Академии Наук Украины И Национальное Космическое Агенство Украины
Priority to UAA201005669A priority Critical patent/UA93471C2/en
Publication of UA93471C2 publication Critical patent/UA93471C2/en

Links

Landscapes

  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Abstract

An ion-plasma plant relates to technology equipment for application of bimetal coatings with laminar nano-structure of different composition and purpose. Essential feature of plant is use of two coaxial magnetron sprays of radial type with conic cathodes. The magnetron sprays mounted on axis of vacuum chamber with possibility regulation of distance between their. The details are fixed on rotary holder, on which coating is applied. The value of diameter of assembly surface of rotary holder can be adjusted. The holder with details has possibility of planetary and reciprocating moving relative to rotation axis. Present is possibility of regulation of the ratio of distance between magnetron sprays and diameter of assembly surface of holder of details. The plant allows carrying out joint processing of details or application of coatings on internal surface of pipe articles, to increase quality of laminar coatings.

Description

безпечує подальше підвищення продуктивності різні по складу катоди. Магнетронні розпилювачі процесу при зниженні термічного навантаження на змонтовано відносно карусельного тримача виро- поверхню, що оброблюється. бів так, що нормалі до поверхонь їх катодів напра-provides a further increase in the performance of cathodes of different composition. Magnetron atomizers of the process when reducing the thermal load on the surface to be processed, mounted relative to the carousel holder. so that the normals to the surfaces of their cathodes

Магнетронна технологія нанесення покриттів влено по радіусам карусельного тримача в бік від дозволяє формувати двофазні покриття з періоди- вісі його обертання. Джерела електричного жив- чною наноструктурою, що відрізняються значною лення магнетронних розпилювачів і джерело на- твердістю і високими декоративними якостями. На пруги зміщення виконано імпульсними і вони ма- цей час розроблено зносостійкі і декоративні бага- ють властивість перешкоджати розвиненню тошарові біметалеві покриття з періодичною нано- дугових розрядів. Джерело зміщення ввімкнено в структурою (4), які мають необхідні фізико- схему через синхронізуючий пристрій. Характери- механічні і декоративні характеристики і можуть стиками цієї установки є висока якість покриттів, бути використані для покращання показників приз- розширенні функціональні властивості і підвищена начення ряду технічних і побутових виробів. Пока- продуктивність установки. Установка призначена зники якості цих покриттів перевищують аналогічні для групової обробки виробів, що розміщуються показники гальванічних покриттів з хрому і нікелю, на карусельному тримачі і послідовно перетина- а також одношарових покриттів з нітридів і карбідів ють потік матеріалу покриття від одного і іншого перехідних металів. Такі покриття уявляють собою магнетронного розпилювача. До недоліків цієї ус- періодичну структуру шарів рівної товщини («10 тановки слід віднести неможливість забезпечення нм). Сумарна товщина покриття з періодичною в повній мірі умов, за яких формуються чіткі грани- наноструктурою не перебільшує 3-5 мкм. Встанов- ці між шарами покриття різного складу. Установка лено, що фізико-механічні властивості таких пок- також не забезпечує можливість нанесення пок- риттів перевершують властивості кожного індиві- риттів на внутрішню поверхню трубчастих виробів. дуального шару і значно покращуються при В основу винаходу, що передбачається, пок- зменшенні періоду структури від десятків до оди- ладено вирішення наступних технічних задач: ниць нанометрів. Для досягнення високої якості 1) підвищення якості шаруватих біметалевих таких покриттів важливою умовою є забезпечення покриттів за рахунок зменшення періоду шарува- чіткого характеру міжшарових границь. Отримання тої структури і покращання чіткості міжшарових широкого діапазону властивостей шаруватих на- границь; норозмірних покриттів може бути забезпечено ва- 2) підвищення продуктивності обробки дета- ріацією товщини і матеріалу шарів. Шаруваті пок- лей з термочутливих матеріалів; риття з періодичною наноструктурою отримують за 3) розширення можливостей по обробці різно- допомогою незбалансованих магнетронних розпи- манітних виробів, включаючи трубчасті вироби із люючих пристроїв, з іонним бомбардуванням кон- внутрішньою робочою поверхнею. денсату, що формується на робочій поверхні ви- У винаході, що заявляється, поставленні за- робу |ІЗ)Ї. Така технологія формування покриття - дачі вирішуються тим, що в іонно-плазмовій уста- іонне асистування - характеризується також більш новці використовуються два магнетронні розпилю- низькою температурою поверхні виробу, що обро- вачі радіального типу, які монтуються в вакуумній блюється. камері співвісно з можливістю регулювання відс-The magnetron coating technology is applied along the radii of the carousel holder in the direction from allows forming two-phase coatings from the period- axis of its rotation. Sources of electric wire with a nanostructure, which are distinguished by significant magnetron atomizers and source hardness and high decorative qualities. The displacement strips are made of impulse and they have been developed wear-resistant and decorative, have the property of preventing the development of bimetallic coatings with periodic nano-arc discharges. The displacement source is included in the structure (4), which has the necessary physical scheme through the synchronizing device. Characteristics - mechanical and decorative characteristics and the joints of this installation are high quality coatings, can be used to improve the performance of a number of technical and household products. So far, the performance of the installation. The quality indicators of these coatings exceed those for the group processing of products that are placed on a carousel holder and successively cross- and single-layer coatings of nitrides and carbides flow of coating material from one and another transition metals. Such coatings represent a magnetron atomizer. Among the disadvantages of this system is the periodic structure of layers of equal thickness ("the impossibility of providing nm should be attributed to 10 tanovka). The total thickness of the coating with a periodic to the full extent of the conditions under which clear nanostructure faces are formed does not exceed 3-5 microns. Installation between layers of coating of different composition. It was established that the physical and mechanical properties of such coatings do not provide the possibility of applying coatings superior to the properties of each individual on the inner surface of tubular products. of the dual layer and are significantly improved by reducing the period of the structure from tens to ten nanometers. In order to achieve high quality 1) to improve the quality of layered bimetallic such coatings, an important condition is the provision of coatings due to the reduction of the period of layering and the distinct character of interlayer boundaries. Obtaining that structure and improving the clarity of interlayer properties of a wide range of layered edges; variable-sized coatings can be ensured by 2) increasing processing productivity by derating the thickness and material of the layers. Layered coating of heat-sensitive materials; digging with a periodic nanostructure is obtained for 3) expanding the possibilities of processing unbalanced magnetron-based products with various means, including tubular products from lying devices, with ion bombardment of the inner working surface. of densat formed on the working surface of the invention. This technology of coating formation - problems are solved by the fact that in the ion-plasma system, ion assistance - is also characterized by the fact that two magnetron sprayers are used with a low temperature of the surface of the product, which are of the radial type, which are mounted in a vacuum. the camera is coaxial with the possibility of adjusting the distance

При визначені рівня техніки аналізувалася ін- тані між ними, причому катоди магнетронних роз- формація щодо плазмових пристроїв для нане- пилювачів виготовлені з різних металів і мають сення покриття магнетронними розпилювачами конічну форму з зустрічною орієнтацією конусних (С23С 14/35), інформація щодо іонно-плазмових вершин, внутрішні магнітні полюси магнетронних пристроїв для нанесення шаруватих покриттів ти- розпилювачів мають протилежну полярність, а пу зирепанісе і інформація стосовно плазмових аноди магнетронних розпилювачів монтуються з пристроїв для реалізації технології покриття з іон- боку менших основ конічних катодів, струмопідво- ним асистуванням. Переважаюча більшість відо- ди до анодів виконано через трубки для подачі мих плазмових пристроїв і промислових вакуумних газу, які змонтовані на осі магнетронних розпилю- плазмових установок призначена для групової вачів, система електричного живлення містить обробки виробів незначних габаритних розмірів. одне джерело живлення магнетронного розряду,At a certain state of the art, the relationship between them was analyzed, and the magnetron cathodes are made of different metals and have a conical shape with counter-orientation of the cones (С23С 14/35), information about ion -plasma tops, the internal magnetic poles of magnetron devices for applying layered coatings of ty- atomizers have the opposite polarity, and the bubbles and information about plasma anodes of magnetron atomizers are mounted from devices for implementing the technology of coating from the ion side of smaller conical cathode bases, with current-driven assistance . The vast majority of the leads to the anodes are made through tubes for supplying plasma devices and industrial vacuum gas, which are mounted on the axis of magnetron spray-plasma units designed for group vacuums, the electrical power system includes the processing of products of small dimensions. one magnetron discharge power source,

Прикладом можуть бути установки, що описані в що підключене до магнетронних розпилювачівAn example can be the installations described in what is connected to magnetron atomizers

ІБЇ. В устаткуванні подібного типу групова обробка через комутатор, а карусельний тримач виробів деталей реалізована на обертачах карусельного додатково має змінний діаметр монтажної поверх- типу. Особливостями такої організації процесу ні Її можливість зворотно-поступального перемі- нанесення покриттів є те, що товщина кожного щення відносно вісі обертання. металевого шару покриття пропорційна періоду Суть винаходу, що передбачається, поясню- (або половині періоду) повного обертання оберта- ється кресленнями, де на Фіг.1 приведено конс- ча навколо магнетронних розпилювачів. При цьо- труктивну схему установки для нанесення бімета- му виникають складності забезпечення чіткого левих функціональних і декоративних покриттів з характеру міжшарових границь. періодичною наноструктурою на робочі поверхніIBI In the equipment of this type, group processing is done through a switch, and the carousel holder of parts is implemented on the rotators of the carousel, which additionally has a variable diameter of the mounting surface-type. The features of this organization of the process is that the thickness of each coating is relative to the axis of rotation. of the metal coating layer is proportional to the period The essence of the proposed invention is explained- (or half of the period) of full rotation is rotated by drawings, where in Fig. 1 the end around magnetron atomizers is shown. With this structural scheme of the installation for applying bimetham, there are difficulties in ensuring clear left functional and decorative coatings due to the nature of the interlayer boundaries. periodic nanostructure on working surfaces

Найближчим за технічною суттю рішенням є різноманітних виробів, включаючи вироби із тер- установка Іб|Ї. Установка включає вакуумну камеру мочутливих матеріалів і внутрішні робочі поверхні із системами вакуумної відкачки, щонайменше два трубчастих виробів. Основою конструкції є робоча прямокутні незбалансовані магнетронні розпилю- циліндрична вакуумна камера (1) з патрубком ва- вачі, що розміщені симетрично і паралельно вісі куумної відкачки (2) і з відповідною вакуумною за- обертання карусельного тримача виробів і мають пірно-регулюючою арматурою. Вакуумна камера містить дві протилежно розташованих кришки, (3) ристання джерел електричного живлення не імпу- на яких монтуються однакові магнетронні розпи- льсного типу. При подачі від джерела зміщення на лювачі радіального типу з конічними катодами (4). оброблювані вироби від'ємного відносно анодівThe closest solution in technical terms is a variety of products, including products from the Ib|Y installation. The installation includes a vacuum chamber for moisture-sensitive materials and internal working surfaces with vacuum pumping systems, at least two tubular products. The basis of the design is a working rectangular unbalanced magnetron spray-cylindrical vacuum chamber (1) with a nozzle nozzle, placed symmetrically and parallel to the axis of the vacuum pump (2) and with a corresponding vacuum rotation of the product carousel holder and equipped with a spring-regulating valve. The vacuum chamber contains two oppositely located covers, (3) a pair of electric power sources, on which identical spray-type magnetrons are mounted. When supplied from a displacement source on a radial-type feeder with conical cathodes (4). processed products are negative relative to the anodes

На одній з торцевих кришок вакуумної камери магнетронних розпилювачів електричного потенці- встановлено карусельний тримач (5) виробів (б), алу (приблизно - 1000 В) в вакуумній камері запа- якій підключено до негативного полюсу джерела люється тліючий розряд. Внаслідок бомбардуван- напруги зміщення (7). Система електричного жив- ня поверхні оброблюваних виробів енергетичними лення магнетронних розпилювачів містить тільки газовими іонами відбувається іонна очистка і по- одне джерело живлення магнетронного розряду передній нагрів виробів перед нанесенням покрит- (8). Джерела живлення магнетронного розряду і тя. При нанесені покриття напругу на тримачі ви- зміщення може бути виконано по стаціонарній або робів знижують до рівня приблизно 100 В. При імпульсній схемі. В разі використання імпульсних виконанні плазмово-хімічного процесу нанесення джерел, передбачається синхронізація імпульсів. покриття в робочу область подають реактивнийA carousel holder (5) of products (b) is installed on one of the end covers of the vacuum chamber of magnetron atomizers of electrical potential (about 1000 V). In the vacuum chamber, a glow discharge is connected to the negative pole of the source. As a result of bombardment, displacement voltage (7). The system of electrical power supply of the surface of the processed products with the power supply of magnetron atomizers contains only gas ions, ion cleaning takes place and one power source of the magnetron discharge pre-heats the products before coating (8). Power sources of magnetron discharge and tya. When the coating is applied, the voltage on the displacement holder can be fixed or reduced to a level of approximately 100 V. With a pulse circuit. In the case of using pulsed execution of the plasma-chemical process of application of sources, synchronization of pulses is assumed. coating is applied to the working area reactive

До складу джерел обов'язково включається елект- газ. На катоди циліндричних магнетронних розпи- ронна система, що перешкоджає виникненню ду- лювачів почергово подають розрядну напругу. гових розрядів. Джерело живлення розряду підк- Відповідно до тривалості періодів розрядного лючаються до магнетронних розпилювачів через струму формуються дози частинок матеріалу од- комутатор (9), який забезпечує послідовність ро- ного або іншого катодів. Внаслідок цього форму- боти магнетронних розпилювачів з регульованою ються відповідні шари покриття. Формування ша- тривалістю робочих періодів і скважністю. Комута- рів покриття відбувається одночасно на всіх тор забезпечує регулювання часу і режиму роботи виробах, що змонтовано на тримачі. Шари мають джерела напруги зміщення. Відстань між магнет- регульовану товщину і чіткий характер міжшаро- ронними розпилювачами по вісі вакуумної камері і вих границь. Із плазми, що утворюється в області, діаметр циліндричної поверхні карусельного три- де існує замкнене магнітне поле, на поверхню ви- мача виробів можуть регулюватися. робів, витягуються іони аргону з енергіями порядкуElectricity and gas must be included in the composition of sources. A discharge voltage is alternately applied to the cathodes of cylindrical magnetrons by a sputtering system that prevents the occurrence of blowouts. first grades. The discharge power source is connected to the commutator (9), which provides a sequence of ron or other cathodes. As a result, the shape of magnetron atomizers with adjustable corresponding coating layers. Forming by the length of working periods and the availability of work. The coverage of the switchgear occurs simultaneously on all the torus and ensures the adjustment of the time and mode of operation of the products mounted on the holder. Layers have bias voltage sources. The distance between the magnetically regulated thickness and the clear nature of the interbody atomizers along the axis of the vacuum chamber and its boundaries. From the plasma formed in the area, the diameter of the cylindrical surface of the carousel tri- where there is a closed magnetic field, on the surface of the products can be adjusted. did, argon ions with energies of order are extracted

Конструкцію магнетронних розпилювачів зро- 100 ев і густиною струму не більше 10 мА/см-, що зуміло з креслення фіг.2. На кресленні магнетроні сприяє формуванню щільної структури покриття з розпилювачі показані в позиції максимального відмінною адгезією до основи при відносно низькій зближення, що відповідає режиму обробки трубча- температурі поверхні, що обробляється. При мак- стого виробу. Катоди магнетронних розпилювачів симальному зближенні магнетронних розпилюва- (1) виготовлено з різних металів (Мо, МБ, 2тг, Ті, Сг, чів виникає можливість нанесення покриття наThe construction of magnetron atomizers with a power of 100 eV and a current density of no more than 10 mA/cm, which was possible from the drawing in Fig. 2. In the drawing, the magnetron contributes to the formation of a dense structure of the coating with sprayers shown in the position of maximum excellent adhesion to the base at a relatively low convergence, which corresponds to the processing regime of the tube- the temperature of the surface being processed. At maximum product. Cathodes of magnetron atomizers (1) made of different metals (Mo, MB, 2tg, Ti, Sg, etc.)

Си, АЇ та ін.). Магнітні системи магнетронних роз- внутрішню поверхню трубчастих виробів. Довжина пилювачів містять постійні магніти (2) з матеріалу області нанесення покриття на внутрішню поверх-Si, AI, etc.). Magnetic systems of magnetrons for the inner surface of tubular products. The length of dusters contain permanent magnets (2) from the material of the coating area on the inner surface-

Ма-Ре-Ві і магнітні полюси (3, 4) з магнітно м'якої ню визначається можливістю зворотно- сталі. Магнітні полюси, що повернуті один до одно- поступального переміщення трубчастого виробу го, мають протилежну полярність. Завдяки цьому в відносно робочої області формування покриття. області між магнетронними розпилювачами і об- Таким чином, іонно-плазмова установка, що роблюваними виробами утворюється область ма- заявляється в якості передбачуваного винаходу, гнітного поля з замкненими магнітними силовими забезпечує досягнення наступної технічної мети: лініями. Аноди магнетронних розпилювачів (5) 1) підвищення якості шаруватих біметалевих монтуються на торцях магнетронних розпилюва- покриттів за рахунок зменшення періоду шарува- чів. Струмопідводи до анодів виконано через труб- тої структури і покращання чіткості міжшарових ку(и) (7) для підводу газу (або газів) в область де границь; зосереджена плазма. Катоди магнетронів охоло- 2) підвищення продуктивності обробки дета- джуються проточною водою, що підводиться через лей з термочутливих матеріалів; трубопроводи (6). 3) розширення можливостей по обробці різно-Ma-Re-Vi and magnetic poles (3, 4) with magnetically soft nu is determined by the possibility of reversible steel. The magnetic poles, which are turned towards one another for the unidirectional movement of the tubular product h, have the opposite polarity. Thanks to this, in the working area of the formation of the coating. region between the magnetron atomizers and the ob- Thus, the ion-plasma installation, which is created by the manufactured products, a region of magnetic field with closed magnetic force ensures the achievement of the following technical goal: lines. Anodes of magnetron atomizers (5) 1) improvement of the quality of layered bimetallic are mounted on the ends of magnetron atomizers-coatings due to the reduction of the layering period. Current leads to the anodes are made through a tubular structure and improvement of the clarity of the interlayer cu(s) (7) for the supply of gas (or gases) to the area where the boundaries are; concentrated plasma. Cathodes of magnetrons are cooled by running water supplied through a ley of heat-sensitive materials; pipelines (6). 3) expansion of possibilities for processing various

Установка працює наступним чином. На кару- манітних виробів, включаючи трубчасті вироби із сельний тримач (5) (Фіг.1) монтуються оброблю- внутрішньою робочою поверхнею. вані вироби (б) або трубчастий виріб (8) (див. Список використаних джерел:The installation works as follows. On carumanite products, including tubular products with a saddle holder (5) (Fig. 1) are mounted on the working surface. hollow products (b) or tubular product (8) (see List of used sources:

Фіг.2). Співвідношення діаметра циліндричної по- 1. Вакуумно-дуговье устройства и покрьтия / верхні карусельного тримача виробів - а і відстані А.А. Андреєв, Л.П. Саблев, В.М. Шулаев, С.Н. Гри- між магнетронними розпилювачами - п вибирають горьев. - Харьков.: Изд. ННЦ ХФТИ, 2005. - 238 б. таким чином, щоб максимуми діаграми спрямова- 2. Данилин Б.С. Магнетроннье распьілитель- ності потоків розпиленої магнетронними розпилю- нье системь! / Б.С. Данилин, В.К. Сьрчин. - М.: вачами речовини збігалися (або максимально збі- Радио и связь, 1982. - 83 с. галися) на циліндричній поверхні тримача виробів. З. Кузьмичев А.И. Магнетроннье распьлите-Fig. 2). The ratio of the diameter of the cylindrical 1. Vacuum-arc device and coating / upper carousel holder of products - a and the distance A.A. Andreev, L.P. Sablev, V.M. Shulaev, S.N. Gri- between magnetron atomizers - n choose goryev. - Kharkov.: Izd. NNC Khfty, 2005. - 238 pp. in such a way that the maxima of the diagram direct- 2. Danilyn B.S. Magnetron sputtering of streams sprayed by magnetron sputtering systems! / B.S. Danilyn, V.K. Heart - M.: with the eyes, the substances converged (or maximally converged) on the cylindrical surface of the product holder. Z. Kuzmychev A.I. Magnetron atomizer

Вакуумна камера герметизується і відкачується до льнье системь». Кн. 1. Введение в физику и тиску приблизно 103 Па. В вакуумну камеру пода- технику магнетронного распьіления / А.И. Кузьми- ється плазмоутворюючий газ - аргон до тиску 0,1-1 чев. - Киев: Аверс, 2008. - 244 с.The vacuum chamber is sealed and pumped to the linen systems. Book 1. Introduction to physics and pressure of approximately 103 Pa. Into a vacuum chamber, the technique of magnetron sputtering / A.I. Plasma-forming gas - argon is heated to a pressure of 0.1-1 chevron. - Kyiv: Avers, 2008. - 244 p.

Па. Застосування імпульсних джерела живлення 4. Береснев В.М. Нанокристаллические и на- магнетронних розпилювачів і зміщення для попе- нокомпозитнье покрьїтия, структура, свойства / редньої іонної обробки поверхні і для формування В.М. Береснев, А.Д. Погребняк, Н.А. Азаренков, покриття дозволяє підвищити продуктивність про- В.И. Фареник, Г.В. Кирик // ФИЛ. - 2007. - Т. 5, Мо1- цесу при обробці виробів з термочутливих матері- 2.- 6. 4-27. алів. Подальші операції стосуються випадку вико-Pas. Application of pulse power sources 4. Beresnev V.M. Nanocrystalline and magnetron atomizers and displacement for foam composite coating, structure, properties / rare ion surface treatment and for the formation of V.M. Beresnev, A.D. Pogrebnyak, N.A. Azarenkov, the coating allows to increase the productivity of pro- V.I. Farenyk, G.V. Kyryk // PHIL. - 2007. - T. 5, Mo1- cess during processing of products from heat-sensitive materials - 2.- 6. 4-27. alev Further operations refer to the case of using

5. Свадковский И.В. Направление развития нНьЬІх покрьїтий с периодической структурой мето- магнетронньїх распьлительньїх систем / И.В. дом магнетронного распьіления / Агабеков Ю.В.,5. Svadkovskii I.V. The direction of the development of nNIIIh covered with a periodic structure of meto-magnetron scattering systems / I.V. house of magnetron spraying / Yu.V. Agabekov,

Свадковский // Белорусский государственньй уни- Сутьірин А.М., Федотов А.В.; заявитель и патенто- верситет информатики и радиозлектроники: До- владелец (е/0)6) НПФ "Злан-Практик". - кладьі! БГУЙР. - 2007. - Ме2 (18). - б. 112-121. 2006121379/02; заявл. 19.06.2006; опубл. 6. Патент на изобретение 2308538 РФ, МПК 20.10.2007, Бюл. Мо29.Svadkovsky // Belorussky gosudarstennennyi uni- Sutyryn A.M., Fedotov A.V.; applicant and patent university of informatics and radioelectronics: Co-owner (e/0)6) NPF "Zlan-Praktik". - clothes! BGUYR. - 2007. - Me2 (18). - b. 112-121. 2006121379/02; statement 19.06.2006; published 6. Patent for invention 2308538 of the Russian Federation, IPC 20.10.2007, Bull. Mo29.

С23С 14/35. Установка для нанесения многослой-C23C 14/35. Installation for applying multilayer

ЩО | Що нії 3 1 ній (Пишу;WHAT | That nii 3 1 nii (I am writing;

ЙAND

М, У у Й ше с- У - АM, U u Y she s- U - A

І Фіг. 1And Fig. 1

І, Я З й Аргон Ї | Вода ;I, I Z and Argon Y | Water;

Ж САZh SA

Ген Й Метт Й й КОМ В НЯ Н вомео йGen Y Matt Y and KOM V NYA N vomeo y

ДИ ян жи! Ще дя яDY yang zhi! I'm still here

Треее | вони 7 й КМ ше ТЗ ХTreeee | they are 7 and KM she TZ Kh

ИДИ | ДИНЯ. 8 Енн йGO | MELON. 8 Ann and

Ен ше й ех ННІ вооанн й й Вода | ; їй Арго ї й 7En she y eh NNI vooann y y Water | ; she is Argo and 7

Фіг. 2Fig. 2

СО Комп'ютернаверсткаА. Рябко 00000000 Підписне (00000000 ТиражаЗприм, //000С0СсSO KompyuternaverstkaA. Ryabko 00000000 Signature (00000000 CirculationZprim, //000С0Сс

Міністерство освіти і науки УкраїниMinistry of Education and Science of Ukraine

Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, УкраїнаState Department of Intellectual Property, str. Urytskogo, 45, Kyiv, MSP, 03680, Ukraine

ДП "Український інститут промислової власності", вул. Глазунова, 1, м. Київ - 42, 01601SE "Ukrainian Institute of Industrial Property", str. Glazunova, 1, Kyiv - 42, 01601

UAA201005669A 2010-05-11 2010-05-11 Ion-plasma plant UA93471C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201005669A UA93471C2 (en) 2010-05-11 2010-05-11 Ion-plasma plant

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201005669A UA93471C2 (en) 2010-05-11 2010-05-11 Ion-plasma plant

Publications (1)

Publication Number Publication Date
UA93471C2 true UA93471C2 (en) 2011-02-10

Family

ID=50830396

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
UAA201005669A UA93471C2 (en) 2010-05-11 2010-05-11 Ion-plasma plant

Country Status (1)

Country Link
UA (1) UA93471C2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU169200U1 (en) * 2015-11-20 2017-03-09 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики прочности и материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук (ИФПМ СО РАН) The device is a vacuum-plasma homogeneous surface modification of parts

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU169200U1 (en) * 2015-11-20 2017-03-09 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики прочности и материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук (ИФПМ СО РАН) The device is a vacuum-plasma homogeneous surface modification of parts

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7520965B2 (en) Magnetron sputtering apparatus and method for depositing a coating using same
CN103252938B (en) The martensite steel product of coating and the method for forming the steel part for coating
US9115755B2 (en) Current insulated bearing components and bearings
US20060076231A1 (en) Method for magnetron sputter deposition
CN109267007B (en) Apparatus and method for depositing a hydrogen-free tetrahedral amorphous carbon layer on a workpiece
US20090068450A1 (en) Method and Apparatus for Multi-Cathode PVD Coating and Substrate with PVD Coating
US7790003B2 (en) Method for magnetron sputter deposition
US6171454B1 (en) Method for coating surfaces using a facility having sputter electrodes
JP2016516134A5 (en)
CN1993490A (en) Apparatus for directing plasma flow to coat internal passageways
CN104213076A (en) Method and equipment for preparing superhard DLC coating by PVD and HIPIMS
CN109576641B (en) High-binding-force solid antibacterial lubricating film layer of space mechanism and preparation method thereof
EP3644343B1 (en) A coating system for high volume pe-cvd processing
CN102011102A (en) Normal-temperature deposition equipment for high-interfacial strength diamond film materials and method thereof
US20220127726A1 (en) Methods and apparatuses for deposition of adherent carbon coatings on insulator surfaces
CN104862654B (en) Integrated large-diameter high-purity superconduction yttrium barium copper oxide rotary target material and preparation method thereof
CN105441871A (en) Method and device for industrial preparation of superhard DLC carbon coating through physical vapor deposition (PVD) and high power impulse magnetron sputter (HIPIMS)
UA93471C2 (en) Ion-plasma plant
CN211367703U (en) Magnetron sputtering coating machine for depositing DLC film
US20120308810A1 (en) Coated article and method for making the same
CN112210752A (en) Magnetron sputtering technology for depositing DLC film and film coating machine
WO2005089272B1 (en) Pulsed cathodic arc plasma source
CN105112872A (en) Pulse magnetron sputtering device for preparing inner surface coating of cylinder part and application of pulse magnetron sputtering device
Vetter et al. Domino platform: PVD coaters for arc evaporation and high current pulsed magnetron sputtering
CN105369199A (en) Method for preparing frictional wear resisting and corrosion resisting carbon-based film