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TWM619798U - 同軸罐型封裝雷射二極體及其散熱基座 - Google Patents

同軸罐型封裝雷射二極體及其散熱基座 Download PDF

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TWM619798U
TWM619798U TW110203081U TW110203081U TWM619798U TW M619798 U TWM619798 U TW M619798U TW 110203081 U TW110203081 U TW 110203081U TW 110203081 U TW110203081 U TW 110203081U TW M619798 U TWM619798 U TW M619798U
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吳錦宗
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光紅建聖股份有限公司
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Abstract

一種散熱基座適用於形成同軸罐型封裝雷射二極體。該散熱基座包含一基壁，及一自該基壁的一側面向外延伸的散熱壁，該基壁的該側面定義一罐型封裝區，該散熱壁位於該罐型封裝區內並具有一承載面。該散熱基座還包含一延伸壁，其自該基壁的另一側面向外延伸，該基壁、該散熱壁與該延伸壁為一體成型，該延伸壁包括一主散熱面，其用以與一外部散熱件接觸。本新型也提供一種利用上述所述的散熱基座之同軸罐型封裝雷射二極體。

Description

同軸罐型封裝雷射二極體及其散熱基座
本新型是有關於一種雷射二極體及其基座，特別是指一種不僅能穩定放置且也能提升散熱效果的同軸罐型封裝雷射二極體及其散熱基座。
現有雷射二極體(Laser Diode，簡稱LD)封裝構造大致可以分為雙列直插型(Dual in line Package，簡稱DIP)、蝶型(Butterfly)與同軸型(Transistor Outline，簡稱TO)三種。DIP封裝所採用的殼體通常為長方體，目前主要應用於通信(Telecommunication，簡稱Telecom)、有線電視(Common-antenna Television，簡稱CATV)、區域網路(Local Area Network，簡稱LAN)或光時域反射儀(Optical Time Domain Reflectometer，簡稱OTDR)等方面。蝶型封裝與DIP封裝近似，明顯區別在於DIP的引腳(pin)是與殼體的水平方向垂直，而蝶型封裝的引腳是與殼體水平方向平行，其利於電路設計上傳遞更快的訊號。至於TO封裝的特點是體積小，其實現內致冷技術較為困難，散熱是極需解決的問題。
又，隨著高頻傳輸技術的趨勢發展，電子零件於高頻傳輸的使用條件下，易於產生大量的熱，其中，當雷射二極體在工作時所產生的熱不能即時排除時，便會因為熱累積而形成熱點，熱點的存在會使雷射二極體的溫度升高而造成頻譜飄移、功率下降等問題，更甚者還會伴隨有雷射二極體隨時損壞的可能性。目前同軸罐型(TO-CAN)封裝的雷射二極體，其結構是具有一呈圓盤狀的基壁，及一自基壁的一側向外延伸的散熱壁，雷射晶片是位於散熱壁上。此種TO-CAN雷射二極體在使用上，會先將基壁圓周之下半部架設於一托座，然後再安裝於一外部散熱件(如Heat sink)，由於其基壁與托座兩者在接合面上無法緊密接觸，所以必須在這兩者間塗佈散熱膏，藉此保持散熱路徑的通暢，使雷射二極體於工作時所產生的熱能傳導至外部散熱件，然而，散熱膏塗佈的厚度或均勻度皆會影響熱傳導路徑，且基壁在其軸向上的厚度不大，所以與托座相連接的接合面積實屬有限，從而無法使熱大面積地向外傳導。
綜上，現有同軸罐型封裝雷射二極體確實有改善之必要。
因此，本新型之目的，即在提供一種應用於同軸罐型封裝二極體且能幫助提升散熱效果的散熱基座。
於是，本新型散熱基座適用於形成同軸罐型封裝雷射二極體。該散熱基座包含一基壁，及一自該基壁的一側面向外延伸的散熱壁，該基壁的該側面定義一罐型封裝區，該散熱壁位於該罐型封裝區內並具有一承載面，其特徵在於：該散熱基座還包含一延伸壁，其自該基壁的另一側面向外延伸，該基壁、該散熱壁與該延伸壁為一體成型，該延伸壁包括一主散熱面，其用以與一外部散熱件接觸。
本新型之另一目的，即在提供一種利用上述所述散熱基座的同軸罐型封裝雷射二極體。
於是，本新型同軸罐型封裝雷射二極體包含一如前述所述的散熱基座、一熱電致冷晶片、一雷射晶片，及一封裝蓋。
該熱電致冷晶片設置於該承載面。該雷射晶片設置於該熱電致冷晶片並電性連接於該熱電致冷晶片。該封裝蓋呈中空狀，並包括一第一端部與一第二端部，該第一端部的周緣對應設置於該罐型封裝區的周緣，該第二端部界定一容置空間。
現將經由對說明性實施例、隨附圖式及申請專利範圍之以下詳細描述的評述，使本創作之此等以及其他組件、步驟、特徵、效益及優勢變得明朗。
1:散熱基座
11:基壁
111:側面
112:側面
113:副散熱面
114:環繞周面
115:罐型封裝區
116:軸心
12:散熱壁
121:承載面
13:延伸壁
131:主散熱面
132:鎖設面
133:圍繞面
134:鎖孔
135:邊緣
14:引腳
141:頭段
142:尾段
143:上排引腳
144:下排引腳
2:熱電致冷晶片
3:雷射晶片
31:雷射墊塊
32:雷射晶粒
33:監測器
34:熱敏電阻
4:封裝蓋
41:第一端部
42:第二端部
43:容置空間
5:螺絲
6:印刷電路板
61:金屬墊
91:光導引單元
911:光纖尾套
912:Z軸調整環
913:套圈固定管
92:消色差單元
93:外部散熱件
94:非球面透鏡
d1:寬度
d2:寬度
本新型之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：
圖1是本新型同軸罐型封裝雷射二極體的一實施例的一剖視圖，說明該實施例與一光導引單元結合；
圖2是該實施例的另一視角的一立體圖，並與該光導引單元結合；
圖3是該實施例的一散熱基座的一立體圖，說明該散熱基座鎖設於一外部散熱件；
圖4是該實施例的該散熱基座的一正視圖；及
圖5是該實施例適用於一印刷電路板的一剖視圖。
在本新型被詳細描述之前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示，此外圖式中元件的形狀、尺寸、厚度、以及角度等相關參數並未依照比例繪製，其簡化用意僅為方便清楚說明。
參閱圖1、2、3、4，本新型同軸罐型封裝雷射二極體，當與一光導引單元91連接後，能形成光傳輸次模組(Transmitting Optical Sub-Assembly，簡稱TOSA)，所述光導引單元91包括一光纖尾套911、一Z軸調整環912，及一套圈固定 管913。若再加入一消色差單元92，則能形成具有消色像差功能的消色差光傳輸次模組。
本新型同軸罐型封裝雷射二極體包括一散熱基座1、一熱電致冷晶片2、一雷射晶片3，及一封裝蓋4。
散熱基座1包括一基壁11、一散熱壁12、一延伸壁13，及多個引腳14。基壁11、散熱壁12與延伸壁13為一體成型，且材質為熱傳導係數高的金屬，且散熱基座1的重心位於延伸壁13。
基壁11包括相反兩側面111、112、一副散熱面113，及一環繞周面114，所述兩側面的其中一個定義一罐型封裝區115(如圖4所示)，環繞周面114與相反兩側面111、112及副散熱面113相銜接，其中環繞周面114呈拱形狀，且環繞周面114遠離副散熱面113的部分是呈半圓形。散熱壁12自基壁11的一側面111向外延伸且位於罐型封裝區115內，散熱壁12具有一承載面121，在本實施例中，基壁11與散熱壁12相互垂直，散熱壁12的承載面121鄰近軸心116設置。
延伸壁13自基壁11的另一側面112向外延伸，延伸壁13包括一主散熱面131、一鎖設面132、圍繞面133及二鎖孔134。主散熱面131是用以與一外部散熱件93接觸，鎖設面132相反於主散熱面131，圍繞面133連接主散熱面131與鎖設面132， 所述兩個鎖孔134相對設置並各自連通主散熱面131、鎖設面132與圍繞面133，較佳地，所述鎖孔134是呈橫截面為半圓形的延伸孔。在本實施例中，基壁11的副散熱面113是與延伸壁13的主散熱面131共平面，並共同用以與外部散熱件93接觸。
所述引腳14均穿過基壁11，每一引腳14包括一頭段141與一尾段142。所述頭段141與散熱壁12位於同側，且均位於罐型封裝區115內，而所述尾段142則與延伸壁13同側，在本實施例中，所述引腳14被區分為上排引腳143與下排引腳144，下排引腳144位於上排引腳143與承載面121之間。較佳地，在徑向方向上，下排引腳144是位於軸心116與承載面121之間。
熱電致冷晶片2(Thermoelectric cooler，簡稱TEC)設置於承載面121，較佳地，熱電致冷晶片2的寬度d1與散熱壁12的寬度d2，這兩者的比值符合0.8
Figure 110203081-A0101-12-0006-6
d1/d2
Figure 110203081-A0101-12-0006-7
1的數學關係，在本實施例中d1/d2約為0.9，由於所述引腳14會穿設基壁11的側面111，所以能理解基壁11在其側面111上可供熱電致冷晶片2所設置的面積已被侷限，進而只能選擇尺寸較小的熱電致冷晶片，本新型將熱電致冷晶片2設置於承載面121，可利於選用較大尺寸的熱電致冷晶片2，藉此在熱電致冷晶片2於運作時，增加其電子大面積的高速流動而將熱自雷射晶片3傳導至散熱壁12。
雷射晶片3設置於熱電致冷晶片2上，並電性連接於熱電致冷晶片2，具體而言，雷射晶片3包括一雷射墊塊31、一雷射晶粒32，及一監測器33。雷射墊塊31設置於熱電致冷晶片2上，而雷射晶粒32與監測器33則位於雷射墊塊31上，監測器33是用以監測雷射晶粒32，所述監測器33舉例來說可以是包括光感測器(Monitor Photo Diode，簡稱MPD)，藉由監測光電流的變化進而控制雷射晶粒32出光功率的穩定性。此外，雷射晶片3還可以包括熱敏電阻34，熱敏電阻34設置於雷射墊塊31上，藉由監測熱敏電阻34本身電阻值的變化進而驅動熱電致冷晶片2，以維持雷射晶粒32所設定的溫度。
封裝蓋4呈中空狀並包括一第一端部41與一第二端部42，第一端部41的周緣對應設置於罐型封裝區115的周緣，第二端部42界定一容置空間43。
以下將以組裝本新型之過程與使用過程來了解本新型的優點：
在組裝上，舉例來說先將熱電致冷晶片2設置於散熱基座1的承載面121，再將雷射晶片3直接接觸設置於熱電致冷晶片2，然後利用導線(如金線)將雷射晶片3與熱電致冷晶片2所需的正負極性或電路引到至各自所對應的引腳14的頭段141。接著將封裝蓋4的第一端部41的周緣對應焊接於罐型封裝區115的周緣， 第二端部42所界定的容置空間43能供非球面透鏡(Aspheric lens)94或板玻璃嵌入設置，藉此讓基壁11與封裝蓋4兩者間形成充氣空間，充氣空間會填充氮氣或其他惰性氣體(inert gas)，以保護元件不受到濕氣影響，如此便完成本新型同軸罐型封裝雷射二極體。
在使用上，能透過兩個螺絲5將散熱基座1鎖設於外部散熱件93上，螺絲5是將延伸壁13與外部散熱件93兩者之間作緊密接觸以防止熱傳導的阻礙並具有鎖固功能，此外，也能視需求於所述延伸壁13與外部散熱件93兩者的接觸面之間塗佈散熱膏或是置入散熱墊。本新型熱電致冷晶片2的兩側是分別直接接觸雷射晶片3與散熱壁12，因此可以發揮更高效率的熱傳導，當雷射晶片3運作時，熱電致冷晶片2會將雷射晶片3所產生的熱大面積地傳導至散熱壁12，也由於散熱壁12、基壁11與延伸壁13是採一體成型的設計，所以熱在其路徑上的傳導相較於異質接面而言，能較順暢快速地往低溫的外部散熱件93方向傳遞，另外，本新型散熱基座1的主散熱面131及副散熱面113兩者位於同平面而以大面積的形式與外部散熱件93接觸的方式，有助於使外部散熱件93將來自於散熱基座1的熱快速地向外排除。
補充說明，散熱基座1的延伸壁13也能只有一個鎖孔134，舉例來說，可以是位於延伸壁13最遠離基壁11的邊緣 135(如圖2所示)，且位於此邊緣135的中央，並連通主散熱面131與鎖設面132，如此也能達成本新型相同功效與目的。本新型散熱基座1的引腳14呈上排一組與下排一組的設計，能特別應用在印刷電路板6(如圖5所示)上下兩側面分別具有金屬墊61的形式，也就是，上排引腳143的尾段142與下排引腳144的尾段142，是相配合地以夾設方式近距離且大範圍地接觸於印刷電路板6的金屬墊61，此有別於只以引腳14末端的小面積方式接觸金屬墊，所以能提供較佳且快的電性訊號傳輸。
本新型不但能兼顧散熱功能，若與光導引單元結合也可以達成穩固固定光傳輸次模組的功用，綜上所述，本新型同軸罐型封裝雷射二極體及其散熱基座確實能達成本新型之目的。
本創作所揭露之技術內容並不限於上述之實施例，凡是與本創作所揭露之創作概念及原則相同者，皆落入本創作之申請專利範圍。需注意的是，元件的定義，例如“第一”和“第二”並不是限定之文字，而是區別性的用語。而本案所用之“包括”或“包含”涵蓋“包括”和“具有”的概念，並表示元件、操作步驟及/或組或上述的組合，並不代表排除或增加的意思。又，除非有特別說明，否則操作之步驟順序並不代表絕對順序。更，除非有特別說明，否則以單數形式提及元件時(例如使用冠詞“一”或“一個”)並不代表“一個且只有一個”而是“一個 或多個”。本案所使用的“及/或”是指“及”或“或”，以及“及”和“或”。本案所使用的範圍相關用語係包含全部及/或範圍限定，例如“至少”、“大於”、“小於”、“不超過”等，是指範圍的上限或下限。
惟以上所述者，僅為本新型之實施例而已，當不能以此限定本新型實施之範圍，凡是依本新型申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。
1:散熱基座
112:側面
131:主散熱面
132:鎖設面
133:圍繞面
134:鎖孔
135:邊緣
5:螺絲
93:外部散熱件

Claims (11)

  1. 一種散熱基座，適用於形成同軸罐型封裝雷射二極體，並包含一基壁，及一自該基壁的一側面向外延伸的散熱壁，該基壁的該側面定義一罐型封裝區，該散熱壁位於該罐型封裝區內並具有一承載面，其特徵在於：
    該散熱基座還包含一延伸壁，其自該基壁的另一側面向外延伸，該基壁、該散熱壁與該延伸壁為一體成型，該延伸壁包括一主散熱面，其用以與一外部散熱件接觸。
  2. 如請求項1所述的散熱基座，其中，該散熱基座的重心位於該延伸壁，該基壁與該散熱壁相互垂直，該散熱壁的該承載面鄰近軸心設置。
  3. 如請求項1所述的散熱基座，還包含多個引腳，每一該引腳穿過該基壁，每一該引腳包括一與該散熱壁同側的頭段，及一與該延伸壁同側的尾段，每一該引腳的該頭段位於該罐型封裝區內。
  4. 如請求項3所述的散熱基座，其中，該等引腳被區分為一上排引腳與一下排引腳，該下排引腳位於該上排引腳與該承載面之間。
  5. 如請求項4所述的散熱基座，其中，在徑向方向上，該下排引腳是位於軸心與該承載面之間。
  6. 如請求項1所述的散熱基座，其中，該基壁包括一副散熱面，其與該主散熱面同平面，並用以與該外部散熱件接觸。
  7. 如請求項6所述的散熱基座，其中，該基壁還包括一與該側面、該另一側面及該副散熱面銜接的環繞周面，該環繞周面呈拱形狀。
  8. 如請求項1所述的散熱基座，其中，該延伸壁還包括一相反於該主散熱面的鎖設面，及至少一鎖孔，該至少一鎖孔連通該主散熱面與該鎖設面。
  9. 如請求項1所述的散熱基座，其中，該延伸壁還包括一相反於該主散熱面的鎖設面、一連接該主散熱面與該鎖設面的圍繞面，及二鎖孔，該等鎖孔相對設置並各自連通該主散熱面、該鎖設面與該圍繞面。
  10. 一種同軸罐型封裝雷射二極體，包含：
    一如請求項1至9中任一項所述的散熱基座；
    一熱電致冷晶片，設置於該承載面；
    一雷射晶片，設置於該熱電致冷晶片，並電性連接於該熱電致冷晶片；及
    一封裝蓋，呈中空狀，並包括一第一端部與一第二端部，該第一端部的周緣對應設置於該罐型封裝區的周緣，該第二端部界定一容置空間。
  11. 如請求項10所述的同軸罐型封裝雷射二極體，其中，該熱電致冷晶片的一寬度d1與該散熱壁的一寬度d2，符合0.8
    Figure 110203081-A0101-13-0002-8
    d1/d2
    Figure 110203081-A0101-13-0002-9
    1。
TW110203081U 2021-03-23 2021-03-23 同軸罐型封裝雷射二極體及其散熱基座 TWM619798U (zh)

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