TWM670763U - 濕式處理設備 - Google Patents

Abstract

一種濕式處理設備包括第一管路，其一端連接至泵浦的排液口端，並具有第一閥件。第二管路的一端連接至第二槽體，另一端連接至泵浦的進液口端，且第二管路中具有第二閥件及第三閥件。第三管路的一端連接至第二閥件及第三閥件之間的第二管路，且第三管路中具有第四閥件。第一管路及第三管路的至少其中之一的另一端連接至第一槽體。第四管路的一端連接至第二管路，另一端連接至第一管路，並具有第五閥件。第五管路連接第二管路並具有第六閥件及第七閥件。

Description

濕式處理設備

本申請涉及一種濕式處理設備，特別是關於一種可變流場之濕式處理設備。

在半導體晶圓、封裝、顯示面板、發光二極體等產品的製造過程中，需要經過一晶圓(基板)處理系統，以對基板的表面供給處理液，例如化學品或去離子水等，進行蝕刻、清洗、去光阻等處理程序，而在該基板處理系統中，則必須藉由一濕製程設備來針對使用過之製程液進行收集、排液、回收等後續處理。然而，傳統濕製程設備僅能提供單一方向的內循環，且管路設計複雜，必須要添購多種設備才能執行不同流場模式的製程，也無法過濾流動循環中的液體，進而增加設備成本，影響良率、造成表面缺陷、電性等問題。

本申請之一目的在於提供一種濕式處理設備，其具有簡化的管路設計，並可切換多種流場模式，且可持續過濾製程中的液體。

為達上述目的，本申請提供一種可變流場之濕式處理設備，包括：一第一槽體，包括至少一第一連通口；一第二槽體，包括一第二連通口，且該第二槽體位於該第一槽體的側部；一泵浦，包括一進液口端及一排液口端；一第一管路，該第一管路的一端連接至該泵浦的排液口端，且該第一管路中具有一第一閥件；一第二管路， 該第二管路的一端連接至該第二槽體的第二連通口，另一端連接至該泵浦的進液口端，且該第二管路中具有一第二閥件及一第三閥件；一第三管路，該第三管路的一端連接至該第二閥件及該第三閥件之間的該第二管路，且該第三管路中具有一第四閥件，其中該第一管路及該第三管路的至少其中之一的另一端連接至該第一槽體的該至少一第一連通口；一第四管路，該第四管路的一端連接至該第二閥件及該第二槽體之間的該第二管路，另一端連接至該第一閥件及該泵浦之間的該第一管路，且該第四管路中具有一第五閥件；以及一第五管路， 該第五管路的一端連接至該第二閥件及該第三閥件之間的該第二管路，另一端連接至該第三閥件及該泵浦之間的該第二管路，且該第五管路中具有一第六閥件及一第七閥件。

較佳地，該第一槽體包括兩個該第一連通口，該第一管路的該端連接至該兩個第一連通口的其中之一，及該第二管路的該端連接至另一該第二連通口。

較佳地，該第一管路的該另一端連接至該第四閥件及該第一槽體之間的該第三管路。

較佳地，該濕式處理設備還包括一第二延伸管路及一第三延伸管路，該第二延伸管路的一端連接至該第二閥件及該第三閥件之間的該第二管路，且該第三延伸管路的一端連接至該第四閥件及該第一槽體之間的該第三管路 ，其中該第三延伸管路中具有一第八閥件，且該第二延伸管路中具有一第九閥件。

較佳地，當該開啟該第二閥件、該第八閥件及該第九閥件且關閉該第一閥件、該第三閥件、該第四閥件、該第五閥件、該第六閥件及該第七閥件時，該濕式處理設備處於排液流場模式。

較佳地，當開啟該第一閥件、該第二閥件及該第三閥件且關閉該第四閥件、該第五閥件、該第六閥件及該第七閥件時，該濕式處理設備處於第一升流循環流場模式；當開啟該第一閥件、該第二閥件、該第六閥件及該第七閥件且關閉該第三閥件、該第四閥件及該第五閥件時，該濕式處理設備處於第二升流循環流場模式。

較佳地，當開啟該第三閥件、該第四閥件及該第五閥件且關閉該第一閥件、該第二閥件、該第六閥件及該第七閥件時，該濕式處理設備處於第一降流循環流場模式；當開啟該第四閥件、該第五閥件、該第六閥件及該第七閥件且關閉該第一閥件、該第二閥件及該第三閥件時，該濕式處理設備處於第二降流循環流場模式。

較佳地，該濕式處理設備還包括至少一過濾器，其至少設置在該第二管路及該第一管路的其中之一。

較佳地，多個該過濾器串聯設置。

較佳地，該濕式處理設備還包括一第一並聯管路及多個該過濾器，其中該多個過濾器並聯設置在該第一並聯管路。

較佳地，該濕式處理設備還包括至少一濾袋設備，其設置在該第六閥件及該第七閥件之間的該第五管路。

較佳地，多個該濾袋設備串聯設置。

較佳地，該濕式處理設備還包括一第二並聯管路及多個該濾袋設備，其中該第二並聯管路連接至該第五管路，且該多個濾袋設備並聯設置在該第二並聯管路。

較佳地，該濕式處理設備還包括至少一溢流口，其設置在該第一槽體和該第二槽體之間，用以供液體進出。

本申請實施例的濕式處理設備可以切換升流、降流、靜止多種流場模式，以減少設備費用，提升製程切換便利性，且循環管路與排液管路共用，以減少管路數量，增加利用空間，更加裝外槽過濾元件、管路中的過濾器及濾袋設備的過濾系統，減少汙染物回沾，提升化學品重複利用率，有效解決傳統濕製程設備僅能提供單一方向的循環模式，且管路設計複雜，並且無法過濾液體所造成影響良率、表面缺陷、電性等問題。

以下各實施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本申請可用以實施的特定實施例。本申請所提到的方向用語，例如“上”、“下”、“前”、“後”、“左”、“右”、“內”、“外”、“側面”等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本申請，而非用以限制本申請。

本申請特別以下述例子加以描述，這些例子僅係用以舉例說明而已，因為對於熟習此技藝者而言，在不脫離本揭示內容之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本揭示內容之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。在通篇說明書與申請專利範圍中，除非內容清楚指定，否則「一」以及「所述」的意義包含這一類敘述包含「一或至少一」所述元件或成分。此外，如本申請所用，除非從特定上下文明顯可見將複數個排除在外，否則單數冠詞亦包含複數個元件或成分的敘述。而且，應用在此描述中與下述之全部申請專利範圍中時，除非內容清楚指定，否則「在其中」的意思可包含「在其中」與「在其上」。

下面將結合本申請實施例中的附圖，對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本申請中的實施例，本領域技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬本申請保護的範圍。

本申請提供一種濕式處理設備，尤其是指一種浸泡式並可變流場的濕式處理設備，適用於批次量的基板或晶圓的處理製程，例如半導體前段製程、半導體先進封裝製程、化合物半導體製程、光電製程等有關蝕刻、清洗、去光阻等處理。參照圖1， 其為本申請一實施例的可變流場之濕式處理設備1的剖面示意圖。本申請的濕式處理設備1包括一第一槽體11、一第二槽體12、一泵浦3、一第一管路21、一第二管路22、一第三管路23、一第四管路24、一第五管路25、一第二延伸管路221及一第三延伸管路231。如圖1所示，第二槽體12位於第一槽體11(內槽)的側部，且為環繞第一槽體11周圍的外槽。第一槽體11和第二槽體12之間的連接壁具有至少一用於液體進出的溢流口101。具體地，第二槽體12的外側壁的高度大於第一槽體11和第二槽體12之間的連接壁的高度，以形成溢流口101，使第一槽體11內的液體溢滿時可沿該連接壁流入第二槽體12。在一些實施例中，可以透過在第一槽體11和第二槽體12之間的該連接壁開孔以形成溢流口101。具體地，第一槽體11的底部包括兩個第一連通口111及112，第二槽體12的底部包括一第二連通口121。泵浦3具有一進液口端301及一排液口端302。在一些實施例中，在第二槽體12靠近頂部處設置有過濾元件13，以過濾第一槽體11和第二槽體12內液體中的雜質或細小微粒等。

如圖1所示，在此實施例中，第一管路21的一端連接至泵浦3的排液口端302，另一端連接至第一槽體11的第一連通口112，且第一管路21中具有一第一閥件51。第二管路22的一端連接至第二槽體12的第二連通口121，另一端連接至泵浦3的進液口端301，且第二管路22中具有一第二閥件52及一第三閥件53。第三管路23的一端連接至第二閥件52及第三閥件53之間的第二管路22，另一端連接至第一槽體11的第一連通口111，且第三管路23中具有一第四閥件54。第四管路24的一端連接至第二閥件52及第二槽體12之間的第二管路22，另一端連接至第一閥件51及泵浦3之間的第一管路21，且第四管路24中具有一第五閥件55。第五管路25的一端連接至第二閥件52及第三閥件53之間的第二管路22，另一端連接至第三閥件53及泵浦3之間的第二管路22，且第五管路25中具有一第六閥件56及一第七閥件57。

繼續參照圖1，第二延伸管路221的一端連接至第二閥件52及第三閥件53之間的第二管路22，且第二延伸管路221中具有一第九閥件59。第三延伸管路231的一端連接至第四閥件54及第一槽體11之間的第三管路23，且第三延伸管路231中具有一第八閥件58。第二延伸管路221及第三延伸管路231分別連接於外部處理設備(未圖示)，用於將液體排出槽體外，不再經過濕式處理設備1的循環。在一些實施例中，第二延伸管路221與第二管路22為同一管路，作為第二槽體12(外槽)的排液管使用，第三延伸管路231與第三管路23為同一管路，作為第一槽體11(內槽)的排液管使用，也就是說，本申請的第一槽體11與第二槽體12各自的排液管路與循環管路共用，以減少管路數量，增加利用空間。

參照圖2，其為本申請另一實施例的濕式處理設備1’的剖面示意圖。圖2所示的濕式處理設備1’與圖1所示的濕式處理設備1的區別在於第一管路21及第三管路23與第一槽體11的連接關係的不同。在一些實施例中，該第一管路21及該第三管路23的至少其中之一的一端連接至第一槽體11的第一連通口111或112。具體地，如圖2所示的實施例中，第一管路21遠離泵浦3的一端連接至第四閥件54及第一槽體11之間的第三管路23，亦即，第一管路21透過第三管路23連接至第一槽體11的第一連通口111或112，使管路共用，減少管路數量，增加利用空間。

如圖1所示，本申請濕式處理設備1還包括至少一過濾器6及至少一濾袋設備7，其分別用於過濾在對基板的處理製程中，第一槽體11及第二槽體12內液體中的汙染源，例如雜質或細小微粒等。詳細地，過濾器6至少設置在第二管路22及第一管路21的其中之一，亦即，過濾器6可設置在泵浦3的進液方向或排液方向或兩邊皆設置，以提升過濾效果。濾袋設備7設置在第六閥件56及第七閥件57之間的第五管路25。

本申請實施例的濕式處理設備可依據實際製程需求切換液體在管路的流動路徑，以實現在相同的濕式處理設備中應付不同流場的需求。一般而言，流體由內槽向上溢流到外槽，簡稱升流流場；流體由外槽往內槽向下流，簡稱降流流場；以及流體靜止，簡稱靜止流場。參照圖3，其為濕式處理設備1處於第一升流循環流場模式的結構示意圖，其中圖示中箭頭所指方向即代表液體流動之方向。如圖3所示，當開啟第一閥件51、第二閥件52及第三閥件53且關閉第四閥件54、第五閥件55、第六閥件56、第七閥件57、第八閥件58及第九閥件59時，濕式處理設備1處於第一升流循環流場模式。詳細地，第二槽體12內的液體8先流經第二管路22並通過過濾器6的過濾流入泵浦3，接著流經第一管路21後進入第一槽體11內並逐漸上升，最後溢出第一槽體11的液體8經由溢流口101流入第二槽體12，進而繼續上述路徑的循環流動。

參照圖4，其為濕式處理設備1處於第二升流循環流場模式的結構示意圖。如圖4所示，當開啟第一閥件51、第二閥件52、第六閥件56及第七閥件57且關閉第三閥件53、第四閥件54、第五閥件55、第八閥件58及第九閥件59時，濕式處理設備1處於第二升流循環流場模式。詳細地，第二槽體12內的液體8先流經第二管路22，接著流經第五管路25並通過濾袋設備7的過濾，之後流經第二管路22並通過過濾器6的過濾後流入泵浦3，最後流經第一管路21後進入第一槽體11內並逐漸上升，後續溢出第一槽體11的液體8經由溢流口101流入第二槽體12，進而繼續上述路徑的循環流動。

參照圖5，其為濕式處理設備1處於第一降流循環流場模式的結構示意圖。如圖5所示，當開啟第三閥件53、第四閥件54及第五閥件55且關閉第一閥件51、第二閥件52、第六閥件56、第七閥件57、第八閥件58及第九閥件59時，濕式處理設備1處於第一降流循環流場模式。詳細地，第一槽體11內的液體8先下降流經第三管路23，接著經過第二管路22並通過過濾器6的過濾流入泵浦3，之後流經第四管路後進入第二槽體12，最後溢出第二槽體12的液體8經由溢流口101流入第一槽體11，進而繼續上述路徑的循環流動。

參照圖6，其為濕式處理設備1處於第二降流循環流場模式的結構示意圖。如圖6所示，當開啟第四閥件54、第五閥件55、第六閥件56及該第七閥件57且關閉第一閥件51、第二閥件52、第三閥件53、第八閥件58及第九閥件59時，濕式處理設備1處於第二降流循環流場模式。詳細地，第一槽體11內的液體8先下降流經第三管路23，接著經過第二管路22並通過濾袋設備7的過濾，之後流經第二管路22並通過過濾器6的過濾後流入泵浦3，泵浦3排出後流經第四管路後進入第二槽體12，後續溢出第二槽體12的液體8經由溢流口101流入第一槽體11，進而繼續上述路徑的循環流動。

參照圖7，其為濕式處理設備1處於靜止模式的結構示意圖。如圖7所示，當所有第一閥件51至第九閥件59皆關閉，液體8不會在管路內流動，此時，濕式處理設備1處於靜止模式，以待基板9依據預定時間浸泡完成後在切換成其他流場模式。

參照圖8，其為濕式處理設備1處於排液流場模式的結構示意圖。如圖8所示，當開啟第二閥件52、第八閥件58及第九閥件59且關閉第一閥件51、第三閥件53、第四閥件54、第五閥件55、第六閥件56及第七閥件57時，濕式處理設備1處於排液流場模式。詳細地，第一槽體11內的液體8經由第三管路23及第三延伸管路231直接排出並進入外部處理設備(未圖示)，第二槽體12內的液體8經由第二管路22及第二延伸管路221直接排出並進入該外部處理設備，透過上述排液管路與循環管路共用的設計排出液體8。

參照圖9及圖10，圖9為濕式處理設備1的俯視示意圖。如圖9所示，在第二槽體12(外槽)的頂部處設置有過濾元件13，並可依需求選取過濾元件13的孔徑大小。在一些實施例中，如圖10所示，過濾元件13可為單層或多層設置，例如三層，以初步過濾濾徑較大污染物及雜質。

參照圖11A及圖11B，其分別為圖1的濕式處理設備之A部分的不同實施例的配置示意圖。本申請的濾袋設備7作為中段過濾，濾袋設備7內含濾芯、濾網或濾袋，可依需求更換孔徑。如圖11A所示，在一些實施例中，多個濾袋設備7以並聯方式設置在第六閥件56及第七閥件57之間的第二並聯管路262，該第二並聯管路262的兩端分別連接至第五管路25。具體地，第二並聯管路262中對應每一濾袋設備7設置有一閥件，以控制液體8在第二並聯管路262中不同的流動路徑。如圖11B所示，多個濾袋設備7採用串聯設置，以提升過濾效果。在一些實施例中，可配置多組串聯的濾袋設備7，再將每一組串聯的濾袋設備7彼此並聯設置。本申請利用將濾袋設備7串聯以增強過濾效率，也可將濾袋設備7並聯以在製程中不停機切換，進行清洗、更換濾芯，以達到持續過濾液體並確保液體無雜質的目的。

參照圖12A及圖12B，其分別為圖1的濕式處理設備之B部分的不同實施例的配置示意圖。本申請的過濾器6作為終段過濾，過濾器6內設置有濾芯，可依需求更換濾芯孔徑。參照圖12A並配合圖1，在一些實施例中，多個過濾器6以並聯方式設置在第三閥件53及泵浦3之間的第一並聯管路261，該第一並聯管路261連接至第二管路22。具體地，第一並聯管路261中對應每一串連的過濾器6設置有一閥件，以控制液體8在第一並聯管路261中不同的流動路徑。如圖12B所示，多個過濾器6採用串聯設置，以提升過濾效果。在一些實施例中，如圖12A所示，可配置多組串聯的過濾器6，再將每一組串聯的過濾器6彼此以並聯設置。本申請利用將過濾器6串聯以增強過濾效率，也可將過濾器6並聯以在製程中不停機切換，進行清洗、更換濾芯，以達到持續過濾液體並確保液體無雜質的目的。

綜上所述，本申請實施例的濕式處理設備可以切換升流、降流、靜止多種流場模式，以減少設備費用，提升製程切換便利性，且循環管路與排液管路共用，以減少管路數量，增加利用空間，更加裝外槽過濾元件、管路中的過濾器及濾袋設備的過濾系統，減少汙染物回沾，提升化學品重複利用率，有效解決傳統濕製程設備僅能提供單一方向的循環模式，且管路設計複雜，並且無法過濾液體所造成影響良率、表面缺陷、電性等問題。

雖然本申請已以優選實施例闡述如上，但上述優選實施例並非用以限制本申請，本領域的普通技術人士在不脫離本申請的精神和範圍內，均可作各種更動與潤飾，因此本申請的保護範圍以請求項界定的範圍為準。

以上對本申請實施例所提供用於晶圓及基板的處理製程中的濕式處理設備詳細介紹，本文中應用了具體個例對本申請的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用於幫助理解本申請的方法及其核心思想。同時，對於本領域的技術人員，依據本申請的思想，在具體實施方式及應用範圍上均會有改變的地方，綜上所述，本說明書內容不應理解為對本申請的限制。

1、1’:濕式處理設備 101:溢流口 11:第一槽體 111、112:第一連通口 12:第二槽體 121:第二連通口 13:過濾元件 21:第一管路 22:第二管路 221:第二延伸管路 23:第三管路 231:第三延伸管路 24:第四管路 25:第五管路 261:第一並聯管路 262:第二並聯管路 3:泵浦 301:進液口端 302:排液口端 51:第一閥件 52:第二閥件 53:第三閥件 54:第四閥件 55:第五閥件 56:第六閥件 57:第七閥件 58:第八閥件 59:第九閥件 6:過濾器 7:濾袋設備 8:液體 9:基板

圖1為本申請一實施例的可變流場之濕式處理設備的剖面示意圖。 圖2為本申請另一實施例的可變流場之濕式處理設備的剖面示意圖。 圖3為圖1的濕式處理設備處於第一升流循環流場模式的結構示意圖。 圖4為圖1的濕式處理設備處於第二升流循環流場模式的結構示意圖。 圖5為圖1的濕式處理設備處於第一降流循環流場模式的結構示意圖。 圖6為圖1的濕式處理設備處於第二降流循環流場模式的結構示意圖。 圖7為圖1的濕式處理設備處於靜止模式的結構示意圖。 圖8為圖1的濕式處理設備處於排液流場模式的結構示意圖。 圖9為本申請一實施例的可變流場之濕式處理設備的俯視示意圖。 圖10為圖9的可變流場之濕式處理設備的局部剖面示意圖。 圖11A為圖1的濕式處理設備之A部分的另一實施例的配置示意圖。 圖11B為圖1的濕式處理設備之A部分的另一實施例的配置示意圖。 圖12A為圖1的濕式處理設備之B部分的另一實施例的配置示意圖。 圖12B為圖1的濕式處理設備之B部分的另一實施例的配置示意圖。

1:濕式處理設備

101:溢流口

11:第一槽體

111、112:第一連通口

12:第二槽體

121:第二連通口

13:過濾元件

21:第一管路

22:第二管路

221:第二延伸管路

23:第三管路

231:第三延伸管路

24:第四管路

25:第五管路

3:泵浦

301:進液口端

302:排液口端

51:第一閥件

52:第二閥件

53:第三閥件

54:第四閥件

55:第五閥件

56:第六閥件

57:第七閥件

58:第八閥件

59:第九閥件

6:過濾器

7:濾袋設備

Claims (14)

1. 一種濕式處理設備，包括： 一第一槽體，包括至少一第一連通口； 一第二槽體，包括一第二連通口，且該第二槽體位於該第一槽體的側部； 一泵浦，包括一進液口端及一排液口端； 一第一管路，該第一管路的一端連接至該泵浦的排液口端，且該第一管路中具有一第一閥件； 一第二管路， 該第二管路的一端連接至該第二槽體的第二連通口，另一端連接至該泵浦的進液口端，且該第二管路中具有一第二閥件及一第三閥件； 一第三管路，該第三管路的一端連接至該第二閥件及該第三閥件之間的該第二管路，且該第三管路中具有一第四閥件，其中該第一管路及該第三管路的至少其中之一的另一端連接至該第一槽體的該至少一第一連通口； 一第四管路，該第四管路的一端連接至該第二閥件及該第二槽體之間的該第二管路，另一端連接至該第一閥件及該泵浦之間的該第一管路，且該第四管路中具有一第五閥件；以及 一第五管路， 該第五管路的一端連接至該第二閥件及該第三閥件之間的該第二管路，另一端連接至該第三閥件及該泵浦之間的該第二管路，且該第五管路中具有一第六閥件及一第七閥件。
2. 如請求項1所述的濕式處理設備，其中該第一槽體包括兩個該第一連通口，該第一管路的該端連接至該兩個第一連通口的其中之一，及該第二管路的該端連接至另一該第二連通口。
3. 如請求項1所述的濕式處理設備，其中該第一管路的該另一端連接至該第四閥件及該第一槽體之間的該第三管路。
4. 如請求項1所述的濕式處理設備，還包括一第二延伸管路及一第三延伸管路，該第二延伸管路的一端連接至該第二閥件及該第三閥件之間的該第二管路，且該第三延伸管路的一端連接至該第四閥件及該第一槽體之間的該第三管路 ，其中該第三延伸管路中具有一第八閥件，且該第二延伸管路中具有一第九閥件。
5. 如請求項4所述的濕式處理設備，其中當開啟該第二閥件、該第八閥件及該第九閥件且關閉該第一閥件、該第三閥件、該第四閥件、該第五閥件、該第六閥件及該第七閥件時，該濕式處理設備處於排液流場模式。
6. 如請求項1所述的濕式處理設備，其中當開啟該第一閥件、該第二閥件及該第三閥件且關閉該第四閥件、該第五閥件、該第六閥件及該第七閥件時，該濕式處理設備處於第一升流循環流場模式；當開啟該第一閥件、該第二閥件、該第六閥件及該第七閥件且關閉該第三閥件、該第四閥件及該第五閥件時，該濕式處理設備處於第二升流循環流場模式。
7. 如請求項1所述的濕式處理設備，其中當開啟該第三閥件、該第四閥件及該第五閥件且關閉該第一閥件、該第二閥件、該第六閥件及該第七閥件時，該濕式處理設備處於第一降流循環流場模式；當開啟該第四閥件、該第五閥件、該第六閥件及該第七閥件且關閉該第一閥件、該第二閥件及該第三閥件時，該濕式處理設備處於第二降流循環流場模式。
8. 如請求項1所述的濕式處理設備，還包括至少一過濾器，其至少設置在該第二管路及該第一管路的其中之一。
9. 如請求項8所述的濕式處理設備，其中多個該過濾器串聯設置。
10. 如請求項8所述的濕式處理設備，還包括一第一並聯管路及多個該過濾器，其中該多個過濾器並聯設置在該第一並聯管路。
11. 如請求項1所述的濕式處理設備，還包括至少一濾袋設備，其設置在該第六閥件及該第七閥件之間的該第五管路。
12. 如請求項11所述的濕式處理設備，其中多個該濾袋設備串聯設置。
13. 如請求項11所述的濕式處理設備，還包括一第二並聯管路及多個該濾袋設備，其中該第二並聯管路連接至該第五管路，且該多個濾袋設備並聯設置在該第二並聯管路。
14. 如請求項1所述的濕式處理設備，還包括至少一溢流口，其設置在該第一槽體和該第二槽體之間，用以供液體進出。