TWM665748U - 具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板 - Google Patents

Abstract

一種具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，包含：一基材、一輔助層及一反射層，基材具支撐作用，基材上設置一輔助層，輔助層上設置一反射膜，以形成一反射層結構，其中，反射膜外側為入光面。藉此，可應用輔助層結構提高反射膜的抵抗熱彎曲時破裂的性能，也能利用基板的反射膜結構，增加由入光面進入基板內的光線的反射效果。

Description

具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板

本創作是關於一種基板，特別是有關於一種具有抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板。

在各種光學、光學元件和太陽能電池設備中，界面內的反射效果會大地影響性能，為了能充分留住並利用進入上述光電設備的光，在設備的入光界面，例如玻璃的基材(91)上，利用高溫製程工藝鍍上反射膜(92)塗層，如圖1之具有反射膜及基材的基板之剖面圖所示。

由於基材(91)與反射膜(92)之間的熱能與應力成長的差異，使得反射膜塗層會產生殘留應力的問題，而在玻璃的基材(91)上沉積薄膜時，因為基材(91)與薄膜兩者之間的熱膨脹差別，更產生了熱應力的起源，也因為有殘留應力的產生，使得成長的薄膜會有破壞裂痕的情形發生，因為在高溫的沉積過程中，溫度所引發的熱張力大於薄膜的抗拉應力，使得裂痕成長。習用解決上述問題的方法可透過調整製程參數範圍，來降低裂痕的成長，但這種解決方式會對反射模材料的選擇造成限制。

另外，上述光電設備之玻璃的基材(91)常常會安裝於曲面上，因此需配合將基材(91)彎曲成曲面或直接生產曲面基材(91)的需求，以彎曲基材(91)而言，在將具有反射膜(92)的基材(91)進行熱彎曲加工，而由於玻璃的基材(91)熱彎曲後，在熱彎曲曲率小於一定半徑後，由於在基材(91)彎曲時，反射膜(92)的鍍膜層不伸展，因而會使在基材反射膜(91)彎曲面外側的反射膜(92)鍍膜層產生明顯的張力裂紋的情形，容易導致該反射膜(92)破裂。

有鑑於此，先前技術確實仍有加以改善之必要。

本創作之目的在於提供一種具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，以改良先前技術之缺點。

本創作之另一目的在於提供一種具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，可提高反射膜的抵抗熱彎曲時破裂的性能。

本創作之另一目的在於提供一種具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，可藉由形成結構體後再進行熱製程，增加反射膜結構的反射效果。

為達上述及其他之目的，本創作提供一種具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板。

為達成上述及其他目的，本創作之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，包含：一基材；一輔助層(buffer layer)，設置於該基材上；及一反射層，設置於該輔助層上形成反射膜，其中，該反射膜外側為入光面。

在一實施例中，該反射層為多層反射膜。

在一實施例中，該多層反射膜為基數層或偶數層。

在一實施例中，該多層反射膜包含重覆交錯堆疊之數個高折射率層及數個低折射率層。

在一實施例中，先形成於該輔助層上為該高折射率層或該低折射率層。

本創作全文所述方向性或其近似用語，例如前、後、左、右、上(頂)、下(底)、內、外、側等，主要是參考圖式的方向，各方向性或其近似用語僅用以輔助說明及理解本創作的各實施例，非用以限制本創作。

本創作全文所記載的元件及構件使用之冠詞，如一或該，僅是為了方便使用或簡化描述，應被解讀為包括一個或至少一個，且單一的概念也包括複數的概念，除非明顯有不同意思。

為讓上述及其他目的、功效、特徵更明顯易懂，下文特舉部分較佳實施例，並參照所附圖式，作詳細說明。在不背離創作精神下，本案具有多種實施方式，並不受限於下文實施方式所具體描述的細節，且圖式未必按照實際比例繪製，僅為說明實施例而提供。

圖2為本創作一實施例之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板剖面圖。請參考圖2所示，本實施例之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，包含：一基材(10)、一輔助層(20)及一反射層(30)，該基材(10)可提供該輔助層(20)的支撐結構；該輔助層(20)設置於該基材(10)上，且可支撐該反射層(30)之設置；該反射層(30)設置於該輔助層(20)上形成反射膜，該反射膜之外側為一入光面(301)，該入光面(301)可供光線(L)進入。藉由反射膜的結構及製程(例如多層反射膜結構及電漿濺鍍製程)，可使進入該反射層(30)的光線(L)更容易被反射在具有反射膜結構之基板，具有提高其反射效果。

圖3為本創作一實施例之具抗熱彎曲破裂的多層反射膜結構之基板剖面圖。請參考圖3所示，較佳地，該反射層(30)為多層反射膜，且該多層反射膜可為基數層或偶數層。

圖4為本創作另一實施例之具抗熱彎曲破裂的多層反射膜結構之基板剖面圖。請參考圖3及圖4所示，上述多層反射膜包含重覆交錯堆疊之數個高折射率層(31)及數個低折射率層(32)，且可先在該輔助層(20)上形成高折射率層(31)或低折射率層(32)不拘。

圖5為本創作一實施例之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板之製造方法流程圖。請參考圖5所示，本實施例之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板之製造方法，其步驟包含：提供基材步驟(S10)、成形輔助層步驟(S20)及成形反射層步驟(S30)，該提供一基材步驟(S10)係提供一基材，可作為支撐；該成形輔助層步驟(S20)係於該基材上表面形成一輔助層；該成形反射層步驟(S30)係於該輔助層上表面形成一層或多層反射膜。

藉由上述步驟及形成之結構，可選用具一定可繞特性及附著性之材料（其中有不少材料用於軟性可繞基板）作為該輔助層，利用該輔助層的設計及製造方法，克服多層膜的反射層在彎曲過程中的破裂及應力的抵銷，能提高反射膜抵抗熱彎曲時破裂的性能。

如圖5所示，進一步地，於該成形一反射層步驟(S30)之後，另包含一熱製程步驟(S40)，該熱製程步驟(S40)係對該基材、該輔助層及該反射層進行熱製程處理，能增加反射膜結構的反射效果。

圖6為經本創作之熱製程處理後與處理前之反射率比較之折線圖。請參考圖6所示，在進行熱製程處理(即熱處理)前，該具反射膜結構之基板的紅外線波段之波長的平均反射率約為 50 % ，經熱製程步驟(S40)後，該具反射膜結構之基板的紅外線波段之波長的平均反射率約為 58.9 % ，提升達 17 % 。此外，該熱製程步驟(S40)不僅可優化輔助層及反射層介面，亦可使得輔助層及反射層材料再結晶，使得光學反射效果獲得提升。

較佳地，在一實施例中，該輔助層為透明陶瓷材料，可較不影響光線穿透率。

較佳地，該輔助層之材料包括二氧化矽(SiO ₂)、氟摻雜氧化(FTO)、共摻雜的氧化錫(LFTO)、鋁摻雜氧化鋅(AZO)、氧化銻錫(ATO)、氧化銦錫(ITO)或氧化銦鎵鋅(IGZO)。

較佳地，在一實施例中，該輔助層之厚度為150-250nm。

較佳地，該輔助層成形方式包含物理氣相沈積(PVD)方法及化學氣相沈積(CVD)方法。本創作選用電漿濺鍍方法來進行輔助層之製作。

綜上所述，本創作之特點包括：應用在基材與反射層間增鍍一輔助層結構，藉由該輔助層之較佳的可繞特性及附著性的材料特性，加上電漿濺鍍的成形製程，可使該輔助層具備緩衝性，能抵銷多層膜在熱彎曲過程中累積的應力，可克服熱彎曲過程的破裂問題。本創作另設計有高低折射率交錯堆疊之多層反射膜結構，能增強其光線的反射效果。

本創作已利用上述較佳實施例揭示，惟其並非用以限定本創作。本創作所屬技術領域中具有通常知識者，可清楚了解本創作並不受限於上述說明性實施方式的細節。實施方式僅為說明本創作，而非限制本創作，本創作以申請專利範圍為依據，而非以上述說明為依據。申請專利範圍之文義及其均等範圍均屬本創作之專利權範圍。

［本創作］ (10):基材 (20):輔助層 (30):反射層 (301):入光面 (31):高折射率層 (32):低折射率層 (L):光線 (S10):提供基材步驟 (S20):成形輔助層步驟 (S30):成形反射層步驟 (S40):熱製程步驟 ［習用］ (91):基材 (92):反射膜

圖1為習用技術之具有反射膜及基材的基板之剖面圖。 圖2為本創作一實施例之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板剖面圖。 圖3為本創作一實施例之具抗熱彎曲破裂的多層反射膜結構之基板剖面圖。 圖4為本創作另一實施例之具抗熱彎曲破裂的多層反射膜結構之基板剖面圖。 圖5為本創作一實施例之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板之製造方法流程圖。 圖6為經本創作之熱製程處理後與處理前之反射率比較之折線圖。

(10):基材

(20):輔助層

(30):反射層

Claims (5)

1. 一種具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，包含：一基材(10)；一輔助層(20)，設置於該基材(10)上；及一反射層(30)，設置於該輔助層(20)上形成反射膜，其中，該反射膜外側為一入光面(301)。
2. 如請求項1所述之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，其中，該反射層(30)為多層反射膜。
3. 如請求項2所述之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，其中，該多層反射膜為基數層或偶數層。
4. 如請求項2所述之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，其中，該多層反射膜包含重覆交錯堆疊之數個高折射率層(31)及數個低折射率層(32)。
5. 如請求項4所述之具抗熱彎曲破裂的反射膜結構之基板，其中，先形成於該輔助層(20)上為該高折射率層(31)或該低折射率層(32)。