TWI888995B - 支撐結構及其檢測設備與檢測設備之校正治具 - Google Patents

Abstract

一種支撐結構及其檢測設備與檢測設備之校正治具，支撐結構之龍骨上等間隔設有多個支持部，相鄰支持部間界定有容置槽，用以容置支撐件，各支持部設有第一限位部，支撐件上對應設有第二限位部。支撐結構之平行鍵設置於第一與第二限位部之間，用以限制支持部與支撐件的相對位移。檢測設備用於檢測前述支撐結構，其中檢測裝置包括多個檢測區域，依據活動門板推移靠近基板載具之移動程度，用以檢測支撐件不同程度的偏移量。校正治具用於校正前述檢測設備，檢測裝置依據活動門板推移靠近校正治具之移動程度，用以檢測檢測面是否符合校正條件。

Description

支撐結構及其檢測設備與檢測設備之校正治具

本發明是有關於一種支撐結構及其檢測設備與檢測設備之校正治具，且特別是有關於一種可微調偏移量進行校正之支撐結構及其檢測設備與檢測設備之校正治具。

在現有半導體產業中，有關晶圓、光罩或基板等相關半導體元件的存放與運送扮演了重要的角色。隨著半導體基板的尺寸逐漸增加，在儲存或運輸過程中更需要有良好的支撐機制，避免碰撞損壞的狀況。

現有基板載具中使用一種中央支撐件機構來支撐半導體基板，然而中央支撐件常因組裝方式，導致中央支撐件出現組裝誤差，進而發生中央支撐件發生偏移或歪斜的現象。再者，在運送半導體基板的過程中容易發生震動，在經過一段時間的反覆使用後，容易在承載半導體基板時出現中央支撐件發生偏移或傾斜，導致中央支撐件與基板發生碰撞，致使基板出現損壞。目前並沒有很好的機制來防止中央支撐件發生位移或偏斜，也沒有辦法很好地得知中央支撐件的偏移量。

因此，如何能檢測中央支撐件的偏移量並防止中央支撐件發生偏移，係為目前業界亟欲解決之問題。

有鑑於此，本發明係提出一種支撐結構及檢測其之檢測設備與檢測設備之校正治具，利用不同元件將支撐件連接至龍骨上，除了可以固定支撐件，避免支撐件發生傾斜偏移的問題外，更可以對支撐件進行偏移量的微調。另外，在實際承載基板之前，支撐結構可以先以檢測設備進行檢測，判斷其偏移範圍是否合乎標準。另一方面，檢測設備亦可利用校正治具進行標準化校正，確認檢測設備之規格、尺寸正確。

根據本發明之一方面，提出一種支撐結構，適用於一基板載具，支撐結構包括：一龍骨，縱向設置於基板載具內，並且等間隔地設有複數個支持部，相鄰之該支持部間界定有一容置槽，容置槽用以容置一支撐件，各支持部設有一第一限位部，支撐件上對應第一限位部處設有一第二限位部；以及，多個平行鍵，各平行鍵設置於第一限位部與第二限位部之間，並用以限制支持部與支撐件在容置槽中的相對位移。

於一實施例中，第一限位部與第二限位部相互匹配並構成一鍵槽，平行鍵之結構與鍵槽相配合，各平行鍵設置於鍵槽中。

於一實施例中，支撐結構更包括複數個緊迫件，設置於各容置槽與支撐件之間，各緊迫件用於調整各支撐件位於該容置槽中的一第一位移量。

於一實施例中，各緊迫件包括：一楔形本體及一凸緣，楔形本體具有一夾持接面，夾持接面用以夾持於支撐件之一斜面，凸緣位於夾持接面之一邊緣，各緊迫件經由夾持接面及凸緣固定支撐件。

於一實施例中，夾持接面與凸緣之連接處具有一導角，配合支撐件之一邊角之輪廓，藉以使緊迫件緊密接合於支撐件。

於一實施例中，支撐結構更包括一第一鎖固組件，穿過龍骨並鎖接於緊迫件，依據第一鎖固組件之鎖附程度於龍骨之一第一水平方向調整緊迫件之第一位移量。

於一實施例中，支撐結構更包括複數個調整塊，各調整塊包括：一梯形本體，梯形本體具有一上傾面，用於推抵於各支撐件。

於一實施例中，調整塊設置於支持部之一側部，各調整塊用以抵接於各支撐件，並用於調整各支撐件之一第二位移量。

於一實施例中，支撐結構更包括一第二鎖固組件，穿過龍骨並鎖接於調整塊，依據第二鎖固組件之鎖附程度於龍骨之一第二水平方向調整調整塊之一第二位移量。

於一實施例中，龍骨之一頂端及一底端分別具有一上溝槽及一下溝槽，支撐結構更包括：一上固定塊，位於頂端，用以與上溝槽對接，龍骨經由頂端及上固定塊連接於基板載具之一頂部；及一下固定塊，位於底端，用以與下溝槽對接，龍骨經由底端及下固定塊連接於基板載具之一底部。

根據本發明之另一方面，提出一種檢測設備，用於檢測前述支撐結構，檢測設備適用於基板載具並且包括：一載台，用於承置基板載具；一活動門板，可移動地設置於載台上，用於移動靠近或移動遠離基板載具；以及，一檢測裝置，設置於活動門板上，檢測裝置包括一檢測面與複數個檢測區域，檢測面用以抵接支撐件，各檢測區域依據活動門板推移靠近基板載具之移動程度，用以檢測支撐件之不同程度的偏移量。

於一實施例中，偏移量包含容置於容置槽之支撐件的多軸向偏移量。

於一實施例中，檢測區域區包含有一第一檢測區域及位於第一檢測區域內側之一第二檢測區域，活動門板於載台上停止於一第一檢測位置，則支撐件具有超出一檢測範圍之一第一偏移量；活動門板於載台上停止於一第二檢測位置，則支撐件具有小於或等於檢測範圍之一第二偏移量。

於一實施例中，檢測區域區更包含有位於第二檢測區域內側之一第三檢測區域，活動門板於載台上停止於一第三檢測位置，則支撐件具有符合一校正條件之一第三偏移量，其中第三偏移量小於第二偏移量。

於一實施例中，檢測設備，更包括：一推移深度檢測塊，設置於活動門板上，推移深度檢測塊匹配於檢測裝置之檢測結果，推移深度檢測塊依據活動門板推移靠近基板載具之移動程度，提供檢測裝置檢測支撐件之不同程度的偏移量。

於一實施例中，檢測設備更包括：一間隙檢測件，設置於活動門板上，用於檢測基板載具外觀之一偏斜狀態。

於一實施例中，檢測設備更包括：複數個定位銷，設置於載台之一表面，定位銷匹配基板載具之複數個定位槽，定位銷用以對接定位槽，使基板載具定位於載台上。

根據本發明之再一方面，提出一種校正治具，適用於校正前述之檢測設備，校正治具包括：一底座，用於承置於載台上；以及一立柱，縱向設置於底座上，該立柱包括有等間隔設置之複數個校正件，用於抵接檢測裝置之檢測面，校正件具有與前述支撐件相同之結構，其中支撐件藉由容置於容置槽內而為等間隔設置；其中檢測裝置之檢測區域依據活動門板推移靠近校正治具之移動程度，用以檢測檢測面是否符合校正件之一校正條件。

於一實施例中，檢測區域包括：一第一檢測區域，界定大於一校正範圍之一第一偏移量；一第二檢測區域，位於第一檢測區域內側，第二檢測區域為界定大於校正範圍之一第二偏移量；以及，一第三檢測區域，位於第二檢測區域內側，第三檢測區域為界定小於或等於校正範圍之一第三偏移量，第三偏移量小於第二偏移量，第二偏移量小於第一偏移量；其中，活動門板於載台上停止於一第一檢測位置，則檢測面偏移超出校正範圍，不符合校正條件；活動門板於載台上停止於一第二檢測位置，則檢測面偏移超出校正範圍，不符合校正條件；活動門板於載台上停止於一第三檢測位置，則檢測面偏移小於或等於校正範圍，檢測面符合校正條件。

於一實施例中，校正治具更包括：一把手，設置於底座上，用以供一外部裝置抬取校正治具。

於一實施例中，校正治具更包括：一支撐座，設置於底座上，對接於立柱之相對兩側，用以提供支撐固定立柱。

於一實施例中，校正治具更包括：複數個定位槽，設置於底座之底部，定位槽匹配檢測設備之複數個定位銷，定位銷用以對接定位槽，使校正治具定位於載台上。

本發明實施例之平行鍵用來限制支撐件在容置槽中的相對位移，在一些實施例中緊迫件及調整塊可以用來固定支撐件，並微調支撐件的偏移量，解決支撐件發生傾斜偏移的問題。另外支撐結構可以在實際用於支撐基板前，先以檢測設備進行檢測，判斷其偏移範圍是否合乎標準，當檢測出支撐件偏移時，可以微調支撐件的偏移量達到校正的功能。再者，檢測設備亦可於進行檢測前，利用校正治具進行標準化校正，確認檢測設備之規格、尺寸正確。

本中華民國發明專利申請，主張2023年06月12日提出申請之US 63/472,429、名稱「The Adjustment Mechanism of The Central Beam in The Substrate Carrier and The Inspection Device Thereof」之美國專利臨時申請案之國際優先權，前述案件的內容通過引用併入本文，並且成為說明書的一部分。

本發明實施例之支撐結構及檢測其之檢測設備與檢測設備之校正治具，利用平行鍵、固定緊迫件及調整塊等元件來定位以及固定支撐件，在實際承載基板之前，支撐結構可以先以檢測設備進行檢測，判斷其偏移範圍是否合乎標準，檢測設備亦可利用校正治具進行標準化校正，確認檢測設備之規格、尺寸正確且偏移量於校正範圍內。

請參照圖1至圖3，圖1繪示依照本發明一實施例之支撐結構安裝於基板載具內之立體圖，圖2繪示依照本發明一實施例之支撐結構之立體圖，圖3繪示支撐結構之另一視角之立體圖。本實施例之支撐結構100適用於一基板載具200，用來在基板載具200中支撐多個半導體基板，避免基板相互碰撞。基板載具200例如是用來承載多個大尺寸晶圓或PCB，因此對於基板載具200內支撐結構100的偏移量，具有更嚴格的要求。

請參照圖3以及圖4至圖7，圖4繪示支撐結構之部分立體圖，圖5a繪示龍骨、緊迫件及第一鎖固組件之爆炸圖，圖5b繪示龍骨、緊迫件及支撐件之部分側視剖面圖，圖6a繪示龍骨、調整塊及第二鎖固組件之爆炸圖，圖6b繪示龍骨、調整塊及支撐件之部分側視剖面圖，圖7繪示支撐件及龍骨之示意圖。支撐結構100包括一龍骨110以及多個平行鍵130，多個支撐件120連接於龍骨110，平行鍵130用於固定支撐件120。本實施例支撐結構100更包括多個緊迫件140以及多個調整塊150。龍骨110設置於基板載具200之縱向內部空間的中央支撐位置，龍骨110提供多個支撐件120間隔設置，可對每一個支撐件120進行偏移量的微調整。由於相同元件之間具有相同特徵及結構，為更清楚顯示本案特徵，以下將各支撐件120搭配一個平行鍵130、一個緊迫件140及一個調整塊150來進行說明。

龍骨110縱向設置於基板載具200內，並且等間隔地設有多個支持部113。相鄰的支持部113之間界定有一容置槽116，容置槽116用以容置支撐件120，如圖5a所示。各支持部113設有一第一限位部115，而支撐件120上對應第一限位部115處設有一第二限位部121（標示於圖7中）。第一限位部115位於支持部113之一頂面114，如由頂面114向下凹設而成第一限位部115、或於頂面114上開設有連通支持部113兩側的剖槽。第二限位部121位於支撐件120之一下表面123，平行鍵130設置於第一限位部115及第二限位部121之間，用以限制支持部113與支撐件120在容置槽116中的相對位移。

如圖7所示，平行鍵130可固定於支撐件120之第二限位部121內，當支撐件120置放至容置槽116時，平行鍵130係插入第一限位部115以固定支撐件120。於一實施例，平行鍵130係以黏接或其他固定手段固定至第二限位部121內。平行鍵130僅部分地位於第二限位部121內，亦即有部分的平行鍵130凸出第二限位部121外，當支撐件120與固定於其上之平行鍵130裝設至龍骨110的容置槽116內時，支撐件120的下表面123接觸於支持部113的頂面114，平行鍵130凸出第二限位部121外的部分便插入第一限位部115。此時第一限位部115及第二限位部121構成一鍵槽130a，平行鍵130之結構與鍵槽130a相配合，且平行鍵130設置於鍵槽130a中，用於固定支撐件120使其不發生偏移。

支撐件120例如是碳棒，其材質具有微彈性特性，因此可以產生微變形量，進而達到校正偏移量的效果。本實施例中支撐件120係為長條狀結構，其上表面為一斜面124用於對接於緊迫件140，而支撐件120是以下表面123接觸支持部113，藉以將支撐件120承置於支持部113之頂面114上，如圖5a所示。支撐件120之遠端懸置於基板載具200中，用來支撐半導體基板；實際應用上，半導體基板之兩側承置於基板載具200左右內壁上之溝槽，而支撐件120係支撐於半導體基板之中央部分，藉以提供足夠的支撐力予基板，避免基板發生彎曲變形的現象。

如圖5a及圖5b所示，緊迫件140設置於容置槽116與支撐件120之間，用以固定支撐件120，並用於調整支撐件120位於容置槽116中之一第一位移量m1。本實施例中，緊迫件140包括一楔形本體141及一凸緣142，楔形本體141具有一夾持接面144，用以對接於支撐件120之斜面124，斜面124位於下表面123的相對側。在楔形本體上141，夾持接面144的相對面是一上接面148，用於抵持支持部113的底面，使得緊迫件140位於容置槽116內，並夾持於支撐件120與支持部113之間；也就是支撐件120之一端與緊迫件140同時位於相鄰支持部113之間所界定的容置槽116內。凸緣142位於夾持接面144之一邊緣145，緊迫件140經由夾持接面144及凸緣142固定支撐件120。於一實施例中，夾持接面144與凸緣142之連接處具有一導角147，此導角147係配合支撐件120之一邊角127之輪廓。於一實施例中，導角147的弧度符合支撐件120之邊角127之弧度，藉以使緊迫件140經由導角147緊密接合於支撐件120，可以提供良好的夾持力，於一實施例中，緊迫件140對於支撐件120的夾持力道可高至3.5公斤，具有良好的固定效果。以此方式，緊迫件140係可在多個方向上固定支撐件120，例如在X軸、Y軸及Z軸上限位支撐件120，避免發生位移；此外藉由凸緣142的設置，更可以避免X軸、Y軸上（亦即水平方向）的位移。

於一實施例中，支撐結構100更包括一第一鎖固組件161，穿過龍骨110並鎖接於緊迫件140，依據第一鎖固組件161之鎖附程度於一第一水平方向D1調整緊迫件140之第一位移量m1。第一水平方向D1平行於支撐件120之一短軸方向S1。當第一鎖固組件161朝鎖緊方向（例如依照順時鐘方向）鎖附時，第一鎖固組件161會朝龍骨110方向拉動緊迫件140，此時可以朝向圖5b之右方調整支撐件120在水平方向的位移量。相對來說，當第一鎖固組件161依照逆時鐘方向鎖附時，第一鎖固組件161推動緊迫件140遠離龍骨110，此時可以朝向圖5b之左方調整支撐件120在水平方向的位移量。

如圖6a及圖6b所示，調整塊150設置於支持部113之一側部117，用以抵接於支撐件120，並用於調整支撐件120之一第二位移量m2。本實施例中，調整塊150包括：一梯形本體151，梯形本體151具有一上傾面154，用於推抵於支撐件120，更具體來說是推抵支撐件120的下表面123。當調整塊150在一第二水平方向D2移動時，可以經由上傾面154抬昇支撐件120，達到調整第二位移量m2的效果。

支撐結構100更包括一第二鎖固組件162，穿過龍骨110之支持部113並鎖接於調整塊150，據第二鎖固組件162之鎖附程度於龍骨110之一第二水平方向D2調整調整塊150之第二位移量m2。第二水平方向D2係垂直於第一水平方向D1，第二水平方向D2平行於支撐件120之一長軸方向S2。當第二鎖固組件162朝鎖緊方向(例如順時鐘方向)鎖附時，第二鎖固組件162會朝龍骨110的支持部113方向拉動調整塊150，此時可以朝向圖6b中之上方調整支撐件120在垂直方向的翹曲變形量。相對來說，當第二鎖固組件162依照逆時鐘方向鎖附時，可以朝向圖6b之下方調整支撐件120在垂直方向的翹曲變形量。

請參照圖1以及圖8至圖11，圖8繪示龍骨頂端及上固定塊組裝前之示意圖，圖9繪示龍骨頂端及上固定塊組裝後之示意圖，圖10繪示龍骨底端及下固定塊組裝前之示意圖，圖11繪示龍骨底端及下固定塊組裝後之示意圖。龍骨110具有相對之一頂端111及一底端112，頂端111及底端112分別具有一上溝槽118及一下溝槽119。支撐結構100更包括：一上固定塊180及一下固定塊190。上固定塊180位於頂端111，用以與上溝槽118對接，龍骨110經由頂端111及上固定塊180連接於基板載具200之頂部210。下固定塊190位於底端112，用以與下溝槽119對接，龍骨110經由底端112及下固定塊190連接於基板載具200之底部220。下溝槽119具有對應上固定塊180之輪廓，使得上固定塊180對接於上溝槽118時可以進行定位，不會發生轉動或位移的現象。同理，下溝槽118及下固定塊190具有相同機制，使兩者對接時不會發生轉動或位移的現象。藉由上固定塊180及下固定塊190，可以增加鎖點位置，如圖9及圖11中所示，頂端111及底端112各具有三個鎖點。如此可以提升支撐結構100鎖固於基板容器200時之鎖固強度，避免支撐結構100發生位移的問題。

接下來對於檢測設備進行說明。請參照圖12至圖14，圖12繪示依照本發明一實施例之檢測設備之立體圖，圖13繪示檢測設備於另一狀態時之立體圖，圖14繪示基板載具及檢測設備之側視剖面圖。

檢測設備400用於檢測支撐結構100，本實施例中以檢測前述實施例之支撐結構100為例進行說明，其元件名稱及元件標號係沿用於本實施例中。檢測設備400包括一載台410、一活動門板420以及一檢測裝置430。載台410用於承置基板載具200，活動門板420可移動地設置於載台410上，用於移動靠近或移動遠離基板載具200。檢測裝置430設置於活動門板420上，檢測裝置430包括一檢測面434與多個檢測區域(如本實施例中包括第一檢測區域431、第二檢測區域432及第三檢測區域433)，檢測面434用以抵接支撐件120，各檢測區域431、432或433依據活動門板420推移靠近基板載具200之移動程度，用以檢測支撐件120之不同程度的一偏移量。

檢測裝置430與活動門板420一同移動靠近或移動遠離基板載具200。活動門板420沿移動方向Dm移動後，係可例如由圖12中之位置移動至圖13中之位置，此時活動門板420係朝基板載具200移動；更詳盡地來說，是讓活動門板420上的檢測裝置430朝向基板載具200中的支撐結構100移動，以對支撐件120的偏移量進行檢測。載台410上具有沿移動方向Dm依序配置之一第一檢測位置421、一第二檢測位置422及一第三檢測位置423，用來顯示活動門板420移動的停止位置，分別表示不同的檢測結果。第一檢測位置421對應第一檢測區域431，第二檢測位置422對應第二檢測區域432，第三檢測位置423對應第三檢測區域433，藉由活動門板420推移至上述其中一者檢測位置，可對應取得支撐件120位於檢測區域的位置。實際應用上，可檢測之支撐件120偏移量包括容置於龍骨110之容置槽116之支撐件120的多軸向偏移量，包括左右偏移以及上下翹曲。

請參照圖14及圖15，圖15繪示檢測裝置之示意圖。本實施例中，檢測區域包括第一檢測區域431及位於第一檢測區域431內側之第二檢測區域432。另外還包括第三檢測區域433，位於第二檢測區域432內側。第二檢 測區域432係由檢測面434下凹形成，使得第二檢測區域432低於第一檢測區域431，因此當支撐件120落於第一檢測區域431及第二檢測區域432時，活動門板420具有不同的移動程度(亦可視為移動距離)。接下來對於不同的檢測結果來進行說明。

首先說明第一種檢測結果。請參照圖16及圖17，圖16繪示活動門板於第一檢測位置時之示意圖，圖17繪示支撐件接觸到第一檢測區域時之示意圖。在活動門板420朝基板載具200移動時，當支撐件120接觸到第一檢測區域431時，活動門板420於載台410上停止於第一檢測位置421，則支撐件120具有超出一檢測範圍之一第一偏移量。於一實施例中，檢測範圍包括左右偏移在±2mm內，以及上下翹曲在±1.5mm內。因此當任一支撐件120向左或向右偏移超過2mm時，支撐件120會接觸到檢測面434之第一檢測區域431，活動門板420停止於第一檢測位置421無法繼續推入。同樣，當任一支撐件120向上或向下翹曲超過1.5mm時，支撐件120會接觸第一檢測區域431，使活動門板420無法繼續推入。此種檢測結果表示支撐件120之偏移量超出檢測範圍，需要進行調整，如利用緊迫件140與調整塊150調整支撐件120之偏移量。

接著說明第二種檢測結果。請參照圖18及圖19，圖18繪示活動門板於第二檢測位置時之示意圖，圖19繪示支撐件落入第二檢測區域時之示意圖。在活動門板420朝基板載具200移動時，當支撐件120接觸到第二檢測區域432時，活動門板420於載台410上停止於第二檢測位置422，則支撐件120具有小於或等於檢測範圍之一第二偏移量。當任一支撐件120向左或向右偏移在2mm以內時，支撐件120會落入第二檢測區域432，此時活動門板420推至第二檢測位置422即無法繼續推入。同樣，當任一支撐件120向上或向下翹曲在1.5mm以內時，支撐件120會落入第二檢測區域432。此種檢測結果表 示支撐件120之偏移量在檢測範圍以內，不需要進行調整，可以用來承置半導體基板。

再來說明第三種檢測結果。請參照圖20及圖21，圖20繪示活動門板於第三檢測位置時之示意圖，圖21繪示支撐件落入第三檢測區域時之示意圖。在活動門板420朝基板載具200移動時，當支撐件120落入第三檢測區域433，活動門板420停止於第三檢測位置423時，支撐件120具有符合一校正條件之一第三偏移量，第三偏移量小於前述之第二偏移量。當任一支撐件120向左或向右偏移在0.1mm以內時，支撐件120會落入第三檢測區域433。當任一支撐件120向上或向下翹曲在0.1mm以內時，支撐件120會落入第三檢測區域433，此時活動門板420係可推進至第三檢測位置423。此種檢測結果同樣表示偏移量在檢測範圍以內，且支撐件120具有更小的第三偏移量，不需要進行調整，可以用來承置半導體基板。實際上第三檢測結果顯示支撐件120具有極小的偏移範圍，符合利用校正治具進行校正之校正條件。關於校正治具之內容將詳述於後。

關於檢測位置之指示方式可為間隔平行的第一檢測線411、第二檢測線412或第三檢測線413，請參照圖22進行說明，圖22繪示圖13之檢測設備之另一視角之立體圖。本實施例之檢測設備400更包括一推移深度檢測塊440，設置於活動門板420上，推移深度檢測塊440匹配檢測裝置430之檢測結果。推移深度檢測塊440依據活動門板420推移靠近基板載具200之移動程度(亦可視為移動距離)，提供檢測支撐件120之不同程度的偏移量的功能。當活動門板420停止於第一檢測位置421、第二檢測位置422或第三檢測位置423時，推移深度檢測塊440指示於載台410上之第一檢測線411、第二檢測線412或第三檢測線413，可以清楚明確地顯示檢測結果。

另一方面，請參照圖13，本實施例之檢測設備400更包括一間隙檢測件450及多個定位銷460。間隙檢測件450設置於活動門板420上，用於檢測基板載具200外觀之一偏斜狀態。間隙檢測件450例如是設置於活動門板420上之兩側，當基板載具200放置於載台410後，若基板載具200有觸及間隙檢測件450，表示基板載具200並未正置，處於偏斜狀態，需要重新調整位置。此外，本實施例之檢測設備400更包括多個定位銷460，設置於載台410之一表面414，定位銷460匹配基板載具200之多個定位槽221（標示於圖1中），定位槽221設置於基板載具200之底部220的外側表面上，定位銷460用以對接定位槽221，使基板載具200定位於載台410上。

實施例接著對於校正治具進行說明，請參照圖23及圖24，圖23繪示依照本發明一實施例之校正治具設置於檢測設備上之立體圖，圖24繪示校正治具之立體圖。

校正治具500適用於校正檢測設備400，本實施例中以校正前述實施例之檢測設備400為例進行說明，其元件名稱及元件標號係沿用於本實施例中。校正治具500包括一底座510以及一立柱520，底座510用於設置於檢測設備400之載台410上，立柱520縱向設置於底座510上，立柱520包括有等間隔設置之多個校正件525，用於接觸檢測設備400之檢測裝置430之檢測面434。校正件525具有與前述支撐件120相同之結構，如具有與支撐件120相同之斜面及下表面，藉以對檢測裝置430進行校正。前述支撐件120藉由容置於容置槽116內而為等間隔設置，本實施例之校正件525同樣為等間隔設置，並具有與支撐件120相等的間隔。本實施例中，校正治具500係為一體式鋁製標準件，模擬支撐件120組裝後之標準高度，每層間距27mm±0.05mm。檢測裝置430之第一、第二及第三檢測區域431、432及433依據活動門板420推移靠近校正治具500之移動程度，可以用以檢測檢測面434是否為符合校正件525之一校正條件。

本實施例中，第一檢測區域431界定大於一校正範圍之一第一偏移量。第二檢測區域432位於第一檢測區域431內側，第二檢測區域432為界定大於校正範圍之一第二偏移量。第三檢測區域433位於第二檢測區域432內側，第三檢測區域433為界定小於或等於校正範圍之一第三偏移量，第三偏移量小於第二偏移量，第二偏移量小於第一偏移量。

在活動門板420移動靠近校正治具500時，活動門板420停止於第三檢測位置423，則表示檢測面434偏移小於或等於校正範圍，檢測面434符合校正條件，表示檢測裝置430之尺寸正確且偏移量在校正範圍內，此時檢測裝置430為一校正完成狀態，不需要進行校正，可以用來檢測基板載具200之支撐結構100。相對來說，當校正件525接觸到第二檢測區域432時，活動門板420停止於第二檢測位置422，表示檢測面434偏移超出校正範圍，不符合校正條件，檢測裝置430之尺寸不正確或安裝發生偏移，檢測裝置430為一待校正狀態，需要進行調整或更換。同樣地，當校正件525接觸到第一檢測區域431時，活動門板420係停止於第一檢測位置421，檢測面434偏移超出校正範圍，不符合校正條件，檢測裝置430為待校正狀態，需要進行調整或更換。

請參照圖24及圖25，圖25繪示校正治具於載台上時之部分剖面圖。本實施例之校正治具500更包括一把手530、一支撐座540及多個定位槽550。把手530設置於底座510上，用以供一外部裝置抬取校正治具500，避免抓取觸碰到立柱520造成歪斜。支撐座540設置於底座510上，對接於立柱520之相對兩側，用以提供支撐固定立柱520，維持立柱520之垂直度，可以避免立柱520歪斜。定位槽550設於底座510上並面朝載台410，並且具有與基板載具200底部220之定位槽221相同之結構，用於與載台410上之定位銷460配合，以定位校正治具500。定位槽550具有一對定位斜面551，定位銷460凸出於載台410之表面414，當校正治具500設置於載台410上時，藉由定位銷460於定位斜面551上滑動至定位，可以用來定位校正治具500。

綜上所述，本發明實施例之支撐結構及檢測其之檢測設備與檢測設備之校正治具，利用平行鍵來限制支持部與支撐件的相對位移，避免支撐件發生偏斜的狀況。在一些實施例中，支撐結構更利用固定緊迫件及調整塊等元件來定位以及固定支撐件。另外，在實際承載基板之前，支撐結構可以先以檢測設備進行檢測，判斷其偏移範圍是否合乎標準。當檢測出支撐件偏移時，可以藉由緊迫件及調整塊等元件微調支撐件的偏移量，達到校正的功能。另一方面，檢測設備利用校正治具進行標準化校正，確認檢測設備之規格、尺寸正確。

雖然本發明已以多個實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。任何於本技術領域具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種更動及潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附申請專利範圍所界定者為準。

100:支撐結構 110:龍骨 111:頂端 112:底端 113:支持部 114:頂面 115:第一限位部 116:容置槽 117:側部 118:上溝槽 119:下溝槽 120:支撐件 121:第二限位部 123:下表面 124:斜面 127:邊角 130:平行鍵 140:緊迫件 141:楔形本體 142:凸緣 144:夾持接面 145:邊緣 147:導角 148:上接面 150:調整塊 151:梯形本體 154:上傾面 161:第一鎖固組件 162:第二鎖固組件 180:上固定塊 190:下固定塊 200:基板載具 210:頂部 220:底部 221:定位槽 400:檢測設備 410:載台 411:第一檢測線 412:第二檢測線 413:第三檢測線 414:表面 420:活動門板 421:第一檢測位置 422:第二檢測位置 423:第三檢測位置 430:檢測裝置 434:檢測面 431:第一檢測區域 432:第二檢測區域 433:第三檢測區域 440:推移深度檢測塊 450:間隙檢測件 460:定位銷 500:校正治具 510:底座 520:立柱 525:校正件 530:把手 540:支撐座 550:定位槽 551:定位斜面 D1:第一水平方向 D2:第二水平方向 Dm:移動方向 m1:第一位移量 m2:第二位移量 S1:短軸方向 S2:長軸方向 X:軸向 Y:軸向 Z:軸向

為讓本發明之上述以及其他特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下： [圖1]繪示依照本發明一實施例之支撐結構安裝於基板載具內之立體圖； [圖2]繪示依照本發明一實施例之支撐結構之立體圖； [圖3]繪示支撐結構之另一視角之立體圖； [圖4]繪示支撐結構之部分立體圖； [圖5a]繪示龍骨、緊迫件及第一鎖固組件之爆炸圖； [圖5b]繪示龍骨、緊迫件及支撐件之部分側視剖面圖； [圖6a]繪示龍骨、調整塊及第二鎖固組件之爆炸圖； [圖6b]繪示龍骨、調整塊及支撐件之部分側視剖面圖； [圖7]繪示支撐件及龍骨之示意圖； [圖8]繪示龍骨頂端及上固定塊組裝前之示意圖； [圖9]繪示龍骨頂端及上固定塊組裝後之示意圖； [圖10]繪示龍骨底端及下固定塊組裝前之示意圖； [圖11]繪示龍骨底端及下固定塊組裝後之示意圖； [圖12]繪示依照本發明一實施例之檢測設備之立體圖； [圖13]繪示檢測設備於另一狀態時之立體圖； [圖14]繪示基板載具及檢測設備之側視剖面圖； [圖15]繪示檢測裝置之示意圖； [圖16]繪示活動門板於第一檢測位置時之示意圖； [圖17]繪示支撐件接觸到第一檢測區域時之示意圖； [圖18]繪示活動門板於第二檢測位置時之示意圖； [圖19]繪示支撐件落入第二檢測區域時之示意圖； [圖20]繪示活動門板於第三檢測位置時之示意圖； [圖21]繪示支撐件落入第三檢測區域時之示意圖； [圖22]繪示圖13之檢測設備之另一視角之立體圖； [圖23]繪示依照本發明一實施例之校正治具設置於檢測設備上之立體圖； [圖24]繪示校正治具之立體圖；以及 [圖25]繪示校正治具於載台上時之部分剖面圖。

110:龍骨

114:頂面

115:第一限位部

116:容置槽

120:支撐件

121:第二限位部

123:下表面

124:斜面

130:平行鍵

130a:鍵槽

X:軸向

Y:軸向

Z:軸向

Claims (22)

1. 一種支撐結構，適用於一基板載具，該支撐結構包括： 一龍骨，縱向設置於該基板載具內，並且等間隔地設有複數個支持部，相鄰之該支持部之間界定有一容置槽，該容置槽用以容置一支撐件，各該支持部設有一第一限位部，該支撐件上對應該第一限位部處設有一第二限位部；以及 複數個平行鍵，各該平行鍵設置於該第一限位部與該第二限位部之間，並用以限制該支持部與該支撐件在該容置槽中的相對位移。
2. 如請求項1所述之支撐結構，其中該第一限位部與該第二限位部相互匹配並構成一鍵槽，該平行鍵之結構與該鍵槽相配合，各該平行鍵設置於該鍵槽中。
3. 如請求項1所述之支撐結構，更包括複數個緊迫件，設置於各該容置槽與該支撐件之間，各該緊迫件用於調整各該支撐件位於該容置槽中的一第一位移量。
4. 如請求項3所述之支撐結構，其中各該緊迫件包括：一楔形本體及一凸緣，該楔形本體具有一夾持接面，該夾持接面用以夾持於該支撐件之一斜面，該凸緣位於該夾持接面之一邊緣，各該緊迫件經由該夾持接面及該凸緣固定該支撐件。
5. 如請求項4所述之支撐結構，其中該夾持接面與該凸緣之連接處具有一導角，配合該支撐件之一邊角之輪廓，藉以使該緊迫件緊密接合於該支撐件。
6. 如請求項3所述之支撐結構，更包括一第一鎖固組件，穿過該龍骨並鎖接於該緊迫件，依據該第一鎖固組件之鎖附程度於該龍骨之一第一水平方向調整該緊迫件之該第一位移量。
7. 如請求項1所述之支撐結構，更包括複數個調整塊，各該調整塊包括：一梯形本體，該梯形本體具有一上傾面，用於推抵於各該支撐件。
8. 如請求項7所述之支撐結構，其中該些調整塊設置於該支持部之一側部，各該調整塊用以抵接於各該支撐件，並用於調整各該支撐件之一第二位移量。
9. 如請求項8所述之支撐結構，更包括一第二鎖固組件，穿過該龍骨並鎖接於該調整塊，依據該第二鎖固組件之鎖附程度於該龍骨之一第二水平方向調整該調整塊之該第二位移量。
10. 如請求項1所述之支撐結構，其中該龍骨之一頂端及一底端分別具有一上溝槽及一下溝槽，該支撐結構更包括： 一上固定塊，位於該頂端，用以與該上溝槽對接，該龍骨經由該頂端及該上固定塊連接於該基板載具之一頂部；及 一下固定塊，位於該底端，用以與該下溝槽對接，該龍骨經由該底端及該下固定塊連接於該基板載具之一底部。
11. 一種檢測設備，用於檢測如請求項1所述之支撐結構，適用於該基板載具，該檢測設備包括： 一載台，用於承置該基板載具； 一活動門板，可移動地設置於該載台上，用於移動靠近或移動遠離該基板載具；以及 一檢測裝置，設置於該活動門板上，該檢測裝置包括一檢測面與複數個檢測區域，該檢測面用以抵接該支撐件，各該檢測區域依據該活動門板推移靠近該基板載具之移動程度，用以檢測該支撐件之不同程度的一偏移量。
12. 如請求項11所述之檢測設備，其中該偏移量包含容置於該容置槽之該支撐件的多軸向偏移量。
13. 如請求項11所述之檢測設備，其中該些檢測區域區包含有一第一檢測區域及位於該第一檢測區域內側之一第二檢測區域，該活動門板於該載台上停止於一第一檢測位置，則該支撐件具有超出一檢測範圍之一第一偏移量；該活動門板於該載台上停止於一第二檢測位置，則該支撐件具有小於或等於該檢測範圍之一第二偏移量。
14. 如請求項13所述之檢測設備，其中該些檢測區域區更包含有位於該第二檢測區域內側之一第三檢測區域，該活動門板於該載台上停止於一第三檢測位置，則該支撐件具有符合一校正條件之一第三偏移量，其中該第三偏移量小於該第二偏移量。
15. 如請求項11所述之檢測設備，更包括： 一推移深度檢測塊，設置於該活動門板上，該推移深度檢測塊匹配該檢測裝置之檢測結果，該推移深度檢測塊依據該活動門板推移靠近該基板載具之移動程度，提供檢測該支撐件之不同程度的偏移量。
16. 如請求項11所述之檢測設備，更包括： 一間隙檢測件，設置於該活動門板上，用於檢測該基板載具外觀之一偏斜狀態。
17. 如請求項11所述之檢測設備，更包括： 複數個定位銷，設置於該載台之一表面，該些定位銷匹配該基板載具之複數個定位槽，該些定位銷用以對接該些定位槽，使該基板載具定位於該載台上。
18. 一種校正治具，適用於校正如請求項11所述之檢測設備，該校正治具包括： 一底座，用於承置於該載台上；以及 一立柱，縱向設置於該底座上，該立柱包括有等間隔設置之複數個校正件，用於抵接該檢測裝置之該檢測面，該些校正件具有與請求項1所述之該些支撐件相同之結構，其中該些支撐件藉由容置於該些容置槽內而為等間隔設置； 其中，該檢測裝置之該些檢測區域依據該活動門板推移靠近該校正治具之移動程度，用以檢測該檢測面是否為符合該些校正件之一校正條件。
19. 如請求項18所述之校正治具，其中該些檢測區域區包含: 一第一檢測區域，界定大於一校正範圍之一第一偏移量； 一第二檢測區域，位於該第一檢測區域內側，該第二檢測區域為界定大於該校正範圍之一第二偏移量；以及 一第三檢測區域，位於該第二檢測區域內側，該第三檢測區域為界定小於或等於該校正範圍之一第三偏移量，該第三偏移量小於該第二偏移量，該第二偏移量小於該第一偏移量； 其中，該活動門板於該載台上停止於一第一檢測位置，則該檢測面偏移超出該校正範圍，不符合該校正條件；該活動門板於該載台上停止於一第二檢測位置，則該檢測面偏移超出該校正範圍，不符合該校正條件；該活動門板於該載台上停止於一第三檢測位置，則該檢測面偏移小於或等於該校正範圍，該檢測面符合該校正條件。
20. 如請求項18所述之校正治具，更包括： 一把手，設置於該底座上，用以供一外部裝置抬取該校正治具。
21. 如請求項18所述之校正治具，更包括： 一支撐座，設置於該底座上，對接於該立柱之相對兩側，用以提供支撐固定該立柱。
22. 如請求項18所述之校正治具，更包括： 複數個定位槽，設置於該底座之底部，該些定位槽匹配該檢測設備之複數個定位銷，該些定位銷用以對接該些定位槽，使該校正治具定位於該載台上。