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TWI881081B - 玻璃板的製造方法 - Google Patents

玻璃板的製造方法 Download PDF

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TWI881081B
TWI881081B TW110110485A TW110110485A TWI881081B TW I881081 B TWI881081 B TW I881081B TW 110110485 A TW110110485 A TW 110110485A TW 110110485 A TW110110485 A TW 110110485A TW I881081 B TWI881081 B TW I881081B
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liquid
glass
manufacturing
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南貴博
藤居孝英
伊藤茂嘉
山本好晴
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日商日本電氣硝子股份有限公司
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Abstract

玻璃板的製造方法的清洗步驟S2包括:第一清洗步驟S21,對玻璃板G供給第一清洗液CS1並對玻璃板G進行清洗;以及第二清洗步驟S23,於第一清洗步驟S21後,對玻璃板G供給第二清洗液CS2並對玻璃板G進行清洗。第一清洗液CS1是酸性清洗液,第二清洗液CS2是鹼性清洗液。

Description

玻璃板的製造方法
本發明是有關於一種製造玻璃板的方法。
近年來,液晶顯示器、有機EL(electroluminescent,電致發光)顯示器等面板顯示器不斷被推進高精細化。與此相伴,於用作顯示器用的基板的玻璃板上,利用所述顯示器的製造步驟而形成緻密的電氣回路。因此,對於此種玻璃板要求不附著有灰塵或污垢的高度潔淨性。
玻璃板的製造步驟包括:開捆步驟,取出例如在棧板(pallet)上存放的玻璃原板;切斷步驟,自所取出的玻璃原板切成規定尺寸的玻璃板;端面加工步驟,對玻璃板施加端面加工;以及清洗步驟,對經端面加工的玻璃板進行清洗。作為清洗玻璃板的方法,可舉出藉由清洗盤、或清洗刷(roll brush,輥刷)等清洗具對在規定方向上被搬送的玻璃板進行清洗的方法(例如參照專利文獻1)。
[現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2017-14060號公報
供給至所述玻璃板的製造步驟的玻璃原板,被裝載於棧板上進行存放,於棧板上,有多個玻璃原板經由樹脂片材被積層的情況。
此種情況下,若被在棧板上長期存放,則有時會產生鈣污垢或含有有機物的污垢。又,該些污垢牢固地附著於玻璃原板上,於清洗步驟中有時難以被自玻璃板去除。
因此,本發明的技術性課題在於提高玻璃板的清洗步驟中的清洗力。
本發明是用於解決所述課題的玻璃板的製造方法,包括:存放步驟,存放與樹脂片材接觸的玻璃板;清洗步驟,於所述存放步驟後對所述玻璃板進行清洗;所述玻璃板的製造方法的特徵在於:所述清洗步驟包括:第一清洗步驟,對所述玻璃板供給第一清洗液並對所述玻璃板進行清洗;及第二清洗步驟,於所述第一清洗步驟後,對所述玻璃板供給第二清洗液並對所述玻璃板進行清洗;所述第一清洗液是酸性清洗液,所述第二清洗液是鹼性清洗液。
根據本發明者等的積極研究,確認到當在使玻璃板與樹脂片材接觸的狀態下長期間存放的情況下,自樹脂片材轉印至玻璃板的表面的污垢中含有鈣的情況(以下稱為「鈣污垢」),與其他污垢相比,藉由清洗難以將所述鈣污垢自玻璃板去除。
本發明者等發現:在執行了將第一清洗液設為酸性清洗液的第一清洗步驟後,執行將第二清洗液設為鹼性清洗液的第二清洗步驟,藉此可有效地將鈣污垢、及含有有機物的污垢自玻璃板去除。
所述酸性清洗液可包含羥基酸(hydroxy acid)。作為羥基酸(含氧酸(oxyacid)),例如可列舉乙醇酸(glycolic acid)、乳酸、酒石酸、檸檬酸、蘋果酸、水楊酸等。羥基酸是同時具有羥基的羧酸,水溶性高。又,羥基酸的分子內所含的羧基與玻璃板的表面上的鈣污垢的鈣離子(Ca2+)藉由螯合(chelate)效應而進行反應,於一個分子內或藉由多個分子擷取鈣離子並使其穩定化,因此對於固著於玻璃板的表面的鈣成分的去除方面具有效果。
所述鹼性清洗液可包含氫氧化鹽,例如可包含氫氧化鈉及氫氧化鉀的至少一者。
於所述第一清洗步驟中,可藉由使清洗具與所述玻璃板接觸,而對所述玻璃板進行清洗。藉此,可效率良好地進行第一清洗步驟。
於所述第二清洗步驟中,可藉由使清洗具與所述玻璃板接觸,而對所述玻璃板進行清洗。藉此,可效率良好地進行第二清洗步驟。
本方法可於所述第一清洗步驟後且於所述第二清洗步驟前,包括藉由將去除液供給至所述玻璃板,而去除附著於所述玻璃板的所述第一清洗液的除液步驟,所述去除液為溫水。藉由所 述除液步驟來去除在第一清洗步驟後附著於玻璃板的第一清洗液,而可在之後的第二清洗步驟中,更有效地進行第二清洗液對玻璃板的清洗。
本方法可於所述第二清洗步驟後,包括藉由將沖洗液供給至所述玻璃板,而去除附著於所述玻璃板的所述第二清洗液的沖洗步驟,所述沖洗液含有鹼性電解水。藉由沖洗步驟而利用陰離子覆蓋玻璃板的表面,藉此可防止分散地存在於沖洗液中的粒子狀的物質再附著於玻璃板的表面,而可提高沖洗步驟後的玻璃板的表面的潔淨度。
根據本發明,可提高玻璃板的清洗步驟中的清洗力。
1:清洗裝置
2:第一清洗部
2a:上側清洗機、清洗機
2b:下側清洗機、清洗機
3:除液部
3a:上側氣刀、氣刀
3b:下側氣刀、氣刀
4:第二清洗部
4a:上側清洗機
4b:下側清洗機
5:沖洗部
5a:上側沖洗液供給部、沖洗液供給部
5b:下側沖洗液供給部、沖洗液供給部
6:乾燥部
6a:上側氣刀、氣刀
6b:下側氣刀、氣刀
7:搬送裝置
7a:搬送輥
8a:上側清洗具、清洗具
8b:下側清洗具、清洗具
9a:上側清洗具的本體部
9b:下側清洗具的本體部
10:清洗構件
11:軸部
12:供給孔
13:儲存槽
14:軸承部
15a:上側清洗具、清洗具
15b:下側清洗具、清洗具
16a:上側清洗具的本體部
16b:下側清洗具的本體部
17a:上側去除液供給部
17b:下側去除液供給部
CS1:第一清洗液
CS2:第二清洗液
G:玻璃板
Ga:第一主面、主面
Gb:第二主面、主面
P:棧板
PB:捆包體
RS:樹脂片材
S1:存放步驟
S2:清洗步驟
S21:第一清洗步驟
S22:除液步驟
S23:第二清洗步驟
S24:沖洗步驟
S25:乾燥步驟
SS:存放空間
X:搬送方向
圖1是表示本發明的第一實施形態的玻璃板的製造方法的剖視圖。
圖2是表示第一清洗部及第二清洗部中的清洗機的結構的剖視圖。
圖3是表示清洗步驟的流程圖。
圖4是表示本發明的第二實施形態的玻璃板的製造方法的剖視圖。
以下,對用於實施本發明的形態參照圖式同時進行說 明。圖1至圖3示出本發明的玻璃板的製造方法的第一實施形態。
如圖1所示,本方法包括:存放玻璃板G的存放步驟S1、以及清洗玻璃板G的清洗步驟S2。亦可於存放步驟S1與清洗步驟S2之間,更包括所述開捆步驟、切斷步驟、端面加工步驟。亦可作為清洗步驟S2的後續步驟,更包括玻璃板G的檢查步驟、及將玻璃板G裝載於棧板上的捆包步驟。
於存放步驟S1中,玻璃板G以捆包體PB的狀態被管理。捆包體PB藉由將多個玻璃板G裝載於棧板P上而構成。於本實施形態的存放步驟S1中,是以平放姿勢來存放玻璃板G,但亦可以傾斜姿勢來存放玻璃板G。
玻璃板G藉由切斷例如利用溢流下拉(Overflow down draw)法形成的長條狀的玻璃帶(glass ribbon)而構成。溢流下拉法中,使熔融玻璃流入設置於剖面為大致楔形的成形體的上部的溢流槽,使自所述溢流槽朝兩側溢出的熔融玻璃沿著成形體的兩側的側壁部流下,且在成形體的下端部融合一體化,而將玻璃帶連續成形。玻璃板G並不限定於溢流下拉法,亦可藉由浮法(float method)等其他各種成形法來製造。
玻璃板G構成為矩形形狀,但並不限定於所述形狀。玻璃板G包括第一主面Ga、及第二主面Gb。於本實施形態中,將第一主面Ga作為保證面,將第二主面Gb作為非保證面。此處,所謂「保證面」意指例如在顯示器的製造過程中被施加透明導電膜等的成膜處理側的面。
玻璃板G例如使用矽酸鹽玻璃、二氧化矽玻璃,較佳為包含硼矽酸玻璃、鈉鈣玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、化學強化玻璃、無鹼玻璃。此處,所謂無鹼玻璃為實質上不含鹼成分(鹼金屬氧化物)的玻璃,具體而言,為鹼成分的重量比為3000ppm以下的玻璃。本發明中的鹼成分的重量比較佳為1000ppm以下,更佳為500ppm以下,最佳為300ppm以下。
於各玻璃板G,重疊有樹脂片材RS。藉由所述樹脂片材RS,防止在捆包體PB的狀態下玻璃板G彼此接觸。
樹脂片材RS包含表面積較玻璃板G大的矩形形狀片材。樹脂片材RS包含例如由以聚乙烯(polyethylene)為主成分的樹脂形成的發泡樹脂片材、樹脂製保護膜等。樹脂片材RS可含有聚合物型抗靜電劑等抗靜電劑、或陰離子(anion)表面活性劑、非離子(non-ion)表面活性劑等表面活性劑。
於存放步驟S1中,捆包體PB例如被存放數日至一年。存放期間愈長,玻璃板G的污垢愈增加,而本發明的清洗力的提高效果愈顯著。因此,存放期間較佳為兩個月以上,更佳為四個月以上。經過了存放步驟S1的捆包體PB被自存放空間SS運出。
於清洗步驟S2中,供給自捆包體PB取出的玻璃板G。於此種情況下,將樹脂片材RS自玻璃板G剝離。於清洗步驟S2中,藉由圖1所示的清洗裝置1來清洗玻璃板G。
清洗裝置1主要包括:第一清洗部2,一面將第一清洗液CS1供給至玻璃板G,一面對所述玻璃板G進行清洗;除液部3, 去除附著於玻璃板G的第一清洗液CS1;第二清洗部4,一面將第二清洗液CS2供給至玻璃板G,一面對所述玻璃板G進行清洗;沖洗部5,一面對玻璃板G供給沖洗液,一面去除附著於所述玻璃板G的第二清洗液CS2;以及乾燥部6。另外,清洗裝置1亦包括將玻璃板G沿著規定的搬送方向X進行搬送的搬送裝置7。
第一清洗部2包括:清洗玻璃板G的第一主面Ga的上側清洗機2a、以及清洗玻璃板G的第二主面Gb的下側清洗機2b。
上側清洗機2a包括與第一主面Ga接觸的上側清洗具8a、以及支持所述上側清洗具8a的本體部9a。下側清洗機2b包括與第二主面Gb接觸的下側清洗具8b、以及支持所述下側清洗具8b的本體部9b。上側清洗機2a與下側清洗機2b是相同類型的清洗機。
以下,以圖2所示的上側清洗機2a為例對各清洗機2a、清洗機2b的結構進行說明。上側清洗具8a構成為圓盤狀,但並不限定於所述形狀。上側清洗具8a包括:與玻璃板G的第一主面Ga接觸的清洗構件10、以及支持所述清洗構件10的軸部11。
清洗構件10藉由例如發泡樹脂成形體或發泡橡膠成形體(發泡海綿(foam sponge))、或者毛氈狀的纖維成形體(毛氈海綿(felt sponge))形成為盤狀(圓板狀)。並不限定於所述結構,清洗構件10亦可包含刷(brush)。
清洗構件10具有用於將第一清洗液CS1供給至玻璃板G的供給孔12。軸部11構成為管狀,可使第一清洗液CS1於內部 通過。軸部11與清洗構件10的供給孔12連通。
本體部9a包括:儲存槽13,儲存第一清洗液CS1;軸承部14,可旋轉地支持第一清洗具的軸部11;以及使軸部11旋轉的驅動部(省略圖示)。
儲存槽13儲存作為第一清洗液CS1的酸性清洗液。酸性清洗液包含例如含有羥基酸的水溶液。作為羥基酸,例如可列舉乙醇酸、乳酸、酒石酸、檸檬酸、蘋果酸、水楊酸等。羥基酸是同時具有羥基的羧酸,水溶性高。又,羥基酸的分子內所含的羧基與玻璃板G的表面(各主面Ga、主面Gb)上的鈣污垢的鈣離子(Ca2+)藉由螯合效應而進行反應,於一個分子內或藉由多個分子擷取鈣離子並使其穩定化,因此對於固著於玻璃板G的各主面Ga、主面Gb的鈣成分的去除方面具有效果。例如在作為酸性清洗液而使用乙醇酸的情況下,其濃度較佳的是設為1.5%~10%,但並不限定於所述範圍。再者,酸性清洗液可含有一種或多種羥基酸。
另外,第一清洗液CS1亦可含有用於對玻璃板G上的含有有機物的污垢進行清洗去除的表面活性劑。作為表面活性劑,可自包含以烷基苯磺酸鹽等為代表的陰離子表面活性劑、或以聚氧乙烯烷基醚等為代表的非離子表面活性劑的群組進行選擇。表面活性劑於如下方面具有效果:擷取自樹脂片材RS被轉印至玻璃板G的各主面Ga、主面Gb的污垢中的有機物主體的污垢並將其自玻璃板G的各主面Ga、主面Gb去除。
酸性清洗液亦可更含有優先補充鈣離子的螯合助劑,用以防止游離於所述清洗液中的鈣離子(Ca2+)再附著於玻璃板G的各主面Ga、主面Gb。作為所添加的螯合助劑,可使用三聚磷酸鈉、乙二胺四乙酸(Ethylene Diamine Tetraacetic Acid,EDTA)、次氮基三乙酸(Nitrilotriacetic acid,NTA)、檸檬酸鈉等各種有機高分子螯合助劑,亦可使用例如沸石等選擇性地吸附鈣離子的無機物等。
儲存槽13亦可包括對第一清洗液CS1進行加熱的加熱器(heater)。此種情況下的第一清洗液CS1的溫度較佳的是設為40℃~50℃,但並不限定於所述範圍。
第一清洗部2在使各清洗具8a、清洗具8b與玻璃板G的各主面Ga、主面Gb接觸的狀態下,利用驅動部使軸部11旋轉,藉此可進行對玻璃板G的擦拭清洗。
除液部3用於去除附著於通過第一清洗部2後的玻璃板G的第一清洗液CS1。除液部3包括上側氣刀(air knife)3a、以及下側氣刀3b。除液部3藉由將各氣刀3a、氣刀3b的空氣朝玻璃板G的各主面Ga、主面Gb吹附,而可自玻璃板G去除第一清洗液CS1。
第二清洗部4包括可對玻璃板G執行擦拭清洗的上側清洗機4a及下側清洗機4b。上側清洗機4a包括上側清洗具15a、以及支持所述上側清洗具15a的本體部16a。下側清洗機4b包括下側清洗具15b、以及支持所述下側清洗具15b的本體部16b。第 二清洗部4的上側清洗機4a及下側清洗機4b具有與第一清洗部2中的上側清洗機2a及下側清洗機2b相同的結構。
然而,第二清洗部4在使用鹼性清洗液作為第二清洗液CS2的方面與第一清洗部2不同。鹼性清洗液含有氫氧化鹽,例如包含含有氫氧化鈉及氫氧化鉀的至少一者的水溶液。鹼性清洗液中的氫氧化鈉的濃度與氫氧化鉀的濃度的合計較佳的是設為0.5%~10%,更佳的是設為1.5%~10%。第二清洗液CS2亦可含有表面活性劑或螯合劑。又,第二清洗液CS2的溫度較佳的是設為40℃~50℃,但並不限定於所述範圍。
鹼性清洗液並不限定於含有氫氧化鹽,亦可含有碳酸鹽。作為碳酸鹽,可使用碳酸鈉、碳酸鉀、倍半碳酸鈉、碳酸氫鈉(重碳酸鈉)等。又,並不限定於所述內容,鹼性清洗液亦可含有矽酸鹽等鹼性助洗劑(alkaline builder)助劑。
藉由所述鹼性清洗液,可更有效地自玻璃板G除去含有有機物的其他污垢。又,藉由將玻璃板G的各主面Ga、主面Gb鹼化以保持負電荷,而可特別有效地去除在使用第一清洗液CS1(酸性清洗劑)後吸附殘存於玻璃板G的各主面Ga、主面Gb的極性高的表面活性劑成分。
鹼性清洗液亦可含有用於有效地去除玻璃板G上的含有有機物的污垢或所述酸性清洗劑的殘留物的表面活性劑成分。作為表面活性劑,可自包含以烷基苯磺酸鹽等為代表的陰離子表面活性劑、或以聚氧乙烯烷基醚等為代表的非離子表面活性劑的群 組進行選擇。表面活性劑於以下方面有效:擷取玻璃板G的各主面Ga、主面Gb上的有機物主體的殘存物並將其自玻璃板G的各主面Ga、主面Gb去除。
更佳的是,鹼性清洗液為了防止被自玻璃板G去除後游離於所述鹼性清洗液中的鈣離子再附著於玻璃板G的各主面Ga、主面Gb,亦可與第一清洗液CS1同樣地含有螯合助劑。
沖洗部5用於去除附著於通過第二清洗部4後的玻璃板G的第二清洗液CS2。沖洗部5包括上側沖洗液供給部5a、以及下側沖洗液供給部5b。上側沖洗液供給部5a對玻璃板G的第一主面Ga供給沖洗液。下側沖洗液供給部5b對玻璃板G的第二主面Gb供給沖洗液。
作為沖洗液,例如使用純水,但並不限定於此。例如作為沖洗液,亦可使用含有自小濃度的碳酸鉀水溶液藉由電解而形成的pH=11左右的鹼性電解水的純水。藉此,玻璃板G的各主面Ga、主面Gb帶負電(由陰離子覆蓋),分散於排液中的鈣離子或有機物、微粒(particle)等帶負電而具有排斥效果,藉此可防止異物再附著於清洗後的玻璃板G的主面Ga、主面Gb,對於特別是在外觀檢查中看不到的細小微粒的減少方面有效。於使用含有鹼性電解水的純水時,可將含有鹼性電解水的純水的pH例如設為9~12。
沖洗部5包括噴霧狀噴嘴,可藉由噴射高壓的沖洗液並進行清洗,而將第二清洗液CS2自玻璃板G去除。沖洗部5亦可 藉由利用混合噴嘴(mix jet nozzle)噴射使空氣混入純水中的沖洗液,而將第二清洗液CS2自玻璃板G去除。又,沖洗部5還可使用清洗具將第二清洗液CS2自玻璃板G去除。
乾燥部6用於去除附著於通過沖洗部5後的玻璃板G的沖洗液。乾燥部6包括上側氣刀6a、以及下側氣刀6b。上側氣刀6a對通過沖洗部5後的玻璃板G的第一主面Ga吹附空氣。下側氣刀6b對玻璃板G的第二主面Gb吹附空氣。
搬送裝置7將玻璃板G自第一清洗部2搬送至乾燥部6。搬送裝置7例如包含輥式輸送機(roller conveyor),但並不限定於所述結構。搬送裝置7包括隔開規定的間隔而配置的多個搬送輥7a。各搬送輥7a藉由與玻璃板G的第二主面Gb接觸、且被旋轉驅動,而將所述玻璃板G沿著搬送方向X進行搬送。
如圖3所示,清洗步驟S2包括:第一清洗步驟S21、除液步驟S22、第二清洗步驟S23、沖洗步驟S24、以及乾燥步驟S25。
於第一清洗步驟S21中,於第一清洗部2中,一面藉由搬送裝置7將玻璃板G沿著搬送方向X進行搬送,一面使第一清洗部2的上側清洗具8a及下側清洗具8b與玻璃板G的第一主面Ga及第二主面Gb接觸。藉此,玻璃板G由各清洗具8a、清洗具8b夾持。各清洗具8a、清洗具8b一面將作為第一清洗液CS1的酸性清洗液供給至玻璃板G的各主面Ga、主面Gb一面使清洗構件10旋轉。藉此,將玻璃板G的第一主面Ga及第二主面Gb同時進行清洗。
於除液步驟S22中,對通過第一清洗部2後的玻璃板G,自除液部3的各氣刀3a、氣刀3b吹附空氣,藉此去除附著於所述玻璃板G的第一主面Ga及第二主面Gb的第一清洗液CS1。
於第二清洗步驟S23中,於第二清洗部4中,一面將玻璃板G沿著搬送方向X進行搬送,一面使第二清洗部4的上側清洗具15a及下側清洗具15b與玻璃板G的第一主面Ga及第二主面Gb接觸。各清洗具15a、清洗具15b一面將作為第二清洗液CS2的鹼性清洗液供給至玻璃板G的各主面Ga、主面Gb一面使清洗構件10旋轉。藉此,將玻璃板G的第一主面Ga及第二主面Gb同時進行清洗。
於沖洗步驟S24中,對通過第二清洗部4後的玻璃板G,自沖洗部5的各沖洗液供給部5a、沖洗液供給部5b供給沖洗液。藉此,可去除附著於玻璃板G的第一主面Ga及第二主面Gb的第二清洗液CS2。
於乾燥步驟S25中,對通過沖洗部5後的玻璃板G,自乾燥部6的各氣刀6a、氣刀6b吹附空氣。於此種情況下,理想的是例如自氣刀6a、氣刀6b朝向玻璃板G噴射高壓空氣。藉此,可去除附著於玻璃板G的沖洗液。
根據本實施形態的玻璃板G的製造方法,可藉由第一清洗步驟S21有效地去除存放步驟S1中自樹脂片材RS轉印至玻璃板G的鈣污垢。又,於第二清洗步驟S23中,可有效地去除含有有機物的污垢。藉此,可提高玻璃板G的清洗步驟S2中的清洗力。 此處,推測鈣污垢是由於在樹脂片材RS中所含的添加劑(例如聚乙烯乙醇或聚乙烯乙醇與聚丙烯的共聚物)在吸收大氣中的水分的過程中,大氣中的水分中所含的微量的鈣析出、濃縮並附著於玻璃而產生。又,推測含有有機物的污垢是由於樹脂片材RS中所含的各種添加劑(例如疏水性物質)滲出而產生。
圖4示出本發明的玻璃板的製造方法的第二實施形態。於本實施形態中,除液步驟S22的結構與第一實施形態不同。於第一實施形態中,清洗裝置1的除液部3包括氣刀,但本實施形態中的除液部3包括噴淋(shower)清洗裝置,所述噴淋清洗裝置供給除去附著於玻璃板G的第一清洗液CS1的去除液。
除液部3包括上側去除液供給部17a、以及下側去除液供給部17b。上側去除液供給部17a對玻璃板G的第一主面Ga供給去除液。下側去除液供給部17b對玻璃板G的第二主面Gb供給去除液。
供給至玻璃板G的去除液例如包含純水。去除液較佳的是以經加熱的溫水的狀態供給至玻璃板G。去除液的溫度較佳的是例如設為40℃~60℃,但並不限定於所述範圍。
去除液亦可含有鹼性電解水。藉由將鹼性電解水使用於去除液,而可利用陰離子覆蓋玻璃板G的各主面Ga、主面Gb,從而可防止被自玻璃板G去除而分散地存在於去除液中的粒子狀的物質再附著於玻璃板G的各主面Ga、主面Gb。藉此,可提高第一清洗步驟S21後的玻璃板G的各主面Ga、主面Gb的潔淨度。
本發明並不限定於所述實施形態的結構,亦不限定於所述作用效果。本發明可於不脫離本發明的主旨的範圍內進行各種變更。
於所述實施形態中,對在第一清洗步驟S21與第二清洗步驟S23之間包括除液步驟S22的玻璃板G的製造方法進行了例示,但本發明並不限定於所述結構。於本發明中,例如亦可省略除液步驟S22。
於所述實施形態中,作為清洗具8a、清洗具8b、清洗具15a、清洗具15b而例示了呈圓盤狀(盤狀)的清洗具,但本發明並不限定於所述結構。清洗具亦可包括清洗輥等其他清洗具。
本發明亦可於第二清洗步驟S23與沖洗步驟S24之間,包括對因第二清洗步驟S23而附著於玻璃板G的第二清洗液CS2(鹼性清洗液)進行去除的除液步驟。
[實施例]
以下,對本發明的實施例進行說明,但本發明並不限定於所述實施例。本發明者等為了確認由本發明製造的玻璃板的品質而實施了試驗。試驗如以下所詳述般,藉由第一方法及第二方法的兩個方法來進行。
於利用第一方法的試驗中,使用潔淨、乾燥的矩形形狀的測試用鈉玻璃板與樹脂片材。玻璃板的尺寸為100mm×100mm,厚度為0.7mm。樹脂片材的尺寸為150mm×150mm。在使樹脂片材與玻璃板接觸的狀態下存放三個月後,自玻璃板除去樹 脂片材,而製作表面形成有鈣污垢、及含有有機物的污垢的玻璃板的試驗片(實施例1~實施例5、比較例1)。
於試驗中,在藉由酸性清洗液(第一清洗液)對實施例1~實施例5的玻璃板進行清洗後,藉由鹼性清洗液(第二清洗液)對所述玻璃板進行了清洗。於此種情況下,使酸性清洗液的濃度及鹼性清洗液的濃度不同地對各實施例1~實施例5的玻璃板進行了清洗。又,將比較例1的玻璃板藉由鹼性清洗液(第一清洗液)進行了清洗,之後,藉由酸性清洗液(第二清洗液)進行了清洗。
具體而言,利用噴淋來吹附規定的濃度的所述清洗液,使聚乙烯醇(poly vinyl alcohol,PVA)製的海綿含浸清洗液並對玻璃板擦拭30秒鐘後,藉由手動利用純水進行沖洗,並利用乾燥空氣進行乾燥。
本發明者等對實施例1~實施例5及比較例1的玻璃板的清洗結果進行了評估。清洗結果的評估藉由下述檢查(目視檢查)來進行,即:利用使用螢光燈所發出的照度1500勒克司(lux)的照明的對於玻璃板的表面的光的反射及透射、而以目視來確認玻璃板的表面上的污垢的有無等。此外,清洗結果的評估藉由下述目視檢查來進行,即:利用使用強度更高的鹵素照明所發出的照度10000勒克司的照明的對於玻璃板的表面的光的反射。評估結果以○(良)、△(一般)、×(不好)的三階段來進行。
表1中的○(良)的評估表示在目視檢查中,在由螢光燈發 出的照度1500勒克司、及由鹵素照明發出的照度10000勒克司的條件下,獲得未觀察到點狀以及線狀的表面異物、或因清洗劑的殘存導致的半透明狀的斑點的潔淨且透明的玻璃板。
表1中的△(一般)的評估表示雖然在螢光燈照明照度1500勒克司下未觀察到表面異物,但在由鹵素照明發出的照度10000勒克司的條件下的目視檢查中觀察到微小異物殘留、或考慮為滲出異物或清洗劑成分的薄膜狀的殘存物的半透明斑點。
另一方面,表1中的×(不好)的評估是在使用由螢光燈發出的照度1500勒克司的照明的目視檢查下觀察到異物的殘存或半透明斑點的情況下進行判定的。
將試驗結果於表1示出。再者,酸性清洗液的濃度表示乙醇酸的濃度(質量%),鹼性清洗液的濃度表示氫氧化鈉及氫氧化鉀的合計濃度(質量%)。於鹼性清洗液中,將氫氧化鈉及氫氧化鉀的濃度(質量%)設為相同。
Figure 110110485-A0305-12-0017-1
如表1所示,關於實施例1~實施例5,判定為清洗結果為良好及一般。其中,於實施例3、實施例4中,於螢光燈下的目視檢查中未確認到污垢,但在使用鹵素燈的強照度的目視檢查 中,觀察到若干被認為是清洗不足的微小異物、或被認為是由酸性洗劑的殘存或膜狀異物的殘存引起的白色不透明的淡斑點。
另一方面,關於比較例1,無法自玻璃板充分地去除含有有機物的污垢,而判定為清洗不良。
此處,於玻璃板的表面,多為在附著包含伴隨滲出的有機物的污垢後,附著鈣污垢的情況。因此,含有有機物的污垢的一部分或全部的表面被鈣污垢覆蓋的情況居多。因此,若如比較例般在藉由鹼性清洗液(第一清洗液)進行清洗後,藉由酸性清洗液(第二清洗液)進行清洗,則於利用鹼清洗液的清洗中,有將含有有機物的污垢中的表面的露出部去除的傾向,於利用酸性清洗液的清洗中有將鈣污垢去除的傾向。其結果推測為:成為含有有機物的污垢中的表面的非露出部殘存的傾向,而無法自玻璃板充分地去除含有有機物的污垢。自所述試驗結果確認到在藉由酸性清洗液對玻璃板進行清洗後,利用鹼性清洗液對所述玻璃板進行清洗,藉此清洗力提高。
於利用第二方法的試驗中,使用以規定方法潔淨、乾燥的矩形形狀的玻璃板、及聚乙烯製發泡樹脂片材。玻璃板的尺寸為370mm×470mm,厚度為0.5mm。所述玻璃板是液晶顯示器用無鹼硼矽酸玻璃板(材質:日本電氣硝子株式會社製OA-11)。樹脂片材的尺寸為400mm×500mm,厚度為0.085mm。
將聚乙烯製發泡樹脂片材重合於玻璃板而構成了玻璃積層體。玻璃積層體以一片玻璃板與一片樹脂片材的組合作為一 組,並使多組玻璃積層體以水平姿勢進行積層。所述多組玻璃積層體是設想裝載於輸送用的棧板的存放狀態而再現的玻璃積層體。
將所述玻璃積層體放入恆溫恆濕試驗機,實施了藉由使試驗機內的溫度及濕度變化而進行的加速環境試驗。以下,對加速環境試驗的詳細情況進行說明。
於所述試驗中,重覆實施了溫度及濕度不同的第一步驟及第二步驟。具體而言,以第一步驟與第二步驟的組合為一循環,重覆180次所述循環。
於第一步驟中,將試驗機內設定成高溫高濕。第一步驟中的試驗機內的設定溫度為50℃,設定濕度為70%。於第二步驟中,將試驗機內設定成常溫常濕。第二步驟中的試驗機內的設定溫度為25℃,設定濕度為50%。
第一步驟與第二步驟的循環以如下方式進行了設定。首先,將第一步驟的溫度及濕度維持一小時。之後,花費一小時使試驗機內的溫度及濕度下降至成為第二步驟的條件。然後,將第二步驟的溫度及濕度維持一小時。之後,花費一小時使試驗機內的溫度及濕度上升至成為第一步驟的條件。所述溫度及濕度的維持、下降、及上升成為一循環。所述一循環在短時間內再現將玻璃積層體存放一天時的周圍環境的溫度及濕度的變化。於所述試驗中,藉由重覆180循環,而假定地再現將玻璃積層體存放180天的狀態。
藉由如上所述的加速環境試驗,將樹脂片材的成分轉印至玻璃板上而使其污染。之後,自玻璃板除去樹脂片材,而製作於表面形成有鈣污垢、及含有有機物的污垢的玻璃板的試驗片(實施例6~實施例10、比較例2)。
所述第二方法中的玻璃板的清洗,是由所述第一實施形態的清洗裝置1來進行。於清洗裝置1對玻璃板的清洗中,於沖洗步驟中,設置了使用不含鹼性電解水的純水作為沖洗液的清洗條件1及使用含有鹼性電解水的純水作為沖洗液的清洗條件2。
清洗結果的評估與前文所述的第一方法相同,藉由使用由螢光燈發出的照度1500勒克司的光的玻璃板的表面的目視檢查、及藉由使用由鹵素照明發出的照度10000勒克司的光的玻璃板的表面的目視檢查來進行。關於實施例6~實施例10及比較例2,對各五片玻璃板進行檢查,並以○(良)、△(一般)、×(不好)的三階段進行了評估。
進而,於利用第二方法的試驗中,使用株式會社日立高新技術(Hitachi High-Technologies Corporation)製微粒測定機G17200對清洗後的玻璃板的表面上的1μm以上的微小異物(微粒)的個數進行了測定。關於實施例6~實施例10及比較例2,各測定一片玻璃板,並對結果進行了比較。再者,微粒的個數是將對370mm×470mm內所檢測到的個數換算成每1m2(1000mm×1000mm)的個數來表示。
將試驗結果於表2示出。再者,酸性清洗液的濃度表示 乙醇酸的濃度(質量%),鹼性清洗液的濃度表示氫氧化鈉及氫氧化鉀的合計濃度(質量%)。於鹼性清洗液中,將氫氧化鈉及氫氧化鉀的濃度(質量%)設為相同。關於表2的螢光燈檢查及鹵素檢查的結果,因利用清洗條件1清洗後的玻璃板與利用清洗條件2清洗後的玻璃板中無明顯的差別,因此示出利用清洗條件1清洗後的玻璃板。
Figure 110110485-A0305-12-0021-2
如表2所示,關於實施例6~實施例10,判定為清洗結果為良好及一般。其中,於實施例7、實施例8中,螢光燈檢查、與鹵素檢查的結果均為微粒個數為100~200個/m2,而為良好。
於實施例6、實施例10中,於利用螢光燈的目視檢查中未確認到污垢,但於利用鹵素燈的目視檢查中,觀察到被認為是由洗劑成分的殘存引起的白色的極淡的斑點,且示出微粒個數為500~1000個/m2的比較高的數字。
於實施例9中,於利用螢光燈的目視檢查中未確認到污垢,但於利用鹵素燈的目視檢查中,觀察到被認為是清洗不足的微小異物,且微粒個數高達700個/m2。再者,於沖洗步驟中,確 認到在使用含有鹼性電解水的純水的清洗條件2下,與使用不含鹼性電解水的純水的清洗條件1相比,於實施例6~實施例10中微粒的數值均下降,而具有防止異物再附著的效果。
另一方面,關於比較例2,無法自玻璃板充分地去除含有有機物的污垢,而判定為清洗不良。微粒的數值高達10000個/m2,且於目視檢查中,觀察到由發泡樹脂片材的表面的凹凸引起的異物不定形地殘存於玻璃板上所致的滲析痕跡(條狀斑點),因此比較例2為不良。
1:清洗裝置
2:第一清洗部
2a:上側清洗機、清洗機
2b:下側清洗機、清洗機
3:除液部
3a:上側氣刀、氣刀
3b:下側氣刀、氣刀
4:第二清洗部
4a:上側清洗機
4b:下側清洗機
5:沖洗部
5a:上側沖洗液供給部、沖洗液供給部
5b:下側沖洗液供給部、沖洗液供給部
6:乾燥部
6a:上側氣刀、氣刀
6b:下側氣刀、氣刀
7:搬送裝置
7a:搬送輥
8a:上側清洗具、清洗具
8b:下側清洗具、清洗具
9a:上側清洗具的本體部
9b:下側清洗具的本體部
15a:上側清洗具、清洗具
15b:下側清洗具、清洗具
16a:上側清洗具的本體部
16b:下側清洗具的本體部
CS1:第一清洗液
CS2:第二清洗液
G:玻璃板
Ga:第一主面、主面
Gb:第二主面、主面
P:棧板
PB:捆包體
RS:樹脂片材
S1:存放步驟
S2:清洗步驟
SS:存放空間
X:搬送方向

Claims (9)

  1. 一種玻璃板的製造方法,包括:存放步驟,存放與樹脂片材接觸的玻璃板;以及清洗步驟,於所述存放步驟後對所述玻璃板進行清洗;且所述玻璃板的製造方法的特徵在於:所述清洗步驟包括:第一清洗步驟,對所述玻璃板供給第一清洗液並對所述玻璃板進行清洗;及第二清洗步驟,於所述第一清洗步驟後,對所述玻璃板供給第二清洗液並對所述玻璃板進行清洗;所述第一清洗液是酸性清洗液,所述第二清洗液是鹼性清洗液,所述酸性清洗液包含羥基酸。
  2. 如請求項1所述的玻璃板的製造方法,其中所述羥基酸包含乙醇酸。
  3. 如請求項1所述的玻璃板的製造方法,其中所述鹼性清洗液包含氫氧化鹽。
  4. 如請求項2所述的玻璃板的製造方法,其中所述鹼性清洗液包含氫氧化鹽。
  5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的玻璃板的製造方法,其中所述鹼性清洗液包含氫氧化鈉及氫氧化鉀的至少一者。
  6. 如請求項1至請求項4中任一項所述的玻璃板的製造方法,其中於所述第一清洗步驟中,藉由使清洗具與所述玻璃 板接觸,而對所述玻璃板進行清洗。
  7. 如請求項1至請求項4中任一項所述的玻璃板的製造方法,其中於所述第二清洗步驟中,藉由使清洗具與所述玻璃板接觸,而對所述玻璃板進行清洗。
  8. 如請求項1至請求項4中任一項所述的玻璃板的製造方法,其於所述第一清洗步驟後且於所述第二清洗步驟前,包括藉由將去除液供給至所述玻璃板,而去除附著於所述玻璃板的所述第一清洗液的除液步驟,所述去除液為溫水。
  9. 如請求項1至請求項4中任一項所述的玻璃板的製造方法,其於所述第二清洗步驟後,包括藉由將沖洗液供給至所述玻璃板,而去除附著於所述玻璃板的所述第二清洗液的沖洗步驟,所述沖洗液含有鹼性電解水。
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