TWI878287B - 液晶顯示器(lcd)裝置生產的方法 - Google Patents
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Abstract
一種方法,包括:在液晶顯示器裝置的第一組件的有機聚合物層上形成有機聚合物液晶對準材料層;使所述液晶對準材料層經受單一方向的摩擦處理,所述摩擦處理使所述液晶對準材料層至少在所述液晶顯示器裝置的有源顯示區的任一區域內避免脫黏;以及提供液晶材料以與經摩擦的液晶對準材料層和位於所述液晶顯示器裝置的對立組件上的第二經單一方向摩擦的液晶對準材料層接觸。
Description
本發明涉及一種液晶顯示器(LCD)裝置生產的方法。
在液晶顯示器(LCD)裝置的生產過程中,有機聚合物材料的使用越發受到關注。LCD裝置包括包含於兩個組件之間的液晶(LC)材料,所述兩個組件在與LC材料接觸的表面上具有對準塗層。所述兩個組件中的至少一個包括用於電控LC材料的光學特性的電控電路。
本申請的發明人參與了將有機聚合物材料用於電絕緣層的LCD裝置的開發,並且注意到與使用無機絕緣材料(例如氮化矽)的裝置相比,成品裝置(包括位於LC胞的相對兩側上的偏振濾光片)中不希望有的漏光增加。
本申請的發明人已確定不希望有的漏光起因於LCD裝置的有源顯示區的一個或多個區域中的液晶對準層的意外的局部脫黏。
因此,提供一種方法,所述方法包括:在液晶顯示器裝置的第一組件的有機聚合物層上形成有機聚合物液晶對準材料層;使所述液晶對準材料
層經受單一方向的摩擦處理,所述摩擦處理使所述液晶對準材料層至少在所述液晶顯示器裝置的有源顯示區的任一區域內避免脫黏;以及提供液晶材料以與摩擦的液晶對準材料層和位於所述液晶顯示器裝置的對立組件上的第二經單一方向摩擦的液晶對準材料層接觸。
依據一實施例,所述摩擦處理包括以絨毛布的絨頭摩擦所述對準材料層,以及設定與所述對準材料層緊密接觸的區域內的絨頭厚度減小的距離,藉以使所述液晶對準材料層至少在所述液晶顯示器裝置的有源顯示區的任一區域內避免脫黏。
依據一實施例,所述方法包括將與所述對準材料層緊密接觸的區域內的絨頭厚度減小的距離設定為約0.3mm。
依據一實施例,所述對準材料包括聚醯亞胺。
8,102,115:有機聚合物平面化層
10a,10b:源極-汲極導體圖案
12:有機半導體;有機半導體材料
14:有機聚合物介電層
16:有機聚合物介電材料層;上閘極介電層
18:閘極導體圖案
20:絕緣層
24:像素電極圖案
26:聚合物絕緣層
28:電極圖案
100:塑膠膜組件;塑膠支撐膜組件
101:堆疊體;層
102:平面化層
104:LC對準層;材料層
106:平臺;LC對準層
108:圓柱滾輪
109:中心軸線
110:底布;支撐摩擦布
112:絨頭;支撐摩擦布
114:塑膠膜組件
116:LC對準層
118:液晶材料;LC材料
118a:LC材料
R1,R2:距離
k:介電常數
以下僅通過舉例的方式,參照附圖詳細描述本發明的實施例,其中:圖1示出了在第一示例實施例中位於有機聚合物平面化層上的對準材料層的形成;圖2示出了在第一示例實施例中對準材料層的摩擦;圖3示出了將圖2的摩擦對準層結合到用於LCD裝置的液晶胞的示例;以及圖4和圖5一起示出了依據第一示例實施例的技術的效果。
在一個示例實施例中,本技術用於生產有機液晶顯示器(OLCD)裝置,該裝置包括用於控制組件的有機電晶體裝置(例如有機薄膜電晶體(OTFT)裝置)。所述OTFT包括用於半導體通道的有機半導體(例如有機聚合物或小分子半
導體)。
以下的詳細說明提及具體制程細節(具體材料等),這些對於實現下文所述技術效果而言並非必需。提及這些具體制程細節僅為了舉例,且於本申請的總體教導範圍內,可替代性地使用其他具體材料、處理條件等。
例如,以下的詳細說明是以邊緣場開關(fringe field switching,FFS)型LCD裝置為示例,但是相同的技術同樣地適用於其他類型的LCD裝置的生產過程,包括對電極和像素電極位於LC材料的同一側上以及對電極和像素電極位於LC材料的相對側上這兩種其他類型的LCD裝置。
參閱圖1,起始工件包括支撐組件100。在該示例中,所述支撐組件包括至少一個塑膠支撐膜,諸如例如具有例如約40微米厚度的三醋酸纖維素(TAC)膜。
對所述工件的處理開始於在塑膠支撐膜組件100上原位地(in situ)形成多個導體(例如金屬)層、有機聚合物半導體層和有機聚合物絕緣體層(包括圖案化層),以形成界定像素電極陣列與用於經由定址像素電極陣列外部的導體而獨立地定址各像素電極的電路的層堆疊體101。
在該示例中,對所述工件的處理開始於在所述塑膠支撐膜組件100上原位地形成硬覆層(hard-coat)有機聚合物平面化層8(例如稱為SU-8的環氧基(epoxy-based)交聯聚合物)。在該示例中,所述平面化層8通過液體處理技術形成,其包括:在工件的上表面通過例如旋轉塗覆(spin-coating)沉積液膜(平面化材料的熔解/分散);乾燥液膜以固化液膜;以及使固化的膜經受一種或多種進一步的處理,諸如例如紫外線照射和隨後的烘烤,以實現交聯。
於所述平面化層8的上表面原位地形成源極-汲極導體圖案10a、10b。在該示例中,於所述平面化層8的上表面原位地形成源極-汲極導體圖案包括通過諸如濺射的氣相沉積技術在所述平面化層8的上表面沉積一層導體材料
或包括一層或多層導體材料層的導體堆疊體,然後通過光刻工藝來圖案化導體層/堆疊體。
為了簡單起見,圖1僅示出了所述源極-汲極導體圖案10a、10b的部分,其形成了界定電晶體的半導體通道的通道長度的源極-汲極電極,但是所述源極-汲極導體圖案可包括諸如從電極部分延伸到顯示區外部的定址線的附加部分。以形成用於所述LCD裝置的有源矩陣定址電路的電晶體為示例,所述源極-汲極導體圖案可包括(i)源極導體陣列,其各自為各自的電晶體行提供源極電極,且各自延伸到所述顯示區域外部的區域;(ii)汲極導體陣列,其各自為各自的電晶體提供汲極導體。
然後選擇性地在所述源極/汲極導體圖案上形成有機注射材料的自組裝單層(SAM)。在該示例中,所述SAM包括有機材料,其通過例如金-硫醇鍵(gold-thiol bonds)或銀-硫醇鍵(silver-thiol bonds)選擇性地結合到所述源極/汲極導體圖案的金屬性上表面,而基本上沒有與所述平面化層結合。該SAM進一步促進了於源極-汲極導體和下文提及的有機半導體材料12之間的電荷載流子的轉移。
隨後,在所述工件的新的上表面原位地形成有機半導體和有機聚合物介電層12、14的圖案化堆疊體。在該示例中,該圖案化堆疊體的形成包括:(i)通過例如旋轉塗覆在工件的上表面沉積液膜(有機半導體材料的溶液/分散液),乾燥液膜以固化液膜,並烘烤固化的膜;(ii)通過例如旋轉塗覆在經烘烤的有機半導體膜的上表面沉積液膜(聚合物介電材料的溶液/分散液),乾燥液膜以固化液膜,並烘烤固化的膜;以及(iii)使用光刻技術和反應性離子蝕刻在兩層中產生基本相同的圖案。所述圖案包括孤島陣列,每個島為各自的電晶體提供所述半導體通道。
在所述工件的新上表面上原位地形成有機聚合物介電材料層
16(具有比下面的介電層14更高的介電常數(k))。在該示例中,通過以下過程在所述工件上原位地形成高k介電材料層16,所述過程包括:通過例如旋轉塗覆在工件的上表面上沉積液膜(所述高k介電材料的溶液/分散液),乾燥液膜以固化液膜,並烘烤固化的膜。接著在經烘烤的高k介電層的表面原位地形成閘極導體圖案18。在該示例中,通過以下過程在工件上原位地形成所述閘極導體圖案,所述過程包括:通過諸如濺射的氣相沉積技術在所述工件上形成導體層(或者導體層的堆疊體);以及通過光刻技術來圖案化所述導體層/堆疊體。在該示例中,在塑膠膜組件100上原位地形成的層101的堆疊體界定有源矩陣定址電路,且所述閘極導體圖案18包括閘極導體陣列,其各自為各自的電晶體列提供閘極電極,且各自延伸到所述有源顯示區外部的區域。有源矩陣陣列中的每個電晶體與各自的閘極和源極導體的唯一的組合相關連,借此,每個電晶體可經由有源顯示區外部的閘極和源極導體的部分而被獨立地定址。
在所述工件的新上表面上原位地形成一層或多層有機聚合物絕緣材料20。在該示例中,通過以下過程在所述工件的上表面原位地形成一個或多個絕緣層20,所述過程包括:通過例如旋轉塗覆在所述工件的上表面沉積液膜(絕緣材料的溶液/分散液),乾燥液膜以固化液膜,並烘烤固化的膜。
隨後圖案化所述工件的上表面以產生通孔陣列,每個通孔向下延伸到各自的汲極導體10b。在該示例中,該圖案化包括:在所述工件的上表面原位地形成圖案化的光阻遮罩,所述光阻遮罩覆蓋所述工件上表面除了將要形成通孔的區域以外的所有區域;將所述工件暴露於反應式離子蝕刻(RIE)電漿中以蝕刻所述絕緣層20和上閘極介電層16;並且移除所述光阻遮罩以再次暴露絕緣層20的上表面。
然後在所述工件的新上表面上原位地形成像素電極圖案24。所述像素電極圖案界定孤立的像素電極陣列,每個像素電極經由各自的通孔接觸各
自的汲極導體10b。在該示例中,通過以下過程在所述工件上原位地形成所述像素電極圖案24,所述過程包括:通過諸如濺射之類的氣相沉積技術在工件上形成導體層或者導體層的堆疊體;以及通過光刻技術來圖案化導體層/堆疊體。
在所述工件的新上表面上原位地形成另一個聚合物絕緣層26(或者另一聚合物絕緣層的堆疊體)。在該示例中,通過以下過程在所述工件上原位地形成所述絕緣層/堆疊體,所述過程包括:通過例如旋轉塗覆在所述工件的上表面沉積液膜(聚合物絕緣材料的溶液/分散液),乾燥液膜以固化液膜,並烘烤固化的膜。
在所述另一個絕緣層26的上表面上原位地形成共同電極圖案28。在該示例中,所述共同電極圖案的原位形成包括:通過諸如濺射的氣相沉積技術在所述另一絕緣層26的上表面上原位地形成導體層或者導體層的堆疊體;以及通過光刻技術在工件上原位地圖案化所述導體層/堆疊體。
在所述堆疊體101的上表面(例如所述工件的新上表面)原位地形成有機聚合物平面化層102。在該示例中,所述平面化層102包括稱為SU-8的環氧基交聯有機聚合物,並且所述平面化層的原位形成包括:通過例如旋轉塗覆在所述工件的上表面沉積液膜(包括交聯聚合物前體的溶液/分散液),乾燥液膜以固化液膜;並且通過例如紫外線照射和烘烤處理固化的膜以實現交聯。然後對所述工件的新上表面進行電漿處理(包括由包含氧氣、氬氣、氪氣和氮氣中的一種或多種的氣體或氣體混合物產生的電漿)或紫外線臭氧或深紫外線處理,以提高所述平面化層與將在所述平面化層102原位地形成的LC對準層104之間的黏合。在該示例中,在所述平面化層102上的LC對準層104的原位地形成包括:通過例如旋轉塗覆在所述工件的上表面沉積液膜(對準材料的溶液/分散液,例如聚醯亞胺),乾燥液膜以固化液膜,並烘烤固化的膜;並且在單一方向上物理摩擦經烘烤的膜。
參閱圖2,該示例實施例中,摩擦使用包括可繞一中心軸線109旋轉並支撐摩擦布110、112的圓柱滾輪108的一摩擦機來進行。所述摩擦布是絨毛布,其包括底布110和從底布110向外延伸的絨頭(piles)112。各個絨頭112包括多條例如尼龍絲的東西。所述絨頭112可以從所述底布110基本垂直地延伸,或者可以與所述底布110的平面成小於90度的角度。
包括對準材料層104的完整的控制組件被安裝於所述摩擦機的平臺106上。所述平臺用於沿一個方向線性移動所述控制組件,同時反向旋轉所述摩擦布,使其絨頭112接觸所述對準材料層104。將表示摩擦期間緊密接觸所述對準材料層104的區域內的絨頭厚度減小(下文稱為「絨頭壓痕」)的距離(圖2中的R1和R2之間的差,其中,R1是所述絨頭112壓抵所述對準材料層104之前,所述滾輪108的旋轉軸與所述絨頭112的外表面之間的距離,而R2是摩擦處理期間所述滾輪108的旋轉軸與所述對準材料層104的上表面之間的距離)設定在一個級別(其由實驗確定),以避免聚醯亞胺對準層104從所述有源顯示區的至少任一區域中下方有機平面化層脫黏。圖4和圖5示出了如何通過將絨頭壓痕從0.8mm(圖4)減小到0.3mm(圖5)來避免所述聚醯亞胺對準層104從所述有機聚合物平面化層102上的脫黏。
觀察到摩擦在所述對準材料層104中產生基本平行的納米級凹槽,並且摩擦層的液晶對準作用歸因於這些納米級凹槽。
參閱圖3,準備一個對立組件,其包括至少塗覆有另一LC對準層的另一支撐組件。在該示例中,所述對立組件還包括界定彩色濾光片組件陣列的塑膠膜組件114,於所述塑膠膜組件114上原位地形成的有機聚合物平面化層115(例如交聯聚合物SU-8),以及通過相同於如上文所述的用於控制組件的摩擦技術所生產的LC對準層116。所述控制組件和對立組件經由間隔結構(形成控制組件和對立組件中一者或多者的部分,或諸如間隔球的獨立結構)層壓在一起,以實現
所述兩個組件之間精確確定的分隔距離。例如,在將所述兩個組件層壓在一起時或於所述兩個組件層壓在一起之後,於所述兩個組件之間引入液晶材料118以與所述對準層104、116兩者接觸。在不存在由各自的像素電極24和對電極28之間的電壓產生的超馳電場之下,位於LC材料118a的厚度的相對側上的所述LC對準層104、116確定每個像素區域中的LC材料的指向矢(LC分子的方向)。在該示例中,像素電極處的電勢變化可以改變各自像素區域中的LC材料旋轉偏振光的偏振程度,從而可以通過LC胞的相對側上的兩個偏振濾光片(未示出)的組合來改變各自像素區域中的光的透射率。如上所述,各像素電極24與各自的電晶體的汲極導體10b接觸;且經由所述源極和閘極導體位於有源顯示區外的部分,各像素電極處的電勢(相對於對電極28處的電勢)是獨立可控的。
在該示例中,滴下式注入(one-drop fill,ODF)技術用於在所述兩個組件上的兩個LC對準層之間形成基本上均勻厚度的LC材料。在兩個LC對準層104,116之一上,提供一滴LC材料118,其具有至少足夠的體積以在顯示器裝置的有源區域上產生期望厚度的層。液態、可固化黏合劑也施加到有源顯示區外側的一個或兩個組件,以及所述兩個組件在真空下被強制壓合在一起,借此使LC材料118至少擴散在裝置的有源顯示區上,然後當兩個組件壓合在一起時固化所述可固化黏合劑。通過例如在LC對準層104,116下方形成兩個組件中一個或兩個的整體部分的間隔結構,或與液態、可固化黏合劑混合的分離的間隔球,確保兩個組件之間的必要間隔(以及因此取決於LCD裝置的類型的LC材料118a的必要厚度)。
如上文所提到的,雖然依據本發明之技術的示例已參考具體制程細節在上文中詳細地予以描述,但本技術可更廣泛地適用於本申請的總體教導中。此外,且依據本發明的總體教導,依據本發明的技術可包括上文未描述的附加的制程步驟,和/或省略上文所描述的一些制程步驟。
在上文所述的該示例中,雖然所述控制和對立組件包括塑膠支撐薄膜,但是本技術同等適用於更好地防止包括支撐在其他類型的基材上的有機聚合物液晶對準層和下面的有機聚合物平面化層的相同組合的液晶裝置中的漏光。
除了以上明確提及的任何修改,對於所述領域技術人員明顯的是所述實施例的多種其他修改可在本發明的範圍內作成。
申請人特此獨立揭露本文所述的各個個別特徵及二或更多此等特徵的任何組合,其揭露至此等特徵或組合能夠基於本案說明書整體內容並依據所述領域技術人員的共同一般知識來實施的程度,而不論此等特徵或特徵組合是否解決本文所揭露的任何問題,且對申請專利範圍的範圍不造成限制。申請人指出本發明之態樣可由任何此種個別特徵或特徵組合組成。
8,102:有機聚合物平面化層
10a,10b:源極-汲極導體圖案
12:有機半導體;有機半導體材料
14:有機聚合物介電層
16:有機聚合物介電材料層;上閘極介電層
18:閘極導體圖案
20:絕緣層
24:像素電極圖案
26:聚合物絕緣層
28:電極圖案
100:塑膠膜組件;塑膠支撐膜組件
101:堆疊體;層
104:LC對準層;材料層
Claims (4)
- 一種液晶顯示器(LCD)裝置生產的方法,所述方法包括:在液晶顯示器裝置的第一組件的有機聚合物層上形成有機聚合物液晶對準材料層;使所述液晶對準材料層經受單一方向的摩擦處理,所述摩擦處理使所述液晶對準材料層至少在所述液晶顯示器裝置的有源顯示區的任一區域內避免脫黏;以及提供液晶材料以與摩擦的液晶對準材料層和位於所述液晶顯示器裝置的對立組件上的第二經單一方向摩擦的液晶對準材料層接觸。
- 如請求項1的液晶顯示器(LCD)裝置生產的方法,其中,所述摩擦處理包括以絨毛布的絨頭摩擦所述對準材料層,以及設定與所述對準材料層緊密接觸的區域內的絨頭厚度減小的距離,藉以使所述液晶對準材料層至少在所述液晶顯示器裝置的有源顯示區的任一區域內避免脫黏。
- 如請求項2的液晶顯示器(LCD)裝置生產的方法,所述方法包括將與所述對準材料層緊密接觸的區域內的絨頭厚度減小的距離設定為約0.3mm。
- 如請求項1至3中任一項請求項的液晶顯示器(LCD)裝置生產的方法,其中,所述對準材料包括聚醯亞胺。
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