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TWI873069B - 風扇型吸盤 - Google Patents

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Publication number
TWI873069B
TWI873069B TW113131346A TW113131346A TWI873069B TW I873069 B TWI873069 B TW I873069B TW 113131346 A TW113131346 A TW 113131346A TW 113131346 A TW113131346 A TW 113131346A TW I873069 B TWI873069 B TW I873069B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
adsorption
wafer
blade
connecting portion
suction cup
Prior art date
Application number
TW113131346A
Other languages
English (en)
Inventor
徐慶吉
梁志誠
Original Assignee
積凱科技股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 積凱科技股份有限公司 filed Critical 積凱科技股份有限公司
Priority to TW113131346A priority Critical patent/TWI873069B/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI873069B publication Critical patent/TWI873069B/zh

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

本發明係一種風扇型吸盤,其包含一連接部,連接部具有一頂面及一底面;一吸附部,其具有一吸附面及一環周面,吸附面形成有一中心孔及複數流道,中心孔貫穿吸附面,各流道連通中心孔,吸附部連接於連接部的頂面;至少一葉片,其設置於吸附部的環周面,葉片的葉面與吸附面之間形成有一夾角;當本發明安裝於一旋轉軸,以吸附部吸附一晶圓進行旋轉,並噴灑清洗液進行清洗動作時,葉片的同步轉動可帶動周圍氣流改變晶圓周圍的流場,將可能流入晶圓背面的清洗液或是清洗液所散發出之酸霧,往四周吹散壓制於晶圓以外,具有降低晶圓酸氣殘留防止酸氣進入晶圓背面之功效。

Description

風扇型吸盤
本發明係涉及一種晶圓吸附裝置,尤指一種風扇型吸盤。
現有技術於半導體的製程中,其中有一步驟是對晶圓進行清洗作業,而清洗時需先將晶圓定位於一吸附裝置上,利用吸附力將晶圓吸附於其上,旋轉吸附裝置並帶動晶圓轉動,於晶圓旋轉的過程中再以清洗液噴灑於晶圓表面進行清洗作業。
然而,前述清洗的過程中,因為晶圓轉動的時候部分清洗液可能會流動至晶圓的背面,亦或是清洗液所散發出的酸性氣體,可能會殘留至晶圓的背面,如此將造成對晶圓的汙染;因此,針對前述的問題及缺點,實有待加以改良。
有鑒於現有技術的不足,本發明提供一種風扇型吸盤,其藉由於吸附部設置葉片,達到當本發明旋轉時可帶動周圍氣流改變流場,使氣流朝向外側推散之目的。
為達上述之發明目的,本發明所採用的技術手段為設計一種風扇型吸盤,其包含: 一連接部,其具有一頂面及一底面; 一吸附部,其具有一吸附面及一環周面,該吸附面的周緣與該環周面相連接,該吸附面形成有一中心孔及複數流道,該中心孔貫穿該吸附面,各該流道連通該中心孔,該吸附部連接於該連接部的該頂面; 至少一葉片,其設置於該吸附部的該環周面,該葉片突出於該吸附部並形成有一葉面,該葉面與該吸附面之間形成有一夾角,葉片在轉動後可帶動周圍氣流改變周圍的流場。
進一步而言,所述之風扇型吸盤,其中該葉片為四邊形片體,其一側邊固設於該環周面,相鄰的另一側邊連接於該連接部的該頂面。
進一步而言,所述之風扇型吸盤,其中位於該環周面以外之該連接部的該頂面為錐面。
進一步而言,所述之風扇型吸盤,其中該夾角為90度。
本發明的優點在於,藉由安裝於一旋轉軸,並以吸附部吸附一晶圓,當旋轉軸轉動並以清洗液對晶圓進行清洗時,葉片的同步轉動可改變晶圓周圍的流場,具體而言是形成由內而外推送之氣流,將可能流入晶圓背面的清洗液或是清洗液所散發出之酸霧,往四周吹散壓制於晶圓以外,具有降低晶圓酸氣殘留防止酸氣進入晶圓背面之功效;當旋轉軸停止轉動後,連接部斜向的頂面有助於將殘留於其上之清洗液向外向下導離,避免清洗液殘留於頂面。
以下配合圖式以及本發明之較佳實施例,進一步闡述本發明為達成預定發明目的所採取的技術手段。
請參閱圖1所示,本發明之風扇型吸盤,其包含一連接部10、一吸附部20及至少一葉片30。
請參閱圖1至圖3所示,連接部10具有一頂面11及一底面12,頂面11及底面12為上下相對的二側面,本實施例之連接部10為圓柱體,其底面12具有連接結構用以連接一旋轉裝置(圖式中未示),此為現有技術之連接結構故不再贅述,但不以此為限,連接部10之形式可依使用者需求作改變。
吸附部20設置於連接部10的頂面11,吸附部20具有一吸附面21及一環周面22,吸附面21的周緣與環周面22相連接,吸附面21形成有一中心孔211及複數流道212,中心孔211貫穿吸附面21及連接部10的頂面11,各流道212包含呈同心圓狀及徑向之流道212且與中心孔211相連通,但不以此為限;本實施例位於環周面22以外之連接部10的頂面11,由側面視之為朝向外側下斜之斜面,整體觀之為錐面,但不以此為限,亦可為平面。
葉片30設置於吸附部20的環周面22,具體而言,葉片30為四邊形片體,其一側邊固定於吸附部20的環周面22,相鄰的另一側邊固定於連接部10的頂面11,四個側邊之間圍繞形成一葉面31,請參閱圖3所示,本實施例葉片30具有一定厚度,但不以此為限,亦可為薄片結構,葉片30的葉面31與吸附面21之間具有一夾角θ,夾角θ為90度,故葉面31與吸附面21為相互垂直,但不以此為限,葉片30的葉面31與吸附面21之間僅需形成有一夾角θ即可,且葉片30的形式及數量可依使用者需求作改變。
本發明使用時,請參閱圖1至圖4所示,以安裝於一旋轉軸40為例說明,連接部10固定於旋轉軸40的頂端,吸附部20的底端中心孔211位置連接一抽氣裝置(圖式中未示),吸附部20的吸附面21上放置一晶圓50並且進行抽氣動作,將晶圓50吸附固定於吸附面21上,當旋轉軸40轉動並以清洗液對晶圓50進行清洗時,葉片30的同步轉動可帶動周圍氣流改變晶圓50周圍的流場,具體而言是形成由內而外推送之氣流,將可能流入晶圓50背面的清洗液或是清洗液所散發出之酸霧,往四周吹散壓制於晶圓50以外,具有降低晶圓50酸氣殘留防止酸氣進入晶圓50背面之功效。
前述過程中,當旋轉軸40停止轉動後,連接部10斜向的頂面11有助於將殘留於其上之清洗液向外向下導離,避免清洗液殘留於頂面11。
以上所述僅是本創作之較佳實施例而已,並非對本創作做任何形式上的限制,雖然本創作已以較佳實施例揭露如上,然而並非用以限定本創作,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本創作技術方案的範圍內,當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾作為等同變化的等效實施例,但凡是未脫離本創作技術方案的內容,依據本創作的技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍屬於本創作技術方案的範圍內。
10:連接部 11:頂面 12:底面 20:吸附部 21:吸附面 211:中心孔 212:流道 22:環周面 30:葉片 31:葉面 θ:夾角 40:旋轉軸 50:晶圓
圖1係本發明之立體外觀圖。 圖2係本發明之側視圖。 圖3係本發明之另一側視圖。 圖4係本發明之使用示意圖。
10:連接部
11:頂面
12:底面
20:吸附部
21:吸附面
211:中心孔
212:流道
22:環周面
30:葉片
31:葉面

Claims (4)

  1. 一種風扇型吸盤,其包含: 一連接部,其具有一頂面及一底面; 一吸附部,其具有一吸附面及一環周面,該吸附面的周緣與該環周面相連接,該吸附面形成有一中心孔及複數流道,該中心孔貫穿該吸附面,各該流道連通該中心孔,該吸附部連接於該連接部的該頂面; 至少一葉片,其設置於該吸附部的該環周面,該葉片突出於該吸附部並形成有一葉面,該葉面與該吸附面之間形成有一夾角,葉片在轉動後可帶動周圍氣流改變周圍的流場。
  2. 如請求項1所述之風扇型吸盤,其中該葉片為四邊形片體,其一側邊固設於該環周面,相鄰的另一側邊連接於該連接部的該頂面。
  3. 如請求項1或2所述之風扇型吸盤,其中位於該環周面以外之該連接部的該頂面為錐面。
  4. 如請求項3所述之風扇型吸盤,其中該夾角為90度。
TW113131346A 2024-08-20 2024-08-20 風扇型吸盤 TWI873069B (zh)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201126630A (en) * 2009-08-27 2011-08-01 Tokyo Electron Ltd Liquid processing apparatus and liquid processing method
TW201246324A (en) * 2011-01-25 2012-11-16 Tokyo Electron Ltd Liquid processing apparatus and liquid processing method

Patent Citations (2)

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