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TWI869669B - 輔助膜 - Google Patents

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許宏良
林志遠
蕭智龍
徐銘嶽
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Abstract

本發明提供一種輔助膜，其包含一本體與複數個位於該本體之第一表面上的微結構，該些微結構形成一凹凸起伏表面，且該些微結構之兩端分別延伸至該第一表面之周邊，使該輔助膜貼附於一基材之一預保護面上時形成一開放式氣體流道，以增加該本體與基材脫離之效率，減少整體製程時間。

Description

輔助膜
本發明是關於一種輔助膜，尤其係指一種表面設置有複數延伸至周邊之微結構之輔助膜。
隨著科技發展，電子產品朝向高度集成組合性組件與/或高度機械化自動生產，以求增加多工性，高產出效率與降低產品整體製程成本。但在這些需求前提下，要如何達到避免各製程站點中的半成品元件受到汙染，或者在機械化生產過程中半成品具備有足夠的機械運作承受度，例如半成品在各站點間的移轉、模切沖型，或者是卷對卷大量生產等，成為近代製造業面臨的一大課題。
目前，常見的方式是在一半成品的預保護面上貼附一表面具有離型劑的輔助模，來避免各製程對半成品元件的汙染，或者滿足機械化生產過程對機械運作的承受度。但因為離型劑是一化學材料塗層，對半成品的預保護面上的元件會產生不同程度的污染。再者，在需求高集成集合性組件的情況下，半成品的預保護面上具有異材質組件，而異材質對輔助模將產生不同的吸附程度，導致移除輔助膜時會造成組件的損傷。
有鑑於上述習知技術之問題，本發明提供一種嶄新的輔助膜。
本發明之一目的在於提供一種輔助膜，其一表面設置有複數個微結構，且該些微結構之兩端分別延伸至該表面之周邊。當本發明之輔助膜設置於一預保護基材之表面上時，該些微結構與該預保護基材之表面形成數個開放式氣體流道，流體得以透過開放式流道進入基材與輔助膜之間，以增加輔助膜與基材的分離性，進一步減少整體製程時間。
為達到上述所指稱之各目的與功效，本發明提供一種輔助膜，其包含一本體以及複數設置於該本體之第一表面上的微結構，以形成一凹凸起伏表面，該些微結構之兩端分別延伸至該第一表面之周邊，其中，當該本體之該第一表面貼附於一基材之預保護面時，該微結構形成一開放式氣體流道；利用此開放式氣體流道增加輔助膜與基材分離之效率，以對應提升製程之運轉速度，進一步減少整體製程時間。
為使　貴審查委員對本發明之特徵及所達成之功效有更進一步之瞭解與認識，謹佐以實施例及配合說明，說明如後：
有鑑於上述習知技術之問題，本發明係一種輔助膜，其包含一本體以及複數微結構。該些微結構係形成於本體的第一表面，以形成一凹凸起伏表面，該些微結構之兩端分別延伸至該第一表面之周邊。當該本體之該第一表面貼附於一基材之一預保護面時，該些微結構形成一開放式的開放式氣體流道。利用此開放式氣體流道增加輔助膜與基材分離之效率，以對應提升製程之運轉速度，進一步減少整體製程時間。
以下，係針對本發明之輔助膜結構進行各種實施例說明。
請參閱第1圖，其為本發明之一實施例之結構示意圖，如圖所示，本實施例係一種輔助膜1，其係貼附於一基材2之一預保護面4上，使該輔助膜1與該基材2互相貼合，該輔助膜1包含一本體10；於本實施例中，該本體10之材料係高分子材料，例如聚乙烯(PE)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚亞醯胺(PI)、聚氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)，但本實施例不在此限制。
請參閱第1圖與第2A圖，第2A圖為本發明之一實施例之結構放大示意圖，其系第1圖之結構放大示意圖，如圖所示，於本實施例中，該本體10在與該基材2之該預保護面4接觸之一第一表面12設置複數個微結構14(例如複數個切槽)，以形成一凹凸起伏表面，該些微結構14之兩端分別延伸至該第一表面12之周邊。於本實施例中，該些微結構14之一端延伸至該第一表面12之一第一外緣122，另一端延伸至該第一表面12之一第二外緣124，即該些微結構14由該第一外緣122與該第二外緣124延伸至該第一表面12之內側，上述該第一外緣122與該第二外緣124是該第一表面12的周邊。如圖所示，當該輔助膜1設置於該基材2的該預保護面4上時，該基材2抵接於各別之該些微結構14之上方，使該基材2與各別之該些微結構14形成複數個兩端為開放式的氣體流道142，即該基材2與該本體10之該第一表面12之間形成複數個開放式氣體流道142。
請一併參閱第1圖、第2A圖以及參閱第2B圖，第2B圖為本發明之一實施例之結構剖視示意圖，如圖所示，於本實施例中，該基材2之預保護端面上設置有至少一元件3，例如電子元件或者由化學材料塗層所形成的元件，且該元件3對應抵接於該本體10之該第一表面12。同理該元件3將抵接於該些微結構14並形成該開放式氣體流道142。於本實施例中，該元件3可以是電池模組、晶片，或者是生物感測材料塗層或者是矽膠塗層。當該元件3是電池模組，晶片等電子類元件時，該基材2可以是電路板，特別是軟式電路板。
接續上述，於本實施例中，該些微結構14係於該第一表面12設置複數個切槽，以使該基材2與各別之該些微結構14形成該開放式氣體流道142。
接續上述，於本實施例中，該些微結構14係呈V字型結構，其用於引導流體，例如空氣，進入各別之該些微結構14之該開放式氣體流道142。此外，於本實施例中，該些微結構14的間隔距離可視該基材2與該預保護面4上所設置該元件3的自身材料特性與製程站點需求進行適當調整，例如輔助模與基材間在該站點所需貼附能力。
請參閱第1圖至第2C圖，其中第2C圖為本發明之輔助膜與基材進行分離之示意圖，如圖所示，於本實施例中，一流體A經由該些微結構14位於周邊的開口流至該些開放式氣體流道142內側，且因為開放式氣體流道142具有兩端相互連通的開放式開口，因此該流體A呈現一可進出非閉鎖的流動狀態。當該基材2與該輔助膜1分離時，除因為微結構降低了基材2與該輔助膜1接觸的單位面積總量外，可流動的氣體將有效避免習知非流動氣體因貼合過程施壓在基材與輔助膜間形成類真空的吸附效果。本發明的輔助膜能夠增加與基材2之分離效率，達到可於高速進給時，該基材2仍能與本體10正常分離，而不影響該基材2之元件3，進一步減少對應產線之生產時間。再者，當本發明的該輔助膜1的該第一表面12塗附有離型劑時，在本發明的結構設計下，能夠減少離型劑與該基材2以及該元件3接觸的量，進而降低離型劑對基材2與/或元件3的汙染程度。
請參閱第3圖以及第4圖，第3圖為本發明之另一實施例之結構示意圖，第4圖為為本發明之另一實施例之結構剖視示意圖，其系第3圖之結構剖視示意圖。如圖所示，於本實施例中，該些微結構係可呈如U字型結構。
請參閱第6圖，其為本發明之再一實施例之微結構示意圖，於本實施例中，除了上述的在第一表面上的該些微結構呈現一致本質上相同的形狀結構外，該些微結構彼此間也可採不同的形狀設計，或者是兩相鄰微結構間採非一固定值的間距，以形成疏密設計。舉例來說，如第5圖所示，第5圖為本發明之另一實施例之微結構示意圖。於本實施例中，該些微結構14呈現不規則的相異形狀。
在本發明中該微結構14所造成的凹凸起伏表面的較佳算術平均粗糙度(Arithmetic average roughness)是於0.1微米至0.5微米之間，以達較佳之分離效率，但熟悉該項技藝者當知並無法以此限定本發明的權利範疇。
請參閱第7圖，其為本發明之一實施例之結構應用示意圖，如圖所示，本發明的輔助膜1也可以應用於卷對卷大量生產製作的電池產業，例如片狀鋰電池。在這種狀態下，舉例來說，基材2可以是一具可撓性並作為集電層的金屬基材，其預貼設輔助膜的保護表面上設置有異材質的元件。些異材質元件舉例來說包含有一活性材料圖層5與位於活性材料圖層周圍的一膠框層6。該膠框層6的材料可以是矽膠。異材質元件會對該輔助膜1產生不同的吸附力，這將使得傳統的輔助膜在分離時成效不佳，而本發明的輔助膜因具有開放式氣體流道將能夠有效解決此一問題。
綜上所述，本發明提供一種輔助膜，其包含一本體以及複數位於該本體的第一表面上的微結構，以形成一凹凸起伏表面，該些微結構之兩端分別延伸至該第一表面之周邊。當該本體之該第一表面貼附於一基材之一預保護面時，該些微結構形成一開放式氣體流道。利用此開放式氣體流道能降低輔助膜與基材間的吸附力，並且增加輔助膜與基材分離之效率，以對應提升製程之運轉速度，進一步減少整體製程時間，解決習知技術因離型膜之分離性仍不足，其容易導致離型膜沾黏基材上設置之電子元件，吸附並扯下，造成元件受損或汙染等問題，導致製程良率降低，產生而外成本之問題。
故本發明實為一具有新穎性、進步性及可供產業上利用者，應符合我國專利法專利申請要件無疑，爰依法提出發明專利申請，祈  鈞局早日賜准專利，至感為禱。
惟以上所述者，僅為本發明一實施例而已，並非用來限定本發明實施之範圍，故舉凡依本發明申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包括於本發明之申請專利範圍內。
1:輔助膜 2:基材 3:元件 4:預保護面 5:活性材料圖層 6:膠框層 10:本體 12:第一表面 122:第一外緣 124:第二外緣 14:微結構 142:開放式氣體流道 A:流體
第1圖：其為本發明之一實施例之結構示意圖； 第2A圖：其為本發明之一實施例之結構放大示意圖； 第2B圖：其為本發明之一實施例之結構剖視示意圖； 第2C圖：其為本發明之輔助膜與基材進行分離之示意圖； 第3圖：其為本發明之另一實施例之結構示意圖； 第4圖：其為本發明之另一實施例之結構剖視示意圖； 第5圖：其為本發明之另一實施例之微結構示意圖； 第6圖：其為本發明之再一實施例之微結構示意圖；以及 第7圖：其為本發明之一實施例之結構應用示意圖。
1:輔助膜
2:基材
4:預保護面
10:本體
12:第一表面
122:第一外緣
124:第二外緣
14:微結構

Claims (11)

  1. 一種輔助膜，其包含： 一本體，其具有一第一表面；以及 複數微結構，其係形成於該第一表面，以形成一凹凸起伏表面，該些微結構之兩端分別延伸至該第一表面之周邊； 其中，該本體之該第一表面貼附於一基材之一預保護面，該微結構與該基材之該預保護面形成一開放式氣體流道。
  2. 如請求項1所述之輔助膜，其中該基材之該預保護面設置有至少一元件，該元件抵接該第一表面。
  3. 如請求項2所述之輔助膜，其中該基材之該預保護面設置有至少二個相異材質的元件。
  4. 如請求項3所述之輔助膜，其中該元件之一的材料是矽膠。
  5. 如請求項1所述之輔助膜，其中該凹凸起伏表面之算術平均粗糙度(Arithmetic average roughness)係於0.1微米至0.5微米之間。
  6. 如請求項1所述之輔助膜，其中該些微結構係呈V字型結構。
  7. 如請求項1所述之輔助膜，其中該些微結構係呈U字型結構。
  8. 如請求項1所述之輔助膜，其中該些微結構彼此圖形相異。
  9. 如請求項1所述之輔助膜，其中該基材是一金屬基材。
  10. 如請求項9所述之輔助膜，其中該基材是一片狀鋰電池的集電層。
  11. 如請求項1所述之輔助膜，其中該些微結構間的間距非一固定值。
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