TWI853939B - 用於一洗滌器之填充塔 - Google Patents

Abstract

本發明提出一種用於一洗滌器之填充塔，其包括：一螺旋噴射模組，其在使流入內部之廢氣以一旋風之形狀上升的同時噴射水；及一文氏噴射模組，其在使流入該內部之廢氣沿一中心方向上升的同時噴射水，且可進一步包括：一下部入口模組，其用以提供供流入之該廢氣向上流動之一路徑；一水平噴射模組，其在使流入該內部之該廢氣向上流動的同時噴射水；一鮑爾噴射模組，其在使流入該內部之該廢氣與鮑爾環接觸的同時噴射水；及一氣體噴射模組，其將經捕獲氣體噴射至流入內部之該廢氣中。

Description

用於一洗滌器之填充塔

本發明係關於一種填充塔，其安裝於一洗滌器上且清潔在電子工業之製程中產生之廢氣。

在半導體生產製程、LCD生產製程、OLED生產及電子工業中之其他製程中產生之廢氣由VOC、PFC氣體、水分及其他異物組成。在半導體蝕刻製程或化學沈積製程中產生大量廢氣，包含促進全球變暖之氣體。此外，已知廢氣中所含之PPC氣體在處理期間難以分解。廢氣中所含之PFC氣體藉由一經加熱、吸收或電漿洗滌器處理。

此一經加熱洗滌器通常可包括：一燃燒器組件，其產生火焰以加熱廢氣；一反應室，其安裝於該燃燒器組件之一下部上以使廢氣燃燒及反應以產生副產物粒子；及一水槽，其安置於該反應室一下部之一側上以捕獲該等副產物粒子及可溶性廢氣。此外，該經加熱洗滌器可進一步包括一填充塔，該填充塔耦合至該水槽之另一側之一上部，以額外地捕獲通過儲槽之廢氣中所含副產物粒子及可溶性廢氣。填充塔可將水噴射在從一下部通過至一上部之廢氣上以捕獲廢煙氣(exhaust fume)之副產物粒子。

取決於半導體製程之類型，藉由通過此一填充塔而排放之 廢氣含有相對大量副產物粒子及水分，且此最近已成為一個問題。廢氣中所含之副產物粒子及水分在廢氣通過其排放之管道中累積，且可能導致管道變得堵塞。

本發明之一目的係提供一種用於一洗滌器之填充塔，其可減少排放廢氣中之副產物粒子及水分含量。

本發明之用於一洗滌器之填充塔之特徵在於其包括：一螺旋噴射模組，其在其使流入內部之廢氣以旋風形式上升時噴射水；及一文氏(venturi)噴射模組，其在使流入內部之廢氣沿一中心方向上升的同時噴射水。

此外，本發明之用於一洗滌器之填充塔可進一步包括：一下部流入模組，其提供供流入之廢氣朝向一上部流動之一路徑；一水平噴射模組，其在使流入內部之廢氣上升的同時噴射水；一鮑爾(pall)噴射模組，其在流入內部之廢氣與鮑爾環接觸時噴射水；及一氣體噴射模組，其將經捕獲氣體噴射至流入內部之廢氣中。

此外，在本發明之用於一洗滌器之填充塔中，該水平噴射模組可安置於該下部流入模組之一上部處，該螺旋噴射模組可安置於該水平噴射模組之一上部處，該文氏噴射模組可安置於該螺旋噴射模組之一上部處，該鮑爾噴射模組可安置於該文氏噴射模組之一上部處，且該氣體噴射模組可安置於該鮑爾噴射模組之一上部處。

此外，該螺旋噴射模組可包括：一螺旋殼體，其形成為具 有一敞開上部、敞開下部及一中空內部之一圓柱體之形狀；一螺旋支撐軸件，其在該螺旋殼體之該內部上安置於該螺旋殼體之一中心軸線中；一螺旋葉片，其在該螺旋殼體之該內部上形成一旋風之形狀之一螺旋通道；及至少兩個螺旋噴嘴，其等將水噴射在流動通過該螺旋通道之廢氣上，且沿該螺旋殼體之內圓周表面間隔開。

此外，該文氏噴射模組可包括：一文氏殼體，其形成為具有一敞開上部、敞開下部及一中空內部之一圓柱體之形狀；一文氏板，其在其中心配備有一文氏孔且其具有一錐體之形狀，其中下部側從其外部直徑至內部直徑方向朝向頂部傾斜；及一文氏噴嘴，其通過該文氏孔噴射水。

此外，該文氏噴射模組可進一步包括形成為板形狀之一文氏防護罩，該文氏防護罩具有一大直徑或對應於該文氏孔之直徑之一直徑，且其安置為與該文氏孔之一上部間隔開。

此外，該水平噴射模組可進一步包括：一圓柱形水平殼體，其具有一敞開上部、敞開下部及一中空內部；及至少兩個水平噴嘴，其等沿該水平殼體之一內圓周表面間隔開。

此外，該鮑爾噴射模組可進一步包括：一圓柱形鮑爾殼體，其具有一敞開上部、敞開下部及一中空內部；一下部支撐網，其係具有垂直通過之多個支撐孔之一板，且其與該鮑爾殼體之該下部耦合；鮑爾環，其等安置於該下部支撐網之一上部處；及一鮑爾噴射管，其安置於該等鮑爾環之一上部處且在該等鮑爾環之一上部上噴射水。

此外，該氣體噴射模組可進一步包括：一圓柱形氣室，其具有一敞開上部、敞開下部及一中空內部；一氣體噴嘴主體，其安置於該 氣室內部且其包括一氣體噴嘴，該氣體噴嘴形成為環形且安置於該氣室之該內部上且將經捕獲氣體噴射至從一下部流入之廢氣中；一氣體通道，其形成為一環之形狀，其係在該氣體噴嘴主體之內部上，且其提供供該經捕獲氣體流動通過之一路徑；及一氣體噴射孔，其從該氣體通道通過該氣體噴嘴主體之該內部，且其將該經捕獲氣體朝向該氣體噴嘴主體之該內部噴射。

本發明之用於一洗滌器之填充塔可藉由使廢氣通過垂直安置之各個模組而消除廢氣中所含之副產物粒子。

此外，本發明之用於一洗滌器之填充塔可藉由在將廢氣排放至外部之前，在將經捕獲氣體噴射至廢氣中之後，捕獲廢氣中所含之水分而減少排放至外部之水分。

10:用於一洗滌器之填充塔

20:燃燒器組件

30:燃燒組件

40:濕槽

110:下部入口模組

111:下蓋

112:下部入口管

120:水平噴射模組

121:水平殼體

122:水平噴嘴

130:螺旋噴射模組

131:螺旋殼體

132:螺旋支撐軸件

133:螺旋葉片

133a:螺旋通道

134:螺旋噴嘴

140:文氏噴射模組

141:文氏殼體

142:文氏板

142a:孔

143:文氏噴嘴

144:文氏防護罩

150:鮑爾噴射模組

151:鮑爾殼體

152:下部支撐網

153:鮑爾環

154:鮑爾噴射管

154a:噴射孔

160:氣體噴射模組

161:氣室

162:氣體噴嘴

162a:氣體噴嘴主體

162b:氣體通道

162c:氣體噴射孔

170:上部排放模組

171:頂蓋

172:上部排放管

圖1係根據本發明之一實施例之用於一洗滌器之填充塔之一垂直橫截面圖。

圖2係來自圖1之螺旋噴射模組之一放大圖。

圖3係來自圖1之文氏噴射模組之一放大圖。

圖4係來自圖1之氣體噴射模組之一放大圖。

圖5係根據本發明之實施例之配備用於一洗滌器之填充塔之用於處理廢氣之洗滌器之一示意圖。

下文係基於附圖及實施例之根據本發明之一實施例之用於一洗滌器之填充塔之一詳細說明。

首先係根據本發明之一實施例之用於一洗滌器之填充塔之結構之一說明。

圖1係根據本發明之一實施例之用於一洗滌器之填充塔之一垂直橫截面圖。圖2係圖1之螺旋噴射模組之一放大圖。圖3係圖1之文氏噴射模組之一放大圖。圖4係圖1之氣體噴射模組之一放大圖。圖5係根據本發明之實施例之安裝於用於一洗滌器之填充塔上之用於處理廢氣之洗滌器之一示意圖。

基於圖1至圖4，根據本發明之一實施例之用於一洗滌器之填充塔(10)可包括一水平噴射模組(120)、螺旋噴射模組(130)、文氏噴射模組(140)、鮑爾噴射模組(150)及氣體噴射模組(160)。此外，用於一洗滌器之填充塔(10)可包括一下部流入模組(110)及一上部排放模組(170)。

用於一洗滌器之填充塔(10)可與用於處理廢氣之一洗滌器耦合。例如，基於圖2，用於處理廢氣之一洗滌器可包括一燃燒器組件(20)、燃燒組件(30)、濕槽(40)及填充塔(10)。燃燒器組件(20)、燃燒組件(30)及濕槽(40)可形成為各種構形，此取決於所處理之廢氣之類型及半導體製程，且此處省略一詳細說明。

在下文描述中，內部、內表面或內圓周表面係指面向圖1中之中心之方向之一方向或表面，且外部、外表面、或外圓周表面係指其相反方向或表面。此外，上側或上表面係指面向圖1中之上部之方向或表面，而下側或下表面係指面向圖1中之下部之方向或表面。

未詳細繪示用於一洗滌器之填充塔(10)，但是在從頂部至下部組合各模組時，一凸緣、O形環或另一類似密封方法可額外地安置於在模組之間，以密封安置於上部及下部處之模組之間之區域。因此，可形 成用於一洗滌器之填充塔(10)，使得水不從各模組之間逸出。

用於一洗滌器之填充塔(10)可經形成，使得模組從一下部開始按水平噴射模組(120)、螺旋噴射模組(130)、文氏噴射模組(140)、鮑爾噴射模組(150)及氣體噴射模組(160)之順序堆疊。在此，在用於一洗滌器之填充塔(10)中，廢氣通過安置於最下部之水平噴射模組(120)流入，且藉由使其通過螺旋噴射模組(130)、文氏噴射模組(140)、鮑爾噴射模組(150)及氣體噴射模組(160)而排放至外部。在用於一洗滌器之填充塔(10)中，上部排放模組(170)連接至半導體製程線中之管道，且可在由連接至管道之一真空泵產生負壓時排放廢氣。

此外，水平噴射模組(120)、螺旋噴射組件(130)、文氏噴射模組(140)、鮑爾噴射模組(150)及氣體噴射模組(160)可以彼此可拆卸之模組之形式來形成。用於一洗滌器之填充塔(10)可藉由選擇性地堆疊取決於所排放之廢氣之體積及類型所必要之模組而形成。因此，用於一洗滌器之填充塔(10)可藉由包含螺旋噴射模組(130)及文氏噴射模組(140)以及額外其他模組來形成。例如，用於一洗滌器之填充塔(10)可包含螺旋噴射模組(130)及文氏噴射模組(140)，且可進一步包含水平噴射模組(120)。此外，用於一洗滌器之填充塔(10)可藉由包含取決於廢氣之種類及處理效率的任何給定類型之模組之兩者或更多者來形成。此外，用於一洗滌器之填充塔(10)可包含任何給定類型之模組之兩者或更多者，且可經形成，使得模組安置為彼此相鄰或安置於不同位置中。此外，在用於一洗滌器之填充塔中，可取決待處理之廢氣中所含之副產物粒子之數目及待處理之廢氣之量而改變堆疊噴射水之水平噴射模組(120)、螺旋噴射模組(130)、文氏噴射模組(140)及鮑爾噴射模組(150)之順序。

用於一洗滌器之填充塔(10)安置於構成用於處理廢氣之洗滌器之濕槽(40)之一側之一上部處且其之一下部連接至濕槽(40)。用於一洗滌器之填充塔(10)處理通過濕槽(40)且從一下部流入之廢氣。此外，水在用於一洗滌器之填充塔(10)中噴射且副產物粒子向下下落且流入濕槽(40)。

下部流入模組(110)可包括一下蓋(111)及下部入口管(112)。下部流入模組(110)與安置於其一下部上之濕槽(40)耦合。在此情況下，下部入口管(112)之一下部與濕槽(40)耦合。下部流入模組(110)提供一路徑，使得廢氣可從濕槽(40)流入至一上部。然而，若水平噴射模組(120)與濕槽(40)直接耦合，則可省略下部入口模組(110)。

下蓋(111)可形成為具有一中空內部、一敞開上部及敞開下部之一圓柱體之形狀。此外，下蓋(111)可形成為一漏斗之形狀，其中直徑沿一向上方向增大。

下部入口管(112)有一敞開上部及敞開下部，且可形成為相同直徑之一管之形狀。下部入口管(112)之一上部可與下部支撐蓋之一下部耦合。下部入口管(112)之內部可連接至下蓋(111)之內部。若下蓋(111)與濕槽(40)直接連接，則在下部入口模組(110)中可省略下部入口管(112)。

水平噴射模組(120)可包括一水平殼體(121)及水平噴嘴(122)。水平噴射模組(120)可與下部入口模組(110)耦合。水平噴射模組(120)將水噴射至流入內部之廢氣上。更具體地，水平噴射模組(120)將水噴射至從下部入口模組(110)上升之廢氣，且廢氣中所含之副產物粒子向下下落。水平噴射模組(120)可使相對較大副產物粒子下落。

水平殼體(121)之內部係中空的，且其形成為具有一敞開上部及敞開下部之一圓柱體之形狀。水平殼體(121)形成於噴射水，使得其與從一下部流入之廢氣接觸所需之一規定高度。若水平殼體(121)之一下部與下部入口模組(110)耦合，則其可形成為具有與下部入口模組(110)之下蓋(111)之一上部相同之直徑。水平殼體(121)亦可形成為具有不同於下蓋(111)之直徑，且下蓋(111)之間之區域可藉由使用單獨之凸緣(未繪示)或其他方法來密封。

水平噴嘴(122)可形成為常規水噴嘴之形狀。至少應形成兩個水平噴嘴(122)，且較佳至少五個噴嘴。水平噴嘴(122)之至少兩個可沿水平殼體(121)之內圓周表面彼此間隔開。對於水平噴嘴(122)，多個噴嘴可在水平殼體(121)之內圓周表面上以45度、90度或180度之間隔間隔開且耦合至其。至少兩個水平噴嘴(122)可在水平殼體(121)之內圓周表面上沿一垂直方向彼此間隔開。水平噴嘴(122)可與水平殼體(121)之內圓周表面耦合，以朝向水平殼體(121)之中心噴射水。水平噴嘴(122)可經形成，使得其基於水平殼體(121)之水平方向將水噴射至水平殼體(121)之整個內區域。

水平噴嘴(122)可在從其之一下部流入水平殼體(121)之廢氣上噴射水，且捕獲廢氣中所含之外來粒子，使得其等向下下落。水平噴嘴(122)可捕獲相對較大之外來粒子。此外，水平噴嘴(122)可捕獲廢氣中所含之可溶性氣體。

螺旋噴射模組(130)可包括一螺旋殼體(131)、螺旋支撐軸件(132)、螺旋葉片(133)及螺旋噴嘴(134)。螺旋噴射模組(130)可安置於水平噴射模組(120)之一上部處。此外，在螺旋噴射模組(130)中，若另一 模組安置於一下部處，則其可安置於另一模組之一上部處。螺旋噴射模組(130)噴射水，同時使廢氣以一旋風之形狀從下方上升，且可捕獲廢氣中所含之反應性副產物。螺旋噴射模組(130)使廢氣以一旋風之形狀從下方上升且增加保持時間，從而增加水與廢氣之間之接觸時間。

螺旋殼體(131)具有一中空內部且形成為具有一敞開上部及敞開下部之一圓柱體之形狀。螺旋殼體(131)形成於噴射水，使得其與從下方流入之廢氣接觸所需之一規定高度。若螺旋殼體(131)之一下部與水平噴射模組(120)耦合，則其可形成為具有與水平殼體(121)相同之直徑。若螺旋殼體(131)使用不同於水平殼體(121)之直徑形成，則水平殼體(121)之間之區域可使用一單獨凸緣(未繪示)或其他方法來密封。

螺旋支撐軸件(132)可形成為一桿之形狀，該桿具有對應於螺旋殼體(131)之高度之一長度。螺旋支撐軸件(132)可在螺旋殼體(131)之內部中安置於螺旋殼體(131)之中心軸線上。

螺旋葉片(133)可緊固於螺旋殼體(131)與螺旋支撐軸件(132)之間，以便在具有一固定寬度及長度之板形狀中形成一旋風形狀。螺旋葉片(133)可形成為具有對應於螺旋殼體(131)與螺旋支撐軸件(132)之間之距離之一寬度。螺旋葉片(133)之外表面經附接使得其與螺旋殼體(131)之內圓周表面接觸，且內表面與螺旋支撐軸件(132)之外圓周表面接觸。對於螺旋葉片(133)，螺旋殼體(131)之內部空間可形成為具有一旋風之形狀之一螺旋通道(133a)。關於螺旋通道(133a)，流入螺旋殼體(131)內部之廢氣可呈一旋風之形狀上升。此外，螺旋通道(133a)可形成為具有小於螺旋殼體(131)之橫截面積之一橫截面積之一通道以增加廢氣與水之間之接觸頻率及接觸時間。

螺旋噴嘴(134)安置於螺旋殼體(131)之內圓周表面中之螺旋通道(133a)中。數個螺旋噴嘴(134)可沿螺旋通道(133a)沿一圓形方向間隔開。因此，基於一水平定向，螺旋噴嘴(134)可沿內圓周表面以固定角度間隔開。此外，螺旋噴嘴(134)可間隔開，且基於一垂直定向安置於一固定高度。螺旋噴嘴(134)朝向螺旋通道(133a)之內部噴射水。螺旋噴嘴(134)可沿一向上方向噴射水。此外，螺旋噴嘴(134)可向下噴射水。

此外，螺旋噴嘴(134)可同時沿向上及向下方向噴射水。若螺旋噴嘴(134)沿一向下方向噴射水，則此可增加捕獲副產物粒子之效率。換言之，廢氣以一旋風之形狀在螺旋通道(133a)內流動且上升，且隨著從螺旋噴嘴(134)向下噴射水，水在與廢氣流相反之方向上噴射。因此，從螺旋噴嘴(134)噴射之水與廢氣更有效地接觸，使得可捕獲副產物粒子。螺旋噴嘴(134)噴射細水粒子，此可增加水與廢氣之間之接觸頻率。

文氏噴射模組(140)可包括一文氏殼體(141)、文氏板(142)、文氏噴嘴(143)及文氏防護罩(144)。文氏噴射模組(140)可安置於螺旋噴射模組(130)之一上部處。此外，若另一模組安置於文氏噴射模組(140)之一下部處，則其可安置於另一模組之上部分處。該文氏噴射模組(140)噴射水，同時使流入內部之廢氣朝向中心上升。

文氏噴射模組(140)使從安置於一下部之模組流入之廢氣朝向文氏殼體(141)之中心上升，使得廢氣中所含之副產物粒子向下下落。該文氏噴射模組(140)使廢氣與廢氣在安置於一下部處之螺旋噴射模組(130)中之流動方式不同地流動。換言之，文氏噴射模組(140)使廢氣在其上升時朝向中心流動且聚集，而螺旋噴射模組(130)使廢氣以一旋風之形 狀上升且流動。因此，文氏噴射模組(140)改變廢氣之流動，使得廢氣與水更有效地接觸。

文氏殼體(141)具有一中空內部且形成為具有一敞開上部及敞開下部之一圓柱體之形狀。文氏殼體(141)形成於噴射水，使得其與從一下部流入之廢氣接觸所需之一規定高度。若文氏殼體(141)之一下部與螺旋噴射模組(130)耦合，則其可使用與螺旋殼體(131)相同之直徑形成。若文氏殼體(141)使用不同於螺旋殼體(131)之直徑形成，則螺旋殼體(131)之間之區域可使用一單獨凸緣(未繪示)或其他方法密封。

文氏板(142)形成為一錐體之形狀，其中下側從外徑向上傾斜至內徑，且在其中心配備有一孔(142a)。文氏板(142)形成為使其外徑對應於文氏殼體(141)之內徑。文氏板(142)之外圓周表面經耦合以與文氏殼體(141)之內圓周表面接觸。在一水平定向中，文氏板(142)安置於文氏殼體(141)之內部。因此，文氏板142可將文氏殼體(141)之內部空間分成一下部空間及一上部空間。文氏板(142)增加廢氣在其從下方流入文氏殼體(141)之內部時上升的速度，且使其朝向中心上升。文氏板(142)形成一錐體之形狀，其中水平橫截面積在向上方向上減小。流入文氏板(142)之廢氣之流速隨著其歸因於文氏效應而上升且通過文氏孔(142a)而增加。

文氏噴嘴(143)安置於文氏孔(142a)之一上部或下部處。文氏噴嘴(143)沿一向上方向從文氏孔(142a)之一下部噴射水。此外，文氏噴嘴可沿一向下方向從文氏孔(142a)之一上部噴射水。文氏噴嘴(143)可沿與通過文氏孔(142a)之廢氣之流動相同之方向噴射水。文氏噴嘴(143)可增加廢氣中所含之副產物粒子之重量且使其等向下下落。文氏噴嘴(143)可透過延伸至一單獨文氏殼體(141)之內部之一單獨文氏供應管 (143a)而固定至文氏孔(142a)之一下部。

文氏防護罩(144)可形成為一板之形狀，該板具有與文氏孔(142a)之直徑對應或比文氏孔(142a)之直徑大之一直徑。文氏防護罩(144)可與文氏孔(142a)之頂部間隔開。文氏防護罩(144)可使上升且通過文氏孔(142a)之副產物粒子相互碰撞且向下下落。文氏防護罩(144)可與文氏板(142)間隔開，使得廢氣可通過因此形成之空間且向上流動。未詳細繪示文氏防護罩(144)，但可藉由一單獨支撐桿固定至文氏板(142)。此外，文氏防護罩(144)可固定至被固定至其一上部之一模組之一下部。

鮑爾噴射模組(150)可包含一鮑爾殼體(151)、下部支撐網(152)、鮑爾環(153)及鮑爾噴射管(154)。

鮑爾噴射模組(150)可安置於文氏噴射模組(140)之一上部處，但若另一模組安置於鮑爾噴射模組(150)之一下部處，則可安置於一上部處。鮑爾噴射模組(150)使從下方上升之廢氣與鮑爾環(153)接觸以捕獲廢氣中所含之反應性副產物。此外，鮑爾噴射模組(150)可藉由使廢氣與水接觸來捕獲廢氣中所含之可溶性氣體，且鮑爾噴射模組(150)可藉由鮑爾環(153)增加水與廢氣之間之接觸面積。鮑爾噴射模組(150)可藉由從上方噴射水且濕潤鮑爾環(153)之表面而增加廢氣與水之間之接觸時間。鮑爾噴射組件(150)噴射相對較大粒徑之水，且增加從一下部上升之細水粒子之大小以使其等向下下落。鮑爾噴射模組(150)可減少排放至外部之細粒子之水分。

鮑爾殼體(151)之內部係中空的，且其形成為具有一敞開上部及敞開下部之一圓柱體之形狀。鮑爾殼體(151)形成於噴射水，使得其與從下方流入之廢氣接觸所需之一規定高度。若鮑爾殼體(151)之一下部 與文氏噴射模組(140)耦合，則其可使用與文氏殼體(141)相同之直徑形成。鮑爾殼體(151)形式為具有不同於文氏殼體(141)之一直徑且文氏殼體(141)之間之區域可使用一方法(例如一單獨凸緣(未繪示))密封。

下支撐網(152)可形成為具有垂直地通過之多個支撐孔之一板之形狀。下支撐網(152)可形成為一多孔板或格目篩網之形狀。下支撐網(152)之外徑可具有與鮑爾殼體(151)之內徑對應之一直徑。在一水平定向中，下部支撐網(152)可附接於鮑爾殼體(151)之一下部處。下支撐網(152)可支撐安置於一頂部部分處之多個鮑爾環(153)。

鮑爾環(153)可形成為在用於處理廢氣之常見洗滌器中所使用之鮑爾環之形狀。鮑爾環(153)可形成為增加之表面積之一圓柱體或九面體或六面體之形狀。多個鮑爾環(153)可在下部支撐網(152)之頂部處堆至一設定高度。鮑爾環(153)可增加廢氣從一下部流動至一上部之路徑以增加廢氣之保持時間，從而增加與水之接觸程度。

鮑爾噴射管(154)安置於鮑爾環(153)之一上部處及將水噴射至鮑爾環(153)之一上部上。鮑爾噴射管(154)可形成為一直線或十字之形狀。鮑爾噴射管(154)可形成為一或多個單元。鮑爾噴射管(154)可在其之一下側上配備有一噴射孔(154a)以噴射水。噴射孔(154a)可形成為沿水噴射管之長度之方向間隔開之多個單元。噴射孔(154a)可形成以噴射比從螺旋噴嘴(134)或文氏噴嘴(143)噴射之水粒子大之水粒子。鮑爾噴射管(154)噴射相對較大之水分粒子及從而捕獲從下方流入之細水分粒子且可減少排放至用於一洗滌器之填充塔(10)之外部的細水分粒子。

氣體噴射模組(160)可包括一氣室(161)及一氣體噴嘴(162)。在構成填充塔之模組當中，氣體噴射模組(160)安置於噴射水之模 組上方。氣體噴射模組(160)向從一下部上升之廢氣中噴射諸如氮氣之經捕獲氣體，且可捕獲或移除廢氣中所含之水分。此外，氣體噴射模組(160)以高速噴射經捕獲氣體且在氣室(161)之內部形成負壓以允許廢氣更有效地排放至用於一洗滌器之填充塔(10)之外部。

氣室(161)具有一中空內部且形成為具有一敞開上部及敞開下部之一圓柱體之形狀。氣室(161)形成於噴射經捕獲氣體，使得其與從下方流入之廢氣接觸所需之一規定高度。若氣室(161)之下部與鮑爾噴射模組(150)耦合，則其可形成為具有與鮑爾殼體(151)相同之直徑。若氣室(161)形成為具有不同於鮑爾殼體(151)之直徑，則鮑爾殼體(151)之間之區域可透過單獨凸緣(未繪示)或另一類似方法密封。

氣體噴嘴(162)可包括一氣體噴嘴主體(162a)、氣體通道(162b)及氣體噴射孔(162c)。氣體噴嘴(162)安置於氣室(161)內部，且可提供從下方流入之廢氣可通過之一廢氣路徑。氣體噴嘴(162)可將經捕獲氣體噴射至廢氣路徑中。

氣體噴嘴主體(162a)形成為具有一固定高度及寬度之一環之形狀。氣體噴嘴主體(162a)可經塑形為具有與氣室(161)之高度相同或比其更高之高度。氣體噴嘴主體(162a)之外圓周表面可經形成以與氣室(161)之內圓周表面接觸。氣體噴嘴主體(162a)可與氣室(161)一體地形成。

氣體通道(162b)可在氣體噴嘴主體(162a)之內部上形成為一環之形狀。氣體通道(162b)可提供一路徑，經捕獲氣體可通過該路徑沿一圓形方向從氣體噴嘴主體(162a)之內部流動。通道(162b)可形成為沿氣體流動之方向具有一固定橫截面積。未具體繪示氣體通道(162b)，但其可 藉由連接至從外部透過氣體通道(162b)連接之氣體供應管而被供應經捕獲氣體。

氣體噴射孔(162c)可形成為從氣體通道(162b)通過氣體噴嘴主體(162a)之內圓周表面之多個單元。氣體噴射孔(162c)可形成為沿氣體噴嘴主體(162a)之內圓周表面間隔開之多個單元。氣體噴射孔(162c)之整體可形成為一個單元。換言之，氣體噴射孔(162c)可沿氣體噴嘴主體(162a)之內圓周表面形成為一環之形狀。氣體噴射孔(162c)可朝向氣體噴嘴主體(162a)之中心噴射流動通過氣體通道(162b)之經捕獲氣體。從氣體噴射孔(162c)噴射之氣體與通過廢氣路徑之廢氣接觸，且可能使廢氣中所含之水分蒸發。此外，經捕獲氣體以高速噴射，從而在氣體噴嘴(162)之一下部處形成負壓以補償使廢氣有效排放所需之壓力。

上部排放模組(170)可包括一頂蓋(171)及上部排放管(172)。上部排放模組(170)與安置於一下部處之氣體噴射模組(160)耦合。上部排放模組(170)將從該氣體噴射模組(160)流入之廢氣排放至外部。

頂蓋(171)具有一敞開上部及敞開下部且形成為一錐體之形狀，其中直徑沿一向上方向減小。

上部排放管(172)具有一敞開上部及敞開下部，且可形成為具有一均勻直徑之一管之形狀。上部排放管(172)之下部可與頂蓋(171)之一上部耦合。上部排放管(172)之下部與頂蓋(171)耦合，且一上部分可連接至一半導體製程線之一排放管。

接下來將描述根據本發明之一實施例之用於一洗滌器之填充塔之操作。

廢氣從安置於用於一洗滌器之填充塔(10)之一下部處之濕 槽(40)流入下部入口模組(110)之內部。廢氣流入水平噴射模組(120)之水平殼體(121)之內部且向上上升。此時，廢氣從水平殼體(121)之整個表面區域向上上升。水平噴嘴122朝向水平殼體(121)之中心噴射水，使得水與上升廢氣接觸。從水平噴嘴(122)噴射之水與廢氣副產物粒子接觸，使得副產物粒子向下下落。此外，從水平噴嘴(122)噴射之水藉由與廢氣中所含之可溶性氣體接觸而捕獲。廢氣通過水平噴射模組(120)且流動至頂部且流入螺旋噴射模組(130)。

螺旋噴射組件(130)使廢氣通過螺旋通道(133a)，且以旋風形式向上上升。螺旋噴射模組(130)使廢氣以不同於水平噴射模組(120)之形式流動，且使廢氣混合在一起且向上流動。因此，廢氣以一均勻方式與水接觸。螺旋噴嘴(134)透過螺旋通道(133a)噴射水，且使水與廢氣中所含之副產物粒子接觸，使得副產物粒子向下下落。此外，從螺旋噴嘴(134)噴射之水可藉由與廢氣中所含之可溶性氣體接觸而捕獲。廢氣通過螺旋噴射模組(130)，向上流動且流動通過文氏噴射模組(140)。

文氏噴射模組(140)使廢氣從文氏殼體(141)之內部向上流動及流向中心以通過文氏孔(142a)。文氏噴射模組(140)使廢氣不同於螺旋噴射模組(130)流動，從而使廢氣混合在一起且向上流動。特定言之，文氏噴射模組(140)使廢氣以集中方式流動通過形成於文氏板(142)之中心之文氏孔(142a)以增加廢氣與水之間之接觸頻率。因此，廢氣以均勻方式與水接觸。文氏噴嘴(143)向上噴射水且使水與廢氣中所含之副產物粒子接觸，使得副產物粒子向下下落。此外，在文氏噴射模組(140)中，從文氏噴嘴143噴射之水可藉由與廢氣中所含之可溶性氣體接觸而捕獲。廢氣通過文氏噴射模組(140)且向上流動且流動通過鮑爾噴射模組(150)。

鮑爾噴射組件(150)使廢氣從鮑爾殼體(151)之內部向上流動，使得其與鮑爾環(153)接觸。鮑爾環(153)依一固定高度堆疊在內部形成一複合通道。鮑爾噴射模組(150)使廢氣以不同於文氏噴射模組(140)之形狀流動，且使廢氣混合在一起且向上流動。因此，所有廢氣通過透過鮑爾環(153)形成之通道以與水接觸。鮑爾噴射管(154)從鮑爾環(153)之一上部噴射水，且使水沿鮑爾環(153)之表面向下流動以與廢氣接觸。此外，鮑爾噴射管154與安置於下方之文氏噴嘴(143)及螺旋噴嘴(134)相比，噴射較大大小之水粒子以捕獲細水粒子，且細水粒子向上流動，此可減少排放至用於一洗滌器之填充塔(10)之外部之水量。廢氣通過鮑爾噴射模組(150)且向上且流動通過氣體噴射模組(160)。

氣體噴射模組(160)使廢氣從氣室(161)之內部向上流動以與經捕獲氣體接觸。氣體噴嘴(162)朝向氣室(161)之中心噴射經捕獲氣體以移除廢氣中所含之水分。此外，氣體噴嘴(162)以高速噴射經捕獲氣體以在氣室(161)之內部形成負壓，使得廢氣能夠更有效地向上流動。廢氣通過氣體噴射模組(160)，且可透過上部排放模組(170)排放至用於一洗滌器之填充塔(10)之外部。

以上說明僅僅係實施根據本發明之用於一洗滌器之填充塔之一個實施例。本發明不限於上述實施例，且本發明所屬領域之一般技術者將具有本發明之技術精神，其程度為可做出各種修改而不背離如發明申請專利範圍之以下範疇中所主張之本發明之要旨。

10:用於一洗滌器之填充塔

110:下部入口模組

111:下蓋

112:下部入口管

120:水平噴射模組

121:水平殼體

122:水平噴嘴

130:螺旋噴射模組

131:螺旋殼體

132:螺旋支撐軸件

133:螺旋葉片

133a:螺旋通道

134:螺旋噴嘴

140:文氏噴射模組

141:文氏殼體

142:文氏板

142a:孔

143:文氏噴嘴

144:文氏防護罩

150:鮑爾噴射模組

151:鮑爾殼體

152:下部支撐網

153:鮑爾環

154:鮑爾噴射管

154a:噴射孔

160:氣體噴射模組

161:氣室

162:氣體噴嘴

162a:氣體噴嘴主體

162b:氣體通道

162c:氣體噴射孔

170:上部排放模組

171:頂蓋

172:上部排放管

Claims (7)

1. 一種用於一洗滌器之填充塔，其特徵在於包括：一螺旋噴射模組，其在使流入其內部之廢氣以旋風形式上升的同時噴射水；一文氏噴射模組，其在使流入至其內部之該廢氣向上流動通過中心區域的同時噴射水；一水平噴射模組，其在使流入至其內部之該廢氣上升的同時噴射水；一鮑爾噴射模組，其在使流入至其內部之廢氣與堆疊鮑爾環之濕表面接觸的同時噴射水；及一氣體噴射模組，其在該廢氣中噴射經捕獲氣體；其中，該水平噴射模組安置於一下部入口模組之一上部處；該螺旋噴射模組安置於該水平噴射模組之一上部處；該文氏噴射模組安置於該螺旋噴射模組之一上部處；該鮑爾噴射模組安置於該文氏噴射模組之一上部處；及該氣體噴射模組安置於該鮑爾噴射模組之一上部處。
2. 如請求項1之用於一洗滌器之填充塔，其中，該螺旋噴射模組包括：一螺旋殼體，其呈具有一敞開上部、敞開下部及一中空內部之一圓柱體之形狀，一螺旋支撐軸件，其安置於該螺旋殼體之中心軸線上， 一螺旋葉片，其具有形成為呈一旋風之形狀之一螺旋通道之一內空間，及至少兩個螺旋噴嘴，其等將水噴射在流動通過該螺旋通道之廢氣上，且其等沿該螺旋殼體之內圓周表面間隔開。
3. 如請求項1之用於一洗滌器之填充塔，其中，該文氏噴射模組包括：一文氏殼體，其呈具有一敞開上部、敞開下部及一中空內部之一圓柱體之形狀，一文氏板，其呈一錐體之形狀，其中下側從外徑朝內徑向上傾斜，且其在中心具有一文氏孔；及一文氏噴嘴，其通過該文氏孔噴射水。
4. 如請求項3之用於一洗滌器之填充塔，其中，該文氏噴射模組進一步包括：一文氏防護罩，其形成為一板之形狀，該板具有對應於或大於該文氏孔之直徑之一直徑，且其安置為與該文氏孔之一上部相距一距離。
5. 如請求項1之用於一洗滌器之填充塔，其中，在水平噴射模組包括：一殼體，其呈具有一敞開上部、敞開下部及一中空內部之一圓柱體之形狀，及至少兩個水平噴嘴，其等安置為沿該殼體之一內圓周表面間隔開。
6. 如請求項1之用於一洗滌器之填充塔，其中，該鮑爾噴射模組包括：一鮑爾殼體，其呈具有一敞開上部、敞開下部及一中空內部之一圓柱體之形狀，及一下部支撐網，其係具有垂直通過之複數個孔之一板，且其與該鮑爾殼體之一下部耦合，堆疊鮑爾環，其等安置於該下部支撐網之一上部處，及一鮑爾噴射管，其安置於該鮑爾殼體之一上部處且在該等堆疊鮑爾環上方噴射水。
7. 如請求項1之用於一洗滌器之填充塔，其中，該氣體噴射模組包括：一氣室，其具有一中空內部且形成為具有一敞開上部分及敞開下部分之形狀，及一氣體噴嘴，其安置於該氣室之內部中，且其將衝擊氣體噴射至從一下部流入之該廢氣，同時該氣體噴嘴包括：一氣體噴嘴主體，其形成為一環之形狀，且其安置於該氣室之內部上，一氣體通道，其在該氣體噴嘴之該主體之內部中形成為一環之形狀，且提供供衝擊氣體流動通過之一路徑，及一氣體噴射孔，其從該氣體通道通過該氣體噴嘴之該主體之內圓周表面以將該衝擊氣體噴射至該氣體噴嘴之該主體之內部。