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TWI850630B - 顯示面板 - Google Patents

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TWI850630B
TWI850630B TW111107583A TW111107583A TWI850630B TW I850630 B TWI850630 B TW I850630B TW 111107583 A TW111107583 A TW 111107583A TW 111107583 A TW111107583 A TW 111107583A TW I850630 B TWI850630 B TW I850630B
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Abstract

一種顯示面板包含第一顯示模組、第一光學膜與第一光學膠。第一光學膜設置於第一顯示模組上，且第一光學膜的側壁與第一顯示模組的至少一側壁對齊。第一光學膠沿第一光學膜的邊緣設置，並於邊緣覆蓋第一光學膜的上表面與第一光學膜的側壁。

Description

顯示面板
本揭露的一些實施方式是關於一種顯示面板。
隨著顯示面板的技術日漸進步，顯示面板的應用已越來越隨處可見。顯示面板可由多個具有發光二極體的封裝體拼接而成。將越多的封裝體拼接在一起時，所形成的顯示面板的尺寸也會越大。
本揭露的一些實施方式包含一種顯示面板，包含第一顯示模組、第一光學膜與第一光學膠。第一光學膜設置於第一顯示模組上，且第一光學膜的側壁與第一顯示模組的至少一側壁對齊。第一光學膠沿第一光學膜的邊緣設置，並於邊緣覆蓋第一光學膜的上表面與第一光學膜的側壁。
在一些實施方式中，第一光學膜包含第一子層與第二子層，第二子層在第一子層上，且第一光學膠接觸第一光學膜的第一子層的上表面與第一光學膜的側壁的上緣。
在一些實施方式中，第一光學膜於邊緣具有缺陷區，且在缺陷區中，第一子層的部分之微型結構從第二子層中暴露出。
在一些實施方式中，在缺陷區中，第二子層的側壁從第一子層的側壁往內縮。
在一些實施方式中，第二子層的反射率低於第一子層的反射率。
在一些實施方式中，第一顯示模組包含第一基板、第一顯示元件與第一保護膜層。第一顯示元件置於第一基板上。第一保護膜層覆蓋第一基板的上表面與側壁的上部。
在一些實施方式中，第一光學膠更覆蓋第一光學膜與第一保護膜層之間的交界。
在一些實施方式中，第一光學膜的側壁與第一保護膜層的側壁對齊。
在一些實施方式中，顯示面板更包含第二顯示模組、第二顯示模組與第二光學膜。第二顯示模組與第一顯示模組相鄰。第二光學膜位於第二顯示模組的上方並接觸第二顯示模組。第二光學膠覆蓋第二光學膜的上表面的外緣與側壁的上緣，且第二光學膠與第一光學膠接觸。
綜上所述，本揭露的一些實施方式的光學膠覆蓋封裝體的光學膜的缺陷區，使得缺陷區不容易被使用者察覺出。當不同的封裝體拼接在一起時，使用者也不易察覺出封裝體之間的拼接縫，使得拼接的封裝體可形成較大型的顯示面板。
為使熟悉本揭露所屬技術領域之一般技藝者能更進一步了解本揭露，下文特列舉本揭露之較佳實施例，並配合所附圖式，詳細說明本揭露的構成內容及所欲達成之功效。
本揭露的一些實施方式是關於具有光學膠的顯示面板。光學膠位於顯示面板的光學膜的缺陷區上，並用以遮蓋光學膜的缺陷區。如此一來，當不同顯示模組拼接在一起時，在拼接處的表面缺陷被光學膠覆蓋住。在使用本揭露的一些實施方式的顯示面板時，使用者便不易察覺在拼接處附近的缺陷區。
第1圖繪示本揭露的一些實施方式的第一封裝體100的橫截面視圖。第一封裝體100包含第一顯示模組110、第一光學膜120與第一光學膠130。第一顯示模組110可具有任何適合的型態。在一些實施方式中，第一顯示模組110可包含第一基板112、第一顯示元件114與第一保護膜層116。在一些實施方式中，第一基板112可由任何適合的材料製成，例如玻璃。第一顯示元件114置於第一基板112上。在一些實施方式中，第一顯示元件114可為發光二極體晶片等，且第一顯示元件114的數量可為一或多個，例如3個。第一保護膜層116覆蓋第一基板112的上表面與側壁的上部，以保護第一基板112的側邊的金屬線路。第一保護膜層116也覆蓋第一顯示元件114，以防止第一顯示元件114受到損害。第一保護膜層116可為封裝膠層。舉例而言，第一保護膜層116可由環氧樹酯、矽膠等材料製成。
第一光學膜120設置於第一顯示模組110上，且第一光學膜120的側壁120S與第一顯示模組110的至少一側壁對齊。第一光學膜120可為多層結構，並具有防眩光、抗反射與抗指紋的功能。在一些實施方式中，在第一保護膜層116與第一光學膜120設置於第一基板112上後，切割掉部分第一保護膜層116與部分第一光學膜120，使得第一保護膜層116的側壁116S(或第一光學膜120的側壁120S)與第一基板112的側壁112S之間有一水平距離。在一些實施方式中，此水平距離可經過設計，使不同第一基板112上的第一顯示元件114之間的距離(pitch)與在同一個第一基板112上的第一顯示元件114之間的距離相同。如此一來，將不同的第一封裝體100拼接之後，使用者不易察覺第一封裝體100之間的拼接縫。拼接後的第一封裝體100在視覺上可成為一個較大的面板。第一光學膜120與第一保護膜層116可為同時切割，因此第一光學膜120的側壁120S與第一保護膜層116的側壁116S對齊。
在切割第一保護膜層116與第一光學膜120時，可能會在第一光學膜120的邊緣形成缺陷區D。具體而言，缺陷區D可為熱影響區(heat affected zone， HAZ)，在切割製程(例如雷射切割)中生成的熱會使切割處附近材料結構被破壞。第2A圖繪示根據本揭露的一些實施方式的第一光學膜120的橫截面視圖。第2B圖至第2C圖繪示在第1圖的區域M於不同實施方式下的放大圖，其繪示經切割後的第一光學膜120的橫截面視圖。應注意，第2A圖僅繪示區域M中的第一光學膜120切割前的樣子。在一些實施方式中，第一光學膜120可包含底層122、第一子層124與第二子層126。第二子層126在第一子層124上，且第一子層124在底層122上。在一些實施方式中，第一子層124可為防眩層，且上表面124T可具有微型結構以減少因從第一顯示模組110反射而造成的眩光。第二子層126為在第一子層124上的共形層，因此第二子層126也具有凹凸表面。在一些實施方式中，第二子層126可為抗反射層，因此第二子層126的反射率比第一子層124還低。在切割第一光學膜120前，第一子層124的側壁124S與第二子層126的側壁126S實質對齊。在切割第一光學膜120時，在切割處附近形成缺陷區D。在缺陷區D中，由於切割斷面不平整或是第一光學膜120中的層部分脫落，缺陷區D的光學性質與第一光學膜120的非缺陷區的光學性質之間具有差異。第一光學膜120的缺陷區D與非缺陷區所呈現的顏色也不同。舉例而言，如第2B圖所示，缺陷區D中，第二子層126的側壁126S從第一子層124的側壁124S往內縮，使下方的第一子層124的上表面124T露出。另外，如第2C圖所示，第一子層124的部分微型結構也可能被破壞，使得第一子層124的部分微型結構從第二子層126中暴露出。第一子層124的微型結構的凸起部分也可能變得凹陷。第一子層124與第二子層126的光學性質(如反射率)不同。在缺陷區D中的暴露出的第一子層124或被破壞的微型結構也造成第一光學膜120缺陷區D與非缺陷區呈現出的顏色不同。舉例而言，缺陷區D的抗反射層或微型結構被破壞，使得缺陷區D反射更多光而呈色較亮。
第3A圖繪示根據本揭露的另一些實施方式的第一光學膜120的橫截面視圖。第3B圖至第3C圖繪示在第1圖的區域M於不同實施方式下的放大圖，其繪示經切割後的第一光學膜120的橫截面視圖。應注意，第3A圖僅繪示區域M中的第一光學膜120切割前的樣子。在第3A圖中，第一光學膜120更包含第三子層128。第三子層128為在第二子層126上的共形層，且第三子層128可為抗指紋層，以使得指紋較不易留在顯示面板上。在切割第一光學膜120前，第一子層124的側壁124S、第二子層126的側壁126S與第三子層128的側壁128S實質對齊。在切割第一光學膜120時，在切割處附近也形成缺陷區D。如第3B圖所示，缺陷區D中，第三子層128的側壁128S從第二子層126的側壁126S往內縮，第二子層126的側壁126S從第一子層124的側壁124S往內縮，使下方的第一子層124的上表面124T、第二子層126的上表面126T露出。另外，如第3C圖所示，第一子層124的部分微型結構也可能被破壞，使得第一子層124的部分微型結構從第二子層126與第三子層128中暴露出。應注意，雖然第2A圖至第3C圖繪示第一光學膜120的子層為2層或3層，但第一光學膜120的子層數量可能大於或等於3層，本揭露描述並不以此為限。
雖然第2A圖至第3C圖皆繪示第一光學膜120具有微型結構，但第一光學膜120也可不具有微型結構。在一些實施方式中，第一子層124、第二子層126與第三子層128(若存在)皆為平面層，而第一光學膜120與第一光學膜120’的各子層可具有不同的光學性質(例如反射率與折射率等)。當切割第一光學膜120時，因切割處不平整而使不同子層的上表面暴露出。各子層之間的不同光學性質使得缺陷區D與非缺陷區具有在視覺上的不同。因此，在此種實施方式中，仍會有缺陷區D形成於第一光學膜120邊緣。
回到第1圖，並搭配第2B圖、第2C圖、第3B圖與第3C圖，第一光學膠130沿第一光學膜120的邊緣設置，並於邊緣覆蓋第一光學膜120的上表面與第一光學膜120的側壁。第一光學膠130完全覆蓋住缺陷區D，使得缺陷區D不露出。由於在切割第一光學膜120時，缺陷區D可能形成在第一光學膜120的上表面(例如第2C圖與第3C圖)與側壁(例如第2B圖與第3B圖)，第一光學膠130可接觸第一光學膜120的第一子層124的上表面124T(或第二子層126的上表面126T)與第一光學膜120的側壁120S的上緣以覆蓋缺陷區D。由於第二子層126(與第三子層128，若存在)的厚度很小，當第一光學膠130接觸第一光學膜120的側壁120S的上緣時，第一光學膠130接觸包含第一子層124的側壁124S與第二子層126的側壁126S(與第三子層128的側壁128S，若存在)。在一些實施方式中，第一光學膠130可為條狀，以完整覆蓋第一光學膜120的邊緣。在一些實施方式中，可使用移印技術來將第一光學膠130覆蓋在缺陷區D上。
第一光學膠130可由深色光阻膠製成以避免金屬反光，且第一光學膠130的光密度(optical density，OD)值及顏色與第一保護膜層116相近。在一些實施方式中，第一光學膠130與第一保護膜層116由相同或類似的材料製成。在一些實施方式中，第一光學膠130由高分子材料製成。第一光學膠130覆蓋於缺陷區D上時，使用者便不容易察覺缺陷區D的存在。可參考其他特性來挑選適合的第一光學膠130，例如黏著性、耐磨性與/或耐溫性。舉例而言，第一光學膠130具有適當的黏著性以黏著在第一光學膜120上。第一光學膠130具有適當的防撞能力或耐磨性，使得在後續拼接第一封裝體100時，第一光學膠130不會被磨損。第一光學膠130具有適當的耐溫性，使得在後續製程(例如高溫檢測)中的高溫不會使第一光學膠130的流動性發生改變。
第4圖繪示本揭露的一些實施方式的顯示面板10的橫截面視圖。將第一光學膠130形成在第一光學膜120的邊緣上後，可將第一封裝體100與第二封裝體200拼接在一起。第二封裝體200可與第一封裝體100類似或相同。第二封裝體200包含第二顯示模組210、第二光學膜220與第二光學膠230，且第二顯示模組210可包含第二基板212、第二顯示元件214與第二保護膜層216。第二顯示模組210與第一顯示模組110相鄰。第二光學膜220位於第二顯示模組210的上方並接觸第二顯示模組210。第二光學膠230覆蓋第二光學膜220的上表面的外緣與側壁的上緣。第二顯示模組210(例如第二基板212、第二顯示元件214與第二保護膜層216)、第二光學膜220與第二光學膠230可分別類似或相同於第一顯示模組110、第一光學膜120與第一光學膠130，因此相關的細節不在此贅述。
將第一封裝體100與第二封裝體200拼接在一起時，第二光學膠230與第一光學膠130接觸，而第一光學膜120不接觸第二光學膜220，第一保護膜層116可不接觸第二保護膜層216。第二光學膠230與第一光學膠130可具有一定的耐磨性，以避免在拼接過程造成的碰撞磨除第二光學膠230與第一光學膠130。第一光學膠130與第二光學膠230是在拼接前設置，因此第一光學膠130與第二光學膠230也形成在第一光學膜120與第二光學膜220的上表面的外緣與側壁的上緣以覆蓋缺陷區D，因此使用者不容易察覺第一光學膜120與第二光學膜220之間的拼接縫。應注意，雖然第4圖的顯示面板10僅繪示兩個封裝體，但顯示面板10可包含更多第一封裝體100或第二封裝體200，且可呈一維或二維陣列排列。
第5圖繪示本揭露的另一些實施方式的顯示面板10’的橫截面視圖。顯示面板10’與第4圖中的顯示面板10類似，差別在於顯示面板10’中，第一光學膠130更覆蓋第一光學膜120與第一保護膜層116之間的交界，第二光學膠230更覆蓋第二光學膜220與第二保護膜層216之間的交界。如此一來，第一光學膠130可防止外來物質(例如水氣)從第一光學膜120與第一保護膜層116之間的交界進入第一封裝體100，第二光學膠230可防止外來物質(例如水氣)從第二光學膜220與第二保護膜層216之間的交界進入第二封裝體200。
綜上所述，本揭露的一些實施方式可提供優勢，具體而言，本揭露的一些實施方式的光學膠覆蓋封裝體的光學膜的缺陷區，使得缺陷區不容易被使用者察覺出。當不同的封裝體拼接在一起時，使用者也不易察覺出封裝體之間的拼接縫，使得拼接的封裝體可形成較大型的顯示面板。
雖然本揭露已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭露，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭露的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本揭露的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10:顯示面板 10’:顯示面板 100:第一封裝體 110:第一顯示模組 112:第一基板 112S:側壁 114:第一顯示元件 116:第一保護膜層 116S:側壁 120:第一光學膜 120S:側壁 122:底層 124:第一子層 124S:側壁 124T:上表面 126:第二子層 126S:側壁 126T:上表面 128:第三子層 128S:側壁 130:第一光學膠 200:第二封裝體 210:第二顯示模組 212:第二基板 214:第二顯示元件 216:第二保護膜層 220:第二光學膜 230:第二光學膠 D:缺陷區 M:區域
第1圖繪示本揭露的一些實施方式的第一封裝體的橫截面視圖。 第2A圖繪示根據本揭露的一些實施方式的第一光學膜的橫截面視圖。 第2B圖至第2C圖繪示在第1圖的區域M於不同實施方式下的放大圖。 第3A圖繪示根據本揭露的另一些實施方式的第一光學膜的橫截面視圖。 第3B圖至第3C圖繪示經在第1圖的區域M於不同實施方式下的放大圖。 第4圖繪示本揭露的一些實施方式的顯示面板的橫截面視圖。 第5圖繪示本揭露的另一些實施方式的顯示面板的橫截面視圖。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
100:第一封裝體
110:第一顯示模組
112:第一基板
112S:側壁
114:第一顯示元件
116:第一保護膜層
116S:側壁
120:第一光學膜
120S:側壁
130:第一光學膠
D:缺陷區
M:區域

Claims (7)

  1. 一種顯示面板，包含：一第一顯示模組；一第一光學膜，設置於該第一顯示模組上，且該第一光學膜的一側壁與該第一顯示模組的至少一側壁對齊，其中該第一光學膜包含一第一子層與一第二子層，該第二子層在該第一子層上；以及一第一光學膠，沿該第一光學膜的一邊緣設置，並於該邊緣覆蓋該第一光學膜的一上表面與該第一光學膜的該側壁，該第一光學膠接觸該第一光學膜的該第一子層的一上表面與該第一光學膜的該側壁的一上緣，該第一光學膜於該邊緣具有一缺陷區，且在該缺陷區中，該第一子層的部分之複數個微型結構從該第二子層中暴露出。
  2. 如請求項1所述之顯示面板，其中在該缺陷區中，該第二子層的一側壁從該第一子層的一側壁往內縮。
  3. 如請求項1述之顯示面板，其中該第二子層的反射率低於該第一子層的反射率。
  4. 如請求項1所述之顯示面板，其中該第一顯示模組包含：一第一基板； 一第一顯示元件，置於該第一基板上；以及一第一保護膜層，覆蓋該第一基板的一上表面與一側壁的一上部。
  5. 如請求項4所述之顯示面板，其中該第一光學膠更覆蓋該第一光學膜與該第一保護膜層之間的一交界。
  6. 如請求項4所述之顯示面板，其中該第一光學膜的該側壁與該第一保護膜層的一側壁對齊。
  7. 如請求項1所述之顯示面板，更包含：一第二顯示模組，與該第一顯示模組相鄰；一第二光學膜，位於該第二顯示模組的上方並接觸該第二顯示模組；以及一第二光學膠，覆蓋該第二光學膜的一上表面的一外緣與一側壁的一上緣，且該第二光學膠與該第一光學膠接觸。
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