TWI728591B

TWI728591B - 足弓量測方法及裝置

Info

Publication number: TWI728591B
Application number: TW108145720A
Authority: TW
Inventors: 郭恆助; 胡國信; 蘇志強; 林烈全; 何家瑋
Original assignee: 財團法人金屬工業研究發展中心
Priority date: 2019-12-13
Filing date: 2019-12-13
Publication date: 2021-05-21
Also published as: TW202123174A

Abstract

一種足弓量測方法，包含一準備所需儀器的準備步驟、一藉由一檢測單元掃描一未被踩踏之踩踏墊而產生一預對照資訊的預對照步驟、一產生一顯示受踩踏之該踩踏墊的形變狀況之預比對資訊的踩踏步驟、一將該預對照資訊及該預比對資訊分別處理為對照資訊及比對資訊的影像處理步驟、一比對該對照資訊及該比對資訊差異的差值比對步驟，及一判斷受測者之足弓型態的判讀步驟。藉由該差值比對步驟比對分別顯示該踩踏墊受踩踏前後狀況之該對照資訊及該比對資訊的像素點差值，分析受測者的足弓壓力相對於該踩踏墊產生的變化，以此分析受測者的足弓型態。

Description

足弓量測方法及裝置

本發明是有關於一種量測方法，特別是指一種足弓量測方法及裝置。

足部健康與人類息息相關，不論步行、跑跳，運動，足部每天都承受相當大的壓力，因此針對不同的活動型態挑選適合自己的鞋子或鞋墊成了一大課題，而每個人的腳掌大小、長寬，及足弓型態均大不相同，從大小尺碼、楦頭，到高低足弓之分，都將影響消費者穿著時的舒適度。

而根據調查，70%的台灣人擁有正常足弓、10%的人是高足弓，而20%的人則是低足弓，也就是說，擁有高低足弓的人口就占了30%。有鑑於高足弓、低足弓均可能對於運動表現、走路步態，甚至是健康造成影響，因此檢測自身足弓並選購對應鞋款的風氣也漸漸普及。

而現行之一檢測足弓型態的方式是以X光照射進行，受測者脫襪後站在一平台並接受來自側向的X光照射，經由判讀X光照片所顯示的足弓角度後，便可確認受測者的足弓型態。但是X光照射方法需要在醫院或是專科診所才能進行，說明消費者還需要先去醫院確認足弓型態，才能依照自身需求選購鞋款，相當不方便。

因此，本發明之目的，即在提供一種提升檢測方便性的足弓量測方法及裝置。

於是，本發明足弓量測方法，包含一準備所需儀器的準備步驟、一產生一預對照資訊的預對照步驟、一產生一預比對資訊的踩踏步驟、一將該預對照資訊及該預比對資訊分別處理為對照資訊及比對資訊的影像處理步驟、一比對該對照資訊及該比對資訊差異的差值比對步驟，及一判斷受測者之足弓型態的判讀步驟。

該準備步驟是預備一適用於供一受測者踩踏並呈現受壓狀況的踩踏墊、一用以承載該踩踏墊的量測平台，及一適用於掃描該踩踏墊受壓狀況而產出至少一光學影像的檢測單元。

該預對照步驟是利用該檢測單元掃描該踩踏墊而產生顯示未經踩踏之該踩踏墊型態的該預對照資訊。

該踩踏步驟是使該檢測單元掃描該受測者踩踏該踩踏墊而使該踩踏墊形變的情況，並產生該預比對資訊。

該影像處理步驟是使用一影像處理單元將該預對照資訊及該預比對資訊分別轉化為該對照資訊及該比對資訊，並包括一進行灰階轉換的灰階轉換流程，及一調整色相、飽和度及明度的正規化流程。

該差值比對步驟則是比對該對照資訊及該比對資訊的差異，產生一具有多個顯示該對照資訊及該比對資訊色階差值之結果顯示資訊。

最後，該判讀步驟是分析該結果顯示資訊並判斷受測者之足弓型態，且包括一足壓分布計算流程，該足壓分布計算流程是將該結果顯示資訊之該等差值區分出至少二分析區域，且將每一分析區域之差值總和除以該每一分析區域之差值總數而形成一差值濃度值，並比對該至少二分析區域之對應差值濃度值。

本發明之另一目的，即在提供一種適用於執行所述的足弓量測方法之足弓量測裝置，該足弓量測裝置包含一適用於供受測者踩踏並於底面呈現受壓狀況的踩踏墊、一用以承載該踩踏墊的量測平台、一適用於掃描該踩踏墊受壓狀況而產出至少一光學影像的檢測單元，及一適用於處理該至少一光學影像的影像處理單元。

其中，該踩踏墊的材質為聚胺酯及不織布的組合；而該影像處理單元則包括一進行灰階轉換的灰階轉換件、一進行差值比對的差值比對件，及一篩出所需資訊的去雜訊件。

本發明之功效在於：藉由該檢測單元掃描特殊材質之該踩踏墊受踩踏後產生的形變，運用該差值比對方法將該形變差異轉化為色階差值，並比對受測者踩踏前後的色階差值，以此分析該受測者足弓壓力使該踩踏墊產生的形變，最後藉由該判讀步驟分析該受測者的足弓型態，達成不需照射X光即可分析足弓型態的功效。

L:水平線

A:參考點

B:參考點

C:參考點

A1:分析區域

A2:分析區域

A3:分析區域

B1:分析區域

B2:分析區域

B3:分析區域

1:準備步驟

2:預對照步驟

3:踩踏步驟

4:影像處理步驟

41:灰階轉換流程

42:正規化流程

5:差值比對步驟

6:修整步驟

61:反向流程

62:平滑化流程

63:邊緣偵測流程

64:轉正流程

65:光影排除流程

66:降升解析度流程

7:判讀步驟

71:二值化流程

72:判定流程

73:足壓分布計算流程

74:色表轉換流程

81:踩踏墊

82:量測平台

83:檢測單元

本發明之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一方塊流程圖，說明本發明足弓量測方法之一方法實施例；圖2是一示意圖，說明本發明足弓量測裝置之一裝置實施例；圖3是一光學影像圖，說明一預對照資訊；圖4是一光學影像圖，說明一預比對資訊；圖5是一灰階影像圖，說明一對照資訊；圖6是一灰階影像圖，說明一比對資訊；圖7是一影像分析圖，說明一結果顯示資訊；圖8是一影像分析圖，說明其中一位受測者的足弓型態；圖9是一影像分析圖，說明另一位受測者的足弓型態；圖10是一影像分析圖，說明其中一位受測者的足壓分布型態；及圖11是一影像分析圖，說明另一位受測者的足壓分布型態。

參閱圖1與圖2，本發明足弓量測方法之一實施例，包含一準備所需儀器的準備步驟1、一產生一預對照資訊的預對照步驟2、一產生一預比對資訊的踩踏步驟3、一將該預對照資訊及該預比對資訊分別處理為對照資訊及比對資訊的影像處理步驟4、一比對該對照資訊及該比對資訊差異的差值比對步驟5、一進一步調整影像之修整步驟6，及一判斷受測者之足弓型態的判讀步驟7。

該準備步驟1是預備一適用於供一受測者踩踏並於底面呈現受壓狀況的踩踏墊81、一用以承載該踩踏墊81的量測平台82，及一適用於掃描該踩踏墊81受壓狀況而產出至少一光學影像的檢測單元83。

其中，該量測平台82是一透明強化平板，由於在使用時需供直接踩踏，故較佳為能承載人體重量之高強度玻璃；該影像處理單元具體而言即為可執行影像處理演算法的處理設備，並包括一進行灰階轉換的灰階轉換件、一進行像素點差值比對的差值比對件，及一篩出所需資訊的去雜訊件。另外，該檢測單元83是一能夠掃瞄並產生光學影像的光學影像掃描儀，而該踩踏墊81的材質則為聚胺酯及不織布的組合，經實驗證實此材質具有良好的回彈性以及受壓形變能力，因此受測者不論是否脫去襪子，皆可準確地於該踩踏墊81底面顯示受壓狀況，且量測完成後還能回彈而恢復原狀，以供下一位受測者進行測試。

參閱圖3，該預對照步驟2是利用該檢測單元83掃描該踩踏墊81而產生該顯示未經踩踏之該踩踏墊81型態的預對照資訊，該預對照資訊將會顯示本次檢測該踩踏墊81的原始狀態，並設定為對照組。

參閱圖4，該踩踏步驟3是使該檢測單元83掃描該受測者踩踏該踩踏墊81而使該踩踏墊81形變的情況，並產生在形狀上、光影上都將會與該預對照資訊有所落差之該預比對資訊。

參閱圖5、圖6，該影像處理步驟4是使用一影像處理單元將該預對照資訊及該預比對資訊分別轉化為該對照資訊及該比對資訊，並包括一將該預對照資訊及該預比對資訊分別進行灰階轉換的灰階轉換流程41，及一調整色相、飽和度及明度的正規化流程42。實際上，是經由不同的影像處理演算法將該預對照資訊及該預比對資訊分別轉化為具有良好飽和度及明度且僅呈現深淺差異之灰階型態的該對照資訊及該比對資訊，以利於進行接下來的步驟。

該差值比對步驟5是比對該對照資訊及該比對資訊的差異，產生一具有多個顯示該對照資訊及該比對資訊色階差值之結果顯示資訊。

由於該對照資訊及該比對資訊是分別顯示該踩踏墊81 受踩踏前後的型態，同一位置的像素點將會受到來自足弓壓力的影響而改變，因此可以藉由前述之該差值比對步驟5，比對該對照資訊及該比對資訊受踩踏前後的像素點灰階差值，來分析足底壓力相對於該踩踏墊81的變化。但因為此時該結果顯示資訊還具有許多的雜訊，分析上將會造成許多誤差，因此需要執行該修整步驟6來濾除不必要的雜訊，該修整步驟6包括一進行色彩反向的反向流程61、一平滑化流程62、一邊緣偵測流程63、一將該腳掌轉正的轉正流程64、一排除腳掌以外之光影的光影排除流程65，及一降升解析度流程66。其中，該平滑化流程62即是相關技術領域習知的使相鄰像素取平均值而使彼此數值更接近而平滑的平滑化演算法；而該邊緣偵測流程63則是使用索伯濾波器(Sobel Filter)進行；該降升解析度流程66則是藉由金字塔法來提升影像的解析度。

參閱圖7，並配合圖1，根據經過該修整步驟6處理後的結果顯示資訊，以下即可進行判斷足弓型態之該判讀步驟7，該判讀步驟7包括一個二值化流程71，及一判定流程72。該二值化流程71是採用大津二值化演算法(Otsu thresholding)，針對該結果顯示資訊上的差值分布，利用窮舉法，找出一使類間變異數最大、類內變異數最小而將兩類像素區分的閥值，再將該結果顯示資訊上之該等差值依照該閥值區分，高於該閥值之該等差值均標示為一第一對比色，低於該閥值之該等差值則均標示為不同於該第一對比色之第二對比色，而形成一張二值圖像。在本實施例中，該閥值為130，而該第一對比色為黑色，該第二對比色為白色，然而並不以此為限，使用者可依據所欲呈現的型態，進行該第一對比色及該第二對比色的調整，以使腳掌的該足弓型態更臻明確，也因為每個人的足弓型態差異，導致每一結果顯示資訊的差值分布也有所不同，因此經由前述大津二值化演算法所得出之該閥值也會有所差異。

參閱圖8、圖9，此時該結果顯示資訊將會呈現受測者之兩腳掌的足弓型態，以下將以該判定流程72來進行高低足弓的判斷，首先定義一通過該腳掌中心的水平線L，並定義該水平線L通過該腳掌內側彎弧的位置為參考點A，再分別定義該水平線L通過該腳掌內邊緣及外邊緣的點為參考點B及C，接下來便可計算參考點A至參考點C之距離與該參考點B至參考點C的距離之比值，並依照所得之比值來進行高低足弓的判斷。在本實施例中，設定比值在0.0~0.45之間者為高足弓、比值在0.45~0.55之間者為偏高足弓、比值在0.55~0.65之間者為中性足弓、比值在0.65~0.75者為偏低足弓，而比值在0.75~1.0之間者為扁平足。以圖8為例，圖8上之參考點A至參考點C之距離與該參考點B至參考點C的距離之比值為0.77，介於0.75~1.0之間，因此可判定為扁平足；再以圖9為例，圖9之參考點參考點A至參考點C之距離與該參考點B至參考點C的距離之比值為0.49，介於0.45~0.55之間，因此可判定為偏高足弓。

除了分析足弓型態外，本實施例還另外提供一種足壓分布的分析方式，因此該判讀步驟7還包括一足壓分布計算流程73，及一色表轉換流程74。該足壓分布計算流程73是將該結果顯示資訊之該等差值區分出至少二分析區域，並將每一區域之差值總和除以該每一分析區域之差值總數而形成一差值濃度值。具體而言，差值總和表示該分析區域之所有差值的數值和；而差值總數表示該分析區域之所有差值像素點的數量。並以每一該分析區域之差值濃度值的總和為分母，每一該分析區域之差值濃度值為分子，計算每一該分析區域之差值濃度值相對於整個腳掌的比例，而產生至少一足壓分布比值，藉由受壓程度與差值大小成正比的特性，以此分析腳掌相對於該踩踏墊81的足壓分布。

以圖10為例，該腳掌是以腳掌前段、腳掌中段，及腳跟三個分析區域來進行分析，將該等分析區域分別定義為分析區域A1、分析區域A2，及分析區域A3，經過計算後，可以見得該分析區域A1的足壓分布比值為30%、該分析區域A2的足壓分布比值為15%，而分析區域A3的足壓分布比值為55%，由此可知該受測者的足壓較集中於腳跟位置。又以圖11為例，同樣地，此受測者的腳掌也以腳掌前段、腳掌中段，及腳跟三個分析區域來進行分析，在此將該等分析區域分別定義為分析區域B1、分析區域B2，及分析區域B3，經過計算後，可以見得該分析區域B1的足壓分布比值為 50%、該分析區域B2的足壓分布比值為35%，而分析區域B3的足壓分布比值為15%，以此推斷該受測者的足壓較集中於腳掌前段的位置。此時廠商即可依據此一量測結果提供選購鞋款或鞋墊的建議，受測者也可依據該量測結果調整走路或站立的姿勢。

值得一提的是，雖然上述有關分析區域的劃分均是以腳掌前段、腳掌中段，及腳跟來劃分，但並不以此為限，分析者能依照所欲分析的方向進行劃分，例如由內而外區分為腳掌內側、腳掌中段，以及腳掌外側等，並進行足壓分布比值的計算，以此計算不同區域間足壓分布的比例。而該色表轉換流程74是將呈灰階之該結果顯示資訊依據色表重新彩色化，結合前述之足壓分布計算流程73所得到的數值，以利於受測者清楚判讀。

另一方面，由於每次執行該足弓量測方法均會重新掃描未踩踏之該踩踏墊81的該預對照步驟2，即使該踩踏墊81受到多次踩踏而產生外觀上肉眼不易發現的些許形變，該預對照資訊也將一併記錄下來，因此仍然能夠藉由該差值比對步驟5，比對本次受測者踩踏前後該踩踏墊81的像素點差值差異，排除來自上述些許形變而產生的誤差，當該踩踏墊81已產生肉眼可見的變形時，再進行更換即可。

綜上所述，藉由該檢測單元83掃描特殊材質之該踩踏墊81受踩踏後產生的形變，運用該差值比對步驟5將該形變差異轉化為色階差值，並比對受測者踩踏前後的色階差值，以此分析該受測者足弓壓力使該踩踏墊81產生的形變，透過該修整步驟6濾除不必要的雜訊後，即可進行該判讀步驟7來進行足弓型態的判斷，或是足壓分布的計算，僅需踩踏該足弓量測裝置，即可輕易獲得清楚的檢測結果，故確實能達成本發明之目的。

惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。