TWI717082B - 雙工件台柔性捲帶曝光裝置及曝光方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種雙工件台柔性捲帶曝光裝置及曝光方法，兩個工件台分別位於曝光區和測量區時可以同步對柔性捲帶執行測量和曝光，完成測量和曝光後，兩個所述工件台移動以切換工作區，在工件台移動的過程中控制模組根據測量模組測量的對位數據和/或焦面測量數據控制光罩調整模組對光罩進行調整，並在測量區的柔性捲帶到達曝光區後控制曝光模組對曝光區的柔性捲帶進行曝光。本發明採用雙工件台並行的模式，測量區的工件台上的柔性捲帶進行對位和/或焦面測量時，曝光區的工件台上柔性捲帶進行同步曝光，在切換工作區過程中，完成對光罩的調整，雙工件台同時對柔性捲帶進行處理，合理利用時間，減少曝光步驟的耗時，有利於提高產能。

Description

雙工件台柔性捲帶曝光裝置及曝光方法

本發明係關於光刻技術領域，特別是關於一種雙工件台柔性捲帶曝光裝置及曝光方法。

由帶狀柔性捲帶製成的薄膜電路基板廣泛應用於移動電話、液晶熒幕以及智能卡等領域中。由帶狀柔性捲帶製成薄膜電路基板的過程通常包括：在帶狀柔性捲帶上塗布光阻的步驟、將光罩上的圖案轉移到光阻上的曝光和顯影步驟、將光阻上的圖案轉移到帶狀柔性捲帶上的蝕刻步驟。帶狀柔性捲帶通常纏繞在捲軸上，在各步驟中，帶狀柔性捲帶從捲軸上捲出至對應的工件台上，進行相應的加工，完成加工後再次捲繞在捲軸上。

目前，曝光步驟所採用的工件台只有一個，在曝光過程中，先將帶狀柔性捲帶移至工件台上，然後對所述帶狀柔性捲帶進行對位和/或測量，接著根據對位和/或測量的數據調整工件台以對所述帶狀柔性捲帶進行聚焦調整，從而確保所述帶狀柔性捲帶調整至適宜曝光的狀態，然後利用曝光模組對所述帶狀柔性捲帶進行曝光。可見，這種曝光方法是對一個帶狀柔性捲帶順次進行對位測量、聚焦調整及曝光，這個帶狀柔性捲帶完成曝光之後，才開始下一個帶狀柔性捲帶對位測量、聚焦調整及曝光，直至完成所有帶狀柔性捲帶的曝光。即，這種曝光方法是採用對位測量、聚 焦調整及曝光先後串行的模式，耗時較長，導致產能較低，不利於大規模量產使用。

本發明的目的在於提供一種雙工件台柔性捲帶曝光裝置及曝光方法，減少曝光步驟的製程時間，提高產能。

為解決上述技術問題，本發明提供一種雙工件台柔性捲帶曝光裝置，包括：兩個工件台，均用於承載柔性捲帶；至少一個曝光模組，每個所述曝光模組對應一個曝光區，每個所述工件台能夠移動至所述曝光區，所述曝光模組包括照明單元、光罩台及物鏡單元，所述照明單元射出光束，所述光束經過所述光罩台上承載的光罩和所述物鏡單元後照射至位於所述曝光區的所述工件台承載的柔性捲帶上以進行曝光；至少兩個測量模組，兩個所述測量模組分別對應兩個測量區，兩個所述工件台能夠分別移動至兩個所述測量區，每個所述測量模組用於對其對應的所述測量區上的所述工件台上承載的柔性捲帶進行對位測量和/或焦面測量；兩個傳送模組，兩個所述傳送模組分別對應兩個所述工件台，每個所述傳送模組用於向其對應的所述工件台傳送所述柔性捲帶；兩個所述工件台能夠分別位於所述曝光區和所述測量區以同時對不同位置的所述柔性捲帶分別執行測量和曝光；兩個所述工件台能夠移動以在曝光區和測量區切換；根據每個所述工件台在測量區得到的測 量結果，使所述工件台在曝光區進行曝光時，所承載的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內和/或能夠實現曝光對準。

可選的，所述柔性捲帶上設置有第一對位標記；每個所述測量模組包括：第一光源、對位標記單元、用於承載所述對位標記單元的承載台和第一圖像獲取單元，所述對位標記單元上設置有與所述第一對位標記相對應的第二對位標記；所述第一光源用於提供對位光線，所述對位光線依次照射至所述第二對位標記和所述第一對位標記並經所述測量區上的柔性捲帶反射，反射光線穿過所述對位標記單元至所述第一圖像獲取單元以獲得對位數據。

可選的，每個所述測量模組還包括：第二光源、投影鏡單元、探測鏡單元和第二圖像獲取單元，所述第二光源用於提供測量光線，所述測量光線經所述投影鏡單元照射至所述測量區上的柔性捲帶表面並被反射，反射光線經所述探測鏡單元後至所述第二圖像獲取單元以獲得焦面測量數據。

可選的，所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括：光罩調整模組，用於根據所述測量模組的測量結果調整所述光罩以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。

可選的，所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括：控制模組，與所述測量模組、所述光罩調整模組和所述傳送模組分別信號連接，用於根據所述測量模組的測量結果控制所述光罩調整模組調整所述光罩以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。

可選的，所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括角位移感測器，所述角位移感測器用於獲取所述柔性捲帶的傾斜數據，所述控制模組用於根據所述測量模組的測量結果和所述傾斜數據控制所述光罩調整模組調整所述光罩以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。

可選的，所述光罩調整模組包括第一光罩調整單元和第二光罩調整單元，所述第一光罩調整單元根據所述焦面測量數據調整所述光罩沿垂直於所述工件台表面的方向移動，所述第二光罩調整單元根據所述對位數據調整所述光罩在平行於所述工件台表面的平面內移動。

可選的，所述第一光罩調整單元包括：第一位移感測器和至少一個第一調整單元，所述第一調整單元包括第一馬達和螺桿，所述第一馬達用於驅動所述螺桿在垂直於所述工件台表面的方向上移動，從而帶動固定於所述光罩台上的光罩移動，所述第一位移感測器用於獲取所述光罩台的位移數據。

可選的，所述第二光罩調整單元包括：第二位移感測器和至少兩個第二調整單元，所述第二調整單元包括第二馬達、凸輪和彈性元件，所述第二馬達用於驅動所述凸輪旋轉以使所述彈性元件帶動所述光罩台移動，從而使固定於所述光罩台上的光罩在平行於所述工件台表面的平面內移動。

可選的，所述傳送模組包括：開捲滾、第一中間導滾、第二中間導滾和收捲滾，所述控制模組還用於控制所述柔性捲帶從所述開捲滾傳出、經所述第一中間導滾導入所述工件台，在所述工件台上傳動後經所述第二中間導滾導入至所述收捲滾。

可選的，所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括： 工件台驅動模組，包括導軌、第三馬達及導桿，兩個所述工件台均設置於所述導軌上，對應每個所述工件台的兩個所述傳送模組通過導桿連接，所述第三馬達用於驅動每個所述工件台在所述導軌上移動，並使每個所述工件台對應的所述傳送模組同步沿所述導桿移動。

可選的，所述導桿上設置有卡扣，所述卡扣的位置與所述曝光區的位置對應，當所述工件台移動至所述曝光區時，所述工件台對應的所述傳送模組被所述卡扣固定在所述導桿上與所述曝光區對應的位置。

可選的，所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括：工件台調整模組，用於根據所述測量模組的測量結果調整所述工件台以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。

可選的，所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括：控制模組，與所述測量模組、所述工件台調整模組和所述傳送模組信號連接，所述控制模組用於根據所述測量模組的測量結果控制所述工件台調整模組調整所述工件台使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。

可選的，所述工件台調整模組用於根據所述焦面測量數據調整所述工件台沿垂直於所述工件台表面的方向移動，所述工件台調整模組還用於根據所述對位數據調整所述工件台在平行於所述工件台表面的平面內移動。

可選的，所述工件台的同一側設置有兩個所述測量模組和一個所述曝光模組。

可選的，所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置包括兩個所述曝光裝置和四個所述測量模組，四個所述測量模組兩兩上下相對以形成兩組測 量模組，兩組測量模組分別對應兩個所述測量區，兩個所述曝光模組形成上下相對的一組曝光模組並對應一個所述曝光區。

可選的，兩個所述曝光模組位於所述曝光區的上下兩側並且相互對準，上下兩側的兩個所述曝光模組能夠實現對柔性捲帶同一位置正面和反面曝光的一致性。

可選的，所述工件台為框架結構或板狀結構。

可選的，所述工件台為矩形框架，並且所述矩形框架的角落處設置有壓板，所述壓板用於固定柔性捲帶。

本發明還提供了一種雙工件台柔性捲帶曝光方法，包括如下步驟：兩個所述工件台分別位於所述曝光區和所述測量區，所述測量模組對所述測量區的柔性捲帶進行對位測量和/或焦面測量以獲得對位數據和/或焦面測量數據，所述照明單元射出光束，所述光束經過所述光罩和所述物鏡單元後照射至所述曝光區的柔性捲帶上進行曝光，以使位於所述曝光區的柔性捲帶執行曝光，同時位於所述測量區的柔性捲帶執行測量；當完成測量和曝光後，兩個所述工件台移動以在所述測量區和所述曝光區切換並換下曝光完成的柔性捲帶，且所述曝光區的所述工件台承載的柔性捲帶曝光之前，根據所述工件台在測量區得到的測量結果，使所述工件台在曝光區進行曝光時，所承載的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內和/或能夠實現曝光對準。

可選的，完成曝光、對位測量和/或焦面測量時所述柔性捲帶通過真空吸附固定，柔性捲帶表面設置壓板以防止柔性捲帶移動；完成柔性捲帶傳送時，將所述柔性捲帶鬆開。

可選的，當位於所述測量區的柔性捲帶完成測量和位於所述曝光區的柔性捲帶完成曝光後，位於所述曝光區的工件台移動至空閑的所述測量區，位於所述測量區的工件台移動至所述曝光區以切換工作區，且切換工作區後，將位於所述測量區的工件台上曝光完成的柔性捲帶換下，並換上新的柔性捲帶。

可選的，在對第一個柔性捲帶子單元進行曝光前還包括：將第一個柔性捲帶固定於一個位於所述測量區的工件台上進行對位測量和/或焦面測量，所述第一個柔性捲帶完成對位測量和/或焦面測量後，所述工件台從所述測量區移動至所述曝光區，在所述工件台移動的過程中根據所述第一個柔性捲帶的測量結果調整所述光罩使所述第一個柔性捲帶後續到達所述曝光區後處於所述物鏡單元的焦深度範圍內；其中，所述第一個柔性捲帶到達所述曝光區後，對所述第一個柔性捲帶進行曝光，並同時對位於所述測量區的另一個工件台上的柔性捲帶進行對位測量和/或焦面測量。

可選的，所述柔性捲帶上設置有第一對位標記；所述測量模組包括：第一光源、對位標記單元、用於承載所述對位標記單元的承載台和第一圖像獲取單元，所述對位標記單元上設置有與所述第一對位標記相對應的第二對位標記；獲得所述對位數據的過程包括：所述第一光源提供對位光線，所述對位光線依次照射至所述第二對位標記和所述第一對位標記並經所述測量區上的柔性捲帶反射，反射光線穿過所述對位標記單元至所述第一圖像獲取單元以獲得對位數據；根據所述對位數據調整所述光罩和/或所述工件台在平行於所述工件台表面的平面內移動以實現曝光對準。

可選的，所述測量模組還包括：第二光源、投影鏡單元、探測鏡單元和第二圖像獲取單元；獲得焦面測量數據的過程包括：所述第二光源提供測量光線，所述測量光線經所述投影鏡單元照射至所述測量區上的柔性捲帶表面並被反射，反射光線經所述探測鏡單元後至所述第二圖像獲取單元以獲得焦面測量數據；根據所述焦面測量數據調整所述光罩或/和所述工件台沿垂直於所述工件台表面的方向移動，以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。

可選的，所述雙工件台柔性捲帶曝光方法用於對所述柔性捲帶進行單面曝光。

可選的，所述雙工件台柔性捲帶曝光方法用於對所述柔性捲帶進行雙面曝光。

本發明提供的雙工件台柔性捲帶曝光裝置及曝光方法，兩個工件台分別位於所述曝光區和所述測量區時可以同步對所述柔性捲帶執行測量和曝光，完成測量和曝光後，兩個所述工件台移動以切換工作區，在工件台移動的過程中控制模組根據所述測量模組測量的對位數據和/或焦面測量數據控制光罩調整模組對光罩進行調整，並在測量區的柔性捲帶到達曝光區後控制曝光模組對曝光區的柔性捲帶進行曝光。本發明採用雙工件台並行的模式，測量區的工件台上的柔性捲帶進行對位測量和/或焦面測量時，曝光區的工件台上柔性捲帶進行同步曝光，在兩個所述工件台移動以切換工作區過程中，完成對光罩的調整，雙工件台同時對柔性捲帶進行處理，合理利用時間，減少曝光步驟的耗時，有利於提高產能。

11:工件台

111:測量區

112:曝光區

M1:光罩

M2:對位標記單元

M21:第二對位標記

20:測量模組

201:第一光源

202:第一圖像獲取單元

203:第二光源

204:投影鏡單元

205:探測鏡單元

206:第二圖像獲取單元

30:曝光模組

301:第三光源

302:投影透鏡

40:光罩調整模組

41:第一光罩調整單元

411:第一馬達

412:螺桿

413:第一位移感測器感測器

42:第二光罩調整單元

421:第二馬達

422:凸輪

423:彈性元件

424:第二位移感測器

50:控制模組

61:傳送模組

611:開捲滾

612:第一中間導滾

613:第二中間導滾

614:收捲滾

701:光罩台

702:承載台

80:柔性捲帶捲帶

90:壓板

01:工件台驅動模組

011:導軌

012:第三馬達

013:導桿

014:卡扣

圖1a是本發明實施例提供的可進行雙面曝光的雙工件台柔性捲帶曝光裝置的結構示意圖；圖1b是本發明實施例提供的可進行雙面曝光的雙工件台柔性捲帶曝光裝置的另一結構示意圖；圖2是本發明實施例提供的雙工件台柔性捲帶曝光裝置中的測量模組的結構示意圖；圖3是本發明實施例提供的雙工件台柔性捲帶曝光裝置中的測量模組的對位測量過程的示意圖；圖4是本發明實施例提供的雙工件台柔性捲帶曝光裝置的測量模組的焦面測量過程的示意圖；圖5是本發明實施例提供的雙工件台柔性捲帶曝光裝置的第一光罩調整單元的結構示意圖；圖6是本發明實施例提供的雙工件台柔性捲帶曝光裝置的第二光罩調整單元的結構示意圖；圖7是本發明實施例提供的可進行單面曝光的雙工件台柔性捲帶曝光裝置的結構示意圖；圖8是本發明實施例提供的雙工件台柔性捲帶曝光方法的流程示意圖

如背景技術所述，傳統的曝光方法是對一個帶狀柔性捲帶依次進行對位測量、聚焦調整及曝光，一個帶狀柔性捲帶完成上述所有步驟之後，才對下一個帶狀柔性捲帶進行對位測量、聚焦調整及曝光，這種對位測量、聚焦調整、曝光先後串行的模式，耗時較長，導致產能較低。

本發明採用雙工件台並行的模式，測量區的工件台上的柔性捲帶進行對位測量和/或焦面測量時，曝光區的工件台上柔性捲帶進行同步曝光，在兩個所述工件台移動以切換工作區過程中，完成對光罩的調整，雙工件台同時對柔性捲帶進行處理，合理利用時間，減少曝光步驟的耗時，有利於提高產能。

以下結合附圖1a至8對本實施例提出的雙工件台柔性捲帶曝光裝置及曝光方法作進一步詳細說明。根據下面說明，本發明的優點和特徵將更清楚。需說明的是，附圖均採用非常簡化的形式且均使用非精准的比例，僅用於方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。

所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置可進行雙面曝光，以提高曝光效率。圖1a及圖1b是一種可進行雙面曝光的雙工件台柔性捲帶曝光裝置的結構示意圖，如圖1a和圖1b所示，這種能夠進行雙面曝光的雙工件台柔性捲帶曝光裝置(也可稱之為雙面雙工件台柔性捲帶曝光裝置)，包括：兩個工件台11、兩個傳送模組61、四個測量模組20、兩個曝光模組30、兩個光罩調整模組40、工件台驅動模組01及控制模組50。所述控制模組50分別與所述測量模組20、所述曝光模組30、所述光罩調整模組40、工件台驅動模組01以及傳送模組61信號連接。其中，四個測量模組20兩兩上下相對的以形成兩組測量模組20，兩個曝光模組30形成上下相對的一組曝光模組30。所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置包括兩個測量區111和一個曝光區112。每個測量區111位於與一組所述測量模組20相對應的位置；曝光區112位於與一組所述曝光模組30相對應的位置。自然狀態下，兩個所述工件台11均位於所述測量區111，每個所述工件台11的兩側均與一個所述測量模組20對準，所述曝光區112位於兩個所述測量區111之間，且兩個所述測量區111與所述曝光區112之間的距離均相等。

所述測量區111的上下兩側各設置有一個所述測量模組20，所述曝光區112的上下兩側各設置有一個所述曝光模組30。所述曝光區112的兩側的曝光模組30可相互對準，定期維護期間可以實現校準，以便生產過程中能實現上下兩側的曝光模組30對柔性捲帶80同一位置正面和反面曝光的一致性。本實施例中雙工件台柔性捲帶曝光裝置對柔性捲帶80進行雙面曝光，位於工件台11上方的測量模組20和曝光模組30實現對柔性捲帶80正面的對位和曝光；位於工件台11下方的測量模組20和曝光模組30實現對柔性捲帶80背面的對位和曝光。

作為示例，所述柔性捲帶為帶狀柔性捲帶，所有要進行曝光的帶狀柔性捲帶可以順次連接在一起從而構成一個連續的長條狀的結構。所述柔性捲帶例如是用於形成薄膜電路基板的帶狀柔性捲帶。

所述工件台11例如是採用框架結構，所述帶狀柔性捲帶搭在所述工件台11上，所述帶狀柔性捲帶的上下表面均被暴露出來。具體的，所述工件台11可以是一矩形框架。可在矩形框架的中央位置設置橫梁，以更好地支撑柔性捲帶。還可在矩形框架的角落處設置壓板90，通過壓板90可進一步固定柔性捲帶，防止柔性捲帶移動。所述壓板90的數量例如是六個，分布於所述矩形框架的四個角落以及橫梁與矩形框架的連接處。

作為示例，每個所述工件台11均對應一個所述傳送模組61，所述傳送模組61包括平行設置的開捲滾611、第一中間導滾612、第二中間導滾613和收捲滾614，所述控制模組50控制所述帶狀柔性捲帶從所述開捲滾611傳出、經所述中間導滾612導入所述工件台後11固定，完成相應工位的步驟後鬆開，帶狀柔性捲帶經第二中間導滾613導入至所述收捲滾614。具體的所述帶狀柔性捲帶邊緣可以設置孔洞計數控制柔性捲帶的傳送長 度，在其它實施例中，也可以設置位移感測器監控帶狀柔性捲帶的傳送長度。

本實施例中，所述工件台驅動模組01包括導軌011、第三馬達012及導桿013，所述導軌011鋪設在兩個所述工件台11移動的路徑上，兩個所述工件台11均設置於所述導軌011上，所述第三馬達012能夠驅動所述工件台11在所述導軌011上移動。進一步，每個所述工件台11對應的傳送模組61的開捲滾611通過所述導桿013相連，每個所述工件台11對應的傳送模組61的收捲滾614也通過所述導桿013相連，以使所述第三馬達012驅動所述工件台11移動時，其對應的傳送模組61能夠一起穩定的移動。可選的，每個所述導桿013上均設置有一卡扣014，所述卡扣014的位置與所述曝光模組30的位置對應，當所述工件台11從所述測量區111移動至所述曝光區後，所述卡扣014能夠卡牢所述開捲滾611和收捲滾614，以防止在曝光過程中所述工件台11產生移位。

如圖2至圖4所示，雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括用於承載對位標記單元M2的承載台702，所述對位標記單元M2上設置有與所述柔性捲帶上的第一對位標記相對應的第二對位標記M21。所述測量模組20包括第一光源201和第一圖像獲取單元202，所述第一光源201和所述第一圖像獲取單元202均位於所述對位標記單元M2遠離所述工件台11的一側。所述第一光源201用於提供對位光線，所述對位光線依次照射至所述第二對位標記M21和所述測量區111上的柔性捲帶上的所述第一對位標記並經所述測量區111上的柔性捲帶反射，反射光線穿過所述對位標記單元M2至所述第一圖像獲取單元202以獲得對位數據。

所述測量模組20還包括第二光源203、投影鏡單元204、探測鏡單元205和第二圖像獲取單元206，所述第二光源203提供用於焦面測量 的測量光線，所述測量光線經所述投影鏡單元204照射至所述測量區111上的柔性捲帶表面反射，反射光線經所述探測鏡單元205後至所述第二圖像獲取單元206以獲得焦面測量數據，所述焦面測量數據例如是焦面測試數據。

如圖5和圖6所示，光罩調整模組40包括第一光罩調整單元41和第二光罩調整單元42。

如圖5所示，第一光罩調整單元41調整光罩台701上的所述光罩M1沿垂直於所述工件台11表面的方向上移動。第一光罩調整單元41包括第一位移感測器413和至少一個第一調整單元，所述第一調整單元包括第一馬達411和螺桿412，所述第一馬達411驅動所述螺桿412在垂直於所述工件台11表面的方向上上下移動，從而帶動固定於光罩台701上的所述光罩M1在竪直於所述工件台11表面的方向上上下移動，所述第一位移感測器413用於檢測所述光罩台701在垂直於所述工件台11表面的方向上的移動，所述第一位移感測器413例如為光柵尺。優選地，第一光罩調整單元41包括兩個第一調整單元，分別安裝於所述光罩台701的兩側。

如圖6所示，所述第二光罩調整單元42用於調整所述光罩台701在平行於所述工件台11表面的平面內移動。第二光罩調整單元42包括第二位移感測器424和至少兩個第二調整單元，所述光罩台701例如為矩形，每個所述第二調整單元安裝於所述光罩台701的一個角上，當第二調整單元為兩個時，安裝於所述光罩台701的對角上。當第二調整單元為三個時，安裝於所述光罩台701的任意三個角上。每個所述第二調整單元包括第二馬達421、凸輪422和彈性元件423，所述第二馬達421驅動所述凸輪422旋轉以使所述彈性元件423帶動所述光罩台701移動，使固定於光罩台701上的所述光罩M1在平行於所述工件台11表面的平面內移動，例如為旋轉。彈性元件423例如為彈簧，起彈性支撑作用。具體的，每個凸輪422通過分布於 所述光罩台701角兩側的兩個彈性元件423與所述光罩台701連接，所述凸輪422旋轉時使其中一個彈性元件423壓縮，另一個彈性元件423拉伸以驅動光罩台701旋轉。第二位移感測器424分別檢測平行於所述工件台11表面的平面內相互垂直的兩個方向(X方向和Y方向)的位移，從而得到旋轉精度。所述光罩台701例如為矩形，相鄰的矩形邊分別沿所述X方向和Y方向設置。所述位移感測器424例如為光柵尺。

繼續參照圖1a所示，所述曝光模組30包括：第三光源301、光罩台701和投影透鏡302，所述光罩台701位於所述第三光源301與所述投影透鏡302之間，所述光罩M1固定在所述光罩台701上。設置第三光源301的光軸方向垂直於移動過來的工件台11表面，工件台11通常水平設置，因此第三光源301的光軸方向通常為竪直方向。所述第三光源301用於提供曝光光線，所述曝光光線照射至所述光罩台701上的所述光罩M1，經所述投影透鏡302將光線聚焦在所述曝光區112的柔性捲帶上進行曝光，更具體的是聚焦到所述待曝光的柔性捲帶表面的光阻上。光線聚集點為焦點，焦點是經投影透鏡302聚焦後出現最佳圖像的點，焦點所在水平面為焦平面，焦深度(DOF)為能使聚焦圖像保持清晰的位於焦平面兩側的上限平面到下限平面的距離。光刻工藝中，焦點可能不是正好位於光阻的上下表面的中間，但是光阻上下表面處於焦深度(DOF)內，這樣才能保證曝光範圍內整個厚度的光阻均成像清晰。

本實施例通過調整光罩M1在垂直於所述工件台11表面的方向上移動，使位於所述曝光區112上的柔性捲帶表面的光阻上下表面均在曝光光線經所述光罩台701上的所述光罩M1到達所述投影透鏡302將光線聚焦的焦深度(DOF)範圍內，以使所述曝光區112上的柔性捲帶表面的光阻連續清晰的曝光。

本實施例中兩個工件台11在整個曝光過程中在所述測量區111和所述曝光區112之間不斷來回移動，例如圖1b中，左方的工件台11在左邊的測量區111處向右移動到達中間的所述曝光區112，曝光完成後，又向左移動返回左邊的測量區111。所述控制模組50用於控制所述曝光模組30對曝光區112上的柔性捲帶進行曝光，同時控制所述測量模組20對測量區111上的柔性捲帶進行對位和/或測量(只有測量區111上存在工件台11時，其對應的測量模組20才會進行測量，同樣的，只有曝光區112上存在工件台11時，曝光模組30才會進行曝光)；並控制兩個所述工件台11工作區的切換(即控制每個工件台11在測量區111和曝光區112之間切換)，每執行一次測量和曝光後，控制所述傳送模組61將所述曝光區112上完成曝光的所述柔性捲帶換下並更換上新的柔性捲帶，在傳送的過程中所述控制模組50根據所述柔性捲帶的對位數據和/或焦面測量數據控制所述光罩調整模組40對所述光罩M1進行調整；並在所述測量區111上的柔性捲帶到達所述曝光區112後控制所述曝光模組30進行曝光，同時控制所述測量模組20對所述測量區111上的柔性捲帶進行對位測量和/或焦面測量。

應當理解，對於第一個柔性捲帶，將第一個柔性捲帶固定在任一個所述工件台11上進行對位測量和/或焦面測量，完成對位測量和/或焦面測量後將所述第一個柔性捲帶自測量區111移動至所述曝光區112，在工件台11移動的過程中所述控制模組50根據所述第一個柔性捲帶的對位數據和/或焦面測量數據控制所述光罩調整模組40對光罩M1進行調整；所述第一個柔性捲帶到達所述曝光區112後，所述控制模組50控制所述曝光模組30對所述第一個柔性捲帶進行曝光，同時控制所述測量模組20對另一個所述測量區111上的柔性捲帶進行對位測量和/或測量。

完成曝光、對位測量和/或焦面測量時所述柔性捲帶80通過真空吸附固定，柔性捲帶80表面設置壓板90以防止柔性捲帶移動；完成柔性捲帶80傳送時，將所述柔性捲帶80鬆開。

所述測量模組20獲得的所述焦面測試數據和所述對位數據通過所述控制模組50進行坐標轉換，使得對位標記單元M2上的所述第二對位標記M21與所述光罩M1上的標記精確對應與匹配，根據所述焦面測試數據和所述對位數據所述控制模組50匹配相應的焦面補償數據和對位偏差補償數據控制所述光罩調整模組40調整所述光罩台701，因光罩M1固定在光罩台701上，故通過光罩調整模組40最終調整光罩M1。通過第一光罩調整單元41調整光罩台701上的所述光罩M1沿垂直於所述工件台11表面的方向上移動，以使所述曝光區112上的柔性捲帶在焦深度(DOF)範圍內能清晰曝光。通過第二光罩調整單元42調整所述光罩台701在平行於所述工件台11表面的平面內旋轉，使曝光過程精確對位。在本申請的其他實施例中，所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置也可以包括：工件台調整模組，用於根據所述測量模組20的測量結果調整所述工件台11以使所述曝光區112的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。其中，所述工件台調整模組和所述第一光罩調整單元41可以擇一使用。

進一步的，柔性捲帶80在傳送過程中可能會有傾斜(例如傳送方向的柔性捲帶兩側邊緣與第一中間導滾612的軸綫不垂直，有偏移)可通過角位移感測器測量，獲得柔性捲帶傾斜數據。此時，需要將傾斜數據通過所述控制模組50進行坐標轉換，控制模組50綜合所述焦面測量數據(例如是焦面測試數據)、對位數據以及傾斜數據匹配相應的補償數據控制光罩調整模組40調整所述光罩M1。所述光罩M1在平行於所述工件台11表面的平面內調整的誤差包括所對位時相錯開引起的偏差和柔性捲帶在傳 送過程中的傾斜偏差。控制模組50通過第二光罩調整單元42調整所述光罩台701在平行於所述工件台11表面的平面內旋轉，使曝光過程精確對位。控制模組50通過第一光罩調整單元41調整光罩台701上的所述光罩M1沿垂直於所述工件台11表面的方向上移動，以使所述曝光區112上的柔性捲帶在焦深度(DOF)範圍內能清晰曝光。

應理解，這種雙面雙工件台柔性捲帶曝光裝置，實際上也可以進行單面曝光。僅使用工件台11上方或下方在同一側的所述測量模組20、曝光模組30以及光罩調整模組40即可。即所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置也可是一種只能進行單面曝光的裝置，以簡化機台結構，降低設備製造成本。圖7是一種可進行單面曝光的雙工件台柔性捲帶曝光裝置的結構示意圖，如圖7所示，這種僅能進行單面曝光的雙工件台柔性捲帶曝光裝置(也可稱之為單面雙工件台柔性捲帶曝光裝置)，包括兩個所述測量模組20、一個所述曝光模組30以及一個所述光罩調整模組40，且均位於所述工件台11的同一側。本實施例中雙工件台柔性捲帶曝光裝置對柔性捲帶80進行單面曝光。單面雙工件台柔性捲帶曝光裝置的工件台11可採用平板結構或框架結構。

基於此，本實施例還提供一種雙工件台柔性捲帶曝光方法，如圖1a和圖8所示，該方法基於雙工件台柔性捲帶曝光裝置，曝光過程包括：控制模組50控制一個所述工件台11移動至所述曝光區112，另一個所述工件台11移動至所述測量區111，兩個所述工件台分別位於所述曝光區112和所述測量區111後，控制所述曝光模組30對位於所述曝光區112上的柔性捲帶進行曝光，並且所述控制模組50同步控制另一個工件台11對應的測量模組20對所述測量區111的柔性捲帶進行對位測量和/或測量； 位於所述曝光區112的工件台11上的柔性捲帶完成曝光後且位於所述測量區111的工件台11上的柔性捲帶完成測量後，所述控制模組50控制所述工件台驅動單元01驅動兩個所述工件台11同步運動，將位於所述曝光區112的工件台11移動至(空閑的)所述測量區111，將位於所述測量區111的工件台11移動至所述曝光區112，此時所述傳送模組61將完成曝光的所述柔性捲帶換下並換上新的柔性捲帶，兩個所述工件台11同步運動，所述控制模組50根據所述柔性捲帶的對位數據和/或焦面測量數據控制光罩調整模組40對光罩M1進行調整。當兩個所述工件台11切換好工作區後，所述控制模組50再次控制測量模組20及曝光模組30同步執行測量和曝光。

進一步的，在對第一個柔性捲帶進行曝光前還包括：將第一個柔性捲帶固定在一個所述工件台11上，所述第一個柔性捲帶完成對位和/或測量後，將所述第一個柔性捲帶對應的工件台11自所述測量區111移動至所述曝光區112，在傳送的過程中所述控制模組50根據所述第一個柔性捲帶的對位數據和/或焦面測量數據控制所述光罩調整模組40對光罩M1進行調整；其中，所述第一個柔性捲帶到達所述曝光區112後，所述控制模組50控制所述曝光模組30對所述第一個柔性捲帶進行曝光，同時控制所述測量模組20對另一個所述工件台上的柔性捲帶進行對位和/或測量。

如圖1a和圖2所示，所述測量模組20包括第一光源201和第一圖像獲取單元202；獲得所述對位數據的過程包括：所述第一光源201提供對位光線，所述對位光線依次照射至所述第二對位標記M21和所述第一對位標記並經所述測量區上的柔性捲帶反射，反射光線穿過所述對位標記單元M2至所述第一圖像獲取單元202以獲得對位數據；所述控制模組50根 據所述後一個柔性捲帶的所述對位數據控制所述光罩調整模組40調整所述光罩台701上的光罩M1在平行於所述工件台11表面的平面內移動。

所述測量模組20還包括：第二光源203、投影鏡單元204、探測鏡單元205和第二圖像獲取單元206；獲得焦面測量數據的過程包括：所述第二光源203用於提供測量光線，所述測量光線經所述投影鏡單元204照射至所述測量區111上的柔性捲帶表面並被反射，反射光線經所述探測鏡單元205後至所述第二圖像獲取單元206以獲得焦面測量數據；所述控制模組50根據所述後一個柔性捲帶的所述焦面測量數據控制所述光罩調整模組40調整所述光罩台701上的光罩M1沿垂直於所述工件台11表面的方向移動。

如圖1a和圖5所示，所述光罩調整模組40包括第一光罩調整單元41，所述第一光罩調整單元41包括：第一位移感測器413和至少一個第一調整單元，所述第一調整單元包括第一馬達411和螺桿412，所述第一馬達411用於驅動所述螺桿412在垂直於所述工件台11表面的方向上移動，從而帶動固定於所述光罩台701上的光罩M1移動，所述第一位移感測器413用於獲取所述光罩台701的位移數據。

如圖1a和圖6所示，所述光罩調整模組40還包括第二光罩調整單元42，所述第二光罩調整單元42包括：第二位移感測器424和至少兩個第二調整單元，所述第二調整單元包括第二馬達421、凸輪422和彈性元件423，所述第二馬達421用於驅動所述凸輪422旋轉以使所述彈性元件423帶動所述光罩台701移動，從而使固定於所述光罩台701上的光罩M1在平行於所述工件台11表面的平面內移動。

如圖1a所示，所述柔性捲帶80為帶狀柔性捲帶，所述傳送模組61包括平行設置的開捲滾611、第一中間導滾612、第二中間導滾613和 收捲滾614；所述控制模組50控制所述柔性捲帶80從所述開捲滾611傳出，並經所述第一中間導滾612導入所述工件台11並固定；所述柔性捲帶80自所述曝光區112傳出時，經所述第二中間導滾導613入至所述收捲滾614。

如圖1a所示，所述曝光模組30包括：第三光源301、光罩台701及投影透鏡302，所述光罩台701位於所述第三光源301與所述投影透鏡302之間，所述曝光過程包括：所述第三光源301提供曝光光線，所述曝光光線照射至所述光罩台701上的所述光罩M1，經所述投影透鏡302聚焦在位於所述曝光區112的柔性捲帶上以進行曝光。

繼續如圖1a所示，每個所述測量區111的(上下)兩側各設置有一個所述測量模組20、所述曝光區112的(上下)兩側各設置有一個所述曝光模組30以及一個所述光罩調整模組40，所述測量區111兩側的兩個所述測量模組20及所述曝光區112兩側的兩個曝光模組30彼此相互正對；所述曝光方法是用於對所述柔性捲帶進行雙面曝光。

如圖7所示，(所述工件台11的)同一側設置有兩個所述測量模組20(即兩個測量區111的同一側各設置有一個所述測量模組20)、一個所述曝光模組30以及一個所述光罩調整模組40，所述曝光方法是用於對所述柔性捲帶進行單面曝光。

終上，本發明通過雙工件台切換工作區，在對曝光區進行曝光的同時，對測量區進行對位測量和/或焦面測量，雙工件台並列進行；雙工件台移動以切換工作區的過程中，完成對所述光罩的調整，雙工件台同時對柔性捲帶進行處理，合理利用時間，減少曝光步驟製程時間，提高產能。

本說明書中各個實施例採用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互 相參見即可。對於實施例公開的方法而言，由於與實施例公開的裝置相對應，所以描述的比較簡單，相關之處參見裝置部分說明即可。

上述描述僅是對本發明較佳實施例的描述，並非對本發明範圍的任何限定，本發明領域的普通技術人員根據上述揭示內容做的任何變更、修飾，均屬申請專利範圍的保護範圍。

11:工件台

111:測量區

112:曝光區

M1:光罩

20:測量模組

30:曝光模組

301:第三光源

302:投影透鏡

40:光罩調整模組

61:傳送模組

611:開捲滾

612:第一中間導滾

613:第二中間導滾

614:收捲滾

701:光罩台

80:柔性捲帶

90:壓板

01:工件台驅動模組

011:導軌

012:第三馬達

013:導桿

014:卡扣

Claims (28)

1. 一種雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其特徵在於，包括：兩個工件台，均用於承載柔性捲帶；至少一個曝光模組，每個所述曝光模組對應一個曝光區，每個所述工件台能夠移動至所述曝光區，所述曝光模組包括照明單元、光罩台及物鏡單元，所述照明單元射出光束，所述光束經過所述光罩台上承載的光罩和所述物鏡單元後照射至位於所述曝光區的所述工件台承載的柔性捲帶上以進行曝光；至少兩個測量模組，兩個所述測量模組分別對應兩個測量區，兩個所述工件台能夠分別移動至兩個所述測量區，每個所述測量模組用於對其對應的所述測量區上的所述工件台上承載的柔性捲帶進行對位測量和/或焦面測量；兩個傳送模組，兩個所述傳送模組分別對應兩個所述工件台，每個所述傳送模組用於向其對應的所述工件台傳送所述柔性捲帶；兩個所述工件台能夠分別位於所述曝光區和所述測量區以同時對不同位置的所述柔性捲帶分別執行測量和曝光；兩個所述工件台能夠移動以在曝光區和測量區切換；根據每個所述工件台在測量區得到的測量結果，使所述工件台在曝光區進行曝光時，所承載的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內和/或能夠實現曝光對準。
2. 如請求項1所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述柔性捲帶上設置有第一對位標記；每個所述測量模組包括：第一光源、對位標記單元、用於承載所述對位標記單元的承載台和第一圖像獲取單元，所述對位標記單元上設置有與所述第一對位標記相對應的第二對位標記； 所述第一光源用於提供對位光線，所述對位光線依次照射至所述第二對位標記和所述第一對位標記並經所述測量區上的柔性捲帶反射，反射光線穿過所述對位標記單元至所述第一圖像獲取單元以獲得對位數據。
3. 如請求項2所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中每個所述測量模組還包括：第二光源、投影鏡單元、探測鏡單元和第二圖像獲取單元，所述第二光源用於提供測量光線，所述測量光線經所述投影鏡單元照射至所述測量區上的柔性捲帶表面並被反射，反射光線經所述探測鏡單元後至所述第二圖像獲取單元以獲得焦面測量數據。
4. 如請求項3所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括：光罩調整模組，用於根據所述測量模組的測量結果調整所述光罩以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。
5. 如請求項4所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括：控制模組，與所述測量模組、所述光罩調整模組和所述傳送模組分別信號連接，用於根據所述測量模組的測量結果控制所述光罩調整模組調整所述光罩以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。
6. 如請求項5所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括角位移感測器，所述角位移感測器用於獲取所述柔性捲帶的傾斜數據，所述控制模組用於根據所述測量模組的測量結果和所述傾斜數據控制所述光罩調整模組調整所述光罩以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。
7. 如請求項4所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述光罩調整模組包括第一光罩調整單元和第二光罩調整單元，所述第一光罩 調整單元根據所述焦面測量數據調整所述光罩沿垂直於所述工件台表面的方向移動，所述第二光罩調整單元根據所述對位數據調整所述光罩在平行於所述工件台表面的平面內移動。
8. 如請求項7所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述第一光罩調整單元包括：第一位移感測器和至少一個第一調整單元，所述第一調整單元包括第一馬達和螺桿，所述第一馬達用於驅動所述螺桿在垂直於所述工件台表面的方向上移動，從而帶動固定於所述光罩台上的光罩移動，所述第一位移感測器用於獲取所述光罩台的位移數據。
9. 如請求項7所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述第二光罩調整單元包括：第二位移感測器和至少兩個第二調整單元，所述第二調整單元包括第二馬達、凸輪和彈性元件，所述第二馬達用於驅動所述凸輪旋轉以使所述彈性元件帶動所述光罩台移動，從而使固定於所述光罩台上的光罩在平行於所述工件台表面的平面內移動。
10. 如請求項5所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述傳送模組包括：開捲滾、第一中間導滾、第二中間導滾和收捲滾，所述控制模組還用於控制所述柔性捲帶從所述開捲滾傳出、經所述第一中間導滾導入所述工件台，在所述工件台上傳動後經所述第二中間導滾導入至所述收捲滾。
11. 如請求項1所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括：工件台驅動模組，包括導軌、第三馬達及導桿，兩個所述工件台均設置於所述導軌上，對應每個所述工件台的兩個所述傳送模組通過導桿連接，所述第三馬達用於驅動每個所述工件台在所述導軌上移動，並使每個所述工件台對應的所述傳送模組同步沿所述導桿移動。
12. 如請求項11所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述導桿上設置有卡扣，所述卡扣的位置與所述曝光區的位置對應，當所述工件台移動至所述曝光區時，所述工件台對應的所述傳送模組被所述卡扣固定在所述導桿上與所述曝光區對應的位置。
13. 如請求項3所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括：工件台調整模組，用於根據所述測量模組的測量結果調整所述工件台以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。
14. 如請求項13所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置還包括：控制模組，與所述測量模組、所述工件台調整模組和所述傳送模組信號連接，所述控制模組用於根據所述測量模組的測量結果控制所述工件台調整模組調整所述工件台使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。
15. 如請求項13所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述工件台調整模組用於根據所述焦面測量數據調整所述工件台沿垂直於所述工件台表面的方向移動，所述工件台調整模組還用於根據所述對位數據調整所述工件台在平行於所述工件台表面的平面內移動。
16. 如請求項4或13所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述工件台的同一側設置有兩個所述測量模組和一個所述曝光模組。
17. 如請求項4或13所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述雙工件台柔性捲帶曝光裝置包括兩個所述曝光裝置和四個所述測量模組，四個所述測量模組兩兩上下相對以形成兩組測量模組，兩組測量模組 分別對應兩個所述測量區，兩個所述曝光模組形成上下相對的一組曝光模組並對應一個所述曝光區。
18. 如請求項17所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中兩個所述曝光模組位於所述曝光區的上下兩側並且相互對準，上下兩側的兩個所述曝光模組能夠實現對柔性捲帶同一位置正面和反面曝光的一致性。
19. 如請求項1所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述工件台為框架結構或板狀結構。
20. 如請求項19所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置，其中所述工件台為矩形框架，並且所述矩形框架的角落處設置有壓板，所述壓板用於固定柔性捲帶。
21. 一種採用如請求項1至20中任一項所述的雙工件台柔性捲帶曝光裝置的雙工件台柔性捲帶曝光方法，其特徵在於，包括如下步驟：兩個所述工件台分別位於所述曝光區和所述測量區，所述測量模組對所述測量區的柔性捲帶進行對位測量和/或焦面測量以獲得對位數據和/或焦面測量數據，所述照明單元射出光束，所述光束經過所述光罩和所述物鏡單元後照射至所述曝光區的柔性捲帶上進行曝光，以使位於所述曝光區的柔性捲帶執行曝光，同時位於所述測量區的柔性捲帶執行測量；當完成測量和曝光後，兩個所述工件台移動以在所述測量區和所述曝光區切換並換下曝光完成的柔性捲帶，且所述曝光區的所述工件台承載的柔性捲帶曝光之前，根據所述工件台在測量區得到的測量結果，使所述工件台在曝光區進行曝光時，所承載的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內和/或能夠實現曝光對準。
22. 如請求項21所述的雙工件台柔性捲帶曝光方法，其中完成曝光、對位測量和/或焦面測量時所述柔性捲帶通過真空吸附固定，柔性 捲帶表面設置壓板以防止柔性捲帶移動；完成柔性捲帶傳送時，將所述柔性捲帶鬆開。
23. 如請求項21所述的雙工件台柔性捲帶曝光方法，其中當位於所述測量區的柔性捲帶完成測量和位於所述曝光區的柔性捲帶完成曝光後，位於所述曝光區的工件台移動至空閑的所述測量區，位於所述測量區的工件台移動至所述曝光區以切換工作區，且切換工作區後，將位於所述測量區的工件台上曝光完成的柔性捲帶換下，並換上新的柔性捲帶。
24. 如請求項23所述的雙工件台柔性捲帶曝光方法，其中在對第一個柔性捲帶子單元進行曝光前還包括：將第一個柔性捲帶固定於一個位於所述測量區的工件台上進行對位測量和/或焦面測量，所述第一個柔性捲帶完成對位測量和/或焦面測量後，所述工件台從所述測量區移動至所述曝光區，在所述工件台移動的過程中根據所述第一個柔性捲帶的測量結果調整所述光罩使所述第一個柔性捲帶後續到達所述曝光區後處於所述物鏡單元的焦深度範圍內；其中，所述第一個柔性捲帶到達所述曝光區後，對所述第一個柔性捲帶進行曝光，並同時對位於所述測量區的另一個工件台上的柔性捲帶進行對位測量和/或焦面測量。
25. 如請求項21所述的雙工件台柔性捲帶曝光方法，其中所述柔性捲帶上設置有第一對位標記；所述測量模組包括：第一光源、對位標記單元、用於承載所述對位標記單元的承載台和第一圖像獲取單元，所述對位標記單元上設置有與所述第一對位標記相對應的第二對位標記；獲得所述對位數據的過程包括： 所述第一光源提供對位光線，所述對位光線依次照射至所述第二對位標記和所述第一對位標記並經所述測量區上的柔性捲帶反射，反射光線穿過所述對位標記單元至所述第一圖像獲取單元以獲得對位數據；根據所述對位數據調整所述光罩和/或所述工件台在平行於所述工件台表面的平面內移動以實現曝光對準。
26. 如請求項25所述的雙工件台柔性捲帶曝光方法，其中所述測量模組還包括：第二光源、投影鏡單元、探測鏡單元和第二圖像獲取單元；獲得焦面測量數據的過程包括：所述第二光源提供測量光線，所述測量光線經所述投影鏡單元照射至所述測量區上的柔性捲帶表面並被反射，反射光線經所述探測鏡單元後至所述第二圖像獲取單元以獲得焦面測量數據；根據所述焦面測量數據調整所述光罩或/和所述工件台沿垂直於所述工件台表面的方向移動，以使所述曝光區的柔性捲帶處於所述物鏡單元的焦深度範圍內。
27. 如請求項21至26中任一項所述的雙工件台柔性捲帶曝光方法，其中所述雙工件台柔性捲帶曝光方法用於對所述柔性捲帶進行單面曝光。
28. 如請求項21至26中任一項所述的雙工件台柔性捲帶曝光方法，其中所述雙工件台柔性捲帶曝光方法用於對所述柔性捲帶進行雙面曝光。

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