[go: up one dir, main page]

TWI714075B - 用於飛行時間量測之具有增強光電二極體之影像感測器 - Google Patents

用於飛行時間量測之具有增強光電二極體之影像感測器 Download PDF

Info

Publication number
TWI714075B
TWI714075B TW108115499A TW108115499A TWI714075B TW I714075 B TWI714075 B TW I714075B TW 108115499 A TW108115499 A TW 108115499A TW 108115499 A TW108115499 A TW 108115499A TW I714075 B TWI714075 B TW I714075B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
doped region
storage node
photodiode
node
image sensor
Prior art date
Application number
TW108115499A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201947782A (zh
Inventor
真鍋宗平
馬渆圭司
Original Assignee
美商豪威科技股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 美商豪威科技股份有限公司 filed Critical 美商豪威科技股份有限公司
Publication of TW201947782A publication Critical patent/TW201947782A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI714075B publication Critical patent/TWI714075B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/483—Details of pulse systems
    • G01S7/486—Receivers
    • G01S7/4861—Circuits for detection, sampling, integration or read-out
    • G01S7/4863—Detector arrays, e.g. charge-transfer gates
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/88—Lidar systems specially adapted for specific applications
    • G01S17/89—Lidar systems specially adapted for specific applications for mapping or imaging
    • G01S17/894—3D imaging with simultaneous measurement of time-of-flight at a 2D array of receiver pixels, e.g. time-of-flight cameras or flash lidar
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N13/00—Stereoscopic video systems; Multi-view video systems; Details thereof
    • H04N13/20—Image signal generators
    • H04N13/204—Image signal generators using stereoscopic image cameras
    • H04N13/254—Image signal generators using stereoscopic image cameras in combination with electromagnetic radiation sources for illuminating objects
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/50—Control of the SSIS exposure
    • H04N25/53—Control of the integration time
    • H04N25/532—Control of the integration time by controlling global shutters in CMOS SSIS
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/50—Control of the SSIS exposure
    • H04N25/53—Control of the integration time
    • H04N25/533—Control of the integration time by using differing integration times for different sensor regions
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/767—Horizontal readout lines, multiplexers or registers
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
    • H04N25/771—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising storage means other than floating diffusion
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
    • H04N25/778—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising amplifiers shared between a plurality of pixels, i.e. at least one part of the amplifier must be on the sensor array itself
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/78—Readout circuits for addressed sensors, e.g. output amplifiers or A/D converters
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10—Integrated devices
    • H10F39/12—Image sensors
    • H10F39/18—Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/80—Constructional details of image sensors
    • H10F39/803—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements
    • H10F39/8033—Photosensitive area
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/80—Constructional details of image sensors
    • H10F39/803—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements
    • H10F39/8037—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements the integrated elements comprising a transistor
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/80—Constructional details of image sensors
    • H10F39/807—Pixel isolation structures
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/80—Constructional details of image sensors
    • H10F39/809—Constructional details of image sensors of hybrid image sensors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

本申請案係關於一種用於飛行時間量測之具有增強光電二極體之影像感測器。本發明提出一種影像感測器，其包括一光電二極體、一第一摻雜區、一第二摻雜區、一第一儲存節點、一第二儲存節點、一第一垂直傳送閘極及一第二垂直傳送閘極。該光電二極體安置在一半導體材料中以將影像光轉換成一電信號。該第一摻雜區及該第二摻雜區安置在該半導體材料中在該半導體材料之一第一側與該光電二極體之間。該第一摻雜區經定位於該第一儲存節點與該第二儲存節點之間，而該第二摻雜區經定位於該第二儲存節點與該第一摻雜區之間。該垂直傳送閘極耦接在該光電二極體之間，以回應於一信號將來自該光電二極體之該電信號傳送至該等儲存節點中之一各別儲存節點。

Description

用於飛行時間量測之具有增強光電二極體之影像感測器
本發明大體而言係關於半導體裝置，且特定而言但非排他地係關於飛行時間影像感測器。
對三維(3D)攝影機之興趣正隨著3D應用之流行不斷在例如成像、電影、遊戲、電腦、使用者介面、面部辨識、對象辨識、增強實境及類似物之領域中增長而增加。用以產生3D影像之典型被動方式為使用多個攝影機來捕獲立體或多個影像。使用立體影像，可對影像中之對象進行三角量測以產生3D影像。此三角量測技術之一個缺點為使用小裝置難以產生3D影像，此是因為每一攝影機之間必須存在最小分離距離以便產生三維影像。另外，此技術是複雜的，且因此需要顯著電腦處理能力以便即時地產生3D影像。
對於需要即時獲取3D影像之應用，有時利用基於飛行時間量測的主動深度成像系統。飛行時間攝影機通常採用：將光引導於對象處之光源，偵測自對象反射之光的感測器，及基於光來往於對象行進所花費的往返時間而計算至該對象之距離的處理單元。
採集3D影像之持續挑戰是平衡飛行時間攝影機之期望效能參數與系統之實體大小及功率限制。舉例而言，用於對近處及遠處對象成像之飛行時間系統的功率要求可能是相當不同的。此等挑戰是由外部參數進一步複雜化(例如，攝影機之所期望圖框速率、深度解析度，及側向解析度)以及固有參數(例如，感測器之量子效率、填充因數、抖動及雜訊)。
本文描述用於具有用於飛行時間量測之增強光電二極體的影像感測器之設備、系統及方法之實例。在以下描述中，闡述眾多具體細節以提供對實例之透徹理解。然而，熟習此項技術者將認識到，本文中所描述之技術可在無一或多個具體細節之情況下實踐，或與其他方法、組件、材料等一起實踐。在其他情況下，未詳細展示或描述眾所周知之結構、材料或操作以避免模糊某些態樣。
貫穿本說明書對「實例」或「實施例」之引用意謂結合實例所描述之特定的特徵、結構或特性是包括在本發明之至少一個實例中。因此，在貫穿本說明書中之各種地方出現的短語「在一個實例中」或「在一個實施例中」不一定全部是指相同之實例。此外，在一或多個實例中，可將特定特徵、結構或特性以任何合適方式組合。
在此說明書中，使用數個術語。除非在本文中具體定義或其使用之上下文將另外明確建議，否則此等術語將具有其來自所屬領域之普通含義。應注意，元件名稱及符號可藉由本文獻互換使用(例如，Si與矽相比)；但是，兩者都有相同之含義。
在本發明之各種實施例中，飛行時間攝影機或影像感測器具有增加的速度，其中信號電子自光電二極體傳送至儲存節點。為了增加信號電子之傳送速度，在光電二極體之垂直及水平方向上提供電場。此電場經定向以增加信號電子自光電二極體朝向儲存節點之漂移速度。在一些實施例中，電場由組件(例如，光電二極體與儲存節點)之間的內置勢能形成。在相同或其他實施例中，使用增強技術。增強技術使用p-n接面之接面電容(例如，反向偏壓二極體)以形成水平電場以增加信號電子的漂移速度。利用接面電容優於來自MOS電容器之電容之一個優點為p-n接面可相對於MOS電容器可具有更小的實體尺寸要求。
在一些實施例中，飛行時間影像感測器包括對應於多個較小光電二極體之光電二極體，每一者電耦接在一起。多個較小之光電二極體中的每一者藉由由p-n接面產生之耦接電容來增強。耦接電容歸因於回應於經反向偏壓之p-n接面的接面電容。至少部分地由於接面電容，光電二極體在水平(例如，側向)方向上具有電場，該電場經由傳送閘極藉由類似於電荷耦接裝置(CCD)之操作的操作將信號電極加速至儲存節點。耦接電容或接面電容藉由淺溝槽隔離結構隔離，以減少來自光電二極體之洩漏電流。在一些實施例中，傳送閘極為垂直傳送閘極。在一個實施例中，每單位面積之接面電容可顯著小於每單位面積的MOS電容。
在相同或其他實施例中，影像感測器之飛行時間具有低驅動電壓及低功率消耗之特徵。舉例而言，在一些實施例中，傳送閘極電壓可小於2伏特，此至少部分地歸因於垂直傳送閘極。由於傳送閘極電壓小於2伏特且耦接電容電壓擺動亦小於2伏特之低電壓操作，可獲得低功率消耗。低功率消耗可進一步歸因於小的增強電容器(例如，p-n接面之接面電容)。低功率消耗可進一步歸因於小的傳送閘極大小，由於影像感測器之類似CCD的操作，可利用該傳送閘極大小。
圖1為展示根據本發明之教示的飛行時間攝影機100之一個實例之方塊圖。飛行時間攝影機100包括光源102、透鏡116、影像感測器120 (包括多個像素，例如第一像素122)、電路124及控制器126。控制器126耦接至光源102、電路124，及影像感測器120。影像感測器120經定位於距透鏡116之焦距flens 處。如實例中所展示，光源102及透鏡116經定位於距對象130距離L處。應瞭解，圖1未按比例說明且在一個實例中焦距flens 基本上比透鏡116與對象130之間的距離小。因此，應瞭解，出於本發明之目的，距離L及距離L+之焦距flens 基本上等於根據本發明之教示的飛行時間量測之目的。如所說明，影像感測器120、電路124及控制器126表示為單獨之組件。然而，應瞭解，影像感測器120、電路124及控制器126可全部整合至同一堆疊晶片感測器上。在其他實施例中，影像感測器120、電路124及控制器126可整合至非堆疊之標準平面感測器上。此外，應理解，電路124可包括一或多個時間-數位轉換器。在一些實施例中，每一像素可包括一或多個雪崩光電二極體(例如，單光子雪崩二極體)，其可與一或多個時間-數位轉換器中的對應者相關聯。亦應瞭解，在一些實施例中，個別時間-數位轉換器可與任何預定數目個像素相關聯。此外，應瞭解，每一像素可具有對應儲存器，用於儲存用於對來自雪崩光電二極體之所偵測到的光子進行計數之數位位元或信號。
飛行時間攝影機100為3D攝影機，其基於影像感測器120進行之飛行時間量測計算要被成像的場景(例如，對象130)之影像深度資訊。影像感測器120中之該多個像素中的每一像素判定對象130之對應部分的深度資訊，使得可產生對象130之3D影像。藉由量測光自光源102傳播至對象130並返回至飛行時間攝影機100之往返時間來判定深度資訊。深度資訊可基於由影像感測器120 (例如，第一像素122)產生的電信號，該電信號隨後被傳送至儲存節點。如所說明，光源102 (例如，發光二極體、垂直腔表面發光雷射器等)經組態以將光104 (例如，第一脈衝106)發射至距離L內之對象130。所發射光104然後自對象130作為反射光110反射，其中之一些傳播朝向距離L內之飛行時間攝影機100，且入射於影像感測器120上作為影像光。包括在影像感測器120中之多個像素之每一像素(例如，第一像素122)包括光電偵測器(例如，一或多個光電二極體，雪崩光電二極體，或單光子雪崩二極體)來偵測影像光並將影像光轉換成電信號(例如，信號電子，影像電荷等)。
如在所描繪之實例中所展示，可使用發射光104之脈衝(例如，第一脈衝106)自光源102傳播至對象130並返回至影像感測器120之往返時間來使用以下方程式(1)及(2)中之以下關係來判定距離L：
Figure 02_image001
其中c為光之速度，其大約等於3×108 m/s，而TTOF 對應於該往返時間，其為光之脈衝行進往返如圖1中所展示的對象所花費之時間量。因此，一旦知道往返時間，就可計算距離L並隨後用於判定對象130之深度資訊。
控制器126耦接至影像感測器120 (包括第一像素122)、電路124及光源102，且包括在執行時致使飛行時間攝影機100執行用於判定往返時間之操作的邏輯。判定往返時間可至少部分地基於由電路124所產生之時序信號。時序信號表示光源102何時發光以及何時光電偵測器偵測到影像光。
在一些實例中，飛行時間攝影機100被包括在手持裝置(例如，行動電話、平板、攝影機等)中，其至少部分地基於裝置之大小判定尺寸及功率限制。替代地或另外地，飛行時間攝影機100可具有特定期望裝置參數，例如圖框速率、深度解析度、側向解析度等。
圖2A至圖2B為根據本發明之教示的用於飛行時間量測之具有增強光電二極體之實例影像感測器200的自上而下及橫截面說明。影像感測器200為包括在圖1之飛行時間攝影機100中之影像感測器120的一個可能之實施方案。如圖2A至圖2B中將展示，影像感測器200包括半導體材料201、光電二極體203、介電層208、金屬觸點210、第一摻雜區211、第二摻雜區213、第三摻雜區215、第四摻雜區217、第一接面電容220、第二接面電容器222、淺溝槽隔離(STI)結構219、第一垂直傳送閘極221、第二垂直傳送閘極223、第三垂直傳送閘極225、第四垂直傳送閘極227、第一儲存節點231、第二儲存節點233、第三儲存節點235、第四儲存節點237、第一輸出閘極241、第二輸出閘極243、第三輸出閘極235、第四輸出閘極247、第一浮動擴散251、第二浮動擴散253、第三浮動擴散255及第五浮動擴散257。
在各種實施例中，可利用各種材料及製造技術來形成影像感測器200。半導體材料201可具有Si之合成物(例如，單晶或多晶Si)。光電二極體203、第一摻雜區211、第二摻雜區213、第三摻雜區215、第四摻雜區217、第一儲存節點231、第二儲存節點233、第三儲存節點235、第四儲存器節點237、第一浮動擴散251、第二浮動擴散253、第三浮動擴散255，及第四浮動擴散257可藉由將各種摻雜劑或成分(例如，B、Al、N、Ga、In、P、As、Sb、Ge等)摻雜或植入在半導體材料201之特定區內來形成。介電層208及淺溝槽隔離結構219可由SiO2 、HfO2 、Si3 N4 及滿足影像感測器200之特定絕緣要求的任何其他合適之電介質或絕緣材料形成。金屬觸點210可由Ti、TiNi合金或不與Si形成矽化物之任何其他金屬形成。第一垂直傳送閘極221、第二垂直傳送閘極223、第三垂直傳送閘極225、第四垂直傳送閘極227、第一輸出閘極241、第二輸出閘極243、第三輸出閘極235及第四輸出閘極247可由以下形成：各種金屬(例如，Au、Cu、Ni、Ti)、金屬合金、多晶矽，以及熟習此項技術者中一者已知的任何其他合適之材料。如所屬領域之技術已知，其他金屬、半導體及絕緣材料亦可用於影像感測器200。可藉由擴散、注入等形成半導體材料201之摻雜區。如熟習此項技術者已知，例如微影、化學蝕刻、離子注入、熱蒸鍍、化學氣相沈積、濺射等之製造技術可用於製造影像感測器200。
圖2A為根據本發明之教示的實例影像感測器200之自上而下說明，其可包括在圖1之飛行時間攝影機100中。所說明實施例呈現半導體材料201之第一側202的自上而下之說明。半導體材料201之第一摻雜區211、第二摻雜區213、第三摻雜區215及第四摻雜區217經定位接近於半導體材料201之第一側202且以2×2矩陣佈置在第一垂直傳送閘極221、第二垂直傳送閘極223、第三垂直傳送閘極225及第四垂直傳送閘極227之間。摻雜區(211、213、215及217)直接佈置在光電二極體203 (未說明)之頂部上，以將摻雜區(211、213、215及217)中的特定者之接面電容耦接至光電二極體203之對應部分。STI結構219安置在摻雜區(211、213、215及217)之間且至少部分地圍繞該摻雜區。第一摻雜區211及第三摻雜區215之間的第一距離277基本上等於第一垂直傳送閘極221及第三垂直傳送閘極225之間的第二距離279。
在所說明實施例中，第一摻雜區211及第二摻雜區213經定位於第一垂直傳送閘極221與第二垂直傳送閘極223之間。更具體地，第一摻雜區211經定位於第一儲存節點231與第二摻雜區213之間。第二摻雜區213經定位於在第二儲存節點233與第一摻雜區211之間。類似地，第三摻雜區215及第二摻雜區217經定位於在第三垂直傳送閘極225與第四垂直傳送閘極227之間。更具體地，第三摻雜區215經定位於第四摻雜區217與第三儲存節點235之間。第四摻雜區217經定位於第四儲存節點237與第三摻雜區215之間。
如圖2A中所說明，第一垂直傳送閘極221、第二垂直傳送閘極223、第一摻雜區211、第二摻雜區213、第一儲存節點231及第二儲存節點233沿著影像感測器200之第一方向A-A' 側向地定向接近於半導體材料201的第一側202。另外，第一輸出閘極241、第二輸出閘極243、第一浮動擴散區251及第二浮動擴散區253亦可隨後沿第一方向A-A' 側向地定向接近於半導體材料201之第一側202。類似地，第三垂直傳送閘極225、第四垂直傳送閘極227、第三摻雜區215、第四摻雜區217、第三儲存節點235及第四儲存節點237沿著第二方向B-B'側向地定向接近於半導體材料201之第一側202。第三輸出閘極245、第四輸出閘極247、第三浮動擴散255，及第四浮動擴散257亦可沿著第二方向B-B' 側向定向接近於半導體材料201之第一側202。在一些實施例中，第一方向A-A'基本上平行於第二方向B-B'。在相同或其他實施例中，影像感測器200可沿著基本上平行於第一方向A-A'及第二方向B-B'之方向在第一摻雜區211與第三摻雜區215之間的中點上基本上相同。
圖2B為根據本發明之教示的沿著線A-A' 切割之圖2A之影像感測器200的橫截面說明。影像感測器200包括安置在半導體材料201中之光電二極體203。第一摻雜區211及第二摻雜區213安置在半導體材料201中在半導體材料201之第一側202與光電二極體203之間。第一儲存節點231及第二儲存節點233安置在半導體材料201中，其中第一摻雜區211經定位於第一儲存節點231與第二摻雜區213之間。第二摻雜區213經定位於第二儲存節點233與第一摻雜區211之間。第一垂直傳送閘極221耦接在光電二極體203與第一儲存節點231之間。第二垂直傳送閘極223耦接在光電二極體203與第二儲存節點233之間。在一些實施例中，垂直傳送閘極(例如，221 、223、225及227)經塗覆電介質或絕緣材料以提供光電二極體203與對應垂直傳送閘極(例如，221、223、225及227)之間的閘極氧化物。
如圖2B中所說明，第一摻雜區211及第二摻雜區213定位在第一垂直傳送閘極221與第二垂直傳送閘極223之間。光電二極體203自第一垂直傳送閘極221延伸至第二垂直傳送閘極223使得光電二極體經定位垂直相鄰於第一摻雜區211及第二摻雜區213。STI結構219安置在第一摻雜區211、第二摻雜區213與光電二極體203之間。在一個實施例中，STI結構219可進一步安置在垂直傳送閘極(例如，221及223)與半導體之材料201的對應摻雜區(例如，211及213)之間。第一摻雜區211被包括在第一接面電容器220中，其耦接至光電二極體203之第一部分。類似地，第二摻雜區213包括在第二接面電容器222中，其耦接至光電二極體203之第二部分。第一接面電容器220及第二接面電容器222為在經由金屬觸點210反向加偏壓(例如，偏壓212及偏壓214)時具有各別第一接面電容及第二接面電容之p-n接面。如所說明，摻雜區(例如，211及213)具有P+摻雜分佈。在一個實施例中，接面電容器之n組件可安置在光電二極體203與摻雜區之間。在其他實施例中，接面電容器之n組件可為光電二極體203之部分。舉例而言，光電二極體203可為具有半導體材料201之n摻雜及p摻雜層之部分釘紮光電二極體。在其他實施例中，摻雜區(例如，211、213、215及217)可具有N+摻雜分佈。應瞭解，可利用其他的摻雜分佈，本文中明確描述之摻雜分佈形成接面電容器的p-n接面。
影像感測器200利用垂直及水平電場增加電荷載子(例如，信號電子)自光電二極體203擴散至儲存節點(例如，231、233、235及237)以促進改良飛行時間量測。回應於影像感測器203被影像光照射，光電二極體203將影像光轉換成電信號(例如，電荷載流子、信號電子等)。信號電子然後被迅速自光電二極體203傳送至儲存節點(例如，231、233、235及237)。舉例而言，第一垂直傳送閘極221耦接在光電二極體203與第一儲存節點231之間，以回應於第一傳送信號將電信號自光電二極體203傳送至第一儲存節點231。舉例而言，第二垂直傳送閘極223耦接在光電二極體203與第二儲存節點233之間，以回應於第二傳送信號將電信號自光電二極體203傳送至第二儲存節點233。第一傳送信號及第二傳送信號產生對應的電場以促進信號電子(例如，電信號)自光電二極體203垂直地朝向對應儲存節點(例如，分別231及233)傳送。
為了進一步提高信號電子自光電二極體203傳送至各別儲存節點(例如，231、233、235及237)之速度，接面電容器(例如，220及222)由反向加偏壓摻雜區(例如，211、213、215及217)用來分別產生第一、第二、第三及第四接面電容。摻雜區之偏壓可在不同時間施加以跨越光電二極體產生水平電場以進一步沿水平方向(例如，平行於半導體材料201之第一側202的方向)增加信號電子(例如，電信號)之漂移速度。舉例而言，反向加偏壓第一摻雜區211及第二摻雜區213將有助於將信號電子自光電二極體203內傳送更靠近光電二極體203與對應摻雜區211及213之間的界面。然後，水平電場可藉由移除第一摻雜區211 (第二摻雜區213)上之偏壓212 (214)同時仍然將偏壓214 (212)施加至第二摻雜區213 (第一摻雜區211)以增加信號電子朝向第二儲存節點233 (第一儲存節點231)之漂移速度來形成。加偏壓一個摻雜區而不是另一摻雜區在偏摻雜區之間產生電位差，此又形成增加信號電子漂移速度之水平電場。雖然此技術用於形成水平電場經描述為與兩個摻雜區211及213相關，但應瞭解，其他實施例可利用多於兩個之摻雜區(例如，第一摻雜區211、第二摻雜區213、第三摻雜區215及第四摻雜區216皆可用於形成水平電場)。類似地，所使用之摻雜區及/或接面電容器之數目不應被視為限制性，且取決於影像感測器200之特定組態，可使用任何數目。
在圖2B之所說明實施例中，一旦信號電子被傳送至該儲存節點(例如，第一儲存節點231及第二儲存節點233)中之各別者，該信號電子然後可回應於各別之第一輸出信號或第二輸出信號經由各別輸出傳送閘極(例如，第一輸出傳送閘極241及第二輸出傳送閘極243)再次被傳送至對應浮動擴散(例如，第一浮動擴散251及第二浮動擴散253)。浮動擴散251及253可對應於影像感測器200之讀出節點。根據本發明之教示，信號電子然後可被傳送至其他讀出電路或邏輯以供進一步處理。
圖3A展示根據本發明之教示的包括一個源極隨耦器電路之像素電路圖300，其可包括圖2A之影像感測器200。像素電路圖300為飛行時間成像系統之一種可能實施方案，其包括圖2A之影像感測器200。返回參考圖3A，像素電路圖300包括光電二極體203，其不同部分對應於PD1 203-A、PD2 203-B、PD3 203-C及PD4 203-D。光電二極體203之此等部分對應於接近於摻雜區(例如，圖2A之211、213、215及217)之光電二極體203的區。如所說明，可對摻雜區加偏壓，且具有耦接至光電二極體203 (例如，203-A、203-B、203-C及203-d)之各別部分的接面電容器(例如，第一接面電容器220、第二接面電容器222、第三接面電容器324及第四接面電容器326)。第一傳送閘極221耦接在第一接面電容器220與第一儲存節點231之間。第二傳送閘極223耦接在第二接面電容器222與第二儲存節點233之間。第一輸出閘極241耦接第一儲存節點231與讀出節點361之間以回應於第一輸出信號將電信號傳送至讀出節點361。類似地，第二輸出閘極243耦接在第二儲存節點233與讀出節點361之間以回應於第二輸出信號將電信號傳送至讀出節點361。
在所說明之實施例中，像素電路圖300亦包括用於自光電二極體203之讀出信號電子的源極隨耦器電路。源極隨耦器電路包括重設閘極371、源極隨耦器閘極373，以及列選擇閘極375。像素電路圖300之優點包括較少數目之裝置及簡單的讀出時序。像素電路圖300之第一部分可用於回應全域快門301信號，該信號將像素電路300初始化或預設為初始化狀態。像素電路圖300之第二部分可用於在針對飛行時間量測發射光脈衝之前獲取對應於影像感測器之背景雜訊的背景信號302。
圖3B為根據本發明之教示的包括在圖3A中之像素電路300之讀出週期的時序圖350。更具體地，時序圖350為自光電二極體(例如，圖3A之光電二極體203)至儲存節點(例如，圖3A之第一儲存節點231、第二儲存節點233、第三儲存節點235及第四儲存節點237)之讀出時序。時序圖350之每一列對應於邏輯高或低(例如，開或關，1或0等)。LED列對應於光源被啟動(例如，如圖1中所說明之光源102之所發射光104的脈衝106)。TXB1、TXB2、TXB3及TXB4之列各自對應於施加至摻雜區(例如，圖2A之第一摻雜區211，第二摻雜區213，第三摻雜區215及第四摻雜區216)的偏壓。用於TX1、TX2、TX3及TX4之列各自分別對應於傳送信號(例如，施加至第一垂直傳送閘極221、施加至第二垂直傳送閘極之第二傳送信號223，施加至第三垂直傳送閘極225的第三傳送信號，及施加至圖2A之第四垂直傳送閘極227之第四傳送信號)。
如圖3B中說明，在第一時間段372期間，光電二極體重設至初始化狀態且在第二時間段374期間讀出背景信號。在第三時間段376期間，讀出光電二極體之第一信號，且在第四時間段期間，讀出光電二極體之第二信號。針對單個讀出週期將信號電子自光電二極體傳送至儲存節點消耗數個步驟。此涉及將偏壓選擇性地施加至第一接面電容器(例如，圖3A之接面電容器220)的第一摻雜區TXB1 (例如，圖3A之TXB1 211)、第二接面電容器(例如，圖3A之接面電容器222)之第二摻雜區TXB2 (例如，圖3A之TXB2 213)、第三接面電容器(例如，圖3A之接面電容器324)的第三摻雜區TXB3 (例如，圖3A之TXB3 215)，及第四接面電容器(例如，圖3A之接面電容器326)之第四摻雜區TXB4 (例如，圖3A之TXB4 217)，以將第一接面電容器、第二接面電容器、第三接面電容器及第四接面電容器中之每一者的接面電容耦接至光電二極體(例如，圖3A之PD1 203-A、PD2 203-B、PD3 203-C及PD4 203-D)。此程序亦包括選擇性地啟用第一垂直傳送閘極TX1 (例如，圖3A之TX1 221)、第二垂直傳送閘極TX2 (例如，圖3A之TX2 223)、第三垂直傳送閘極TX3 (例如，圖3A之TX3 225)，以及第四垂直傳送閘極TX4 (例如，圖3A之TX4 227)以回應於入射影像光將由光電二極體產生之電信號傳送至第一儲存節點(例如，圖3A之儲存節點231)、第二儲存節點(例如，圖3A之儲存節點233)、第三儲存節點(例如，圖3A之儲存節點235)及第四儲存節點(例如，圖3A之儲存節點237)中的各別者。接面電容提供電場以將來自光電二極體之電信號驅動至第一儲存節點、第二儲存節點、第三儲存節點及第四儲存節點中的各別者。
更具體地，在第一時間段372期間，啟用第四垂直傳送閘極TX4，而第一垂直傳送閘極TX1、第二垂直傳送閘極TX2及第三垂直傳送閘極TX3被停用，以將光電二極體預設為初始化狀態(例如，執行電路之重設)。然後在第一時間段期間將偏壓施加至第一摻雜區TXB1、第二摻雜區TXB2、第三摻雜區TXB3及第四摻雜區TXB4。然後以第一摻雜區TXB1之順序移除偏壓，後續接著同時自第二摻雜區TXB2及第三摻雜區TXB3移除偏壓，然後自第四摻雜區TXB4移除偏壓以經由第四垂直傳送閘極TX4引導信號電子到第四儲存節點(例如，圖3A之儲存節點237)。
在第二時間段374期間，啟用第一垂直傳送閘極TX1，而第二垂直傳送閘極TX2、第三垂直傳送閘極TX3及第四垂直傳送閘極TX4被停用以採集背景信號(例如，讀出)。同時，將偏壓施加至第一摻雜區TXB1、第二摻雜區TXB2、第三摻雜區TXB3及第四摻雜區TXB4。然後在第二時間段374期間以第四摻雜區TXB4之順序移除偏壓，後續接著同時自第二摻雜區TXB2及第三摻雜區TXB3移除偏壓，然後自第一摻雜區TXB1移除偏壓以經由第一垂直傳送閘極TX1引導信號電子(例如，表示背景信號)至第一儲存節點(例如，圖3A之儲存節點231)。
在第三時間段376期間，發射用於飛行時間量測之光LED的脈衝，且採集/讀出第一信號。在初始發射LED之脈衝時，啟用第二垂直傳送閘極TX2，而第一垂直傳送閘極TX1、第三垂直傳送閘極TX3及第四垂直傳送閘極TX4被停用以讀出影像感測器的第一信號。同時，將偏壓施加至第一摻雜區TXB1、第二摻雜區TXB2、第三摻雜區TXB3及第四摻雜區TXB4。然後在第三時間段376期間以第三摻雜區TXB3的順序移除偏壓，後續接著同時自第一摻雜區TXB1及第四摻雜區TXB4移除偏壓，後續接著自第二摻雜區TXB2移除偏壓以經由第二垂直傳送閘極TX2引導信號電子(例如，表示第一信號)至第二儲存節點(例如，圖3A之儲存節點233)。
在第四時間段378期間，啟用第三垂直傳送閘極TX3，而第一垂直傳送閘極TX1、第二垂直傳送閘極TX2及第四垂直傳送閘極TX4被停用以採集影像感測器之第二信號(例如，讀出)。同時，將偏壓施加至第一摻雜區TXB1、第二摻雜區TXB2、第三摻雜區TXB3及第四摻雜區TXB4。然後以第二摻雜區TXB2之順序移除偏壓，後續接著同時自第一摻雜區TXB1及第四摻雜區TXB4移除偏壓，且然後後續接著自第三摻雜區TXB3移除偏壓以經由第三垂直傳送閘極TX3引導信號電子(例如，表示第二信號)至第三儲存節點(例如，圖3A之儲存節點235)。
圖3C為根據本發明之教示的包括在圖3A中之像素電路300之信號讀出之時序圖380。圖3C為針對像素電路300之逐列讀出的一種可能實施方案。在所說明實施例中，使用相關雙採樣來實施逐列讀出，其中獲得每光電二極體部分之兩個讀出。如所說明，當最初啟用輸出傳送閘極時，自選擇列之儲存節點(例如，圖3A之儲存節點241、243、245及247)讀出信號(例如，作為SGN 1到4)。然後施加重設信號並執行暗電流讀出。注意，順序地完成OG 1至4、SGN 1至4及DRK 1至4之讀出。換句話說，在不同時間讀出光電二極體部分中之每一者。
圖4A展示根據本發明之教示的包括兩個源極隨耦器電路SF1 373及SF2 473之像素電路圖400，其可包括圖2A之影像感測器200。在許多態樣中，像素電路圖400類似於像素電路圖300。如圖4A中所說明，一個區別在於像素電路圖400包括兩個源極隨耦器電路SF1 373及SF2 473，而不是圖2A中所說明之單個源極隨耦器電路SF1 373。添加圖4A之第二源極隨耦器電路SF2 473可提供更快的信號讀出且由於更快之讀出而經改良之暗電流。如圖4A中所說明，像素電路400包括耦接至OG1 241及OG3 245之第一讀出節點361以及耦接至OG2 243及OG4 247之第二讀出節點463。更具體地，第一輸出傳送閘極241 (例如，電晶體)耦接至第一儲存節點231，以將電信號(例如，信號電子)傳送至第一讀出節點361。第二輸出閘極243 (例如，電晶體)耦接至第二儲存節點233，以將電信號傳送至第二讀出節點463。注意，第一讀出節點361及第二讀出節點463為像素電路400的不同且且分離之讀出節點。此至少部分地藉由使第一讀出節點361耦接在第一輸出閘極241與第一個源隨耦器電路之間來完成。類似地，第二讀出節點463耦接在第二輸出閘極243與第二源極隨耦器電路之間。
圖4B為根據本發明之教示的包括在圖4A中之像素電路400之信號讀出的時序圖480。圖4B為針對像素電路400之逐列讀出的一種可能實施方案。時序圖480在許多態樣類似於圖3C之時序圖380。一個區別是對於同時讀出某些元件可能由於在圖4A中添加像素電路400之源極隨耦器電路而發生。因此，可同時發生OG1 (OG3)、OG2 (OG4)、SNG1 (SNG3)、SNG2 (SNG4)的讀出。類似地，在啟用OG1 (OG3)及OG2(OG4)時也可同時發生DRK1 (DRK3)及DRK2 (DRK4)之讀出。藉由同時啟用RST1 (RST3)及RST2 (RST4)，亦可更快地完成重設操作。
圖5A展示根據本發明之教示的像素電路圖500，其包括四個源極隨耦器電路SF1 373、SF2 473、SF3 573及SF4 583，且其亦可包括圖2A之影像感測器200。像素電路圖500類似於圖3A之像素電路圖300及圖4A之像素電路圖400。如圖5A中所說明，一個區別在於像素電路圖500包括四個源極隨耦器電路SF1 373、SF2 473、SF3 573及SF4 583，每者分別耦接至光電二極體的對應部分(例如，PD1 203-A、PD2 203-B、PD3 203-C及PD4 203-D)。包括四個源極隨耦器電路SF1 373、SF2 473、SF3 573及SF4 583允許更快之讀出及由於更快之讀出而經改良的暗電流。如所說明，第一輸出閘極241耦接在第一儲存節點231與讀出節點361之間以回應於第一輸出信號將電信號傳送至第一讀出節點361。類似地，第二輸出閘極243耦接在第二儲存節點233與讀出節點463之間以回應於第二輸出信號將電信號傳送至第二讀出節點463。第三輸出閘極245耦接在第三儲存節點235與第三讀出節點561之間以回應於第三輸出信號將電信號傳送至第三讀出節點561。第四輸出閘極247耦接在第四儲存節點237與第四讀出節點563之間以回應於第四輸出信號將電信號傳送至第四讀出節點563。對於讀出節點(例如，361、463、561及563)中之每一者，電信號對應於自該光電二極體之各別部分傳送的信號電子。
圖5B為根據本發明之教示的包括在圖5A中之像素電路500之信號讀出的時序圖580。圖5B為針對像素電路500之逐列讀出之一種可能實施方案。時序圖580在許多態樣類似於圖4B之時序圖480及圖3C的時序圖380。一個區別為同時發生對RST 1至4、OG 1至4、SGN 1至4及DRK 1至4中之每一者的同時讀出。舉例而言，藉由同時啟用RST 1至4，可更快地完成重設操作。類似地，可同時發生啟用輸出電晶體OG1至OG4及讀出SGN1至SGN4。亦同時執行節點中之每一者的暗電流讀出(DRK1至4)。
圖6A根據本發明之教示展示像素電路600，包括四個源極隨耦器電路SF1 373、SF2 473、SF3 573及SF4 583，每一者耦接至樣本保持電路SH1 643、SH2 653、SH3 663及SH4 673，其可與圖2A之影像感測器200一起包括。像素電路圖600在許多態樣類似於圖5A之像素電路圖500。如圖6A中所說明，一個區別在於像素電路圖600包括耦接在重設閘極(例如，371、471、571及581)與對應讀出節點(例如，361、463、561、563)之間的四個樣本保持電路。舉例而言，樣本保持電路包括耦接至樣本保持電容器(例如，Csh1 641、Csh2 651、Csh3 661及Csh4 671)之樣本保持傳送閘極(SH1 643、SH2 653、SH3 663及SH4 673)。像素電路圖600可有利地導致更快的信號讀出，由於更快讀出而減小之暗電流，而且很少導致與kTC雜訊(例如，電容器之熱雜訊)相關聯的信號雜訊。
圖6B為根據本發明之教示的包括在圖6A中之像素電路600之信號讀出的時序圖680。圖6B為針對像素電路600之逐列讀出的一種可能實施方案。時序圖680在許多態樣類似於圖5B之時序圖580。一個區別為樣品保持傳送閘極SH1至4 (例如，643、653、663、673)經啟用以將信號傳送至對應電容器Csh1至4 (例如，641、651、661、671)同時讀取暗電流DRK1至4。類似地，全域重設現在包括重設樣本保持電容Csh1至4。
圖7A展示根據本發明之教示的一個可能之像素電路700，其可包括圖2A之影像感測器200。像素電路圖700在許多態樣類似於圖3A之像素電路圖300。一個區別在於像素電路圖700包括四個儲存閘極SG1至4 (例如，741、743、745及747)。儲存電晶體中之每一者耦接在光電二極體之部分(例如，PD1 203-A、PD2 203-B、PD3 203-C及PD4 203-D)與輸出傳送閘極OG1至4 (例如，241、243、245及247)中之對應者之間。使用儲存電晶體暫時保持信號電子可減少暗電流及kTC雜訊。
圖7B為根據本發明之教示的包括在圖7A中之像素電路700之信號讀出的時序圖780。圖7B為針對像素電路700之逐列讀出的一種可能實施植入。時序圖780在許多態樣類似於時序圖380。一個區別是在讀出輸出傳送閘極及傳送信號SGN1至4之前讀出暗電流DRK1到4。類似地，全域重設現在包括重設儲存傳送閘極SG1至4。
圖8為根據本發明之教示展示具有對應讀出電路814、控制電路818及功能邏輯126之實例飛行時間成像系統800之部分的方塊圖。成像系統800包括影像感測器120，其包括具有光電偵測器831之像素陣列821的第一像素122。如所說明，根據本發明之教示，成像系統800進一步包括讀出電路814、時間-數位轉換器824、控制電路818，以及控制器(例如，功能邏輯)126。注意，成像系統800可以堆疊晶片方案實施。舉例而言，根據本發明之教示，如實例中所展示，像素陣列821可包括在像素晶片中，而讀出電路814、時間-數位轉換器828及控制電路818可包括在單獨的專用積體電路(ASIC)晶粒中。在實例中，根據本發明之教示，像素晶粒及ASIC晶粒在製作期間堆疊及耦接在一起以實施飛行時間成像系統。在其他實施例中，可使用成像系統800之非堆疊實施方案。舉例而言，像素晶片(包括像素陣列821)、讀出電路814、時間-數位轉換器824、控制器126及控制電路818可製造在相同的Si基板上。通常，應瞭解，飛行時間成像系統800可以堆疊及非堆疊解決方案實施。
就電腦軟體及硬體來描述上文所闡釋之程序。所描述之技術可構成體現於有形或非暫時性機器(例如，電腦)可讀儲存媒體內的機器可執行指令，該等機器可執行指令在由機器(例如，圖1之控制器126)執行時將致使該機器執行所描述之操作。另外，該程序可體現在硬體內，例如專用積體電路(「ASIC」)、現場可編程閘陣列(FPGA)或其他。
有形機器可讀儲存媒體包括以可由機器(例如，電腦、網路裝置、個人數位助理、製造工具、具有一組一或多個處理器之任何裝置等)存取之非暫時形式提供(即，儲存)資訊之任何機制。舉例而言，機器可讀儲存媒體包括可記錄/非可記錄媒體(例如，只讀儲存器(ROM)、隨機存取儲存器(RAM)、磁碟儲存媒體、光學儲存媒體、快閃儲存器裝置等)。
本發明之所說明實例的以上描述(包括摘要中所描述之內容)並非旨在窮舉或將本發明限制於所揭示的精確形式。雖然本文中出於說明之目的描述本發明之具體實例，但如熟習此項技術者將認識到，可在本發明之範圍內做出各種修改。
根據以上詳細描述，可對本發明進行此等修改。以下申請專利範圍中使用之術語不應被解釋為將本發明限制於說明書中所揭示之具體實例。相反，本發明之範圍完全由所附申請專利範圍判定，該申請專利範圍應如請求項解釋之既定原則來解釋。
100‧‧‧飛行時間攝影機 102‧‧‧光源 104‧‧‧光 106‧‧‧第一脈衝 110‧‧‧反射光 116‧‧‧透鏡 120‧‧‧影像感測器 122‧‧‧第一像素 124‧‧‧電路 126‧‧‧控制器 130‧‧‧對象 200‧‧‧實例影像感測器 201‧‧‧半導體材料 202‧‧‧第一側 203‧‧‧光電二極體 203-A‧‧‧光電二極體PD1 203-B‧‧‧光電二極體PD2 203-C‧‧‧光電二極體PD3 203-D‧‧‧光電二極體PD4 208‧‧‧介電層 210‧‧‧金屬觸點 211‧‧‧第一摻雜區 212‧‧‧偏壓 213‧‧‧第二摻雜區 214‧‧‧偏壓 215‧‧‧第三摻雜區 217‧‧‧第四摻雜區 219‧‧‧淺溝槽隔離(STI)結構 220‧‧‧第一接面電容 221‧‧‧第一垂直傳送閘極 222‧‧‧第二接面電容器 223‧‧‧第二垂直傳送閘極 225‧‧‧第三垂直傳送閘極 227‧‧‧第四垂直傳送閘極 231‧‧‧第一儲存節點 233‧‧‧第二儲存節點 235‧‧‧第三儲存節點 237‧‧‧第四儲存節點 241‧‧‧第一輸出閘極 243‧‧‧第二輸出閘極 235‧‧‧第三輸出閘極 245‧‧‧第四輸出閘極 247‧‧‧第四輸出閘極 251‧‧‧第一浮動擴散 253‧‧‧第二浮動擴散 255‧‧‧第三浮動擴散 257‧‧‧第五浮動擴散 277‧‧‧第一距離 279‧‧‧第二距離 300‧‧‧像素電路圖 301‧‧‧全域快門 302‧‧‧背景信號 324‧‧‧第三接面電容器 326‧‧‧第四接面電容器 350‧‧‧時序圖 361‧‧‧讀出節點 371‧‧‧重設閘極 372‧‧‧第一時間段 373‧‧‧源極隨耦器閘極/源極隨耦器電路SF1 374‧‧‧第二時間段 375‧‧‧行選擇閘極 376‧‧‧第三時間段 378‧‧‧第四時間段 380‧‧‧時序圖 400‧‧‧像素電路圖 463‧‧‧第二讀出節點 471‧‧‧重設閘極 473‧‧‧源極隨耦器電路SF2 480‧‧‧時序圖 500‧‧‧像素電路圖 561‧‧‧第三讀出節點 563‧‧‧第四讀出節點 571‧‧‧重合閘極 573‧‧‧源極隨耦器電路SF3 581‧‧‧重設閘極 583‧‧‧源極隨耦器電路SF4 580‧‧‧時序圖 600‧‧‧像素電路 641‧‧‧樣本保持電容器Csh1 643‧‧‧樣本保持電路SH1/樣本保持傳送閘極SH1 651‧‧‧樣本保持電容器Csh2 653‧‧‧樣本保持電路SH2/樣本保持傳送閘極SH2 661‧‧‧樣本保持電容器Csh3 663‧‧‧樣本保持電路SH3/樣本保持傳送閘極SH3 671‧‧‧樣本保持電容器Csh4 673‧‧‧樣本保持電路SH4/樣本保持傳送閘極SH4 680‧‧‧時序圖 700‧‧‧像素電路 701‧‧‧全域快門 741‧‧‧儲存閘極SG1 743‧‧‧儲存閘極SG2 745‧‧‧儲存閘極SG3 747‧‧‧儲存閘極SG4 780‧‧‧時序圖 800‧‧‧實例飛行時間成像系統 814‧‧‧讀出電路 818‧‧‧控制電路 821‧‧‧像素陣列 824‧‧‧時間-數位轉換器 828‧‧‧時間-數位轉換器 831‧‧‧光電偵測器 840‧‧‧位元線 A-A'‧‧‧第一方向 B-B'‧‧‧第二方向 L‧‧‧距離 TX1‧‧‧第一垂直傳送閘極 TX2‧‧‧第二垂直傳送閘極 TX3‧‧‧第三垂直傳送閘極 TX4‧‧‧第四垂直傳送閘極 TXB1‧‧‧第一摻雜區 TXB2‧‧‧第二摻雜區 TXB3‧‧‧第三摻雜區 TXB4‧‧‧第四摻雜區
以下參考下圖描述本發明之非限制性及非窮盡實例，其中除非另有規定貫穿各種視圖相同參考編號指相同零件。
圖 1 為展示根據本發明之教示的飛行時間攝影機之一個實例之方塊圖。
圖 2A 為根據本發明之教示的實例影像感測器之自上而下說明，其可包括在圖 1 之飛行時間攝影機中。
圖 2B 為根據本發明之教示的沿著線A-A' 切割之圖 2A 之影像感測器的橫截面說明。
圖 3A 展示根據本發明之教示的包括一個源極隨耦器電路之像素電路圖，其可包括圖2A 之影像感測器。
圖 3B 為根據本發明之教示的包括在圖 3A 中之像素電路之讀出週期的時序圖。
圖 3C 為根據本發明之教示的包括在圖 3A 中之像素電路之信號讀出的時序圖。
圖 4A 展示根據本發明之教示的包括兩個源極隨耦器電路的像素電路圖，其可包括圖 2A 之影像感測器。
圖 4B 為根據本發明之教示的包括在圖4A 中之像素電路之信號讀出的時序圖。
圖 5A 展示根據本發明之教示的包括四個源極隨耦器電路之像素電路圖，其可包括圖 2A 之影像感測器。
圖 5B 為根據本發明之教示的包括在圖 5A 中之像素電路之信號讀出的時序圖。
圖 6A 展示根據本發明之教示的包括具有樣本保持電路之四個源極隨耦器電路之像素電路圖，其可包括圖 2A 之影像感測器。
圖 6B 為根據本發明之教示的包括在圖 6A 中之像素電路之信號讀出的時序圖。
圖 7A 根據本發明之教示展示一個可能的像素電路，其可包括圖 2A 之影像感測器。
圖 7B 為根據本發明之教示的包括在圖 7A 中之像素電路之信號讀出的時序圖。
圖 8 為根據本發明之教示展示具有對應讀出電路、控制電路及功能邏輯之實例飛行時間成像系統之部分的方塊圖。
對應參考字符貫穿圖式之數個視圖指示對應組件。熟習此項技術者將瞭解，圖中之元件是為了簡單及清楚而說明，且不一定按比例繪製。舉例而言，圖中之元件中之一些元件的尺寸可相對於其他元件經放大以幫助提高對本發明之各種實施例的理解。此外，為了便於更少地阻礙對本發明之此等各種實施例的觀察，通常沒有描繪在商業上可行之實施例中有用或必要的共同但充分理解之元件。
200‧‧‧實例影像感測器
201‧‧‧半導體材料
202‧‧‧第一側
203‧‧‧光電二極體
208‧‧‧介電層
210‧‧‧金屬觸點
211‧‧‧第一摻雜區
212‧‧‧偏壓
213‧‧‧第二摻雜區
214‧‧‧偏壓
219‧‧‧淺溝槽隔離(STI)結構
220‧‧‧第一接面電容
221‧‧‧第一垂直傳送閘極
222‧‧‧第二接面電容器
223‧‧‧第二垂直傳送閘極
231‧‧‧第一儲存節點
233‧‧‧第二儲存節點
241‧‧‧第一輸出閘極
243‧‧‧第二輸出閘極
251‧‧‧第一浮動擴散
253‧‧‧第二浮動擴散

Claims (16)

  1. 一種影像感測器，其包含：一光電二極體，其安置在一半導體材料中，以回應於該影像感測器被影像光照射而將該影像光轉換成一電信號；一第一摻雜區及一第二摻雜區，其安置在該半導體材料中，在該半導體材料之一第一側與該光電二極體之間；一第一儲存節點及一第二儲存節點，其安置在該半導體材料中，其中該第一摻雜區經定位於該第一儲存節點與該第二摻雜區之間，且其中該第二摻雜區經定位於該第二儲存節點與該第一摻雜區之間；一第一垂直傳送閘極，其耦接在該光電二極體與該第一儲存節點之間以回應於一第一傳送信號將該電信號自該光電二極體傳送至該第一儲存節點；及一第二垂直傳送閘極，其耦接在該光電二極體與該第二儲存節點之間以回應於一第二傳送信號將該電信號自該光電二極體傳送至第二儲存節點。
  2. 如請求項1之影像感測器，其中該第一摻雜區及該第二摻雜區經定位於該第一垂直傳送閘極與該第二垂直傳送閘極之間，且其中該光電二極體自該第一垂直傳送閘極延伸至該第二垂直傳送閘極。
  3. 如請求項1之影像感測器，其進一步包含：一淺溝槽隔離(STI)結構，其安置在該第一摻雜區、該第二摻雜區與 該光電二極體之間，其中該STI結構自該半導體材料之該第一側朝向該光電二極體延伸。
  4. 如請求項3之影像感測器，其中該第一摻雜區被包括在耦接至該光電二極體之一第一部分的一第一接面電容器中，其中該第一接面電容器回應於經加偏壓而具有一第一接面電容。
  5. 如請求項4之影像感測器，其中該第二摻雜區被包括在耦接至該光電二極體之一第二部分的一第二接面電容器中，其中該第二接面電容器回應於經加偏壓而具有一第二接面電容。
  6. 如請求項5之影像感測器，其中該第一接面電容器經加偏壓，而該第二接面電容器未經加偏壓以形成一水平電場，以將來自該光電二極體之信號電子驅動至該第一儲存節點。
  7. 如請求項5之影像感測器，其中該第二接面電容器經加偏壓，而該第一接面電容器未經加偏壓以形成一水平電場，以將來自該光電二極體之信號電子驅動至該第二儲存節點。
  8. 如請求項1之影像感測器，其中該第一垂直傳送閘極、該第二垂直傳送閘極、該第一摻雜區、該第二摻雜區、該第一儲存節點及該第二儲存節點沿著一第一方向側向地定向接近於該半導體材料之該第一側。
  9. 如請求項8之影像感測器，其進一步包含：一第三摻雜區及一第四摻雜區，其安置在該半導體材料中在該半導體材料之該第一側與該光電二極體之間，其中該第三摻雜區及該第四摻雜區沿著一第二方向側向地定位接近於該半導體材料之該第一側，且其中該第二方向基本上平行於該第一方向。
  10. 如請求項9之影像感測器，其進一步包含：一第三儲存節點，其安置在該半導體材料中，其中該第三摻雜區經定位於該第四摻雜區與該第三儲存節點之間；及一第三垂直傳送閘極，其耦接在該光電二極體與該第三儲存節點之間以回應於一第三傳送信號將該電信號自該光電二極體傳送至該第三儲存節點。
  11. 如請求項10之影像感測器，其中該第一摻雜區與該第三摻雜區之間的一第一距離基本上等於該第一垂直傳送閘極與該第三垂直傳送閘極之間的一第二距離。
  12. 如請求項1之影像感測器，其進一步包含：一第一輸出閘極，其耦接在該第一儲存節點與一讀出節點之間，以回應於一第一輸出信號將該電信號傳送至該讀出節點；及一第二輸出閘極，其耦接在該第二儲存節點與該讀出節點之間以回應於一第二輸出信號將該電信號傳送至該讀出節點。
  13. 如請求項12之影像感測器，其中該讀出節點包括一第一讀出節點及一第二讀出節點，其中該第一輸出閘極耦接至該第一儲存節點以將該電信號傳送至該第一讀出節點，其中該第二輸出閘極耦接至該第二儲存節點以將該電信號傳送至該第二讀出節點，且其中該第一讀出節點與該第二讀出節點分離。
  14. 如請求項13之影像感測器，其中該第一讀出節點耦接在該第一輸出閘極與一第一源極隨耦器電路之間，且其中該第二讀出節點耦接在該第二輸出閘極與一第二源極隨耦器電路之間。
  15. 如請求項14之影像感測器，其進一步包含：一第一接面電容，其包括該第一摻雜區；一第二接面電容，其包括該第二摻雜區；一第三接面電容器及一第四接面電容器，其各自耦接至該光電二極體之對應部分；一第三傳送閘極，其耦接在該第三接面電容器與一第三儲存節點之間以回應於一第三傳送信號將該電信號自該光電二極體傳送至該第三儲存節點；一第四傳送閘極，其耦接在該第四接面電容器與一第四儲存節點之間以回應於一第四傳送信號將該電信號自該光電二極體傳送至該第四儲存節點；一第三輸出閘極，其耦接在該第三儲存節點與一第三讀出節點之間以回應於一第三輸出信號將該電信號傳送至該第三讀出節點；及 一第四輸出閘極，其耦接在該第四儲存節點與一第四讀出節點之間以回應於一第四輸出信號將該電信號傳送至該第四讀出節點。
  16. 如請求項15之影像感測器，其中該第三讀出節點耦接在該第三輸出閘極與一第三源極隨耦器電路之間，且其中該第四讀出節點耦接在該第四輸出閘極與一第四源極隨耦器電路之間。
TW108115499A 2018-05-07 2019-05-06 用於飛行時間量測之具有增強光電二極體之影像感測器 TWI714075B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15/972,409 US10684373B2 (en) 2018-05-07 2018-05-07 Image sensor with boosted photodiodes for time of flight measurements
US15/972,409 2018-05-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201947782A TW201947782A (zh) 2019-12-16
TWI714075B true TWI714075B (zh) 2020-12-21

Family

ID=68385012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108115499A TWI714075B (zh) 2018-05-07 2019-05-06 用於飛行時間量測之具有增強光電二極體之影像感測器

Country Status (3)

Country Link
US (2) US10684373B2 (zh)
CN (1) CN110459550B (zh)
TW (1) TWI714075B (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102019101752B4 (de) * 2018-02-05 2020-08-06 pmdtechnologies ag Pixelarray für eine Kamera, Kamera und Lichtlaufzeitkamerasystem mit einer derartigen Kamera
TWI692978B (zh) * 2018-07-10 2020-05-01 廣州印芯半導體技術有限公司 影像感測器及其像素陣列電路
JP7557172B2 (ja) * 2020-03-06 2024-09-27 Ｇｐｉｘｅｌ Ｊａｐａｎ株式会社 固体撮像装置用画素
US11743616B2 (en) 2020-04-27 2023-08-29 Semiconductor Components Industries, Llc Imaging system with time-of-flight sensing
US11742370B2 (en) 2020-05-27 2023-08-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Time-of-flight pixel with vertical photogates
US11258971B2 (en) * 2020-05-28 2022-02-22 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Multi-function transfer gate electrode for a photodetector and methods of operating the same
US11226415B1 (en) * 2020-09-14 2022-01-18 Amazon Technologies, Inc. Camera modules having integrated time of flight sensors
CN114339087B (zh) * 2020-09-30 2024-11-19 思特威(上海)电子科技股份有限公司 Tof图像传感器像素结构及测距系统
CN114695399B (zh) * 2020-12-31 2023-06-09 武汉市聚芯微电子有限责任公司 一种飞行时间像素单元及图像传感器
US11770633B2 (en) * 2021-10-28 2023-09-26 Omnivision Technologies, Inc. Readout architecture for indirect time-of-flight sensing
US11832003B2 (en) * 2022-04-03 2023-11-28 Shenzhen GOODIX Technology Co., Ltd. Binnable time-of-flight pixel

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140225173A1 (en) * 2013-02-08 2014-08-14 Seoung-Hyun Kim Depth pixel included in three-dimensional image sensor, three-dimensional image sensor including the same and method of operating depth pixel included in three-dimensional image sensor
TW201711175A (zh) * 2015-09-10 2017-03-16 義明科技股份有限公司 互補式金氧半導體深度感測器元件

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8089036B2 (en) * 2009-04-30 2012-01-03 Omnivision Technologies, Inc. Image sensor with global shutter and in pixel storage transistor
US8642938B2 (en) 2012-01-13 2014-02-04 Omnivision Technologies, Inc. Shared time of flight pixel
US8686367B2 (en) * 2012-03-01 2014-04-01 Omnivision Technologies, Inc. Circuit configuration and method for time of flight sensor
US10163963B2 (en) * 2017-04-05 2018-12-25 Semiconductor Components Industries, Llc Image sensors with vertically stacked photodiodes and vertical transfer gates
US10971533B2 (en) * 2018-01-29 2021-04-06 Stmicroelectronics (Crolles 2) Sas Vertical transfer gate with charge transfer and charge storage capabilities

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140225173A1 (en) * 2013-02-08 2014-08-14 Seoung-Hyun Kim Depth pixel included in three-dimensional image sensor, three-dimensional image sensor including the same and method of operating depth pixel included in three-dimensional image sensor
TW201711175A (zh) * 2015-09-10 2017-03-16 義明科技股份有限公司 互補式金氧半導體深度感測器元件

Also Published As

Publication number Publication date
CN110459550B (zh) 2023-04-21
US20200264309A1 (en) 2020-08-20
TW201947782A (zh) 2019-12-16
US10972687B2 (en) 2021-04-06
US20190339392A1 (en) 2019-11-07
US10684373B2 (en) 2020-06-16
CN110459550A (zh) 2019-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI714075B (zh) 用於飛行時間量測之具有增強光電二極體之影像感測器
US11495633B2 (en) Complementary metal-oxide-semiconductor image sensors
CN104779317B (zh) 背侧照明式单光子雪崩二极管及包括其的成像传感器系统
CN104733485B (zh) 图像传感器及其制造方法
US11543498B2 (en) Tri-gate charge transfer block structure in time of flight pixel
KR20190037186A (ko) 핀형 포토다이오드 이미지 센서에 대한 후방 측 깊은 트렌치 격리(bdti) 구조물
CN104779259A (zh) 用于互补金属氧化物半导体堆叠式芯片应用的单光子雪崩二极管成像传感器
KR20140020713A (ko) 3ｄ 이미지 센서 구조를 제조하는 시스템 및 방법
CN112992940B (zh) 图像感测装置
CN115996324B (zh) 图像感测装置
KR20210002880A (ko) 픽셀 및 이를 포함하는 이미지 센서
CN109804267B (zh) 一种具有生成钉扎光电二极管的载波的解调器
CN112635500B (zh) 图像感测装置
US12324261B2 (en) Image sensing device
CN210692538U (zh) 具有双电荷存储结构的像素单元、具有双电荷存储结构的图像传感器芯片以及成像系统
US12300707B2 (en) Image sensing device
US12389697B2 (en) Image sensing device with reduced power consumption by constraining the photocurrent
WO2022163259A1 (ja) 受光素子、受光素子の製造方法及び測距システム
CN114979517B (zh) 图像感测装置
CN114765193A (zh) 图像感测装置
US20230268358A1 (en) Image sensor
HK1208285B (zh) 背側照明式單光子雪崩二極管及包括其的成像傳感器系統
HK1208286B (zh) 用於互補金屬氧化物半導體堆叠式芯片應用的單光子雪崩二極管成像傳感器