TWI703241B - 電解研磨用電極框架及包括其的電解研磨裝置 - Google Patents
電解研磨用電極框架及包括其的電解研磨裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI703241B TWI703241B TW107134547A TW107134547A TWI703241B TW I703241 B TWI703241 B TW I703241B TW 107134547 A TW107134547 A TW 107134547A TW 107134547 A TW107134547 A TW 107134547A TW I703241 B TWI703241 B TW I703241B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- electrode
- electrolytic polishing
- frame
- electrolytic
- negative
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 447
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 116
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 10
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 12
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 30
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 23
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 20
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 15
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 10
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 10
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 7
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 6
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 6
- 239000004637 bakelite Substances 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 6
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 6
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 5
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 5
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 4
- 150000002314 glycerols Chemical class 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 208000032544 Cicatrix Diseases 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 231100000241 scar Toxicity 0.000 description 1
- 230000037387 scars Effects 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/16—Polishing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
本發明涉及電解研磨用電極框架及包括其的電解研磨裝置。電解研磨用電極框架作為在內部配備有容納電解研磨物件和電解液的容納空間的電解槽中使用的電極框架，可以包括：電極放置構件，其結合於所述電解研磨物件的至少一個以上的凸出部；及第一負極框架，其以格子結構形成，至少一個以上的一側與所述電極放置構件結合，與電解研磨物件的研磨面隔開既定間隔配置。電極放置構件可以包括與電解研磨物件的凸出部結合的第一面、與第一負極框架結合的第二面。電極放置構件即使不利用放出口，也可以與電解研磨物件的凸出部結合。
Description
涉及電解研磨用電極框架及包括其的電解研磨裝置，涉及一種用於提高電解研磨物件的研磨品質的電解研磨裝置。
一般而言，電解研磨（Electro polishing）是一種將溶解於電解液的金屬製品用作正極（Anode）、將在電解液中不溶性的金屬用作負極（Cathode），通過向所述正極與負極之間施加電壓，在作為電解研磨物件的金屬製品的表面引起電解來研磨金屬製品表面的方法。
為了利用電解研磨來研磨金屬，在電解槽中填充電解液，將要研磨的金屬安裝為正極，將不溶解於電解液的金屬安裝為負極，然後向正極和負極施加直流。
進行電解研磨後，大量含有從正極溶解的金屬離子的高黏度液體層（黏性層）包圍正極。在因金屬離子而飽和的液體層中，金屬不再溶解，形成高正極電位，因而與氧活躍地結合而形成氧化物皮膜。此時，溶解的金屬離子主要累積於金屬表面的凹陷部分，在凹陷部分，金屬離子的移動和擴散小，電性導通不暢，因而金屬不溶解。相反，在金屬表面的凸出部分，金屬離子層形成得薄，因而電流集中，容易使金屬表面溶解，整體而言，金屬表面變得平滑。
電解研磨通過電解研磨裝置實施，以往技術的電解研磨裝置在電解槽內配置具有正極電位的電解研磨物件，使負極板隔開地配置於所述電解研磨物件的研磨面而構成。負極板應根據電解研磨物件的形狀而變更，因而根據電解研磨物件的形狀組裝後，安裝於電解槽內。
如上所述組裝的負極板應以不與電解研磨物件接觸的方式安裝於電解槽內。可是，負極板只有與電解研磨物件接近地保持既定距離並配置，才能實現均一研磨，提高電解研磨品質。
但是在以往技術中，實際上無法將負極板以與電解研磨物件接近地保持既定距離的方式堅固地配置。
另一方面，本件申請的發明人研發了在電解研磨物件上形成的放出口使用負極托架而在使負極板接近電解研磨物件一側的同時均一地固定的發明，並獲專利授權（參照韓國授權專利10-1183218號）。
但是，電解研磨物件由於其形狀多種多樣，因而發生在電解研磨物件上沒有諸如放出口的放置區域的情形。因此，碰到了無法使負極板在接近電解研磨物件的同時均一地安裝的技術問題。
現在，作為原有領域技術，將負極棒垂掛於電解槽，或以負極網形態形成大網後，將其垂掛於電解槽而大致地進行電解研磨，但卻是電解研磨品質或工序效率非常低的狀態。
另外，當電解研磨物件無諸如放出口的放置區域時，根據電解研磨物件的形狀，發生需每次獨立地設置負極板的放置區域的麻煩。因此，設置放置區域直到執行電解研磨所需的時間相當長，發生組裝費用上升的問題。特別是當電解研磨物件的形狀為相當複雜的結構時，發生無法將負極框架設置於電解研磨物件一側的情形。
現在，作為原有領域的技術，負極框架設置不觸及研磨物件構件程度的距離而將負極棒垂掛於電解槽，或以負極網形態形成大網後，將其垂掛於電解槽，大致進行電解研磨，但負極棒或負極網無法與研磨物件構件均一且接近地固定，因而實際上電解研磨品質或工序效率很低。
另一方面，以往技術的負極板借助於於作為另外的支撐構件的夾具而支撐，但負極板與電解研磨物件之間的距離非常接近地配置，因而難以在負極板與電解研磨物件之間的狹小空間安裝夾具。即，由於夾具以導電性材質形成，因此，如果夾具與正極的電解研磨物件接觸，則與具有負極的負極板發生電性短路。
（要解決的技術問題）
在一實施例中，提供一種用於即使在沒有另外的放出口的區域，也將負極框架接近並均一地安裝於電解研磨物件一側的電解研磨用電極框架及包括其的電解研磨裝置。
另外，在又一實施例中，提供一種用於防止因夾具而在負極板與電解研磨物件之間的電性短路的電解研磨裝置。
另外，在一實施例中，提供一種用於在沒有另外的托架的電解研磨物件一側有效設置負極框架的電解研磨裝置。
另外，在又一實施例中，提供一種用於防止因夾具而發生負極板與電解研磨物件之間的電性短路的電解研磨裝置。
（解決問題的手段）
在一實施例中，電解研磨用電極框架作為在內部配備有容納電解研磨物件和電解液的容納空間的電解槽中使用的電極框架，可以包括：電極放置構件，其結合於所述電解研磨物件的至少一個以上的凸出部；及第一負極框架，其以格子結構形成，至少一個以上的格子結構的一側與所述電極放置構件結合，與所述電解研磨物件的研磨面隔開既定間隔配置。
所述電極放置構件可以包括與所述電解研磨物件的凸出部結合的第一面、與所述第一負極框架結合的第二面。
所述電極放置構件即使不利用放出口，也可以與所述電解研磨物件的凸出部結合。
另外，在一實施例中，電解研磨用電極框架作為在內部配備有容納電解研磨物件和電解液的容納空間的電解槽使用的電極框架，可以包括：負極框架，其配置於所述電解研磨物件的研磨面的一側；及電極隔開構件，其結合於所述負極框架，使所述負極框架從所述電解研磨物件的底面隔開。
所述電極隔開構件可以包括接合於所述電解研磨物件的底面並支撐所述負極框架的第一電極隔開構件。
所述第一電極隔開構件即使不利用放出口，也可以支撐所述負極框架。
在一實施例中，電解研磨裝置可以包括所述電極框架。
（發明的效果）
在一實施例中，通過對可以利用在電解研磨物件上形成的凸出部來支撐負極框架的電極放置構件進行配置，從而具有即使在沒有放出口的區域的電解研磨物件上，也可以有效安裝負極框架的效果。
另外，在一實施例中，在對相同的製品進行電解研磨時，可以將已經組裝的負極框架組裝於電極放置構件進行研磨，因而具有可以縮短負極框架安裝及拆卸所需時間及研磨時間的效果。
另外，在一實施例中，具有的效果是，即使電解研磨物件的底部或側壁部中某一者沒有凸出部，也可以在電解研磨物件的全體研磨面容易地安裝負極框架。
另外，在一實施例中，通過在電極放置構件上配置負極框架托架，從而具有可以提高負極框架的結合位置的自由度、有效安裝電極框架的效果。
另外，在一實施例中，夾具還形成絕緣部，從而具有可以在負極框架與電解研磨物件之間的狹小空間可以容易地安裝的效果。
另外，在一實施例中，通過在負極框架一側配置電極隔開構件，使負極框架配置於電解研磨物件上，從而可以將負極框架有效地配置於沒有另外的托架的電解研磨物件的內部或外部，因而可以將負極框架迅速配置於電解研磨物件，可以在提高電解研磨的工序效率的同時接近且均一地配置，電解研磨的品質可以顯著提高。
另外，在一實施例中，逐漸減小地形成電極隔開構件的下部寬度，插入結合於在電解研磨物件的底部形成的槽或孔，從而具有能夠更有效地固定負極框架的效果。
在一實施例中，通過使電極隔開構件配置於電解研磨物件的側壁部上部，從而具有在使負極框架從電解研磨物件的底部隔開的同時可以穩定地支撐負極框架的效果。
另外，在一實施例中，通過使電極隔開構件不與電解研磨物件的底部接觸地配置，從而具有能夠防止因電極隔開構件與電解研磨物件接觸導致的損傷的效果。
另外，在一實施例中，通過利用支架，從而具有可以將負極框架有效安裝於電解研磨物件的內側及外側的效果。
下面參閱圖式，詳細說明實施例。
圖1是顯示第一實施例的電解研磨裝置的分解立體圖，圖2是顯示第一實施例的電解研磨裝置的結合立體圖，圖3是顯示第一實施例的電解研磨裝置的電極框架結合的狀態的結合立體圖，圖4a及圖4b分別是顯示第一實施例的電解研磨裝置的夾具的立體圖，圖5是顯示第一實施例的電解研磨裝置的負極框架的變形例的立體圖。
在實施例中，電極框架可以包括負極框架，但並非限定於此。
如圖1及圖2所示，第一實施例的電解研磨用電極框架作為在內部配備有容納電解研磨物件200和電解液的容納空間的電解槽100中使用的電解研磨用電極框架，可以包括：多個電極放置構件400，其結合於所述電解研磨物件200的至少一個以上的凸出部210；負極框架300，其以格子結構形成，至少一個以上的一側與所述多個電極放置構件400結合，與所述電解研磨物件200的研磨面隔開既定間隔配置。
另外，第一實施例的電解研磨裝置可以包括：電解槽100，其在內部配備有容納在研磨面形成有既定形狀的凸出部210的電解研磨物件200和電解液的容納空間；多個電極放置構件400，其結合於所述電解研磨物件200的至少一個以上的凸出部；負極框架300，其以格子結構形成，至少一個以上的格子結構的一側與所述多個電極放置構件400結合，與所述電解研磨物件200的研磨面隔開既定間隔配置。
在圖1中，圖示了凸出部210在電解研磨物件200的上側形成的示例，但並非限定於此，也可以在電解研磨物件200的側面或下面形成。
電解槽100可以以在內部配備有容納空間的箱形狀形成。電解槽100可以包括圓筒形、多邊箱或環形狀，但其形狀並不限定。
在電解槽100的內部可以填充有電解液。作為電解液，可以將從由蒸餾水（H2
O）、硫酸（H2
SO4
）類、磷酸（H3
PO4
）類、鉻酸類、硝酸鈉（NaNO3
）、氯化鈉（NaCl）、甘油類構成的組中選擇的至少一種物質混合構成，但並不限定於此。
電解液可以在填充於電解槽100的狀態下，在結束電解研磨物件200的電解研磨後更換。不同於此，電解液可以借助於在電解槽100的一側獨立地形成的泵而流入、流出。在電解槽100與泵之間，可以形成有電解液流入管、電解液流出管，可以還包括電解液流量調節部、篩檢程式。篩檢程式可以過濾電解液中包含的加工物渣滓及異物質。
在電解槽100的內部可以容納電解研磨物件200。電解槽100的大小可以大於電解研磨物件200地形成。電解研磨物件200可以為多邊形的板狀，但並不限定於此。電解研磨物件200可以為多邊形或圓筒形的腔室或箱子。電解研磨物件200可以是用於OLED製造的腔室。另一方面，在電解研磨物件200為OLED用腔室或LED用MOCVD腔室等的情況下，也存在其重量為數百kg到數千kg（數噸）的巨大的情形。
另外，電解研磨物件200也可以是OLED腔室的一部分構成部件。電解研磨物件200可以為板、箱形狀或上下貫通形成的環形狀。
電解研磨物件200並不限定於此，可以將所有金屬材質製品指定為電解研磨物件。電解研磨物件200浸於電解液110內。電解研磨物件200的研磨面可以包括電解研磨物件200的所有表面。
在電解槽100的一側可以還配置有整流器。整流器可以向電解研磨物件200接入正極（+）電壓，可以向負極框架300接入負極（-）電壓。整流器借助於電線等而可以向電解研磨物件200接入電。
負極框架300可以配置於電解研磨物件200的研磨面的一側。負極框架300可以與電解研磨物件200的研磨面隔開既定間隔均一地配置。例如，負極框架300與電解研磨物件200按50mm±20mm距離均一地隔開配置，因而電解研磨效率提高，電解研磨品質非常優秀。
負極框架300可以包括格子結構的板形狀。負極框架300也可是導電率及耐酸性卓越的不銹鋼材料，但並不限定於此。負極框架300可以為條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、圓形狀、線網形狀、孔板形狀的板。
負極框架300可以包括第一負極板310和第二負極板330。第一負極板310和第二負極板330可以配置得構成格子結構。第一負極板310可以以條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、圓形狀、線網形狀、孔板金屬形狀形成，但並不限定於此。第一負極板310可以由多個板構成，構成得相互隔開配置。
第二負極板330可以與第一負極板310的形狀相同地形成，但並不限定於此。第二負極板330可以由多個板構成，配置得相互隔開。第一負極板310和第二負極板330可以配置得構成90度，但並不限定於此。
第一負極板310與第二負極板330交叉的區域，可以通過包括鉚釘（Rivet）、螺栓（Bolt）或焊接等的通常的組裝裝置而結合。不同於此，第一負極板310與第二負極板330交叉的區域，也可以借助於C型夾具而固定。
上面對負極框架300具有固定長度的結構進行了說明，但可以使用使負極框架300大小隨著電解研磨物件200增大而可變的可變結構的負極框架300。
如圖5所示，負極框架300可以包括第一負極板310和第二負極板330。第一負極板310和第二負極板330可以配置得構成格子結構。
第一負極板310可以由多個支架構成，可以以其長度能夠變長或減小的方式構成。第二負極板330的結構可以與第一負極板310的結構相同。下面，以第一負極板310的結構為中心進行說明。
第一負極板310可以構成得使多個支架連接。第一負極板310可以一部分重疊地配置，向相互遠離或靠近的方向移動。第一負極板310可以由3個以上支架構成，但出於說明的便利，以第一負極板310由第一支架312和與所述第一支架312連接的第二支架314構成的結構為中心進行說明。
第一支架312可以為L字形狀，但並不限定於此。第一支架312的一部分區域可以與第二支架314的一部分區域重疊形成。第一支架312與第二支架314的重疊的區域可以借助於C型夾具500而支撐，在這種重疊的區域配置的C型夾具500可以稱為第三夾具。
第一支架312與第二支架314可以沿相互遠離或靠近的方向移動。C型夾具500可以以第一支架312與第二支架314可以相互移動的程度的力，支撐第一支架312和第二支架314。不同於此，C型夾具400可以在使第一支架312和第二支架314移動後，進一步施加固定力，支撐第一支架312和第二支架314。
第二負極板330可以與第一負極板310相同地包括第一支架332和第二支架334。第二負極板330可以桿形狀的板形成，但並不限定於此。第二負極板330的第一支架332可以沿從第二支架334遠離或靠近的方向移動。
第二負極板330的第一支架332和第二支架334可以一部分重疊地配置。第二負極板330的第一支架332與第二支架334的重疊的區域，可以借助於C型夾具500而支撐。因此，第二負極板330長度可變。
返回圖1，負極框架300如果與正極的電解研磨物件200接觸，則發生短路。為了防止這種情況，負極框架300應構成得與電解研磨物件200的研磨面隔開。
以往，使負極框架300固定於在電解研磨物件200上形成的放出口，但在本實施例中，當在電解研磨物件200上無放出口時，為了安裝負極框架300而可以配備有電極放置構件400。
電極放置構件400可以包括L字形狀、條（bar）形狀、角形狀、棒形狀，但並不限定於此。
電極放置構件400可以結合於電解研磨物件200的一側。例如，電極放置構件400可以結合於在電解研磨物件200上形成的加強肋（Rib）而形成。電極放置構件400可以配置有多個。通常而言，在電解研磨物件200上，可以形成有諸如加強肋、邊緣等的凸出部210。在本實施例中，提出了利用在電解研磨物件200上形成的凸出部210來安裝負極框架300的結構。
如圖3所示，電極放置構件400可以與電解研磨物件200的研磨面垂直地配置。在電極放置構件400的一側結合有負極框架300，負極框架300可以與電解研磨物件200的研磨面隔開配置。
電極放置構件400可以以導電性物質形成。電極放置構件400可以為耐酸性強的鋼板、鋁或不銹鋼材料。電極放置構件400由於固定於正極的電解研磨物件200的凸出部2100，因而可以帶正極電荷。因此，如果具有負極的負極框架300結合於電極放置構件400的一側，則會在電極放置構件400與負極框架300之間發生電性短路。
為了防止這種情況，在電極放置構件400與負極框架300之間，可以還配置有絕緣構件700。絕緣構件700可以包括PVC、橡膠、聚氨酯橡膠、電木中某一者。絕緣構件700可以大於負極框架300寬度地形成，但並不限定於此。
另一方面，電極放置構件400可以由絕緣物質形成。如果以絕緣物質形成電極放置構件400，則在電極放置構件400與負極框架300之間配置的絕緣構件700可以去除。
電極放置構件400可以包括第一面410和第二面430。電極放置構件400的第二面430可以從電極放置構件400的第一面410折彎既定角度形成。在本實施例中，電極放置構件400的第一面410與電極放置構件400的第二面430構成的角度θ1可以包括90度，但並不限定於此。
電極放置構件400的第一面410可以與電解研磨物件200的凸出部210的一側結合。電極放置構件400的第一面410可以在重疊配置於電解研磨物件的凸出部210的狀態下，借助於C型夾具500而固定。配置於所述第一面410的C型夾具500可以稱為第一夾具，配置於所述第二面430的C型夾具500可以稱為第二夾具。
C型夾具500可以包括相向配置的固定部510。固定部510可以配置於重疊配置的電極放置構件400的一側與凸出部210的另一側，使電極放置構件400穩定地固定於凸出部210。C型夾具500可以以耐酸性優秀的不銹鋼材料形成。不同於此，C型夾具500可以以絕緣部520形成固定部510一側。C型夾具500由於不使負極框架300與電極放置構件400永久地固定，因而如果使用C型夾具500，則使得可以容易地安裝及分離負極框架300與電極放置構件400。即，電極放置構件400的安裝位置會因電解研磨物件200的形狀而異，因而C型夾具500可以容易地變更結合於負極框架300的電極放置構件400的安裝位置。
另一方面，C型夾具500以導電性材質形成，因而安裝於負極框架300與電解研磨物件200之間窄小空間的C型夾具500與電解研磨物件200接觸，在負極框架300與電解研磨物件200之間會發生電性短路。
為了防止這種情況，如圖4a及圖4b所示，在固定負極框架300與電極放置構件400的固定部510的一側，可以還形成有絕緣部520。其中，固定部510可以分別配置於第一主體540和第二主體550的一側。第二主體550可以以C字形狀形成，與第一主體540結合。第一主體540可以結合於第二主體550並上下移動。因此，相向配置於第一主體540與第二主體550的固定部510，可以沿相互靠近方向或遠離方向移動。
絕緣部520可以在固定部510的一側形成，與負極框架300及電極放置構件400接觸。因此，C型夾具500即使與電解研磨物件200的一側接觸，也可以在電解研磨物件200與負極框架300之間防止電性短路。絕緣部520可以包括具有彈性的材質。絕緣部520可以包括PVC、橡膠、聚氨酯橡膠、電木等，但並不限定於此。
另外，C字形狀的第二主體550的一部分可以與電解研磨物件200或負極板的一側接觸。為了防止這種情況，可以在第二主體550的表面還包括絕緣膜550b。第二主體550的內部為了保持剛性而可以由導電性物質550a構成，可以在第二主體550的外側面塗布形成有絕緣膜550b。
另外，在C型夾具500上，為了使相互結合的框架的固定力最大化，還可以形成有凸部530。凸部530具有能夠防止C型夾具500例如從負極框架300打滑、防止C型夾具500從負極框架300脫離的效果。
上面雖然是在C型夾具500的固定部510的一側形成絕緣部520，但可以以絕緣材質形成固定部520，去除絕緣部520。
返回圖3，電極放置構件400的第二面430可以與第一負極板310的一側結合。第一負極板310可以與電極放置構件400垂直地結合。第一負極板310可以與電解研磨物件200的研磨面水準地配置。其中，第一負極板310可以包括第一面312和第二面314。第一負極板310的第二面314可以從第一面312折彎形成。第一負極板310的第一面312與第二面314之間的角度θ2可以為90度，但並不限定於此。電極放置構件410的第二面430可以固定於第一負極板310的第一面312。電極放置構件400的第二面430可以在與第一負極板310的第一面312重疊的狀態下，借助於C型夾具500而固定。
電極放置構件400包括與凸出部210結合的第一面410和與第一負極板310結合的第二面430，從而具有能夠使凸出部210與負極框架300在窄小空間中有效結合的效果。
第一實施例的電解研磨用電極框架及包括其的電解研磨裝置通過利用在電解研磨物件200上形成的凸出部210，從而具有可以將負極框架300有效安裝於沒有放置區域的電解研磨物件200的效果。
請再參閱圖1及圖2，分別提供電解研磨物件200的電解研磨過程，首先，可以利用C型夾具500，將電極放置構件400安裝於在電解研磨物件200一側形成的凸出部210。此時，電極放置構件400可以以能夠均衡地支撐負極框架300的方式安裝於多個凸出部210。
接著，可以在電極放置構件400的一側安裝負極框架300。負極框架300可以在與電極放置構件400的一側結合的狀態下，安裝成格子形狀。不同於此，如果具有針對相同的製品執行電解研磨的經驗，已經是負極框架300組裝成格子形狀的狀態，則可以將格子形狀的負極框架300輕鬆地放置於電極放置構件400的一側。
結束電解研磨物件200的研磨面的電解研磨後，將C型夾具500分離，可以將負極框架300從電極放置構件400去除。接著，如果使電極放置構件400從電解研磨物件200分離，則可以結束電解研磨的所有步驟。
然後，如果對相同的製品進行電解研磨，則按與前面說明順序的倒序進行組裝，負極安裝在短時間結束，具有可以縮短組裝時間及研磨時間的效果。
圖6是顯示第一實施例的變形例的電解研磨裝置的立體圖。
如圖6所示，第一實施例的電解研磨裝置可以包括：電解槽100，其在內部配備有容納形成有既定形狀的凸出部210的電解研磨物件200和電解液的容納空間；多個電極放置構件400，其結合於所述電解研磨物件200的至少一個以上的凸出部210；負極框架300，其以格子結構形成，至少一個以上的格子架構的一側與所述多個電極放置構件400結合，與所述電解研磨物件200的研磨面隔開既定間隔配置。
電解槽100可以以在內部配備有容納空間的箱形狀形成。在電解槽100的內部可以填充有電解液。在電解槽100的內部可以容納電解研磨物件200。
電解研磨物件200可以包括底部200a和側壁部200b。在圖式中雖然圖示了形成有1個側壁部200b的情形，但並不限定於此，可以沿著底部200a的側面而形成有多個側壁部200b。因此，電解研磨物件200可以包括箱形狀。
負極框架300可以包括格子結構的板形狀。負極框架300也可是導電率及耐酸性卓越的不銹鋼材料，但並不限定於此。負極框架300可以是條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、圓形狀、線網、孔板形狀的板。負極框架300可以包括第一負極框架300a和第二負極框架300b。
第一負極框架300a可以對電解研磨物件200的底部進行電解研磨。第一負極框架300a可以與電解研磨物件200的底面隔開配置。第二負極框架300b可以對電解研磨物件200的側壁部進行電解研磨。第二負極框架300b可以與電解研磨物件200的內側面隔開配置。
第一負極框架300a可以包括多個第一負極板310a和多個第二負極板330a。第一負極板310a與第二負極板330a可以配置得構成格子結構。第一負極板310a與第二負極板330a可以配備得構成90度，但並不限定於此。第二負極框架300b的構成與第一負極框架300a的構成相同，因而省略其說明。
負極框架300如果與正極的電解研磨物件200接觸，則發生短路。為了防止這種情況，負極框架300應構成得與電解研磨物件200的研磨面隔開。
以往，使負極框架300固定於在電解研磨物件200上形成的放出口，但在本實施例中，當在電解研磨物件200上無放出口時，為了安裝負極框架300而可以配備有電極放置構件400。
在第二實施例中，電極放置構件400可以只安裝於電解研磨物件200的底部210。當在電解研磨物件200的底部200a和側壁部200b全部形成有凸出部210時，可以在電解研磨物件200的底部200a和側壁部200b均形成電極放置構件400，安裝負極框架300，但在第二實施例中，對只在電解研磨物件200的底部200a形成有凸出部210、在電解研磨物件200的側壁部200b不形成凸出部的情形進行說明。
電極放置構件400的一側可以與電解研磨物件200的凸出部210的一側結合。電極放置構件400可以與電解研磨物件200的凸出部210中配置於邊緣區域的凸出部210的一側結合。
電極放置構件400可以包括第一面410和第二面430。電極放置構件400的第二面430可以從電極放置構件400的第一面410折彎即定角度形成。在本實施例中，電極放置構件400的第一面410與電極放置構件400的第二面430構成的角度θ1可以包括90度，但並不限定於此。
電極放置構件400的另一側可以與第一負極框架300a結合。當電極放置構件400以導電性物質形成時，在電極放置構件400與第一負極框架300之間，為了防止兩者間的電性短路，可以配置有絕緣構件700。電極放置構件400與第一負極框架300a可以利用C型夾具500進行固定。C型夾具500以導電性材質形成，因而可以在C型夾具500與第一負極框架300a之間還配備有絕緣構件700。
上面對以L字形狀形成電極放置構件400的結構進行了說明，但並不限定於此，可以為條（bar）形狀、角形狀、棒形狀、圓形狀的板。
與電解研磨物件200的側壁部200b鄰接的電極放置構件400a，可以以與電解研磨物件200的側壁部200b高度對應的方式長長地形成。與電解研磨物件200的側壁部200b鄰接的電極放置構件400a，可以與電解研磨物件200的側壁部200b的研磨面隔開配置。
第二負極框架300b可以配置於與電解研磨物件200的側壁部200b鄰接的電極放置構件210a之間。第二負極框架300b的一側可以借助於C型夾具500而固定於電極放置構件400a。其中，在電極放置構件400與第二負極框架300b之間、第二負極框架300b與C型夾具500之間，可以還配置有絕緣構件700。因此，第二負極框架300b可以地對電解研磨物件200的側壁研磨面有效地進行電解研磨。
第二實施例的電解研磨用電極框架及包括其的電解研磨裝置具有的效果是，即使在電解研磨物件200的底部200a或側壁部200b中某一者沒有凸出部210，也可以將負極框架300容易地安裝於電解研磨物件200的研磨面。
圖7是顯示第一實施例另一變形例的電解研磨裝置的分解立體圖，圖8是顯示第一實施例另一變形例的電解研磨裝置的結合立體圖。
如圖7及圖8所示，第一實施例變形例的電解研磨裝置可以包括：電解槽100，其在內部配備有容納形成有既定形狀的凸出部210的電解研磨物件200和電解液的容納空間；多個電極放置構件400，其結合於所述電解研磨物件200的至少一個以上的凸出部210；負極框架300，其與所述電極放置構件400的一側結合；負極框架300，其以格子結構形成，至少一個以上格子結構的一側與所述多個負極框架托架600結合，與所述電解研磨物件200的研磨面隔開既定間隔配置。
電解槽100可以以在內部配備有容納空間的箱形狀形成。在電解槽100的內部可以填充有電解液。在電解槽100的內部可以容納電解研磨物件200。
電解研磨物件200可以為多邊形的板狀，但並不限定於此。可以將所有電解研磨物件200的金屬材質製品指定為電解研磨物件。在電解研磨物件200上可以形成有諸如加強肋、邊緣等的凸出部210。
負極框架300可以包括格子結構的板形狀。負極框架300也可是導電率及耐酸性卓越的不銹鋼材料，但並不限定於此。負極框架300可以是條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、圓形狀、線網、孔板形狀的板。
負極框架300可以包括多個第一負極板310和多個第二負極板330。第一負極板310與第二負極板330可以配置得構成格子結構。第一負極板310和第二負極板330可以配置得構成90度，但並不限定於此。
負極框架300如果與正極的電解研磨物件200接觸，則發生短路。為了防止這種情況，負極框架300應構成得與電解研磨物件200的研磨面隔開。
以往，使負極框架300固定於在電解研磨物件200上形成的放出口，但在本實施例中，當電解研磨物件200沒有放出口時，為了安裝負極框架300，可以配備有電極放置構件400及負極框架托架600。
電極放置構件400可以與電解研磨物件200的凸出部210的一側結合。電極放置構件400可以包括第一面和第二面。電極放置構件400的第二面可以從電極放置構件400的第一面410折彎即定角度形成。電極放置構件400的第一面410與電極放置構件400的第二面430構成的角度θ1可以包括90度，但並不限定於此。電極放置構件400可以向上部凸出形成。電極放置構件400可以與凸出部210垂直地配置，但並不限定於此。
上面對以L字形狀形成電極放置構件400的結構進行了說明，但並不限定於此，可以為條（bar）形狀、角形狀、棒形狀、圓形狀的板。
負極框架托架600可以結合於電極放置構件400的一側。負極框架托架600可以以金屬材質形成。當負極框架托架600以金屬材質形成時，在電極放置構件400與負極框架托架600之間，可以還配置有諸如絕緣板的絕緣構件700。絕緣構件700可以配置於電極放置構件400與負極框架托架600之間、負極框架托架600與C型夾具500之間。
負極框架托架600可以以絕緣構件700為介質，與電極放置構件400的第二面430結合，但並不限定於此。負極框架托架600可以以與負極框架300對應的形狀形成。負極框架托架600可以與電極放置構件400垂直地配置，但並不限定於此。
負極框架托架600可以與電解研磨物件200的研磨面保持水準，以便負極框架300能夠與電解研磨物件200的研磨面保持水準。負極框架托架600可以支撐負極框架300的末端。不同於此，負極框架托架600可以支撐負極框架300的某一部分。
負極框架托架600可以以L字形狀形成。負極框架托架600可以構成得包括第一面和第二面。負極框架托架600除L字形狀之外，可以包括條（bar）形狀、角形狀、棒形狀、圓形狀、線網、孔板的板。負極框架托架600可以借助於C型夾具500而與負極框架300固定。負極框架托架600在與負極框架310的一側重疊的狀態下，可以借助於C型夾具而固定。
負極框架托架600以與負極框架300相同的形狀形成，與負極框架300接觸的面積加寬，具有可以進一步提高負極框架托架600與負極框架300的結合力的效果。
另外，如果負極框架托架600與負極框架300的接觸面積加寬，則導電性進一步提高，電解研磨物件200的電解研磨效率變好，具有可以縮短電解研磨工序需要的時間的效果。
負極框架托架600可以與電極放置構件400構成既定角度地配置。負極框架托架600根據負極框架300的形狀，可以與電極放置構件400構成既定角度地配置，使負極框架300有效結合於電極放置構件400。即，電極放置構件400根據電解研磨物件200的凸出部210的結構及位置，會不容易結合負極框架300。此時，如果使負極框架托架600配置於電極放置構件400，則具有可以提高負極框架300的結合位置自由度、有效安裝負極框架300的效果。
在此實施例中，通過對可以利用在電解研磨物件200上形成的凸出部210來支撐負極框架300的電極放置構件400進行配置，從而具有即使在沒有放出口的區域的電解研磨物件200上，也可以有效安裝負極框架300的效果。
另外，在此實施例中，在對相同的製品進行電解研磨時，可以將已經組裝的負極框架300組裝於電極放置構件400進行研磨，因而具有可以縮短負極框架300安裝及拆卸所需時間及研磨時間的效果。
另外，在此實施例中，具有的效果是，即使電解研磨物件200的底部200a或側壁部200b中某一者沒有凸出部210，也可以在電解研磨物件200的全體研磨面容易地安裝負極框架300。
另外，在此實施例中，通過在電極放置構件400上配置負極框架托架600，從而具有可以提高負極框架300的結合位置的自由度、有效安裝電極框架的效果。
然後，圖9是顯示第二實施例的電解研磨裝置的剖面圖，圖10是顯示圖9的電極隔開構件的立體圖，圖11是顯示圖9的電極隔開構件固定於電解研磨物件的狀態的概略立體圖。
圖12至圖14分別是顯示第二實施例的電極隔開構件的多樣結構的立體圖，圖15是顯示圖9的負極框架的變形例的立體圖。
如圖9所示，在此實施例中，電極框架作為在內部配備有容納電解研磨物件和電解液的容納空間的電解槽使用的電極框架，可以包括：負極框架3000，其配置於所述電解研磨物件2000的研磨面的一側；及電極隔開構件4000，其配置於所述負極框架的一側，使所述負極框架從所述電解研磨物件的側面或底面隔開。
另外，第二實施例的電解研磨裝置可以包括：電解槽1000，其在內部配備有容納電解研磨物件2000和電解液1100的容納空間；負極框架3000，其配置於所述電解研磨物件2000的研磨面的一側；電極隔開構件4000，其配置於所述負極框架3000的一側，使所述負極框架3000從所述電解研磨物件2000的底面隔開。
電解槽1000可以以在內部配備有容納空間的箱形狀形成。電解槽1000可以包括圓筒形、多邊箱或環形狀，但其形狀並不限定。
在電解槽1000的內部可以填充有電解液1100。作為電解液1100，可以將從由蒸餾水（H2
O）、硫酸（H2
SO4
）類、磷酸（H3
PO4
）類、鉻酸類、硝酸鈉（NaNO3
）、氯化鈉（NaCl）、甘油類構成的組中選擇的至少一種物質混合構成，但並不限定於此。
電解液1100在填充於電解槽1000的狀態下結束電解研磨物件2000的電解研磨後，可以更換。不同於此，電解液1100可以借助於在電解槽1000的一側獨立地形成的泵而流入、流出。在電解槽1000與泵之間，可以形成有電解液流入管、電解液流出管，可以還包括電解液流量調節部、篩檢程式。篩檢程式可以過濾電解液中包含的加工物渣滓及異物質。
在電解槽1000的內部可以容納電解研磨物件2000。電解槽1000的大小可以大於電解研磨物件2000地形成。電解研磨物件2000可以為多邊形或圓筒形的腔室或箱子。電解研磨物件2000可以是用於OLED製造的腔室。另外，電解研磨物件2000也可以是OLED腔室的一部分構成部件。電解研磨物件2000可以為板、箱形狀或上下貫通形成的環形狀。電解研磨物件2000並不限定於此，可以將所有金屬材質製品指定為電解研磨物件。電解研磨物件2000浸於電解液1100內。
電解研磨物件2000由於其重量相當大，因此，例如可以在利用起重機等吊起的狀態下，容納於電解槽1000的容納空間。例如，在電解研磨物件2000為OLED用腔室或LED用MOCVD腔室等的情況下，也存在其重量為數百kg至數千kg（數噸）的巨大的情形。
電解研磨物件2000的研磨面可以包括電解研磨物件2000的外側、內側、底面等。
在電解槽2000的一側可以還配置有整流器。整流器可以向電解研磨物件接入正極（+）的電壓，可以向負極框架3000接入負極（-）的電壓。整流器可以借助於電線等而與電解研磨物件2000電性連接。
負極框架3000可以配置於電解研磨物件2000的內部及/或外部。負極框架3000可以與電解研磨物件2000的研磨面隔開既定間隔配置。例如，負極框架3000與電解研磨物件2000按50mm±20mm距離均一地隔開配置，因而電解研磨效率提高，電解研磨品質非常優秀。
負極框架3000可以選擇性地研磨作為電解研磨物件2000研磨面的內側、外側或底面，或可以同時研磨所有面。在本實施例中，為了說明的便利，對負極框架3000配置於電解研磨物件2000的內側的結構進行說明。
負極框架3000可以包括格子結構的板形狀。負極框架3000可以為導電率、耐酸性卓越的不銹鋼材料，但並不限定於此。負極框架3000可以為條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、線網、孔板金屬、圓形狀的板。
負極框架3000沿著電解研磨物件2000的研磨面配置，因而當電解研磨物件2000以上部開放的四邊箱形狀形成時，與此對應，多個負極框架3000可以以四邊箱形狀形成。
負極框架3000可以包括第一負極板3100和第二負極板3300。第一負極板3100和第二負極板3300可以配置得構成格子結構。第一負極板3100可以以長桿形狀形成。第一負極板3100可以由多個板構成，構成得上下隔開地配置。
第二負極板3300可以以長桿形狀形成。第二負極板3300可以由多個板構成，左右隔開地配置。第一負極板3100和第二負極板3300可以配置得構成90度，但並不限定於此。
第一負極板3100與第二負極板3300交叉的區域可以借助於螺絲等而鉚合。不同於此，第一負極板3100與第二負極板3300交叉的區域，也可以借助於C型夾具而固定。
上面對負極框架3000具有固定長度的結構進行了說明，但可以使用使負極框架3000大小隨著電解研磨物件2000增大而可變的可變結構的負極框架3000。
如圖15所示，負極框架3000可以包括第一負極板3100和第二負極板3300。第一負極板3100和第二負極板3300可以配置得構成格子結構。
第一負極板3100可以由多個支架構成，可以以其長度能夠變長或減小的方式構成。第二負極板3300的結構可以與第一負極板3100的結構相同。下面，以第一負極板3100的結構為中心進行說明。
第一負極板3100可以構成得使多個支架連接。第一負極板3100可以一部分重疊地配置，向相互遠離或靠近的方向移動。第一負極板3100可以由多個支架構成，出於說明的便利，以第一負極板3100由第一支架3120和與所述第一支架3120連接的第二支架3140構成的結構為中心進行說明。
第一支架3120可以為L字形狀，但並不限定於此。第一支架3120的一部分區域可以與第二支架3140的一部分區域重疊形成。第一支架3120與第二支架3140的重疊的區域可以借助於C型夾具500而支撐。支撐所述第一支架3120與所述第二支架3140的重疊區域的C型夾具500可以稱為第二夾具。
第一支架3120與第二支架3140可以沿相互遠離或靠近的方向移動。C型夾具500可以以第一支架3120與第二支架3140可以相互移動的程度的力，支撐第一支架3120和第二支架3140。不同於此，C型夾具500可以在使第一支架3120和第二支架3140移動後，進一步施加固定力，支撐第一支架3120和第二支架3140。
第二負極板3300可以與第一負極板3100相同地包括第一支架3320和第二支架3340。第二負極板3300可以桿形狀的板形成，但並不限定於此。第二負極板3300的第一支架3320可以沿從第二支架3340遠離或靠近的方向移動。
第二負極板3300的第一支架3320和第二支架3340可以一部分重疊地配置。第二負極板3300的第一支架3320與第二支架3340的重疊的區域，可以借助於C型夾具500而支撐。因此，第二負極板3300長度可變。
請再參閱圖9，負極框架3000如果與正極的電解研磨物件2000接觸，則發生短路。為了防止這種情況，負極框架3000應構成得與電解研磨物件2000的底面及側面隔開。
在本實施例中，可以配備有電極隔開構件4000，以便使負極框架3000從電解研磨物件2000的底面及側面隔開。
電極隔開構件4000可以結合於負極框架3000的一側。電極隔開構件4000可以結合於位於最下方的第一負極板3100的一側。電極隔開構件4000以從第一負極板3100向下部凸出的方式結合於第一負極板3100的一側。因此，電極隔開構件4000可以與電解研磨物件2000的底面接觸。
電極隔開構件4000可以以從第一負極板3100向側面凸出的方式結合於第一負極板3100的一側。因此，電極隔開構件4000可以與電解研磨物件2000的側面接觸。
為了借助於電極隔開構件4000而防止負極框架3000與電解研磨物件2000短路，電極隔開構件4000可以以絕緣材質形成。電極隔開構件4000可以以能夠承受負極框架3000重量且耐酸性強的材質形成。電極隔開構件4000可能包括PVC、橡膠、聚氨酯橡膠、電木中某一者。負極框架3000及電極隔開構件4000可以借助於C型夾具500而結合。結合所述負極框架3000與所述電極隔開構件4000的C型夾具500可以稱為第一夾具。
C型夾具500不使負極框架3000與電極隔開構件4000永久地固定，因而如果使用C型夾具500，則可以容易地進行負極框架3000與電極隔開構件4000的安裝及分離。即，電極隔開構件4000的安裝位置會因電解研磨物件2000的形狀而異，因而C型夾具500可以容易地變更結合於負極框架3000的電極隔開構件4000的安裝位置。C型夾具500可以採用圖4a及圖4b的結構。
電極隔開構件4000可以隔開地配置於在最下方配置的第一負極板3100的一側及另一側。電極隔開構件4000可以保持均衡地進行支撐，以便負極框架3000的重量不偏向一個方向。電極隔開構件4000的安裝個數不限定，可以以3個以上形成。電極隔開構件4000可以在與電解研磨物件2000內側的另一研磨面隔開配置的多個負極框架3000下部形成。
另外，固定於電解研磨物件2000的底部及側面的隔開構件4000如果安裝於負極框架3000的角部，則可以掌握負極框架3000的中心，更堅固地安裝負極框架3000。
電極隔開構件4000可以以L字形狀、條（bar）形狀、角形狀、棒形狀形成，但並不限定於此。下面對電極隔開構件4000的形狀為前面言及的形狀中某一者進行說明。但是，電極隔開構件4000的形狀並不限定於以下說明的形狀。
如圖10所示，電極隔開構件4000可以形成得下部寬度變小。由此，可以使電極隔開構件4000與電解研磨物件2000相接的區域最小化，保持電解研磨物件2000的整體均勻的電解研磨品質。
電極隔開構件4000的長度L可以形成得大於電極隔開構件4000的寬度W。電極隔開構件4000的長度L可以形成得大於第一負極板3100的寬度。因此，電極隔開構件4000可以配置得向第一負極板3100的下部凸出。
作為一個示例，電極隔開構件4000的長度L可以包括8cm至12cm。電極隔開構件4000的寬度W可以包括2cm至7cm。電極隔開構件4000的厚度T可以包括2nm至7nm。電極隔開構件4000的長度L、寬度W及厚度T並不限定於此。
電極隔開構件4000可以包括第一支撐部4100、第二支撐部4300。第一支撐部4100可以以四邊板狀形成，但並不限定於此。第二支撐部4300可以形成得其寬度向下部越來越小。作為一個示例，第二支撐部4300可以以在下部具有頂點的倒三角形形狀形成，但並不限定於此。在電解研磨物件2000的底面，第一支撐部4100的側面中某一者的面或第二支撐部4300的側面中某一者的面可以實現面接觸。
如圖11所示，第二支撐部4300的頂點可以與電解研磨物件2000的底面或側面接觸。電解研磨物件2000可以根據其形狀而在底面形成有槽或孔。電極隔開構件4000的一部分可以插入於在電解研磨物件2000上形成的槽或孔2100。在電解研磨物件2000上形成的槽或孔2100中，電極隔開構件4000的第二支撐部4300的頂點區域可以插入結合。第二支撐部4300下部寬度狹窄地形成，因而第二支撐部4300的一部分可以與槽或孔2100大小無關地插入、結合。因此，當電解研磨物件2000的底部存在槽或孔2100時，具有可以利用槽或孔2100更有效地使負極框架4000固定的效果。
即使在電解研磨物件2000上未形成槽或孔2100，由於隔開構件4000接觸電解研磨物件2000的底面和側面並固定，因而具有負極框架3000可以更堅固地安裝的效果。
前面說明的電極隔開構件4000可以以多樣形狀形成。電極隔開構件400可以如圖12至圖14所示形成。
如圖12所示，電極隔開構件4000可以包括內側支撐構件4500、所述外側支撐構件4600。內側支撐構件4500可以包括具有堅硬強度的混凝土用脹塞或鐵片，但並不限定於此。內側支撐構件4500可以提高電極隔開構件4000的硬度。外側支撐構件4600可以在內側支撐構件4500的表面形成。外側支撐構件4600可以包括絕緣材質的材料。外側支撐構件4600可以包括諸如塑膠的絕緣材料，但並不限定於此。
如圖13所示，電極隔開構件4000可以包括第一支撐部4100、第二支撐部4300。第一支撐部4100可以以四邊板狀形成，但並不限定於此。第二支撐部4300可以形成得其寬度向下部越來越小。
第二支撐部4300可以是下部面寬度小於上部面寬度的梯形形狀。第二支撐部4300的下部面可以與電解研磨物件的底面接觸。第二支撐部4300的下部面與棱角尖銳的電極隔開構件相比，與電解研磨物件2000的接觸面積寬，因而具有可以更有效支撐負極框架3000的效果。當在電解研磨物件2000的底部形成有槽或孔時，第二支撐部4300的一部分可以插入於電解研磨物件2000的槽或孔。
如圖14所示，電極隔開構件4000可以包括第一支撐部4100、第二支撐部4300。第一支撐部4100可以以四邊板狀形成，但並不限定於此。第二支撐部4300可以形成得其寬度向下部越來越小。
第二支撐部4300可以形成得下部具有圓棱角。第二支撐部4300的下部面可以與電解研磨物件2000的底面接觸。第二支撐部4300的下部面具有在與電解研磨物件2000接觸時，可以防止在電解研磨物件出現疤痕的效果。當在電解研磨物件2000的底部形成有槽或孔時，第二支撐部4300的一部分可以插入於電解研磨物件2000的槽或孔。
第二實施例的電極隔開構件4000配置於負極框架3000下部，從而可以將負極框架3000有效配置於沒有另外的托架的電解研磨物件2000。
當電解研磨物件2000為諸如門的板形狀時，在借助於電極隔開構件4000而支撐負極框架3000的狀態下，配置於電解研磨物件2000的上部後，可以執行電解研磨。接著，在去除負極框架3000的狀態下，倒轉配置電解研磨物件2000，可以將負極框架3000重新配置於電解研磨物件的上部。接著，如果對電解研磨物件2000執行電解研磨，則具有可以縮短安裝及電解研磨所需的時間的效果。
上面說明了電極隔開構件4000與電解研磨物件2000的底部接觸的結構，但不同於此，可以以與電解研磨物件2000的側壁部接觸的結構形成電極隔開構件4000，使負極框架3000從電解研磨物件2000的研磨面隔開。
下面請參閱圖16至圖19，分別提供多樣實施例的電解研磨裝置的結構。
圖16是顯示第二實施例的電解研磨裝置的變形例的剖面圖。
如圖16所示，電解研磨裝置可以包括：電解槽1000，其在內部配備有容納電解研磨物件2000和電解液的容納空間；負極框架3000，其配置於所述電解研磨物件2000的研磨面的一側；電極隔開構件4000，其配置於所述負極框架3000的一側，使所述負極框架3000從所述電解研磨物件2000的底面隔開。
電解槽1000可以以在內部配備有容納空間的箱形狀形成。電解槽1000可以包括圓筒形、多邊箱或環形狀，但其形狀並不限定。在電解槽1000的內部可以填充有電解液1100。作為電解液1100，可以將從由蒸餾水（H2
O）、硫酸（H2
SO4
）類、磷酸（H3
PO4
）類、鉻酸類、硝酸鈉（NaNO3
）、氯化鈉（NaCl）、甘油類構成的組中選擇的至少一種物質混合構成，但並不限定於此。
在電解槽1000的內部可以容納電解研磨物件2000。電解研磨物件2000浸於電解液1100內。電解研磨物件2000的研磨面可以包括電解研磨物件的外側、內側、底面等。在電解槽2000的外側還可以配置有整流器。整流器可以向電解研磨物件接入正極（+）的電壓，可以向負極框架3000接入負極（-）的電壓。整流器可以借助於電線等而與電解研磨物件2000電性連接。
負極框架3000可以配置於電解研磨物件2000的內部及外部。負極框架3000可以與電解研磨物件2000的研磨面隔開既定間隔配置。負極框架3000可以選擇性地研磨作為電解研磨物件2000研磨面的內側、外側或底面，或者研磨所有面。在本實施例中，為了說明的便利，對負極框架3000配置於電解研磨物件2000的內側的結構進行說明。
負極框架3000可以包括格子結構的板形狀。負極框架3000可以為導電率卓越的不銹鋼材料，但並不限定於此。負極框架3000可以為條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、線網、孔板金屬、圓形狀的板。
負極框架3000沿著電解研磨物件2000的研磨面配置，因而當電解研磨物件2000以上部開放的四邊箱形狀形成時，與此對應，多個負極框架3000可以以四邊箱形狀形成。
負極框架3000可以包括第一負極板3100和第二負極板3300。第一負極板3100與第二負極板3300以格子結構形成。第一負極板3100可以以長桿形狀形成。第一負極板3100可以由多個板構成，構成得上下隔開地配置。
第二負極板3300可以以長桿形狀形成。第二負極板3300可以由多個板構成，構成得左右隔開配置。第一負極板3100和第二負極板3300可以配置得構成90度，但並不限定於此。
第一負極板3100與第二負極板3300交叉的區域可以借助於螺絲等而鉚合。第一負極板3100與第二負極板3300交叉的區域也可以借助於C型夾具而固定。
負極框架3000如果與電解研磨物件2000接觸，則發生短路。為了防止這種情況，負極框架3000應構成得與電解研磨物件2000的側面及底面隔開。電解研磨物件2000的側面可以調節負極框架3000的第一負極板3100的長度，從電解研磨物件2000隔開配置。
在本實施例中，可以配備有電極隔開構件4000，以便使負極框架3000從電解研磨物件2000的底面隔開。
電極隔開構件4000可以以絕緣材質形成。電極隔開構件4000可以以能夠承受負極框架3000重量且耐酸性強的材質形成。電極隔開構件4000可能包括PVC、橡膠、聚氨酯橡膠、電木中某一者。電極隔開構件4000以絕緣材質形成，從而可能防止負極框架3000與作為正極的電解對象物2000短路。電極隔開構件4000的形狀可能具有寬度向下部越來越窄的形狀，但並不限定於此。
電極隔開構件4000可以結合於負極框架300的一側。電極隔開構件4000可以結合於在最上方配置的第一負極板3100的一側。電極隔開構件4000可以與在最上方配置的第一負極板3100重疊配置。電極隔開構件4000可以借助於C型夾具500而固定於在最上方配置的第一負極板3100。
其中，在最上方配置的第一負極板3100的長度可以形成得長於其他第一負極板3100的長度。在最上方配置的第一負極板3100可以配置於電解研磨物件2000的側壁部的上部。電極隔開構件4000可以與電解研磨物件2000的側壁部上部接觸。電極隔開構件4000可以沿電解研磨物件2000的側壁部的上部面配置多個。
電極隔開構件4000具有在使負極框架3000從電解研磨物件2000的底部隔開的同時可以穩定地支撐負極框架3000的效果。
另外，第二實施例的電極隔開構件4000不與電解研磨物件2000的底部接觸，因而具有可以防止因電極隔開構件4000與電解研磨物件2000接觸導致的損傷的效果。
圖17是顯示第二實施例的電解研磨裝置的另一變形例的剖面圖，圖18是顯示圖17的負極框架結合於支架的狀態的立體圖。
如圖17所示，第二實施例變形例的電解研磨裝置可以包括：電解槽1000，其在內部配備有容納電解研磨物件2000和電解液1100的容納空間；負極框架3000，其配置於所述電解研磨物件2000的研磨面的一側；支架7000，其結合於所述負極框架3000的一側；電極隔開構件4000，其結合於所述支架7000的一側，使所述負極框架3000從所述電解研磨物件的底面隔開。
電解槽1000可以以在內部配備有容納空間的箱形狀形成。電解槽1000可以包括圓筒形、多邊箱或環形狀，但其形狀並不限定。在電解槽1000的內部可以填充有電解液1100。作為電解液1100，可以將從由蒸餾水（H2
O）、硫酸（H2
SO4
）類、磷酸（H3
PO4
）類、鉻酸類、硝酸鈉（NaNO3
）、氯化鈉（NaCl）、甘油類構成的組中選擇的至少一種物質混合構成，但並不限定於此。
在電解槽1000的內部可以容納電解研磨物件2000。電解研磨物件2000浸於電解液1100內。電解研磨物件2000的研磨面可以包括電解研磨物件2000的外側、內側、底面等。在電解槽1000的外側還可以配置有整流器。整流器可以向電解研磨物件接入正極（+）的電壓，可以向負極框架3000接入負極（-）的電壓。整流器可以借助於電線等而與電解研磨物件2000電性連接。
負極框架3000可以配置於電解研磨物件2000的內部及外部。負極框架3000可以與電解研磨物件2000的研磨面隔開既定間隔配置。負極框架3000可以選擇性地研磨作為電解研磨物件2000研磨面的內側、外側或底面，或者研磨所有面。在本實施例中，為了說明的便利，對負極框架3000配置於電解研磨物件2000的內側的結構進行說明。
負極框架3000可以包括格子結構的板形狀。負極框架3000可以為導電率卓越的不銹鋼材料，但並不限定於此。負極框架3000可以為條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、線網、孔板金屬、圓形狀的板。
負極框架3000沿著電解研磨物件200的研磨面配置，因而當電解研磨物件2000以上部開放的四邊箱形狀形成時，與此對應，多個負極框架3000可以以四邊箱形狀形成。
負極框架3000可以包括第一負極板3100和第二負極板3300。第一負極板3100與第二負極板3300以格子結構形成。第一負極板3100可以以長桿形狀形成。第一負極板3100可以由多個板構成，構成得上下隔開地配置。
第二負極板3300可以以長桿形狀形成。第二負極板3300可以由多個板構成，構成得左右隔開配置。第一負極板3100和第二負極板3300可以配置得構成90度，但並不限定於此。
第一負極板3100與第二負極板3300交叉的區域可以借助於螺絲等而鉚合。第一負極板3100與第二負極板3300交叉的區域也可以借助於C型夾具而固定。
負極框架3000如果與電解研磨物件2000接觸，則發生短路。為了防止這種情況，負極框架3000應構成得與電解研磨物件2000的側面及底面隔開。電解研磨物件2000的側面可以調節負極框架3000的第一負極板3100的長度，從電解研磨物件隔開配置。
負極框架3000可以配備有本實施例的電極隔開構件4000，以便從電解研磨物件2000的底面隔開。
電極隔開構件4000可以以絕緣材質形成。電極隔開構件4000可以以能夠承受負極框架3000重量且耐酸性強的材質形成。電極隔開構件4000可能包括PVC、橡膠、聚氨酯橡膠、電木中某一者。電極隔開構件4000以絕緣材質形成，從而可以防止負極框架與作為正極的電解物件物短路。電極隔開構件4000的形狀可能具有寬度向下部越來越窄的形狀，但並不限定於此。
電極隔開構件4000可以配置於電解研磨物件2000的側壁上部。在負極框架3000的一側，為了支撐負極框架3000而可以結合有支架7000。支架7000可以以條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、線網、孔板金屬、圓形狀形成。支架7000可以與第一負極板3100平行地配置。支架7000可以與第二負極板3300的上部一側結合。支架7000可以與第二負極板3300的一部分或全體結合。支架7000可以以配置於電解研磨物件2000側壁上部的方式長長地形成。支架7000可以與電解研磨物件2000的一側連接。支架7000可以以金屬材質形成。支架7000可以是與電解研磨物件2000連接而用於傳遞正極的正極支架。
在支架7000與負極框架3000之間，可以還配置有絕緣板5000。負極框架3000、絕緣板5000及支架7000在重疊的狀態下，可以借助於C型夾具500而堅固固定。如果支架7000不與電解研磨物件2000連接，而是起到作為普通支架的作用，則負極框架3000與支架7000之間的絕緣板5000可以去除。另外，如果支架7000起到作為普通支架的作用，則可以由絕緣材質的材料形成。
第二實施例變形例的電解研磨裝置具有的效果是，可以利用支架，將負極框架有效安裝於電解研磨物件的內側及外側。
圖19是顯示第二實施例的電解研磨裝置另一變形例的剖面圖。電解研磨裝置以負極框架配置於電解研磨裝置外側的結構為中心進行說明。
如圖19所示，第二實施例另一變形例的電解研磨裝置可以包括：電解槽1000，其在內部配備有容納電解研磨物件2000和電解液1100的容納空間；負極框架3000，其配置於所述電解研磨物件2000的研磨面的外側；支架7000，其結合於所述負極框架3000的一側；電極隔開構件4000，其結合於所述支架7000的一側，使所述負極框架3000從所述電解研磨物件的底面隔開。
電解槽1000可以以在內部配備有容納空間的箱形狀形成。電解槽1000可以包括圓筒形、多邊箱或環形狀，但其形狀並不限定。在電解槽1000的內部可以填充有電解液1100。作為電解液1100，可以將從由蒸餾水（H2
O）、硫酸（H2
SO4）類、磷酸（H3
PO4
）類、鉻酸類、硝酸鈉（NaNO3
）、氯化鈉（NaCl）、甘油類構成的組中選擇的至少一種物質混合構成，但並不限定於此。
在電解槽1000的內部可以容納電解研磨物件2000。電解研磨物件2000浸於電解液1100內。電解研磨物件2000的研磨面可以包括電解研磨物件2000的外側、內側、底面等。在電解槽1000的外側還可以配置有整流器。整流器可以向電解研磨物件接入正極（+）的電壓，可以向負極框架3000接入負極（-）的電壓。整流器可以借助於電線等而與電解研磨物件2000電性連接。
負極框架3000可以配置於電解研磨物件2000的外部。負極框架3000可以與電解研磨物件2000外側的研磨面隔開既定間隔配置。
負極框架3000可以包括格子結構的板形狀。負極框架3000可以為導電率卓越的不銹鋼材料，但並不限定於此。負極框架3000可以為條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、線網、孔板金屬、圓形狀的板。
負極框架3000沿著電解研磨物件2000的研磨面配置，因而當電解研磨物件2000以上部開放的四邊箱形狀形成時，與此對應，多個負極框架3000可以以四邊箱形狀形成。
負極框架3000可以包括第一負極板3100和第二負極板3300。第一負極板3100與第二負極板3300以格子結構形成。第一負極板3100可以以長桿形狀形成。第一負極板3100可以由多個板構成，構成得上下隔開地配置。
第二負極板3300可以以長桿形狀形成。第二負極板3300可以由多個板構成，構成得左右隔開配置。第一負極板3100和第二負極板3300可以配置得構成90度，但並不限定於此。
第一負極板3100與第二負極板3300交叉的區域可以借助於螺絲等而鉚合。第一負極板3100與第二負極板3300交叉的區域也可以借助於C型夾具而固定。
電極隔開構件4000可以以絕緣材質形成。電極隔開構件4000可以以能夠承受負極框架3000重量且耐酸性強的材質形成。電極隔開構件4000可能包括PVC、橡膠、聚氨酯橡膠、電木中某一者。電極隔開構件4000以絕緣材質形成，從而可以防止負極框架3000與作為正極的電解物件物2000短路。電極隔開構件4000的形狀可能具有寬度向下部越來越窄的形狀，但並不限定於此。
電極隔開構件4000可以配置於電解研磨物件2000的側壁上部。在負極框架3000的一側，為了支撐負極框架3000而可以結合有支架7000。
支架7000可以包括第一支架7100和第二支架7200。第一支架7100可能支撐在電解研磨物件2000內側配置的負極框架3000。第二支架7200可以與第一支架7100垂直地配置，但並不限定於此。第二支架7200可以以條（bar）形狀、L字形狀、角形狀、棒形狀、線網、孔板金屬、圓形狀形成。
在第二支架7200，可以與配置於最外廓的第二負極板3300的上部一側結合。第二支架7200可以與第二負極板3300的一部分或全體結合。
支架7000可以是與電解研磨物件2000連接而用於傳遞正極的正極支架。此時，在第二支架7200與第二負極板3300之間可以還配置有絕緣板。第二負極板3300、絕緣板及第二支架7200在重疊狀態下，可以借助於C型夾具500堅固地固定。如果支架7000不與電解研磨物件2000連接，而是起到作為普通支架的作用，則第二負極板3300與第二支架7200之間的絕緣板可以去除。另外，如果支架7000起到作為普通支架的作用，則可以由絕緣材質的材料形成。
第二實施例變形例的電解研磨裝置具有的效果是，可以利用支架，將負極框架3000有效安裝於電解研磨物件2000的內側及外側。
經由一實施例通過在負極框架3000一側配置電極隔開構件4000，使負極框架3000配置於電解研磨物件2000上，從而可以將負極框架3000有效配置於沒有另外的托架的電解研磨物件2000的內部或外部，因而可以將負極框架3000迅速配置於電解研磨物件2000，可以在提高電解研磨工序效率的同時，接近而均一地配置，電解研磨品質可以顯著提高。
另外，經由一實施例逐漸減小地形成電極隔開構件4000的下部寬度，插入結合於在電解研磨物件2000的底部形成的槽或孔，從而具有能夠更有效地固定負極框架3000的效果。
經由一實施例通過使電極隔開構件4000配置於電解研磨物件2000的側壁部上部，從而具有在使負極框架3000從電解研磨物件2000的底部隔開的同時可以穩定地支撐負極框架3000的效果。
另外，經由一實施例通過使電極隔開構件4000不與電解研磨物件2000的底部接觸地配置，從而具有能夠防止因電極隔開構件4000與電解研磨物件2000接觸導致的損傷的效果。
另外，經由一實施例通過利用支架7000，從而具有可以將負極框架3000有效安裝於電解研磨物件2000的內側及外側的效果。
100‧‧‧電解槽1000‧‧‧電解槽1100‧‧‧電解液200‧‧‧電解研磨物件200a‧‧‧底部200b‧‧‧側壁部210‧‧‧凸出部2000‧‧‧電解研磨物件2100‧‧‧槽/孔300‧‧‧負極框架300a‧‧‧第一負極框架300b‧‧‧第二負極框架310‧‧‧第一負極板310a‧‧‧第一負極板312‧‧‧第一支架314‧‧‧第二支架330‧‧‧第二負極板330a‧‧‧第二負極板332‧‧‧第一支架334‧‧‧第二支架3000‧‧‧負極框架3100‧‧‧第一負極板3120‧‧‧第一支架3140‧‧‧第二支架3300‧‧‧第二負極板3320‧‧‧第一支架3340‧‧‧第二支架400‧‧‧電極放置構件400a‧‧‧電極放置構件410‧‧‧第一面430‧‧‧第二面4000‧‧‧電極隔開構件4100‧‧‧第一支撐部4300‧‧‧第二支撐部4500‧‧‧內側支撐構件4600‧‧‧外側支撐構件500‧‧‧夾具510‧‧‧固定部520‧‧‧絕緣件530‧‧‧凸部540‧‧‧第一主體550‧‧‧第二主體550a‧‧‧導電性物質550b‧‧‧絕緣膜5000‧‧‧絕緣板600‧‧‧托架700‧‧‧絕緣構件7000‧‧‧支架7100‧‧‧第一支架7200‧‧‧第二支架L‧‧‧長度T‧‧‧厚度W‧‧‧寬度
[圖1]是顯示第一實施例的電解研磨裝置的分解立體圖。 [圖2]是顯示第一實施例的電解研磨裝置的結合立體圖。 [圖3]是顯示第一實施例的電解研磨裝置的電極框架結合的狀態的結合立體圖。 [圖4a]-[圖4b]分別是顯示第一實施例的電解研磨裝置的夾具的立體圖。 [圖5]是顯示第一實施例的電解研磨裝置的負極框架的變形例的立體圖。 [圖6]-[圖8] 分別是顯示第一實施例的電解研磨裝置的變形例的立體圖。 [圖9]是顯示第二實施例的電解研磨裝置的剖面圖。 [圖10]是顯示圖9的電極隔開構件的立體圖。 [圖11]是顯示圖9的電極隔開構件固定於電解研磨物件的狀態的概略立體圖。 [圖12]-[圖14] 分別是顯示第二實施例的電極隔開構件的多樣結構的立體圖。 [圖15]是顯示圖9的負極框架的變形例的立體圖。 [圖16]-[圖17]分別是顯示第二實施例的電解研磨裝置的變形例的剖面圖。 [圖18]是顯示圖17的負極框架結合於支架的狀態的立體圖。 [圖19]是顯示第二實施例的電解研磨裝置另一變形例的剖面圖。
100‧‧‧電解槽
200‧‧‧電解研磨物件
210‧‧‧凸出部
300‧‧‧負極框架
310‧‧‧第一負極板
330‧‧‧第二負極板
400‧‧‧電極放置構件
500‧‧‧夾具
700‧‧‧絕緣構件
Claims (10)
- 一種電解研磨用電極框架，該電極框架在內部配備有一容納電解研磨物件和一電解液的容納空間的電解槽中使用，該電解研磨物件具有至少一個以上的凸出部以及一研磨面，該電極框架包括：一電極放置構件，其用以結合於該電解研磨物件的該凸出部，包括：用以與該電解研磨物件的該凸出部結合的一第一面；及一第二面；其中，該電極放置構件即使不利用一放出口，也用以與該電解研磨物件的該凸出部直接結合；及一第一負極框架，其以複數格子結構形成並與該第二面結合，其中至少一個以上的該格子結構一側與該電極放置構件結合，與該電解研磨物件的該研磨面隔開既定間隔配置；其中，該電極放置構件的該第一面直接結合該電解研磨物件的該凸出部。
- 如請求項1所述的電解研磨用電極框架，其中該第二面與該第一面以一既定角度折彎形成，該第一面借助於該電解研磨物件的該凸出部和一第一夾具而固定，該電極放置構件的該第二面借助於該第一負極框架的一側和該第二夾具而固定。
- 一種電解研磨用電極框架，該電極框架在內部配備有一容納電解研磨物件和一電解液的容納空間的電解槽中使用，包括：一電極放置構件，其結合於該電解研磨物件的至少一個以上的凸出部，包括：與該電解研磨物件的該凸出部結合的一第一面； 與該第一負極框架結合的一第二面；及該電極放置構件即使不利用一放出口，也與該電解研磨物件的該凸出部結合；及一第一負極框架，其以複數格子結構形成，其中至少一個以上的該格子結構一側與該電極放置構件結合，與該電解研磨物件的一研磨面隔開既定間隔配置；其中該電解研磨物件包括形成有一下部凸出部的一底部、從該底部向側面折彎形成的一個以上的側壁部，還包括與該電解研磨物件的該側壁部相向配置的一第二負極框架；該電極放置構件從該電解研磨物件的該底部與側面隔開地延長形成，該第二負極框架固定於該電極放置構件。
- 一種電解研磨用電極框架，該電極框架在內部配備有一容納電解研磨物件和一電解液的容納空間的電解槽中使用，包括：一電極放置構件，其結合於該電解研磨物件的至少一個以上的凸出部，包括：與該電解研磨物件的該凸出部結合的一第一面；與該第一負極框架結合的一第二面；及該電極放置構件即使不利用一放出口，也與該電解研磨物件的該凸出部結合；及一第一負極框架，其以複數格子結構形成，其中至少一個以上的該格子結構一側與該電極放置構件結合，與該電解研磨物件的一研磨面隔開既定間隔配置； 其中在該電極放置構件，還配置有用於放置該第一負極框架的一負極框架托架，該負極框架托架與該電極放置構件的該第二面結合，該第一負極框架與該負極框架托架重疊固定。
- 一種電解研磨用電極框架，該電極框架在內部配備有一容納電解研磨物件和一電解液的容納空間的電解槽中使用，包括：一電極放置構件，其結合於該電解研磨物件的至少一個以上的凸出部，包括：與該電解研磨物件的該凸出部結合的一第一面；與該第一負極框架結合的一第二面；及該電極放置構件即使不利用一放出口，也與該電解研磨物件的該凸出部結合；及一第一負極框架，其以複數格子結構形成，其中至少一個以上的該格子結構一側與該電極放置構件結合，與該電解研磨物件的一研磨面隔開既定間隔配置；其中該第一負極框架包括沿一第一方向配置並由多個支架構成的一第一負極板、沿與該第一方向構成一既定角度的一第二方向配置並由多個支架構成的一第二負極板，該第一負極板包括一第一支架和一第二支架，該第一支架在一部分重疊於該第二支架的狀態下，沿從該第二支架遠離或靠近的方向移動。
- 一種電極框架，該電極框架用於在內部配備有一容納電解研磨物件和一電解液的容納空間的電解槽，該電解研磨物件具有一研磨面、一底面以及一側面，該電極框架包括：一負極框架，其用以配置於該電解研磨物件的該研磨面的一側；及 一電極隔開構件，其結合於該負極框架，使該負極框架從該電解研磨物件的該底面隔開，該電極隔開構件包括用以接合於該電解研磨物件的該底面並支撐該負極框架的一第一電極隔開構件以及用以接合於該電解研磨物件的該側面的一第二電極隔開構件，該第一電極隔開構件即使不利用一放出口也用以支撐該負極框架；其中，該第一電極隔開構件用以直接接觸該電解研磨物件的該底面。
- 一種電極框架，該電極框架用於在內部配備有一容納電解研磨物件和一電解液的容納空間的電解槽，包括：一負極框架，其配置於該電解研磨物件的研磨面的一側；及一電極隔開構件，其結合於該負極框架，使該負極框架從該電解研磨物件的一底面隔開，該電極隔開構件包括接合於該電解研磨物件的該底面並支撐該負極框架的一第一電極隔開構件，該第一電極隔開構件即使不利用一放出口也支撐該負極框架；其中在該電解研磨物件的該底面形成有一槽或一孔，該電極隔開構件還包括供下部一部分插入結合於該槽或孔的一第二電極隔開構件，該第二電極隔開構件的下部一部分的寬度逐漸減小。
- 如請求項6所述的電極框架，其中該電極隔開構件包括一不銹鋼材料，在該電極隔開構件的表面塗布有一絕緣物質，該電極隔開構件與該負極框架重疊配置，借助於一第一夾具而固定，該電解研磨物件包括一側壁部，該電極隔開構件配置於該電解研磨物件的該側壁部的上部。
- 如請求項6所述的電極框架，其中在該負極框架的上部還結合有一支架，在該支架的一側結合有該電極隔開構件，該電解研磨物件包括一側壁部，該電極隔開構件配置結合於該電解研磨物件的該側壁部的上部。
- 一種包括請求項1至9中任意一項的電極框架的電解研磨裝置。
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170125739A KR101848264B1 (ko) | 2017-09-28 | 2017-09-28 | 전극 이격부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치 |
| ??10-2017-0125737 | 2017-09-28 | ||
| KR10-2017-0125737 | 2017-09-28 | ||
| ??10-2017-0125739 | 2017-09-28 | ||
| KR10-2017-0125739 | 2017-09-28 | ||
| KR1020170125737A KR101848251B1 (ko) | 2017-09-28 | 2017-09-28 | 전극 거치부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201915226A TW201915226A (zh) | 2019-04-16 |
| TWI703241B true TWI703241B (zh) | 2020-09-01 |
Family
ID=65902612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW107134547A TWI703241B (zh) | 2017-09-28 | 2018-09-28 | 電解研磨用電極框架及包括其的電解研磨裝置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111699285B (zh) |
| TW (1) | TWI703241B (zh) |
| WO (1) | WO2019066584A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019066566A1 (ko) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | 주식회사 어썸리드 | 전해연마용 전극 프레임, 전해 연마용 가변형 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치 |
| CN120738742B (zh) * | 2025-09-04 | 2025-11-07 | 星奇(上海)半导体有限公司 | 一种电解抛光卡具和电解抛光挂具 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101769924B1 (ko) * | 2017-04-24 | 2017-08-21 | 황재상 | 전해연마장치 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR950030405U (ko) * | 1994-04-04 | 1995-11-20 | 추교영 | 알루미늄 표면처리용 클램프 |
| SE519898C2 (sv) * | 2001-09-10 | 2003-04-22 | Obducat Ab | Sätt att etsa koppar på kort samt anordning och elektrolyt för utförande av sättet |
| TW200724732A (en) * | 2005-12-19 | 2007-07-01 | Univ Yuan Ze | Method and apparatus of a mini-complex processing combined of electrochemistry process and electrolytic polish |
| KR200430129Y1 (ko) * | 2006-08-04 | 2006-11-02 | 장관섭 | 대형 아노다이징용 지그 |
| KR20080021362A (ko) * | 2006-09-04 | 2008-03-07 | (주) 미래이피 | 파이프 내면의 전해연마 장치 및 방법 |
| KR101183218B1 (ko) * | 2011-08-30 | 2012-09-14 | (주)한국마루이 | 전해연마 장치 |
| JP6231879B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2017-11-15 | マルイ鍍金工業株式会社 | 部分研磨治具 |
| CN104928649B (zh) * | 2015-04-20 | 2017-12-05 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 局域供碳装置及局域供碳制备晶圆级石墨烯单晶的方法 |
-
2018
- 2018-09-28 TW TW107134547A patent/TWI703241B/zh active
- 2018-09-28 CN CN201880063247.4A patent/CN111699285B/zh active Active
- 2018-09-28 WO PCT/KR2018/011576 patent/WO2019066584A1/ko not_active Ceased
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101769924B1 (ko) * | 2017-04-24 | 2017-08-21 | 황재상 | 전해연마장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN111699285B (zh) | 2023-01-06 |
| CN111699285A (zh) | 2020-09-22 |
| TW201915226A (zh) | 2019-04-16 |
| WO2019066584A1 (ko) | 2019-04-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN108723528B (zh) | 电解研磨装置 | |
| KR101183218B1 (ko) | 전해연마 장치 | |
| TWI703241B (zh) | 電解研磨用電極框架及包括其的電解研磨裝置 | |
| CN107750284B (zh) | 电极组件、电极结构以及电解器 | |
| KR20030079788A (ko) | 이온 교환막 전해조 | |
| CN104254644A (zh) | 离子交换膜电解槽 | |
| JP2019065339A5 (zh) | ||
| US7363110B2 (en) | Gasket with curved configuration at peripheral edge | |
| JP2013142169A (ja) | 電気めっき用保持具およびこの保持具を用いた電気めっき装置 | |
| KR101848251B1 (ko) | 전극 거치부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치 | |
| KR102226831B1 (ko) | 전극 이격부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치 | |
| KR102205852B1 (ko) | 전극 거치부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치 | |
| KR101848266B1 (ko) | 전해연마용 가변형 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치 | |
| JP2022536258A (ja) | 電気化学的プロセス用の電極アセンブリ | |
| KR102025064B1 (ko) | 동축 전해 셀들을 위한 전극 지지 구조체 | |
| CN205954138U (zh) | 电镀导电结构及电镀装置 | |
| WO2017000408A1 (zh) | 电解系统及其阳极装置 | |
| TWI687557B (zh) | 電解研磨用電極框架、電解研磨用可變型電極框架及包括其的電解研磨裝置 | |
| CN205011851U (zh) | 电化学法制备直径周期调制微丝的反应容器 | |
| KR20190037064A (ko) | 전극 결합부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 | |
| CN210052778U (zh) | 一种锂离子单体电池固定装置 | |
| JP2020501025A5 (zh) | ||
| CN105088285B (zh) | 电化学法制备直径周期调制微丝的反应容器 | |
| CN215925131U (zh) | 用于镀膜机的钛蓝、钛蓝组件及镀膜机 | |
| JP2000144467A (ja) | 電解槽 |