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TWI795098B - 具有改善的折疊後回復力的光學膜以及包括其之顯示元件 - Google Patents

具有改善的折疊後回復力的光學膜以及包括其之顯示元件 Download PDF

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TWI795098B
TWI795098B TW110144189A TW110144189A TWI795098B TW I795098 B TWI795098 B TW I795098B TW 110144189 A TW110144189 A TW 110144189A TW 110144189 A TW110144189 A TW 110144189A TW I795098 B TWI795098 B TW I795098B
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南韓商可隆股份有限公司
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Abstract

本發明揭露了一種包括透光基質及緩衝層的光學膜以及 包括其的顯示元件，其中所述光學膜具有40毫米至100毫米的最大回復長度。

Description

具有改善的折疊後回復力的光學膜以及包括其 之顯示元件
本揭露是有關於一種具有優異抗衝擊性及改善的折疊後回復力的光學膜以及包括其之顯示元件。
最近，為減小厚度及重量並增加顯示元件的柔性，已經考慮使用光學膜代替玻璃作為顯示元件的覆蓋窗。為使光學膜可用作顯示元件的覆蓋窗，光學膜需要具有卓越的光學性質及優異的機械性質。
因此，需要開發具有優異的光學性質以及卓越的機械性質(例如，不溶性、耐化學性、耐熱性、耐輻射性及低溫特性)的膜。需要開發一種具有優異的衝擊性質並且在折疊後不會留下折疊痕跡(標記)的光學膜。
作為光學膜的典型材料，聚醯亞胺系樹脂具有卓越的不溶性、耐化學性、耐熱性、耐輻射性、低溫特性、可彎曲性、抗衝 擊性等，且因此被用作汽車材料、航空材料、航天器材料、絕緣塗層、絕緣膜、保護膜等。
因此，鑑於上述問題而做出了本揭露，並且本揭露的一個目的是提供一種光學膜，所述光學膜包括新穎的緩衝層並且因此表現出減少的折疊痕跡及改善的抗衝擊性。
本揭露的另一目的是提供一種包括光學膜的顯示元件，所述光學膜表現出減少的折疊痕跡及改善的抗衝擊性。
根據本揭露，上述及其他目的可藉由提供包括透光基質及緩衝層的光學膜來實現，所述光學膜具有40毫米至100毫米的最大回復長度。
當將自所述光學膜獲得的寬度為50毫米且長度為100毫米的量測樣品在垂直方向上纏繞在直徑為10毫米的圓柱體上、將所述樣品固定在所述圓柱體上、使所述樣品在60℃/90相對濕度%下靜置24小時、自所述圓柱體取下所述樣品、並使所述樣品在60℃/90相對濕度%下的平坦表面上靜置24小時時，若自所述平坦表面沿所述垂直方向觀察時所述樣品具有圓形形狀，其一端接觸另一端，則所述最大回復長度被定義為所述圓形的直徑，而若所述樣品具有弧形形狀，其一端不接觸另一端，則所述最大回復長度被 定義為所述弧形的最大直徑。
所述緩衝層可包含胺基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂(urethane acrylate resin)。
所述緩衝層可包含胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂。
所述胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂可包含：由下式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物；由下式2表示的烷氧基矽烷化合物；以及由下式3表示的二醇化合物：
Figure 110144189-A0305-02-0004-2
其中R1為衍生自C1至C8脂族或芳族烴的官能基，R2及R3各自獨立地為C1至C6直鏈、支鏈或脂環族伸烷基，R4為丙烯酸酯基或甲基丙烯酸酯基，且n是1至3的整數，[式2]R5 mSi(OR6)4-m
其中R5及R6各自獨立地為衍生自C1至C8脂族或芳族烴的官能基，並且m是0至3的整數，[式3]HO-R7-OH
其中R7為衍生自C1至C6脂族或芳族烴的官能基。
R4可為包括羥基(-OH)的丙烯酸酯基。
R4可為衍生自丙烯酸2-羥乙酯(2-hydroxyethyl acrylate，2-HEA)及丙烯酸4-羥丁酯(4-hydroxybutyl acrylate，4-HBA)中的一者的丙烯酸酯基。
所述烷氧基矽烷化合物可包括四烷氧基矽烷。
所述二醇化合物可包括乙二醇。
所述緩衝層可具有10微米至150微米的厚度。
所述透光基質可具有10微米至100微米的厚度。
所述光學膜可具有3,600至4,700百萬帕(MPa)的彈性模數。
基於12毫牛頓(mN)，所述光學膜可具有60%至100%的回復率(nIT)。
所述光學膜可更包括硬塗層。
所述硬塗層可具有0.1微米至10微米的厚度。
根據本揭露的另一態樣，提供一種顯示元件，所述顯示元件包括：顯示面板；以及設置於所述顯示面板上的光學膜。
本揭露的實施例提供一種包括緩衝層的光學膜，藉此在折疊後不留下折疊痕跡，即使保留折疊痕跡亦能快速去除折疊痕跡，並且表現出優異的抗衝擊性。
此外，本揭露的實施例提供一種上面無折疊痕跡的光學膜。
本揭露的另一實施例可提供一種包括具有減少的折疊痕跡的光學膜的顯示元件。
100:光學膜
110:透光基質
120:緩衝層
130:硬塗層
200:顯示元件
501:顯示面板
510:基板
520:半導體層
530:閘極電極
535:閘極絕緣層
541:源極電極
542:汲極電極
551:層間絕緣層
552:平坦化層
570:有機發光元件
571:第一電極
572:有機發光層
573:第二電極
580:堤層
590:薄膜包封層
P:部分
TFT:薄膜電晶體
藉由結合附圖閱讀以下詳細說明，將更清楚地理解本揭露的上述及其他目的、特徵及其他優點，在附圖中：圖1為示出根據本揭露實施例的光學膜的剖視圖。
圖2為示出根據本揭露另一實施例的光學膜的剖視圖。
圖3為示出量測最大回復長度的方法的流程圖。
圖4為示出根據本揭露另一實施例的光學膜的剖視圖，所述光學膜更包括硬塗層。
圖5為示出根據本揭露另一實施例的光學膜的剖視圖，所述光學膜更包括硬塗層。
圖6為示出根據本揭露另一實施例的光學膜的剖視圖，所述光學膜更包括硬塗層。
圖7為根據本揭露又一實施例的顯示元件的一部分的剖視圖。
圖8為示出圖7的部分「P」的放大剖視圖。
在下文中，將參照附圖詳細地闡述本揭露的實施例。然而，說明性地提供以下實施例僅是為清楚地理解本揭露，且並不限制 本揭露的範圍。
在附圖中揭露的用於闡述本揭露的實施例的形狀、大小、比率、角度及數目僅為實例，且本揭露不限於所示細節。在本說明書通篇中，相同的參考編號指代相同的部件。在以下說明中，當確定對相關眾所習知功能或配置的詳細說明不必要地使本揭露的要點模糊不清時，將省略所述詳細說明。
在本說明書中使用例如「包括」、「具有」或「包含」等用語的情況下，亦可存在另一部分，除非使用表述「僅」。單數形式的用語可包括複數含義，除非另有相反表述。此外，在解釋部件時，即使不存在對其的明確說明，所述部件亦應被解釋為包括誤差範圍。
在位置關係的闡述中，舉例而言，當位置關係被闡述為「在...上」、「上方」、「下方」或「靠近」時，可包括其間並無接觸的情況，除非使用「恰好(just)」或「直接」。
例如「下方」、「之下」、「下部」、「上方」及「上部」等空間相對用語在本文中可用於闡述如圖中所示的元件或部件與另一元件或另一部件的關係。應理解，除圖中繪示的定向之外，空間相對用語還旨在包括在元件的使用或操作期間元件的不同定向。舉例而言，若其中一個圖中的元件上下顛倒，則被闡述為在其他部件「下方」或在其他部件「之下」的元件此時將被定位成位於其他部件「上方」。因此，示例性用語「下方」或「之下」可涵蓋「下方」及「上方」兩種含義。同樣地，示例性用語「上方」或「上部」可 涵蓋「上方」及「下方」兩種含義。
在闡述時間關係時，舉例而言，當使用「之後」、「隨後」、「接下來」或「之前」闡述時間順序時，除非使用「恰好」或「直接」，否則可包括非連續關係的情況。
應理解，儘管在本文中可能使用用語「第一」、「第二」等來闡述各種部件，但該些部件不應受該些用語限制。該些用語僅用於區分一個部件與另一部件。因此，在本揭露的技術思想內，第一部件可被稱為第二部件。
應理解，用語「至少一者」包括與任一項目相關的所有組合。舉例而言，「第一部件、第二部件及第三部件中的至少一者」可包括自第一部件、第二部件及第三部件中選擇的二或更多個部件、以及第一部件、第二部件及第三部件中的每一部件的所有組合。
如熟習此項技術者將容易理解，本揭露的各種實施例的特徵可部分地或完全地彼此耦合或組合，並且可以不同方式彼此相互操作及在技術上驅動。本揭露的實施例可彼此獨立地實行，或者可以相互關聯的方式一起實行。
圖1為示出根據本揭露實施例的光學膜的剖視圖，且圖2為示出根據本揭露另一實施例的光學膜的剖視圖。
本揭露的一個實施例提供一種光學膜。根據本揭露實施例的光學膜包括透光基質110及緩衝層120。如圖1所示，在本揭露的光學膜中，緩衝層120可形成於透光基質110的下表面上。 然而，本揭露並非僅限於此，且如圖2所示，在本揭露的光學膜中，緩衝層120可形成於透光基質110的上表面上。作為另一選擇，儘管圖中未示出，但緩衝層120可設置於透光基質110的上表面及下表面兩者上。緩衝層120可根據需要設置於任何位置處，並且另一層可形成於透光基質110與緩衝層120之間。然而，當緩衝層120形成於透光基質110的上表面上時，緩衝層120的硬度為低，並且光學膜的耐久性及耐刮擦性可能降低。因此，較佳的是使緩衝層120形成於透光基質110的下表面上。
根據本揭露實施例的透光基質110可為能夠透光的任何類型的材料。舉例而言，透光基質110可包括玻璃或聚合物樹脂。具體而言，聚合物樹脂由於其優異的彎曲性質及抗衝擊性而適合用作可撓式顯示元件的覆蓋窗。
聚合物樹脂可以各種形狀及形式(例如，固體粉末形式、溶解在溶液中的形式、溶解在溶液中後固化的基質形式等)包含在膜中。含有與本揭露的樹脂相同的重複單元的任何樹脂可被認為與本揭露的聚合物樹脂相同，而無論其形狀及形式如何。通常，膜中的聚合物樹脂可作為藉由施加聚合物樹脂溶液、然後進行乾燥而獲得的固化的基質存在。
根據本揭露實施例的聚合物樹脂可為任何透光樹脂。舉例而言，聚合物樹脂可包括選自環烯烴衍生物、纖維素聚合物、乙烯乙酸乙烯酯共聚物、聚酯聚合物、聚苯乙烯聚合物、聚醯胺聚合物、聚醯胺醯亞胺聚合物、聚醚醯亞胺聚合物、聚丙烯酸聚合物、 聚醯亞胺聚合物、聚醚碸聚合物、聚碸聚合物、聚乙烯聚合物、聚丙烯聚合物、聚甲基戊烯聚合物、聚氯乙烯聚合物、聚偏二氯乙烯聚合物、聚乙烯醇聚合物、聚乙烯醇縮醛聚合物、聚醚酮聚合物、聚醚醚酮聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯聚合物、聚對苯二甲酸乙二醇酯聚合物、聚對苯二甲酸丁二醇酯聚合物、聚萘二甲酸乙二醇酯聚合物、聚碳酸酯聚合物、聚胺基甲酸乙酯聚合物及環氧聚合物中的至少一者。較佳地，根據本揭露實施例的聚合物樹脂可包括聚醯亞胺聚合物、聚醯胺聚合物及聚醯胺-醯亞胺聚合物中的至少一者。
根據本揭露的實施例，透光基質110可為聚醯亞胺基質、聚醯胺基質及聚醯胺醯亞胺基質中的任一者。然而，本揭露的實施例並非僅限於此，並且可使用任何基質作為透光基質110，只要其為透光的即可。
根據本揭露的實施例，光學膜可具有40毫米至100毫米的最大回復長度(最大回復長度)
當將自光學膜獲得的寬度為50毫米且長度為100毫米的量測樣品在垂直方向上纏繞在直徑為10毫米的圓柱體上、將所述樣品固定在所述圓柱體上、使所述樣品在60℃/90相對濕度%下靜置24小時、自所述圓柱體取下所述樣品、並使所述樣品在60℃/90相對濕度%下的平坦表面上靜置24小時時，若自所述平坦表面沿所述垂直方向觀察時所述樣品具有圓形形狀，其一端接觸另一端，則最大回復長度被定義為所述圓形的直徑，而若所述樣品具有弧形形狀，其一端不接觸另一端，則最大回復長度被定義為所述弧形 的最大直徑。
在下文中，將參照附圖更詳細地描述本揭露的最大回復長度。
圖3為示出量測最大回復長度的方法的流程圖。
在圖3中，(a)示出圓柱體，(b)示出將量測樣品纏繞並固定在圓柱體上，(c)示出自圓柱體取下量測樣品並允許其在平坦表面上靜置，且(d)及(e)示出對量測樣品的最大直徑進行量測。
如圖3所示，在60℃/90相對濕度%下將樣品固定在圓柱體上24小時、將其自圓柱體取下、並允許其在平坦表面上靜置後，量測樣品趨向於恢復其原始狀態。然而，由於光學膜的彈性及柔性不足，因此量測樣品無法回復並且被纏繞成圓形形狀，並且具有優異彈性及柔性的光學膜的量測樣品呈寬弧形形狀。此處，「圓形形狀」是指量測樣品的一端在預定部分處接觸其另一端，且「弧形形狀」是指一端與另一端不相互接觸。當量測樣品呈圓形形狀時，取圓形的最大直徑作為「最大回復長度」，而當量測樣品呈弧形形狀時，取對應弧形上兩個不同點之間沿直線的最大距離作為「最大回復長度」。
根據本揭露的實施例，當光學膜的最大回復長度小於40毫米時，折疊後光學膜的回復率低，並且難以將光學膜用作可撓式顯示元件的覆蓋窗。此外，會留下折疊痕跡，並因此降低可見度。
根據本揭露的實施例，光學膜包括緩衝層120，以便使光學膜具有40毫米至100毫米的最大回復長度。緩衝層120可形成 於透光基質110的兩個表面中的至少一者上。緩衝層120可在透光基質110的上表面方向上形成，可在其下表面方向上形成，或者可在上表面方向及下表面方向兩者上形成。為改善耐久性及耐刮擦性，較佳的是使緩衝層120形成於下表面方向上。緩衝層120可與透光基質110直接接觸，或者另一層可設置於緩衝層120與透光基質110之間。
根據本揭露的實施例，緩衝層120可包含胺基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂。
根據本揭露的實施例，較佳地，緩衝層120可包含胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂。
在本揭露的實施例中，胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂可包含：由下式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物；由下式2表示的烷氧基矽烷化合物；以及由下式3表示的二醇化合物：
Figure 110144189-A0305-02-0012-3
其中R1為衍生自C1至C8脂族或芳族烴的官能基，R2及R3各自獨立地為C1至C6直鏈、支鏈或脂環族伸烷基，R4為丙烯酸 酯基或甲基丙烯酸酯基，且n是1至3的整數，[式2]R5 mSi(OR6)4-m
其中R5及R6各自獨立地為衍生自C1至C8脂族或芳族烴的官能基，並且m是0至3的整數，[式3]HO-R7-OH
其中R7為衍生自C1至C6脂族或芳族烴的官能基。
由於根據本揭露的緩衝層120包含由含有由式1至式3表示的化合物的組成物製備的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂，因此包括緩衝層120的光學膜可被賦予40毫米至100毫米的最大回復長度。
更具體而言，由於根據本揭露的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂包含由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物，因此當顯示元件被折疊時，緩衝層120可用於抵消施加至設置於光學膜下部中的內基板的張力或壓縮力，藉此減少在折疊期間產生的折疊痕跡。
由於根據本揭露的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂包含由式2表示的烷氧基矽烷化合物，因此緩衝層120可被賦予適當的硬度，且因此可使由外力引起的光學膜的形變最小化。
由於根據本揭露的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂包含由式3表示的二醇化合物，因此緩衝層120的柔性可最大化， 可賦予緩衝層120彈性，並且當透光基質110塗佈有緩衝層120時塗層表面的光滑度可提高。因此，當光學膜被折疊時，可防止緩衝層120自透光基質110剝離，且因此可提高光學膜的折疊可靠性。
根據本揭露的實施例，用於形成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的組成物以9：1至5：5的莫耳比含有由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物與由式2表示的烷氧基矽烷化合物。較佳地，用於形成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的組成物可以8：2至6：4的莫耳比含有由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物與由式2表示的烷氧基矽烷化合物。
當由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物對由式2表示的烷氧基矽烷化合物的莫耳比高於9：1時，換言之，當由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物的莫耳量高於由9：1的莫耳比表示的量時，例如當莫耳比是10：0時(即當組成物僅含有由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物時)，存在的問題在於：由於緩衝層120的硬度大大降低，形成了軟而不硬的緩衝層120，並且在外部衝擊之後的回復可能劣化。此外，當組成物僅含有由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物，而不含有由式2表示的烷氧基矽烷化合物時，存在聚合反應被顯著抑制的問題。
另一方面，當由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物對由式2表示的烷氧基矽烷化合物的莫耳比大於5：5時， 亦即當由式2表示的烷氧基矽烷化合物的莫耳量大於由5：5的莫耳比表示的量時，存在的問題在於：緩衝層120的柔性降低，當緩衝層120用作膜的塗層時，緩衝層120可能會由於其過大的硬度而斷裂，並且緩衝層120的回復力由於其低彈性而降低。
因此，為賦予緩衝層120適當的硬度及彈性，應以9：1至5：5的莫耳比含有由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物及由式2表示的烷氧基矽烷化合物。
根據本揭露的實施例，用於形成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的組成物可以8：2至3：7的莫耳比含有「由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物及由式2表示的烷氧基矽烷化合物的總和」與「由式3表示的二醇化合物」。
當「由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物及由式2表示的烷氧基矽烷化合物的總和」對「由式3表示的二醇化合物」的莫耳比大於8：2時，存在的問題在於：緩衝層120的柔性及彈性可能降低，並且緩衝層120可能在折疊期間斷裂或破裂。此外，緩衝層120的塗層表面的光滑度可能降低，且因此緩衝層120可能自透光基質110剝離。
另一方面，當「由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物及由式2表示的烷氧基矽烷化合物的總和」對「由式3表示的二醇化合物」的莫耳比小於5：5時，存在的問題在於：形成硬度不足的軟緩衝層120，且外部衝擊後的回復減少。
在本揭露的實施例中，R4可為包括羥基(-OH)的丙烯酸 酯基。具體而言，例如，R4為衍生自丙烯酸2-羥乙酯(2-HEA)或丙烯酸4-羥丁酯(4-HBA)的丙烯酸酯基。
根據本揭露的實施例，由式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物可包括選自由下式4表示的矽烷化合物及由下式5表示的矽烷化合物的至少一種矽烷化合物：
Figure 110144189-A0305-02-0016-4
Figure 110144189-A0305-02-0016-5
根據本揭露的實施例，由式2表示的烷氧基矽烷化合物可包括四烷氧基矽烷(Si(OR6)4)。由於用於形成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的組成物包含四烷氧基矽烷，緩衝層120可被 賦予適當的硬度，且因此可使由外力引起的光學膜的形變最小化。另一方面，當其中含有三烷氧基矽烷或二烷氧基矽烷時，緩衝層120的硬度改善不足，因此施加外力時光學膜的形變程度可能增加。
根據本揭露的實施例，由式3表示的二醇化合物可包括乙二醇。由於用於形成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的組成物包含乙二醇，因此緩衝層120可被賦予增加的柔性及優異的彈性。因此，可增加光學膜的最大回復長度。
根據本揭露的一個實施例，透光基質110可具有10微米至100微米的厚度。當透光基質110的厚度小於10微米時，透光基質110由於其降低的耐久性及耐熱性而不適合用作覆蓋窗。另一方面，當透光基質110的厚度大於100微米時，光學膜的厚度過度增加，因此增加在折疊期間的最小曲率半徑，藉此使光學膜的彎曲特性劣化，並且由於透光率的降低而降低可見度。
根據本揭露的實施例，緩衝層120可具有10微米至150微米的厚度。當緩衝層120的厚度小於10微米時，減少折疊痕跡及提高緩衝層120的抗衝擊性的效果不足。另一方面，當緩衝層120的厚度大於150微米時，光學膜的厚度過度增加，在折疊期間最小曲率半徑增加，並且光學膜的彎曲特性劣化。
根據本揭露的實施例，本揭露的光學膜可具有3,600至4,700百萬帕的彈性模數。
光學膜的彈性模數可使用奈米壓痕(菲舍爾公司(Fischer)，型號HM2000)在12毫牛頓/12秒/蠕變5秒/24℃及 40相對濕度%的條件下進行量測。
基於12毫牛頓，根據本揭露實施例的光學膜可具有60%至100%的回復率(nIT)。光學膜的回復率(12毫牛頓)可使用奈米壓痕(菲舍爾公司，型號HM2000)在12毫牛頓/12秒/蠕變5秒/24℃及40相對濕度%的條件下進行量測。回復率(12毫牛頓)的量測是藉由將緩衝層120向下定向、將透光基質110向上定向以及量測作為上層的基質的物理性質來執行。本揭露的光學膜包括緩衝層120，且因此被賦予60%或大於60%的回復率(nIT；12毫牛頓)。
根據本揭露實施例的光學膜可具有220牛/平方毫米至310牛/平方毫米的複合硬度。
光學膜的複合硬度可使用奈米壓痕(菲舍爾公司，型號HM2000)在12毫牛頓/12秒/蠕變5秒/24℃及40相對濕度%的條件下進行量測。複合硬度的量測是藉由將緩衝層120向下定向、將透光基質110向上定向以及量測作為上層的基質的物理性質來執行。
根據本揭露實施例的光學膜可具有為R3.5或小於R3.5的破裂點(crack point)。
光學膜的破裂點可藉由使用聚尼爾技術公司(JUNIL Tech)的JIRBT-620-2半徑彎曲測試儀在減小曲率半徑的同時偵測破裂發生點來量測。破裂發生點處的R值被定義為破裂點。
在下文中，將參照圖4至圖6詳細描述本揭露的其他實 施例。圖4至圖5是示出根據本揭露其他實施例的光學膜的剖視圖，所述光學膜更包括硬塗層。
根據本揭露的另一實施例，光學膜可更包括硬塗層130。如圖4所示，在本揭露的光學膜中，硬塗層130可形成於緩衝層120的上表面上，但本揭露並非僅限於此。如圖5所示，緩衝層120可形成於透光基質110的下表面上，且硬塗層130可形成於透光基質110的上表面上。此外，如圖6所示，在根據本揭露的光學膜中，緩衝層120可形成於透光基質110的上表面及下表面兩者上，並且硬塗層130可形成於緩衝層120的上表面上。緩衝層120及硬塗層130可根據需要以任何數量設置於任何位置處，並且另一層亦可形成於透光基質110與緩衝層120之間、或者透光基質110與硬塗層130之間、或者緩衝層120與硬塗層130之間。
由於本揭露的光學膜更包括硬塗層130，因此可改善光學膜的機械性質，例如耐久性及耐刮擦性。
根據本揭露的另一實施例，硬塗層130可包含環氧樹脂、矽氧烷樹脂及丙烯酸酯樹脂中的至少一者。
根據本揭露的另一實施例，硬塗層130可具有0.1微米至10微米的厚度。當硬塗層130的厚度小於0.1微米時，由於硬塗層130而產生的耐久性及耐刮擦性的改善可能不足。另一方面，當硬塗層130的厚度大於10微米時，由於光學膜的阻力增加，難以將光學膜用作可撓式顯示元件的覆蓋窗。
根據本揭露的實施例，光學膜是透光的。此外，光學膜是 可撓的。舉例而言，光學膜可為可彎曲的、可折疊的及可捲曲的。光學膜可具有卓越的機械性質及光學性質。
根據本揭露的實施例，光學膜可具有足以使光學膜保護顯示面板的厚度。舉例而言，光學膜可具有20微米至300微米的厚度。
基於100微米的厚度，根據本揭露實施例的光學膜可具有5.0或小於5.0的黃色指數。此外，基於100微米的厚度，根據本揭露實施例的光學膜可具有4.0或小於4.0的黃色指數，或者2.0或小於2.0的黃色指數。
黃色指數可使用由柯尼卡美能達(KONICA MINOLT)公司生產的CM-3700分光光度計基於D65/2°條件下的透射率進行量測。
基於100微米的厚度，根據本揭露實施例的光學膜在用紫外(ultraviolet，UV)分光光度計量測時在可見光區中可具有88.00%或大於88.00%的透光率。此外，基於50微米的厚度，根據本揭露實施例的光學膜可具有90%或大於90%的透光率，或者91%或大於91%的透光率。
可使用分光光度計根據JIS K 7361標準在360奈米至740奈米的波長範圍內量測透光率。在本文中使用的分光光度計的實例可為由村上色彩研究實驗室(Murakami Color Research Laboratory)生產的M-150霧度計。
基於100微米的厚度，根據本揭露實施例的光學膜可具 有2.0或小於2.0的霧度。此外，基於100微米的厚度，根據本揭露實施例的光學膜可具有1.0或小於1.0的霧度，或者0.5或小於0.5的霧度。
霧度可使用分光光度計根據JIS K 7136標準來量測。在本文中使用的分光光度計的實例可為由村上色彩研究實驗室生產的M-150霧度計。
在下文中，將參照圖7及圖8描述根據本揭露實施例的使用光學膜的顯示元件。
圖7為示出根據另一實施例的顯示元件200的一部分的剖視圖，且圖8是圖7中的部分「P」的放大剖視圖。
參照圖7，根據本揭露另一實施例的顯示元件200包括顯示面板501及位於顯示面板501上的光學膜100。
參照圖7及圖8，顯示面板501包括基板510、位於基板510上的薄膜電晶體TFT、以及連接至薄膜電晶體TFT的有機發光元件570。有機發光元件570包括第一電極571、位於第一電極571上的有機發光層572及位於有機發光層572上的第二電極573。圖5及圖6中所示的顯示元件200是有機發光顯示元件。
基板510可由玻璃或塑膠形成。具體而言，基板510可由塑膠(例如，聚合物樹脂或光學膜)形成。儘管未示出，但可於基板510上設置緩衝層。
薄膜電晶體TFT設置於基板510上。薄膜電晶體TFT包括半導體層520、與半導體層520絕緣並與半導體層520的至少一 部分交疊的閘極電極530、連接至半導體層520的源極電極541、以及與源極電極541間隔開並連接至半導體層520的汲極電極542。
參照圖8，在閘極電極530與半導體層520之間設置閘極絕緣層535。可在閘極電極530上設置層間絕緣層551，且源極電極541及汲極電極542可設置於層間絕緣層551上。
在薄膜電晶體TFT上設置平坦化層552，以將薄膜電晶體TFT的頂部平坦化。
第一電極571設置於平坦化層552上。第一電極571藉由設置於平坦化層552中的接觸孔連接至薄膜電晶體TFT。
在平坦化層552上在第一電極571的一部分中設置堤層(bank layer)580，以界定畫素區域或發光區域。舉例而言，堤層580以矩陣的形式設置於多個畫素之間的邊界處，以界定相應的畫素區。
有機發光層572設置於第一電極571上。有機發光層572亦可設置於堤層580上。有機發光層572可包括一個發光層或在垂直方向上堆疊的兩個發光層。可自有機發光層572發射具有紅色、綠色及藍色中的任一種顏色的光，且可自有機發光層572發射白光。
第二電極573設置於有機發光層572上。
可將第一電極571、有機發光層572及第二電極573堆疊以構成有機發光元件570。
儘管未示出，但當有機發光層572發射白光時，每一畫 素可包括濾色器，用於基於特定波長過濾自有機發光層572發射的白光。濾色器形成於光路徑中。
可在第二電極573上設置薄膜包封層590。薄膜包封層590可包括至少一個有機層及至少一個無機層，且所述至少一個有機層及所述至少一個無機層可交替設置。
根據本揭露的光學膜100設置於具有上述堆疊結構的顯示面板501上。
在下文中，將參照示例性製備例、實例及比較例更詳細地描述本揭露。然而，該些製備例、實例及比較例不應被解釋為限制本揭露的範圍。
<製備例1：用於透光基質的聚合物樹脂組成物的製備>
在4頸雙夾套反應器中將80.06克(250毫莫耳)TFDB(二胺系化合物)溶解在了二甲基乙醯胺(dimethylacetamide，DMAc，溶劑)中。向其中加入19.86克(68毫莫耳)BPDA(二酐化合物)並攪拌，同時保持反應器溫度在25℃下保持了2小時。在反應完成時，向其中加入13.33克(30毫莫耳)6FDA(二酐化合物)，且然後在25℃下攪拌1小時。然後，向反應溶液中加入了29.945克(154毫莫耳)TPC，接著在15℃下攪拌1小時。
在聚合反應完成後，向反應溶液中加入了作為醯亞胺化觸媒的吡啶(Py，16.97克)及作為脫水劑的乙酸酐(AA，21.97克)，將溫度升高至80℃，並將反應溶液攪拌了1小時。將反應溶液冷卻至室溫，並倒入甲醇(3,000毫升)中以引起沈澱。過濾沈 澱物以獲得作為白色固體的聚合物樹脂。所獲得的聚合物樹脂呈固體粉末的形式。在製備例1中製備的聚合物樹脂是聚醯胺-醯亞胺聚合物樹脂。
將作為固體粉末獲得的聚合物樹脂以12.7重量%的濃度溶解在二甲基乙醯胺(DMAc)中，以製備聚合物樹脂組成物。
<製備例2：用於緩衝層的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物的製備> <製備例2-1>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司(Shinetsu)，KBE-9007)、317克(2.20莫耳)丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司(OSAKA Organic Chemical Industry)，4-HBA)及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
Figure 110144189-A0305-02-0024-6
2)將353克(0.90毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、21克(0.10莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司(EVONIK)，德 固賽(Dynasylan)A)、28克H2O及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用凝膠滲透層析術(GPC)量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,512，且其PDI為1.8。
<製備例2-2>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司，KBE-9007)、317克(2.20莫耳)丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司，4-HBA)及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
2)將314克(0.80毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、42克(0.20莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、29克H2O及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,785，且其PDI為2.1。
<製備例2-3>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司，KBE-9007)、317克(2.20莫耳)丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司，4-HBA) 及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
2)將274克(0.70毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、62克(0.30莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、30克H2O及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,965，且其PDI為2.2。
<製備例2-4>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司，KBE-9007)、317克(2.20莫耳)丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司，4-HBA)及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
2)將235克(0.60毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、83克(0.40莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、31克H2O及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,754，且其PDI為1.9。
<製備例2-5>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司，KBE-9007)、317克(2.20莫耳)丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司，4-HBA)及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
2)將196克(0.50毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、104克(0.50莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、32克H2O及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,498，且其PDI為1.8。
<製備例2-6>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司，KBE-9007)、255克(2.20莫耳)丙烯酸2-羥乙酯(大阪有機化學工業公司，2-HEA)及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
2)將255克(0.70毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、62克(0.30莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、30克H2O及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械 攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,836，且其PDI為2.0。
<製備例2-7>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司，KBE-9007)、317克(2.20莫耳)丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司，4-HBA)及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
2)將274克(0.70毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、62克(0.30莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、24克(1.33莫耳)H2O、20克(0.33莫耳)乙二醇(西格馬-奧德里奇公司(Sigma-Aldrich))及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,415，且其PDI為1.6。
<製備例2-8>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司，KBE-9007)、317克(2.20莫耳)丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司，4-HBA) 及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
2)將274克(0.70毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、62克(0.30莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、21克(1.17莫耳)H2O、31克(0.50莫耳)乙二醇(西格馬-奧德里奇公司)及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,232，且其PDI為1.4。
<製備例2-9>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司，KBE-9007)、317克(2.20莫耳)丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司，4-HBA)及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
2)將274克(0.70毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、62克(0.30莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、15克(0.83莫耳)H2O、51克(0.83莫耳)乙二醇(西格馬-奧德里奇公司)及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,485，且其PDI為1.6。
<製備例2-10>
1)將495克(2.00莫耳)由下式6表示的化合物(3-(三乙氧基矽烷基)丙基異氰酸酯，信越公司，KBE-9007)、317克(2.20莫耳)丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司，4-HBA)及11克三乙胺放入500毫升玻璃反應器中，並在室溫下使用機械攪拌器允許其攪拌反應24小時。
2)將274克(0.70毫莫耳)在步驟1)中獲得的反應產物、62克(0.30莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、9克(0.5莫耳)H2O、72克(1.16莫耳)乙二醇(西格馬-奧德里奇公司)及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為2,132，且其PDI為1.3。
<製備例2-11>
1)將223克(0.09莫耳)3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷(信越公司，KBM-503)、21克(0.10莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、28克H2O及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為6,736，且其PDI為2.6。
<製備例2-12>
1)將124克(0.50莫耳)3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷(信越公司，KBM-503)、104克(0.50莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、32克H2O及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為6,532，且其PDI為2.8。
<製備例2-13>
1)將99克(0.40莫耳)3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷(信越公司，KBM-503)、125克(0.60莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、32克H2O及0.1克NaOH放入500毫升玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為6,281，且其PDI為2.9。
<製備例3：用於硬塗層的樹脂組成物的製備>
1)將223克(0.90莫耳)3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷(信越公司，KBM-503)、21克(0.10莫耳)四乙氧基矽烷(贏創公司，德固賽A)、28克H2O及0.1克NaOH放入500毫升 玻璃反應器中，並使用機械攪拌器允許其在80℃下攪拌反應8小時，以獲得胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物。
使用GPC量測的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂的重均分子量為6,736，且其PDI為2.6。
<實例1>
1)澆鑄在製備例1中製備的聚合物樹脂組成物溶液。使用澆鑄基板進行澆鑄。對於澆鑄基板的類型並無特別限制。澆鑄基板可為玻璃基板、不銹鋼(stainless steel，SUS)基板、特氟隆(Teflon)基板等。根據本揭露的實施例，澆鑄基板可為例如玻璃基板。
具體而言，將製備例1的聚合物樹脂溶液施加至玻璃基板上，澆鑄，並用熱空氣在80℃下乾燥20分鐘，並在120℃下乾燥20分鐘，以生產透光基質，且然後將生產的透光基質自玻璃基板剝離並用銷固定至框架。
將固定有透光基質的框架放入烘箱中，並用熱空氣在290℃的恆定溫度下乾燥了2小時。因此，獲得厚度為50微米的透光基質。
2)將10克製備例2-1的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物、10克2-丁酮(MEK)及0.1克1-苯甲醯基環己醇(來自巴斯夫公司(BASF)的易璐佳(IRGACURE)184)混合，並使用邁耶棒或施加器將所得混合物施加至在1)中生產的透光基質以形成塗膜。
將塗佈有胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物的透光基質在烘箱中於100℃下乾燥了10分鐘，並暴露於紫外線(150毫瓦/平方公分，2焦耳/平方公分)下，以生產塗佈有緩衝層的光學膜。緩衝層的厚度為20微米。在此種情況下，透光基質為光學膜的上表面，且緩衝層為光學膜的下表面。
<實例2至實例14>
除了改變胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物的類型及緩衝層的厚度之外，以與實例1中相同的方式生產了實例2至實例14的光學膜。
關於實例2至實例14的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物的類型及緩衝層的厚度的細節示出於下表1中。
<實例15>
1)以與實例8中相同的方式生產了光學膜。
2)使用邁耶棒或施加器將製備例3的用於硬塗層的樹脂組成物施加至在實例8中生產的光學膜的上表面(透光基質的上表面)，以形成塗膜。
將塗佈有用於硬塗層的樹脂組成物的光學膜在烘箱中於100℃下乾燥了10分鐘，並暴露於紫外線(100毫瓦/平方公分，1焦耳/平方公分)下，以生產塗佈有硬塗層的光學膜。硬塗層的厚度為5微米。
實例15的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂組成物的細節示出於下表1中。
<比較例1>
1)澆鑄在製備例1中製備的聚合物樹脂組成物溶液。使用澆鑄基板進行澆鑄。對於澆鑄基板的類型並無特別限制。澆鑄基板可為玻璃基板、不銹鋼(SUS)基板、特氟隆基板等。根據本揭露的實施例，澆鑄基板可為例如玻璃基板。
具體而言，將製備例1的聚合物樹脂溶液施加至玻璃基板上，澆鑄，並用熱空氣在80℃下乾燥20分鐘，並在120℃下乾燥20分鐘，以生產透光基質，且然後將生產的透光基質自玻璃基板剝離並用銷固定至框架。
將固定有透光基質的框架放入烘箱中，並用熱空氣在290℃的恆定溫度下乾燥了30分鐘。因此，獲得厚度為50微米的透光基質。
2)將10克製備例2-11的矽氧烷樹脂組成物、10克2-丁酮(MEK)及0.1克1-苯甲醯基環己醇(來自巴斯夫公司的易璐佳184)混合，並使用邁耶棒或施加器將所得混合物施加至在1)中生產的透光基質以形成塗膜。
將塗佈有矽氧烷樹脂組成物的透光基質在烘箱中於100℃下乾燥了10分鐘，並暴露於紫外線(150毫瓦/平方公分，2焦耳/平方公分)下，以生產塗佈有緩衝層的光學膜。緩衝層的厚度為20微米。在此種情況下，透光基質為光學膜的上表面，且緩衝層為光學膜的下表面。
<比較例2>
除了改變矽氧烷樹脂組成物之外，以與比較例1中相同的方式生產了比較例2的光學膜。
關於比較例2的矽氧烷樹脂組成物的類型及緩衝層的厚度的細節示出於下表1中。
<比較例3>
除了改變矽氧烷樹脂組成物之外，以與比較例1中相同的方式生產了比較例3的光學膜。
關於比較例3的矽氧烷樹脂組成物的類型及緩衝層的厚度的細節示出於下表1中。
Figure 110144189-A0305-02-0035-7
<量測實例>
對在實例1至實例15及比較例1至比較例3中製備的聚合物樹脂及膜執行以下量測。
1)最大回復長度(毫米)：當將自光學膜獲得的寬度為50毫米且長度為100毫米的量測樣品在垂直方向上纏繞在直徑為10毫米的圓柱體上、將所述樣品固定在所述圓柱體上、使所述樣品在60℃/90相對濕度%下靜置24小時、自所述圓柱體取下所述樣品、並使所述樣品在60℃/90相對濕度%下的平坦表面上靜置24小時時，若自所述平坦表面沿所述垂直方向觀察時所述樣品具有圓形形狀，其一端接觸另一端，則最大回復長度被定義為所述圓形的直徑，而若所述樣品具有弧形形狀，其一端不接觸另一端，則最大回復長度被定義為所述弧形的最大直徑。
2)彈性模數(EIT，百萬帕(MPa))：使用奈米壓痕(菲舍爾公司，型號HM2000)在12毫牛頓/12秒/蠕變5秒/24℃及40相對濕度%的條件下量測了彈性模數。
3)12毫牛頓回復率(nIT，%)：使用奈米壓痕(菲舍爾公司，型號HM2000)在12毫牛頓/12秒/蠕變5秒/24℃及40相對濕度%的條件下量測了光學膜的回復率(12毫牛頓)。
4)透光率(%)：使用分光光度計根據JIS K 7361標準在360奈米至740奈米的波長範圍內量測了透光率(%)。在本文中使用的分光光度計是由村上色彩研究實驗室生產的M-150霧度計。
5)霧度：使用分光光度計根據JIS K 7136標準量測了 霧度。在本文中使用的分光光度計是由村上色彩研究實驗室生產的M-150霧度計。
6)複合硬度(牛/平方毫米)：使用奈米壓痕(菲舍爾公司，型號HM2000)在12毫牛頓/12秒/蠕變5秒/24℃及40相對濕度%的條件下量測了複合硬度。複合硬度的量測是藉由將緩衝層120向下定向、將透光基質110向上定向以及量測作為上層的基質的物理性質來執行。
破裂點(R)：藉由使用來自聚尼爾技術公司的JIRBT-620-2半徑彎曲測試儀在減小曲率半徑的同時偵測破裂發生點而量測了破裂點。破裂發生點處的R值被定義為破裂點。
量測結果如下表2所示：
Figure 110144189-A0305-02-0037-8
Figure 110144189-A0305-02-0038-9
如自表2所示的量測結果可見，本揭露的實例1至實例15的光學膜具有40毫米至100毫米的最大回復長度，並且具有3.5R或小於3.5R的破裂點及優異的折疊後回復率。
然而，比較例1至比較例3的光學膜具有小於40毫米的最大回復長度、3.5R或大於3.5R的破裂點以及低的折疊後回復率。
110:透光基質
120:緩衝層

Claims (15)

  1. 一種光學膜，包括： 透光基質；以及 緩衝層， 所述光學膜具有40毫米至100毫米的最大回復長度， 其中當將自所述光學膜獲得的寬度為50毫米且長度為100毫米的量測樣品在垂直方向上纏繞在直徑為10毫米的圓柱體上、將所述樣品固定在所述圓柱體上、使所述樣品在60℃/90相對濕度%下靜置24小時、自所述圓柱體取下所述樣品、並使所述樣品在60℃/90相對濕度%下的平坦表面上靜置24小時時，若自所述平坦表面沿所述垂直方向觀察時所述樣品具有圓形形狀，其一端接觸另一端，則所述最大回復長度被定義為所述圓形的最大直徑，而若所述樣品具有弧形形狀，其一端不接觸另一端，則所述最大回復長度被定義為所述弧形的最大直徑。
  2. 如請求項1所述的光學膜，其中所述緩衝層包含胺基甲酸乙酯丙烯酸酯樹脂。
  3. 如請求項1所述的光學膜，其中所述緩衝層包含胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂。
  4. 如請求項3所述的光學膜，其中所述胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽氧烷樹脂包含： 由下式1表示的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯矽烷化合物； 由下式2表示的烷氧基矽烷化合物；以及 由下式3表示的二醇化合物： [式1]
    Figure 03_image001
    其中R 1為衍生自C1至C8脂族或芳族烴的官能基，R 2及R 3各自獨立地為C1至C6直鏈、支鏈或脂環族伸烷基，R 4為丙烯酸酯基或甲基丙烯酸酯基，且n是1至3的整數， [式2] R 5 mSi(OR 6) 4-m其中R 5及R 6各自獨立地為衍生自C1至C8脂族或芳族烴的官能基，並且m是0至3的整數， [式3] HO-R 7-OH 其中R 7為衍生自C1至C6脂族或芳族烴的官能基。
  5. 如請求項4所述的光學膜，其中R 4為包括羥基（-OH）的丙烯酸酯基。
  6. 如請求項4所述的光學膜，其中R 4為衍生自丙烯酸2-羥乙酯（2-HEA）及丙烯酸4-羥丁酯（4-HBA）中的一者的丙烯酸酯基。
  7. 如請求項4所述的光學膜，其中所述烷氧基矽烷化合物包括四烷氧基矽烷。
  8. 如請求項4所述的光學膜，其中所述二醇化合物包括乙二醇。
  9. 如請求項1所述的光學膜，其中所述緩衝層具有10微米至150微米的厚度。
  10. 如請求項1所述的光學膜，其中所述透光基質具有10微米至100微米的厚度。
  11. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光學膜具有3,600至4,700百萬帕的彈性模數。
  12. 如請求項1所述的光學膜，其中基於12毫牛頓，所述光學膜具有60%至100%的回復率（nIT）。
  13. 如請求項1所述的光學膜，更包括硬塗層。
  14. 如請求項13所述的光學膜，其中所述硬塗層具有0.1微米至10微米的厚度。
  15. 一種顯示元件，包括： 顯示面板；以及 如請求項1至14中任一項所述的光學膜，設置於所述顯示面板上。
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