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TWI778881B - 電路板及其製造方法 - Google Patents

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TWI778881B
TWI778881B TW110145260A TW110145260A TWI778881B TW I778881 B TWI778881 B TW I778881B TW 110145260 A TW110145260 A TW 110145260A TW 110145260 A TW110145260 A TW 110145260A TW I778881 B TWI778881 B TW I778881B
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廖俊霖
黃培彰
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欣興電子股份有限公司
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Abstract

一種電路板包括絕緣部、配置在絕緣部上的承載層、配置在絕緣部內並熱耦接承載層的金屬殼。金屬殼具有第一內表面、相對於第一內表面的第二內表面、連接第一內表面與第二內表面的第三內表面以及密閉空間,其中第二內表面在第一內表面與承載層之間,密閉空間被第一內表面、第二內表面與第三內表面圍繞。電路板還包括分佈在密閉空間內的熱交換流體。電路板還包括分佈在密閉空間內的第一孔隙材料,其中第一孔隙材料配置在第一內表面上。

Description

電路板及其製造方法
本揭示案提供一種電路板及其製造方法,尤其是一種具有散熱效果的電路板及其製造方法。
目前的電子裝置,例如手機或平板電腦,都包括電子元件與電路板,其中電子元件例如是積體電路(Integrated Circuit, IC),並裝設在電路板上。電子元件在運作過程中所產生的熱能通常會累積在電子元件和電路板中,累積的熱能可能造成電子元件過熱,進而影響電子元件的效能,甚至導致電子元件燒毀。因此,具有散熱效果的電路板可有助於抑制電子元件的溫度上升,進而提升電子元件的效能。
根據本揭示案的一些實施例,一種電路板包括絕緣部、配置在絕緣部上的承載層、配置在絕緣部內並熱耦接承載層的金屬殼。金屬殼具有第一內表面、相對於第一內表面的第二內表面、連接第一內表面與第二內表面的第三內表面以及密閉空間,其中第二內表面在第一內表面與承載層之間,密閉空間被第一內表面、第二內表面與第三內表面圍繞。電路板還包括分佈在密閉空間內的熱交換流體。電路板還包括分佈在密閉空間內的第一孔隙材料,其中第一孔隙材料配置在第一內表面上。
在一些實施例中,電路板進一步包括電子元件,配置於承載層上並經由承載層而熱耦接金屬殼,其中電子元件不電性連接金屬殼。電路板進一步包括散熱件,配置於金屬殼下並熱耦接金屬殼,其中金屬殼位在電子元件與散熱件之間。
在一些實施例中,電子元件在第二內表面的正投影與散熱件在第二內表面的正投影彼此分離。
在一些實施例中,電路板進一步包括第一導熱柱,配置於絕緣部中,連接承載層和金屬殼,並位在承載層和金屬殼之間。
在一些實施例中,絕緣部包括第一介電層與第二介電層,金屬殼位在第一介電層與第二介電層之間,第一導熱柱配置在第一介電層中,並熱耦接承載層與金屬殼。
在一些實施例中,電路板進一步包括第二導熱柱,配置於第二介電層,連接散熱件和金屬殼,並位在散熱件和金屬殼之間。
在一些實施例中,絕緣部完全包覆金屬殼。
在一些實施例中,第一孔隙材料接觸金屬殼。
在一些實施例中,熱交換流體包括液體與氣體。
在一些實施例中,電路板進一步包括第二孔隙材料,配置在第三內表面上。
在一些實施例中,電路板進一步包括第三孔隙材料,配置在第二內表面上。
根據本揭示案的另一些實施例,一種製造電路板的方法包括形成凹槽在第一絕緣部中、形成第一金屬子殼在凹槽內、配置第一孔隙材料在第一金屬子殼內、加入熱交換流體至第一金屬子殼內、形成第二金屬子殼在第二絕緣部上、以及壓合第一絕緣部與第二絕緣部。壓合第一絕緣部與第二絕緣部以使第一金屬子殼與第二金屬子殼形成具有密閉空間的金屬殼,其中熱交換流體與第一孔隙材料皆密封於金屬殼的密閉空間中。
在一些實施例中,形成第一金屬子殼的方法包括沿著凹槽的內表面保形地沉積金屬。
在一些實施例中,製造電路板的方法進一步包括在壓合第一絕緣部與第二絕緣部之前,放置第二孔隙材料在第一金屬子殼內,其中第二孔隙材料的位置與第一孔隙材料的位置不同。
在一些實施例中,製造電路板的方法進一步包括在形成第二金屬子殼之後,放置第三孔隙材料在第二金屬子殼內。
在一些實施例中,製造電路板的方法進一步包括形成第二導熱柱在該第一絕緣部中、以及形成第一導熱柱在 第二絕緣部中。
在一些實施例中,製造電路板的方法進一步包括配置電子元件在第二絕緣部上,其中第一導熱柱熱耦接電子元件和第二金屬子殼。
在一些實施例中,製造電路板的方法進一步包括配置散熱件在第一絕緣部下,其中第二導熱柱熱耦接散熱件和第一金屬子殼,及電子元件在第一金屬子殼的正投影與散熱件在第一金屬子殼的正投影彼此分開。
本揭示案的實施例提供的電路板及其製造方法可增加熱傳導的路徑,藉此增加電路板的散熱效率,從而提高電子元件的效能。
當一個元件被稱為「在…上」時,它可泛指該元件直接在其他元件上,也可以是有其他元件存在於兩者之中。相反地,當一個元件被稱為「直接在」另一元件,它是不能有其他元件存在於兩者之中間。如本文所用,詞彙「及/或」包含了列出的關聯項目中的一個或多個的任何組合。
在本文中,使用第一、第二與第三等等之詞彙,是用於描述各種元件、組件、區域、層與/或區塊是可以被理解的。但是這些元件、組件、區域、層與/或區塊不應該被這些術語所限制。這些詞彙只限於用來辨別單一元件、組件、區域、層與/或區塊。因此,在下文中的一第一元件、組件、區域、層與/或區塊也可被稱為第二元件、組件、區域、層與/或區塊,而不脫離本揭示案的本意。
電子元件在運作過程中所產生的熱能可透過電路板上的散熱件排出,以避免熱能過度集中在電子元件和電路板內而造成電子元件過熱,進而影響電子元件的表現,其中電路板散熱效率受到電子元件與散熱件之間的熱能傳導路徑配置與熱能傳導速度影響。本揭示案的實施方式提供一種具有散熱效果的電路板及其製造方法,藉由增加熱傳導路徑以有助於提高電子元件與散熱件之間配置上的彈性及提升電路板的散熱效率,從而提高電子元件的效能。
請參照第1圖,第1圖是根據本揭示案一些實施例繪示電路板100之俯視圖。電路板100可具有絕緣部110、配置在絕緣部110內的金屬殼120、配置在絕緣部110上的電子元件170、以及配置在絕緣部110下的散熱件180,其中第1圖以斷線繪出在絕緣部110內部的金屬殼120以及在絕緣部110下的散熱件180的例示性配置。
如第1圖所示,金屬殼120的範圍涵蓋電子元件170和散熱件180。當電子元件170的位置和散熱件180的位置依產品設計和製成需求而調整時,金屬殼120的範圍亦可隨著電子元件170的位置和散熱件180的位置而相應調整。在如第1圖所示的實施例中,電子元件170的位置與散熱件180的位置在水平方向上彼此分開(例如,在X軸方向上彼此分開)。在一些其他的實施例中,電子元件170的位置與散熱件180的位置在水平方向上可部分地重疊(未繪出)。
請同時參照第2A圖及第2B圖,第2A圖是根據本揭示案一些實施例繪示電路板100沿第1圖的剖線A-A之截面圖、及第2B圖是根據本揭示案一些實施例繪示電路板100沿第1圖的剖線B-B之截面圖。應注意的是,為了清楚說明,第1圖經簡化而僅繪出電路板100的部分元件,所以第1圖(俯視圖)和第2A圖/第2B圖(截面圖)之間的元件未必能完全對應。
電子元件170設置在絕緣部110和金屬殼120的上方,散熱件180設置在絕緣部110和金屬殼120的下方,應注意的是,散熱件180因視角而僅繪示在第2B圖的截面圖中。
絕緣部110可為多層結構,其具有第一介電層111介於電子元件170和金屬殼120之間、第二介電層112介於散熱件180和金屬殼120之間、以及第三介電層113介於第一介電層111和第二介電層112之間。電子元件170配置在第一介電層111上而散熱件180配置在第二介電層112下。值得一提的是,雖然第一介電層111和第二介電層112在第2A圖和第2B圖中繪示成單層,但實際操作上第一介電層111、第二介電層112和第三介電層113可分別具有任意介電層數量。
絕緣部110的材料可包括環氧玻璃布層壓板(FR-4)、環氧樹脂(epoxy resin)、預浸材料(prepreg, PP)或陶瓷,但不以此為限。
金屬殼120嵌埋在絕緣部110中。金屬殼120配置在第一介電層111和第二介電層112之間,並延伸在第三介電層113內。換句話說,絕緣部110包覆金屬殼120。金屬殼120配置在電子元件170和散熱件180之間,因此金屬殼120於垂直方向的尺寸(例如在Z軸方向的尺寸)小於或等於電子元件170和散熱件180之間的垂直距離。在一些實施例中,金屬殼120於垂直方向的尺寸(例如在Z軸方向的尺寸)可大於單層介電層的厚度。
金屬殼120可包括第一內表面121、第二內表面122、以及第三內表面123,其中第一內表面121與第二內表面122彼此相對。第一內表面121鄰近散熱件180,第二內表面122鄰近電子元件170,而第三內表面123連接第一內表面121與第二內表面122。再者,金屬殼120還可包括密閉空間124,其被第一內表面121、第二內表面122與第三內表面123圍繞,其中密閉空間124基本上是由金屬殼120所定義。由於金屬殼120配置在絕緣部110中,故金屬殼120的密閉空間124可使絕緣部110呈現出中空結構。在一些實施例中,金屬殼120的材料可包括金屬(例如銅)或合金。
電路板100可進一步具有承載層130、第一導熱柱141和第二導熱柱142。承載層130設置在絕緣部110上(例如,第一介電層111上),電子元件170設置在承載層130上並熱耦接承載層130。第一導熱柱141配置在絕緣部110中並位於承載層130和金屬殼120之間。第一導熱柱141可連接承載層130和金屬殼120。具體而言,第一導熱柱141配置在第一介電層111中並熱耦接承載層130和金屬殼120。因此,電子元件170可經由承載層130和第一導熱柱141而熱耦接至金屬殼120。
在一些實施例中,承載層130和第一導熱柱141用於熱傳導,但非用於電流傳導。因此,電子元件170不電性連接金屬殼120,使電訊號走線與熱傳導路徑不彼此影響而降低電子元件170的效能或是干擾電子元件170的運作,藉此簡化系統設計。在一些實施例中,可省略第一導熱柱141,使電子元件170經由承載層130而熱耦接金屬殼120。
第二導熱柱142配置在絕緣部110中並位於散熱件180和金屬殼120之間。第二導熱柱142可連接散熱件180和金屬殼120。具體而言,第二導熱柱142配置在第二介電層112中並熱耦接散熱件180和金屬殼120。相似於第一導熱柱141,第二導熱柱142提供熱傳導的功能,並且散熱件180可透過第二導熱柱142而熱耦接至金屬殼120,但第二導熱柱142不用於電流傳導。
承載層130、第一導熱柱141和第二導熱柱142的材料可包括具有導熱性的材料,例如金屬、陶瓷等。在一些實施例中,承載層130、第一導熱柱141和第二導熱柱142的材料可為銅。
電路板100還具有熱交換流體150,其配置在金屬殼120內。詳細而言,熱交換流體150密封在金屬殼120中並分佈在密閉空間124內。在一些實施例中,熱交換流體150可在密閉空間124中流動。熱交換流體150在金屬殼120中存在液體狀態與氣體狀態。
熱交換流體150的材料(液體狀態)可包括氨、丙酮、甲醇、乙醇、庚皖、純水、其他合適的材料、或上述材料的組合。由於熱交換流體150是藉由相變化來吸收並釋放熱能(稍後討論),所以熱交換流體150的材料選擇應考慮到電路板100操作過程的溫度範圍,以確保熱交換流體150會在相同的溫度範圍內產生相變化。在一些實施例中,電路板100操作過程的溫度在-70℃到200℃之間,所以可選擇在-70℃到200℃之間產生相變化的材料做為熱交換流體150。
電路板100可進一步具有孔隙材料160,其配置在金屬殼120內。詳細而言,孔隙材料160密封在金屬殼120中並分佈在密閉空間124內。在一些實施例中,孔隙材料160設置在金屬殼120的內表面上。在一些實施例中,孔隙材料160可直接接觸金屬殼120。孔隙材料160可包括例如金屬、陶瓷等,以提供導熱功能。在一些實施例中,孔隙材料160的材料可包括銅、金、銀、鋁等。在一些實施例中,孔隙材料160可為銅纖維。
孔隙材料160的孔隙結構足以使熱交換流體150吸附在其中。除此之外,孔隙材料160的孔隙結構可增加孔隙材料160的表面積。增加的表面積可增大接觸熱交換流體150的面積,從而提升孔隙材料160與熱交換流體150之間的熱能傳導。
當電子元件170運作時,產生的熱能可經由承載層130和第一導熱柱141迅速地傳導至金屬殼120。金屬殼120接近電子元件170的一區域為熱能輸入區,金屬殼120接近散熱件180的另一區域為熱能輸出區。在熱能輸入區中,金屬殼120可直接傳導熱能給液態的熱交換流體150,或是經由孔隙材料160傳導熱能給液態的熱交換流體150。液態的熱交換流體150吸收熱能而蒸發成氣態的熱交換流體150,並且氣態的熱交換流體150往散熱件180的方向移動,意即,熱交換流體150從熱能輸入區移動至熱能輸出區。
當氣態的熱交換流體150到達熱能輸出區,氣態的熱交換流體150可凝結成液體的熱交換流體150,同時,在熱交換流體150的相變化過程中,熱能被釋出並傳給金屬殼120和孔隙材料160。熱能進一步地經由第二導熱柱142傳導至散熱件180,再由散熱件180排出,以避免熱能累積在電路板100中。
在氣態的熱交換流體150凝結成液態的熱交換流體150之後,液態的熱交換流體150可吸附在孔隙材料160中,並因毛細現象從熱能輸出區(金屬殼120鄰近散熱件180的區域)移動到至熱能輸入區(金屬殼120鄰近電子元件170的區域)。如此一來,熱交換流體150可反覆循環在金屬殼120內,電子元件170產生的熱能可藉由上述的方式持續從電子元件170傳導至散熱件180排出。
孔隙材料160的配置有助於熱交換流體150的循環。在一些實施例中,孔隙材料160至少要具有第一孔隙材料161配置在第一內表面121上,以協助熱交換流體150在水平方向(例如,XY平面上)的移動。在一些實施例中,第一孔隙材料161直接接觸第一內表面121,以和金屬殼120互相傳導熱能。
在存在第一孔隙材料161的實施例中,孔隙材料160可進一步具有第二孔隙材料162配置在第三內表面123上。在此實施例中,第二孔隙材料162可使熱能在垂直方向(例如,Z軸方向)傳導或是協助熱交換流體150在垂直方向(例如,Z軸方向)移動。在存在第一孔隙材料161和第二孔隙材料162的實施例中,孔隙材料160可進一步具有第三孔隙材料163,配置在第二內表面122上,以提供額外的熱能傳導。
金屬殼120的密閉空間124可決定熱交換流體150分佈範圍,而在金屬殼120內的孔隙材料160可有助於熱交換流體150的流動和循環。當金屬殼120位在電子元件170與散熱件180之間並熱耦接兩者時,金屬殼120即可形成電子元件170與散熱件180之間的熱能傳導路徑。換言之,可根據系統設計或製程要求來調整金屬殼120,藉此調整電子元件170與散熱件180之間的熱能傳導路徑。
在一些實施例中,電子元件170與散熱件180之間的熱能傳導路徑可設計在水平方向延伸(例如,在XY平面上延伸),如第1圖所示。在此實施例中,電子元件170的正投影可能不重疊散熱件180的正投影。換言之,電子元件170在第一內表面121的正投影與散熱件180在第一內表面121的正投影彼此分離。同樣地,第一導熱柱141的正投影可能不重疊第二導熱柱142的正投影。當然,在其他未繪示的實施例中,電子元件170在第一內表面121的正投影亦可重疊散熱件180在第一內表面121的正投影,此仍屬於本揭示案所欲保護的範圍。
因此,金屬殼120的密閉空間124搭配熱交換流體150和孔隙材料160可提供較多元的熱能傳導路徑,以增加電路板100的設計彈性,亦可快速地將電子元件170所產生的熱能傳導至散熱件180以提升電路板100的散熱效率。
電路板100還包括線路層190。絕緣部110電性隔離了線路層190與金屬殼120,所以線路層190不電性連接金屬殼120。因此,用於傳遞電訊號的線路層190與熱傳導路徑不會彼此影響而降低電子元件170的效能或是干擾電子元件170的運作,而且也有助於簡化系統設計。
第3圖、第4圖、第5圖、第6圖、第7圖和第8圖為依據本揭示案一些實施例繪示製造電路板100的各個階段的截面圖。第3圖、第4圖、第5圖、第6圖、第7圖和第8圖的參考截面與第2A圖一致。
應注意的是,除非有額外說明,當以下實施例繪示或描述成一系列的操作或事件時,這些操作或事件的描述順序不應受到限制。例如,部分操作或事件可採取與本揭示案不同的順序、部分操作或事件可同時發生、部分操作或事件可以不須採用、及/或部分操作或事件可重複進行。並且,實際的製程可能須各步驟之前、過程中、或之後進行額外的操作以完整形成電路板100。因此,本揭示案可能將簡短地說明其中一些額外的操作。
請參照第3圖,首先,形成凹槽300在第一絕緣部110A中。第一絕緣部110A為多層結構,並在後續流程中形成如第2A圖所示的第二介電層112和第三介電層113,而第二導熱柱142(見第2B圖此視角的截面圖)可形成在第一絕緣部110A中。凹槽300的形成方式可包括雷射鑽孔、機械鑽孔、其他合適的技術、或上述之組合。在一些實施例中,金屬層310A分佈在第一絕緣部110A上。在一些實施例中,金屬層310B配置在凹槽300的底表面上。在一些實施例中,金屬層310A和金屬層310B由不同的金屬薄片形成。
請同時參照第4圖和第5圖,接著,形成第一金屬子殼500在凹槽300內。在第4圖中,形成第一金屬子殼500的步驟可包括沿著凹槽300的內表面上保形地沉積金屬,使得凹槽300的側表面上形成金屬層400。沉積方式可包括蒸鍍、濺鍍、電鍍、其他合適的沉積技術、或上述之組合。舉例來說,形成金屬層400可包括使用電鍍製程。在使用電鍍製程的實施例中,可藉由調整電鍍參數(例如電流密度)使金屬層400可保形地沉積在凹槽300上。在第5圖中,圖案化金屬層310A以形成線路層190。金屬層400和金屬層310B共同形成第一金屬子殼500在凹槽300內,其中第一金屬子殼500與線路層190彼此分離而無電性連接。
請參照第6圖,配置第一孔隙材料161在第一金屬子殼500內。詳細而言,第一孔隙材料161設置在第一金屬子殼500的底表面上。在一些實施例中,第一孔隙材料161接觸第一金屬子殼500。
在一些實施例中,第一孔隙材料161呈現扁平狀並且水平尺寸(例如XY平面的尺寸)相同或大於第一金屬子殼500的底表面,因此第一孔隙材料161的邊緣可切齊或抵著第一金屬子殼500的側壁,以固定在第一金屬子殼500中。在配置第一孔隙材料161之後,可進一步地配置第二孔隙材料162在第一金屬子殼500內。第二孔隙材料162配置位置不同於第一孔隙材料161。舉例來說,第二孔隙材料162可配置在第一金屬子殼500的側壁上。
請繼續參照第6圖,加入熱交換流體150至第一金屬子殼500內。詳細而言,加入液體狀態的熱交換流體150至第一金屬子殼500內。液態狀態的熱交換流體150加入第一金屬子殼500的體積或重量是根據產品設計、應用溫度範圍、工作流體材料特性而定。
請參照第7圖,形成第二金屬子殼700在第二絕緣部110B上。第二絕緣部110B為第2A圖的第一介電層111,並且,第一導熱柱141可形成在第二絕緣部110B中,以及承載層130可形成在第二絕緣部110B上。
第二金屬子殼700的形成方式可包括沉積金屬層之後圖案化此金屬層。沉積方式可包括蒸鍍、濺鍍、電鍍、其他合適的沉積技術、或上述之組合。舉例來說,使用電鍍製程。在一些實施例中,在形成第二金屬子殼700之後,放置第三孔隙材料163在第二金屬子殼700內。
請參照第8圖,壓合第6圖的結構和第7圖的結構。詳細而言,壓合第一絕緣部110A和第二絕緣部110B以形成絕緣部110,並且,第一金屬子殼500(見第6圖)和第二金屬子殼700(見第7圖)彼此對齊並結合成具有密閉空間124的金屬殼120。在壓合之後,原本配置在第一金屬子殼500內的第一孔隙材料161和熱交換流體150皆密封在金屬殼120的密閉空間124中。在一些實施例中,第二孔隙材料162密封在金屬殼120中。在一些實施例中,第三孔隙材料163密封在金屬殼120中。
在形成金屬殼120之後,可配置電子元件170在第8圖的結構上(例如,配置在承載層130上)和配置散熱件180在第8圖的結構下,從而形成如第2A圖和第2B圖所示的電路板100,其中電路板100如前所述,在此不再詳述。
請參照第9圖,第9圖根據本揭示案另一些實施例繪示電路板200之俯視圖。第9圖中的電路板200與第1圖的電路板100相似,兩者的差異在於第9圖的金屬殼220的形貌。由於電子元件170的位置與散熱件180的位置同時在X軸方向及Y軸方向上彼此分開,因此金屬殼220在水平面上(例如,XY平面上)的形貌可具有彎折處,以連接電子元件170和散熱件180。例如,在第9圖中,金屬殼220在水平面上(例如,XY平面上)的形貌可設計成L型。簡言之,第9圖提供一種金屬殼220的例示性配置,用以說明在採用金屬殼220、熱交換流體150(見第2A圖)和孔隙材料160(見第2A圖)的情況下,電子元件170和散熱件180之間的熱傳導路徑可以是非直線的。
綜合以上所述,本揭示案的實施方式提供一種具有散熱效果的電路板及其製造方法,在電路板中設置具有密閉空間的金屬殼、熱交換流體和孔隙材料,以增加熱傳導路徑的配置彈性,藉此增加電路板的散熱效率並提升電路板設計與製程上的自由度,從而提高電子元件的效能。
以上概略說明了本揭示案數個實施例的特徵,使所屬技術領域內具有通常知識者對於本揭示案可更為容易理解。任何所屬技術領域內具有通常知識者應瞭解到本說明書可輕易作為其他結構或製程的變更或設計基礎,以進行相同於本發明實施例的目的及/或獲得相同的優點。任何所屬技術領域內具有通常知識者亦可理解與上述等同的結構並未脫離本發明之精神及保護範圍內,且可在不脫離本揭示案之精神及範圍內,可作更動、替代與修改。
100:電路板 110:絕緣部 110A:第一絕緣部 110B:第二絕緣部 111:第一介電層 112:第二介電層 113:第三介電層 120:金屬殼 121:第一內表面 122:第二內表面 123:第三內表面 124:密閉空間 130:承載層 141:第一導熱柱 142:第二導熱柱 150:熱交換流體 160:孔隙材料 161:第一孔隙材料 162:第二孔隙材料 163:第三孔隙材料 170:電子元件 180:散熱件 190:線路層 200:電路板 220:金屬殼 300:凹槽 310A:金屬層 310B:金屬層 400:金屬層 500:第一金屬子殼 700:第二金屬子殼 A-A:剖線 B-B:剖線 X, Y, Z:參考座標軸
閱讀以下實施方法時搭配附圖以清楚理解本揭示案的觀點。應注意的是,根據業界的標準做法,各種特徵並未按照比例繪製。事實上,為了能清楚地討論,各種特徵的尺寸可能任意地放大或縮小。
第1圖根據本揭示案一些實施例繪示電路板之俯視簡圖。
第2A圖根據本揭示案一些實施例繪示電路板沿第1圖的剖線A-A之截面圖。
第2B圖根據本揭示案一些實施例繪示電路板沿第1圖的剖線B-B之截面圖。
第3圖、第4圖、第5圖、第6圖、第7圖和第8圖依據本揭示案一些實施例繪示製造電路板的各個階段之截面圖。 第9圖根據本揭示案另一些實施例繪示電路板之俯視圖。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
100:電路板
110:絕緣部
111:第一介電層
112:第二介電層
113:第三介電層
120:金屬殼
121:第一內表面
122:第二內表面
123:第三內表面
124:密閉空間
130:承載層
141:第一導熱柱
150:熱交換流體
160:孔隙材料
161:第一孔隙材料
162:第二孔隙材料
163:第三孔隙材料
170:電子元件
190:線路層
Y,Z:參考座標軸

Claims (16)

  1. 一種電路板,包括:一絕緣部;一承載層,配置在該絕緣部上;一金屬殼,配置在該絕緣部內,並熱耦接該承載層,其中該金屬殼具有:一第一內表面;一第二內表面,相對該第一內表面,其中該第二內表面在該第一內表面與該承載層之間;一第三內表面,連接該第一內表面與該第二內表面;以及一密閉空間,被該第一內表面、該第二內表面與該第三內表面圍繞;一熱交換流體,分佈在該密閉空間內;一第一孔隙材料,分佈在該密閉空間內,並配置在該第一內表面上;一電子元件,配置於該承載層上,並經由該承載層而熱耦接該金屬殼,其中該電子元件不電性連接該金屬殼;以及一散熱件,配置於該金屬殼下,熱耦接該金屬殼,其中該金屬殼位在該電子元件與該散熱件之間,並且該電子元件在該第一內表面的正投影與該散熱件在第一內表面的正投影彼此分離。
  2. 如請求項1所述之電路板,進一步包括:一第一導熱柱,配置於該絕緣部中,連接該承載層和該金屬殼,並位在該承載層和該金屬殼之間。
  3. 如請求項2所述之電路板,其中該絕緣部包括一第一介電層與一第二介電層,該金屬殼位在該第一介電層與該第二介電層之間,該第一導熱柱配置在該第一介電層中,並熱耦接該承載層與該金屬殼。
  4. 如請求項3所述之電路板,進一步包括:一第二導熱柱,配置於該第二介電層中,連接該散熱件和該金屬殼,並位在該散熱件和該金屬殼之間。
  5. 如請求項1所述之電路板,其中該絕緣部完全包覆該金屬殼。
  6. 如請求項1所述之電路板,其中該第一孔隙材料接觸該金屬殼。
  7. 如請求項1所述之電路板,其中該熱交換流體包括一液體與一氣體。
  8. 如請求項1所述之電路板,進一步包括:一第二孔隙材料,配置在該第三內表面上。
  9. 如請求項8所述之電路板,進一步包括:一第三孔隙材料,配置在該第二內表面上。
  10. 一種製造電路板的方法,包括:形成一凹槽在一第一絕緣部中;形成一第一金屬子殼在該凹槽內;配置一第一孔隙材料在該第一金屬子殼內;加入一熱交換流體至該第一金屬子殼內;形成一第二金屬子殼在一第二絕緣部上;壓合該第一絕緣部與該第二絕緣部,以使該第一金屬子殼與該第二金屬子殼形成具有一密閉空間的一金屬殼,其中該熱交換流體與該第一孔隙材料皆密封於該金屬殼的該密閉空間中;配置一電子元件在該第二絕緣部上,其中該電子元件熱耦接該金屬殼,且該電子元件不電性連接該金屬殼;以及配置一散熱件在該第一絕緣部下,其中該散熱件熱耦接該金屬殼,該金屬殼位在該電子元件與該散熱件之間,並且該電子元件在該第一金屬子殼的正投影與該散熱件在該第一金屬子殼的正投影彼此分開。
  11. 如請求項10所述之製造電路板的方法,其中形成該第一金屬子殼的方法包括沿著該凹槽的內表面保形地沉積金屬。
  12. 如請求項10所述之製造電路板的方法,進一步包括:在壓合該第一絕緣部與該第二絕緣部之前,放置一第二孔隙材料在該第一金屬子殼內,其中該第二孔隙材料的位置與該第一孔隙材料的位置不同。
  13. 如請求項10所述之製造電路板的方法,進一步包括:在形成該第二金屬子殼之後,放置一第三孔隙材料在該第二金屬子殼內。
  14. 如請求項10所述之製造電路板的方法,進一步包括:形成一第二導熱柱在該第一絕緣部中;以及形成一第一導熱柱在該第二絕緣部中。
  15. 如請求項14所述之製造電路板的方法,其中該第一導熱柱熱耦接該電子元件和該第二金屬子殼。
  16. 如請求項15所述之製造電路板的方法,其中該第二導熱柱熱耦接該散熱件和該第一金屬子殼。
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