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TWI759451B - 使用各向異性光學膜之導光積層體及使用該導光積層體的面狀光源裝置 - Google Patents

使用各向異性光學膜之導光積層體及使用該導光積層體的面狀光源裝置 Download PDF

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TWI759451B
TWI759451B TW107110502A TW107110502A TWI759451B TW I759451 B TWI759451 B TW I759451B TW 107110502 A TW107110502 A TW 107110502A TW 107110502 A TW107110502 A TW 107110502A TW I759451 B TWI759451 B TW I759451B
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light guide
optical film
anisotropic optical
guide plate
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TW107110502A
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杉山仁英
加藤昌央
坂野翼
菅将吾
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日商巴川製紙所股份有限公司
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Abstract

本發明之課題在於提供一種由視認性良好的導光板與各向異性光學膜所成之導光積層體，以及一種由前述導光積層體與光源所成之面狀光源裝置。

前述課題之解決手段為一種導光積層體及使用前述導光積層體的面狀光源裝置；前述導光積層體係具有導光板及各向異性光學膜，前述導光板具有從端面入射之光經屈折而往表面出射之出射面，且前述出射面內的出射強度成為最大之角度係相對於與前述出射面垂直的方向為20°至60°，前述各向異性光學膜係直接或隔著其他層而積層於前述出射面，且其擴散性係因光的入射光角度而改變；與前述導光板的出射面為相反側的面之相反面係具有複數個大小為50μm以下且高度或深度為50μm以下之凹型或凸型之構造；前述各向異性光學膜具有基質區域及由複數個結構物所成之結構區域；於前述導光板的出射強度成為最大的角度，對前述各向異性光學膜入射之光的直線方向的穿透 光量/入射之光的光量之各向異性光學膜的直線穿透率為30%以下。

Description

使用各向異性光學膜之導光積層體及使用該導光積層體的面狀光源裝置
本發明係關於導光積層體及使用該導光積層體的面狀光源裝置。
以往，就液晶顯示器而言，係使用組合有如第1圖(a)所示之光源11、導光板12以及稜鏡片(prism lens)13之側光(edge light)型的面狀光源裝置10。然而，當採用稜鏡片時，容易產生由稜鏡所致之不均勻和干涉，且穿透率亦低。而且，當作為前光(front light)使用時，係有所謂會看見稜鏡的溝槽的線之缺點。因此，係採取藉由併用擴散膜24(第1圖(b))以防止不均勻和干涉，並彌補會看見稜鏡的溝槽的線之缺點的作法。但是，係有裝置構成變得複雜之情況，和於各層表面之反向散射、雜散光(stray light)多，發生亮度降低之問題。
就為了解決此等課題而利用藉由如第1圖(c)所示之導光板32及各向異性散射膜34(各向異性光散射膜或者各向 異性散射構件)之光的散射效果的手法而言，例如於：專利文獻1中，提案有將具有溝槽構造(第4圖(a)的111)之導光板與各向異性散射構件予以組合所成之反射型液晶顯示裝置；專利文獻2中，提案有將具有如第4圖(b)所示之稜鏡陣列(prism array)構造108之導光板與各向異性光散射膜予以組合所成之前照明裝置；又，於專利文獻3中，提案有將面發光機構之導光板與具有凹凸圖案形成片之各向異性賦與機構予以組合所成之各向異性面發光單元。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本專利第6050712號
[專利文獻2] 日本特開2003-203514號公報
[專利文獻3] 日本特開2012-42820號
利用專利文獻1及專利文獻2所提案之導光板及各向異性光散射膜(各向異性散射構件)之裝置，係藉由導光板的構造而能將來自光源的入射光直線性地進行導光。亦即，由於在導光板面內之入射光的擴散性較低，因此若欲於導光板面內獲得均勻的亮度，則需要將光源配置為高密度，而效率非常差。換言之，由於導光板之光的出射特性差，故有視認性低之問題。再者，就專利文獻3中所揭示之由面發光機構導光板與具有凹凸圖案形成片之 各向異性賦與機構之組合所成的各向異性面發光單元而言，由於凹凸圖案形成片並無入射角度依賴性，因此容易產生對於正面方向之光的穿透率之低，以致有視認性低之問題。於是，本發明之目的在於提供一種導光積層體、及由前述導光積層體與光源所成之面狀光源裝置，前述導光積層體能夠提升視認性，且包含導光板與各向異性光學膜。
本發明(1)為一種導光積層體，係具有導光板及各向異性光學膜，前述導光板具有從端面入射之光經屈折而往表面出射之出射面，前述出射面內的出射強度成為最大之角度係相對於與前述出射面垂直的方向為20°至60°，前述各向異性光學膜係直接或隔著其他層而積層於前述出射面，且其擴散性係因光的入射光角度而改變；該導光積層體中，與前述導光板的出射面為相反側的面之相反面係具有複數個大小為50μm以下且高度或深度為50μm以下之凹型或凸型之構造，前述各向異性光學膜具有基質區域及由複數個結構物所成之結構區域，於前述導光板的出射強度成為最大之角度，對前述各向異性光學膜入射之光的直線方向的穿透光量/入射之光的光量之各向異性光學膜的直線穿透率為30%以下。
本發明(2)為如前述發明(1)之導光積層體，其中，相對 於前述各向異性光學膜的法線方向之散射中心軸角度，係較前述出射強度成為最大之角度更往前述法線方向側傾斜；前述散射中心軸角度與前述出射強度成為最大之角度的差係20°以內。
本發明(3)為如前述發明(2)之導光積層體，其中，前述散射中心軸角度係從距離前述光源近的位置至距離前述光源遠的位置連續性地改變。
本發明(4)為如前述發明(1)至(3)中任一項所述之導光積層體，其中，前述複數個結構物的形狀係板狀。
本發明(5)為如前述發明(1)至(4)中任一項所述之導光積層體，其中，前述各向異性光學膜法線方向的直線穿透率為60%以上。
本發明(6)為如前述發明(1)至(5)中任一項所述之導光積層體，其中，前述導光板相反面之構造係凹型。
本發明(7)為如前述發明(1)至(6)中任一項所述之導光積層體，其中，前述凹型或凸型的構造係被密封，前述密封內部是由氣體、液體、固體或真空之至少任一者所填滿。
本發明(8)為如前述發明(1)至(7)中任一項所述之導光積層體，其中，前述其他係偏光板、相位差板或者此兩者中之至少任一者。
本發明(9)為一種面狀光源裝置，係至少由前述發明(1)至(7)中任一項所述之導光積層體及光源所成者。
依據本發明，能夠提供一種由視認性良好的導光板與各向異性光學膜所成之導光積層體、及由前述導光積層體與光源所成之面狀光源裝置。
1、11、21、31、41、51、300、310‧‧‧光源
2‧‧‧檢測器
10、20、30‧‧‧面狀光源裝置
12、22、32、42、52、101a、101b、101c、101d、109a、109b‧‧‧導光板
13、23‧‧‧稜鏡片
24‧‧‧擴散膜
34‧‧‧各向異性散射膜
43、53‧‧‧出射面
54‧‧‧加工部
60、70、103‧‧‧各向異性光學膜
61、71‧‧‧基質區域
63‧‧‧柱狀結構物
64、74‧‧‧塗佈膜
65、75‧‧‧遮光板
73‧‧‧百葉狀結構物
76‧‧‧指向性擴散元件
100、110、120、130、140、150‧‧‧導光積層體
101‧‧‧導光板
104‧‧‧位相差板
105‧‧‧偏光板
106‧‧‧反射板
107‧‧‧密封構件
108‧‧‧稜鏡陣列構造
109(a)、109(a)-1、109(a)-2、109(a)-3、109(a)-4、109(a)-5、109(a)-6、109(a)-7‧‧‧凹型點狀構造
109(b)‧‧‧凸型點狀構造
111‧‧‧溝槽構造
第1圖係表示面狀光源裝置之說明圖。
第2圖係表示導光板內之光的行進之示意圖。
第3圖係表示導光積層體的構造之側剖面圖。
第4圖係表示導光板的表面構造之擴大圖。
第5圖係例示凹型點狀構造的形狀之上面圖及剖面圖。
第6圖係表示導光板之點狀構造的分佈例之示意圖。
第7圖係表示導光積層體之各部位的光學動向之說明圖。
第8圖係表示具有柱狀(pillar)構造及百葉狀(louver)構造的複數個各結構物之各向異性光學膜的構造、及入射至此等各向異性光學膜後之穿透光之情況的一例之示意圖。
第9圖係表示各向異性光學膜的光擴散性之評估方法之說明圖。
第10圖係表示對第8圖所示之柱狀構造及百葉狀構造之各向異性光學膜的入射光角度與直線穿透率的關係之圖表。
第11圖係用以說明擴散區域及非擴散區域之圖表。
第12圖係表示各向異性光學膜60的製造程序的概要及依照製造程序而成長之柱狀結構物63的形成概況之示意圖。
第13圖係表示各向異性光學膜70的製造程序的概要及依照製造程序而成長之柱狀結構物73的形成概況之示意圖。
第14圖係表示實施例及比較例所採用之導光板的點狀構造及稜鏡型直線溝槽構造之斜視圖。
以下係詳述本發明之導光積層體。
1.主要用語之定義
「低折射率區域」及「高折射率區域」係因構成本發明之各向異光學膜之材料的局部性的折射率之高低差所形成的區域，為表示相較於他者之折射率為低或高之相對而言者。此等區域係在形成各向異性光學膜之材料進行硬化時被形成。
「縱橫比(aspect ratio)」係將屬於構成本發明之各向異性光學膜之構造區域之複數個結構物的長徑之平均值(平均長徑)除以短徑之平均值(平均短徑)之值。長徑的平均值(平均長徑)及短徑的平均值(平均短徑)係用顯微鏡觀察各向異性光學膜表面，並計測任意選出之100個結構物的短徑、長徑後，作為此等的平均值。
「直徑穿透率」一般係關於對各向異性光學膜入射之光的直線穿透性，為從某入射光角度入射時， 直線方向的穿透光量與入射之光的光量所成之比率，可用下式表示。
直線穿透率(%)=(直線穿透光量/入射光量)×100
「散射中心軸」係意指當使對各向異性光學膜的入射光角度改變時，與光擴散性係以其入射光角度為界而與具有略對稱性之光的入射光角度為一致之方向。所述「具有略對稱性」，係由於在散射中心軸對於膜的法線方向具有傾斜之情形下，屬於光學特性之後述光學曲線不具有嚴謹的對稱性之故。
散射中心軸，可根據從對入射光角度之直線穿透光量的測定所得之光學曲線，而將該光學曲線中具有略對稱性之入射光角度設為散射中心軸。
又，於本發明中，係不將「散射」與「擴散」兩者予以區別而使用，故兩者表示相同意義。再者，係將「光聚合」及「光硬化」定義為「光聚合性化合物藉由光而進行聚合反應」之意，而將兩者作為同義詞使用。
以下，係參照圖式並且就本發明之合適的實施形態加以詳細說明。再者，於本說明書及圖式中，附有相同符號之構成要素係實質上具有相同構造或功能者。
2.導光積層體
2-1. 整體構造
依本發明之導光積層體(例如，第3圖(a)至(e)，係至少由導光板101與光的擴散性係因入射光角度而改變之各向異性光學膜103所構成者。
於前述導光板與前述各向異性光學膜之間，或者於各表面上，可設置另外的層。前述另外的層，雖無特別加以限定，惟可列舉：密封構件107、偏光板105、相位差板104，或者偏光板105及相位差板104兩者等。
密封構件107係形成於導光板表面之用以使光反射/折射後出射至外部之構造，例如可以是為了避免具有複數個凹透鏡型點狀構造之導光板由於附著汙物或傷痕而造成光學特性降低之目的等而使用，且能夠利用密封膜、接著劑等(第3圖(e))。
又，偏光板105係僅讓從導光板出射之出射光往特定方向偏光或偏振之後的光通過之板，例如能夠利用在採用本發明之面狀光源裝置作為液晶顯示器用光源之情形。
再者，相位差板104係例如為能夠使用於液晶顯示的光學補償用之材料，可以是為了防止產生因為雙折射性所致之光學性歪斜或因視角方向所致之調變等所引起之顯示的著色等、視角依賴性之目的而利用。
又，亦可設置用以固定各向異性光學膜、偏光板等的黏著層(未圖示)。黏著層可採用周知之黏著劑。
再者，就將本發明之面狀光源裝置作為背光使用之情況(第3圖(d))而言，可在屬於與導光板101的出射面為相反側的面之相反面設置反射面106。於此情形下，各向異性光學膜103可設置於導光板的出射面。
又，如第3圖(f)所示，亦可於導光板的出射面設置各 向異性光學膜103，再於各向異性光學膜103的表面設置反射板106。
2-2. 各部位
2-2-1. 導光板
於第2圖(a)，表示於導光板42上設置光源41並使光入射時板內之光的行進。入射至導光板內之光，係在導光板42的內部藉由全反射而於反射同時行進，並從與光源41為相反側的端面被出射。由於光在導光板內面被全反射，因此無法由出射面43出射。欲從出射面均勻地取出光時，則例如第2圖(b)所示般，於導光板52之一主面設置屬於凹型構造之加工部54。藉此加工部54，可改變導光板52內行進之光所反射之角度，而進行反射、折射，並從出射面53出射。
2-2-1-1. 構造
導光板係由板、膜等透明構件或此等構件之積層物所構成。導光板的材質只要是透明構件即可，例如可列舉透明樹脂、玻璃等，惟較佳為透明樹脂，更佳為透明性高的熱塑性樹脂。就透明性高的熱塑性樹脂而言，可列舉例如：聚烯烴系樹脂、乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚胺酯系樹脂、聚醚系樹脂等。從透明性的觀點來看，其中尤佳為於可見光區域無波長的吸收區域之聚碳酸酯樹脂、丙烯酸系樹脂、胺酯系樹脂。
如上述般從設置於導光板側面之光源入射 至導光板之光，係在導光板內面反覆全反射同時在導光板內行進。於導光板中，設置有複數個當光在全反射時改變反射角度之加工部，而於前述加工部被改變反射角度之光係從出射面被出射至外部。前述加工部可設置於導光板的主面之一面，亦即，可設置於與出射面為相反側的面之相反側。
前述改變光的反射角度之加工部的構造並無特別限定，惟於本發明中，較佳為具有複數個凹型或凸型的構造之點狀構造，更佳為凹型點狀構造。此等構造可以單獨使用，亦可組合複數個構造使用。前述加工部較佳為大小在50μm以下且高度或深度在50μm以下之凹型或凸型的點狀構造，更佳為大小及深度在50μm以下之凹型的點狀構造。藉此方式，在使用本發明之導光積層體作為前光之情形下，可防止視認到前述加工部構造。
以下，詳細記載前述加工部構造為合適例之凹型點狀構造之情形。
如上所述，前述凹型點狀構造較佳為大小及深度為50μm以下。
將前述凹型點狀構造之例表示於第5圖(a)至(g)。前述凹型點狀構造並不限於此等例。其中較佳為半球狀之第5圖(a)。藉此方式，可使光容易擴散，故可提高出射面內之光的均勻性。在此，於構成前述凹型點狀構造的面之中，相對於光的行進方向之凹型點狀構造的形狀係皆作成曲面，或者是成為以相對於光的行進方向至少存在1個非垂 直之區域的方式作成之形狀。此等的形狀、大小及深度可統一為一種，亦可為組合複數種。
就第5圖(a)至(g)所示之前述凹型點狀構造而言，雖然導光板出射面係凹型點狀構造，惟亦可為凸型點狀構造。但是，從密封後述之點狀構造之觀點來看，較佳為凹型點狀構造。
在此，就凹型點狀構造之大小而言，可設為第5圖(a)至(g)中所示長度之X。X表示面對光的行進方向之凹型點狀構造的長度，並對凹型點狀構造的對於光之性能有所貢獻。又，深度可設為從具有凹型點狀構造之平面A-A算起至凹型點狀構造的最深位置為止的距離。
在此，為上述凸型點狀構造之情形，凹型點狀構造之「深度」即為「高度」。此時，高度可設為從具有凸型點狀構造之平面算起至凸型點狀構造之最高位置為止之距離。
又，前述凹型點狀構造之大小及深度可各以50μm為上限，並視從光源算起之距離而改變。例如，可將前述凹型點狀構造之大小及深度設為隨著遠離光源而連續性地增大。此時，由於在接近光源而光較強的位置時從出射面所射出之光量較小，且所射出之光量會隨著遠離光源構件而增大，故可提高出射光的光量之均勻性。又，可為僅在欲出射更強的光之部分作成大尺寸的凹型點狀構造，亦可為以僅一部分呈現不同的外觀之方式作成僅一部分不同的構造之點狀構造。
前述點狀構造可於導光板面隨機地配置複 數個，亦可配置成點狀構造之分佈密度隨著從接近導光板的光源之側往遠離導光板的光源之側遠離而變高(第6圖)。例如，前述分佈密度可設為：在最靠近光源之區域時為50個/mm2左右，而在最遠離光源的區域則為300個/mm2左右。藉此方式，可提升出射面內的光之出射均勻性。
再者，如於導光板之別的側部亦設置光源時，因為可提升前述出射面內之光的出射均勻性，故可適當調整上述之點狀構造之配置和分佈密度。
前述凹型點狀構造可以密封膜、接著劑等密封構件進行密封。藉此方式，可防止廢物、傷痕等侵入/附著於凹型點狀構造內，而可防止導光板之出射強度降低。
又，當在具有前述凹型點狀構造之導光板表面積層別的層時，在不進行密封之情形下，可能會於前述加工部以外之導光板相反面與前述別的層之間侵入薄的空氣層，而有引起干涉不均勻之情形。藉由進行密封，可防止前述干涉不均勻。
又，前述點狀構造經密封後之點狀構造加工部內部，可由氣體、液體、固體之任一種所填滿，或者亦可為真空狀態。
2-2-1-2. 特性
於本發明之導光板的出射面內之導光板出射光的出射強度成為最大之角度(第7圖(a))，係相對於與出射面垂直的方向為20°至60°。如第7圖(b)所示，當將各向異性光 學膜的散射中心軸設為20°至60°時，在導光板的出射強度成為最大之角度係未達20°之情形下，由於係直線穿透各向異性光學膜，故具有充分的照度，而不需要與各向異性光學膜組合。另一方面，在導光板出射強度成為最大之角度超過60°之情形下，即使與各向異性光學膜組合，也無法期待照度提升之效果。
2-2-1-3. 製造方法
於導光板之某個面上，形成有改變光的反射角度之加工部。前述加工部之製作方法並無特別限定，可列舉：超音波加工、加熱加工、雷射加工、切削加工、藉由奈米壓印進行之加工等加工方法。例如，在藉由超音波加工而製作凹型點狀構造之情形下，係將於先端面排列有凸型點狀構造，且該凸型點狀構造具有使凹型點狀構造反轉的形狀之超音波加工模具(horn)對著導光板材料垂直地進行按壓，藉此可形成轉印有點狀構造的形狀之凹型點狀構造。
又，點狀構造亦可藉由網版印刷、絲網印刷等製造。
再者，點狀構造亦可係使用以能夠成形為點狀構造之方式製作的模具等而在導光板成形時同時進行凹型形狀或凸型形狀之成形。
2-2-2. 各向異性光學膜
依據本發明之各向異性光學膜，係直接或者隔著其他層而積層於前述導光板的出射面，而具有使從前述導光板出射之光依特定的入射角度擴散之作用。換言之，前述各 向異性光學膜係以光的擴散性因入射光角度之不同而改變為特徵。
2-2-2-1. 構造
參照第8圖至第11圖而說明本發明之各向異性光學膜。
第8圖係表示具有由柱狀(略柱狀)構造及百葉狀(略板狀)構造之複數個結構物所成之構造區域的各向異性光學膜之構造，及入射至此等各向異性光學膜後之穿透光之情況之一例的示意圖。第9圖係表示各向異性光學膜的光擴散性的評估方法之說明圖。第10圖係表示對第8圖所示之柱狀構造及百葉狀構造之各向異性光學膜的入射光角度與直線穿透率之間的關係的圖表。第11圖係用以說明擴散區域及非擴散區域之圖表。
各向異性光學膜係於膜的膜厚方向形成有由與薄膜的基質區域之折射率相異的複數個結構物所成之構造區域的膜。
前述構造區域可為形成在囊括從前述各向異性光學膜的一表面至另一表面之區域者，亦可為局部性或斷續性地形成者。
前述結構物的形狀並無特別限制，例如有：如第8圖(a)所示之各向異性光學膜(柱狀構造的各向異性光學膜60)，係於基質區域61形成有柱狀結構物63，而該柱狀結構物63為形成短徑與長徑的縱橫比小的柱狀(例如棒狀)且折射率與基質區域不同者；和如第8圖(b)所示之各向異 性光學膜(百葉狀構造的各向異性光學膜70)，係於基質區域71形成有百葉狀結構物73，而該百葉狀結構物73為形成縱橫比大的略板狀且折射率與基質區域不同者。又，此等構造區域的形狀可僅由單一形狀所構成，亦可組合使用複數種形狀。例如，可為前述柱狀結構物與前述百葉狀結構物混合存在。藉此方式，可以較廣幅度調整光學膜的光學特性，特別是直線穿透率和擴散性。
又，此等構造區域的定向方向可對薄膜的法線方向具有傾斜。藉此方式，可具有下述性質：當入射光在靠近從法線方向往預定角度傾斜之方向的入射光角度範圍(擴散區域)時會強烈擴散，惟在入射光角度範圍超過該角度範圍(非擴散區域)時，擴散會變弱且直線穿透率變高。
再者，前述導光板的出射強度成為最大之角度，如在靠近光源之區域時，為接近出射面的法線方向之角度，有隨著遠離光源而對法線方向之傾斜變大之傾向。因此，前述各向異性光學膜之散射中心軸的角度，係以配合前述導光板的出射強度成為最大之角度的變化而使其改變為較佳。藉此方式，可提升導光積層體之光的出射面內之出射強度之均勻性。
2-2-2-2. 特性
具有上述構造之各向異性光學膜，係光擴散性因對該膜之入射光角度而不同的光擴散膜，亦即，係具有入射光角度依賴性之光擴散膜。對此各向異性光學膜以預定之入射角度入射之光，在與折射率不同的區域之定向方向[例 如，柱狀構造之柱狀結構物63的延伸存在方向(定向方向)或百葉狀構造之百葉狀結構物73的高度方向]為大致平行時，係擴散優先，在非平行於該方向時，係穿透優先。
在此，係參照第9圖及第10圖，就各向異性光學膜的光擴散性更具體地進行說明。在此，舉例說明上述之柱狀構造之各向異性光學膜60及百葉狀構造之各向異性光學膜70的光擴散性。
光擴散性之評估方法係以下述方式進行。首先，如第9圖所示，將各向異性光學膜60、70配置於光源1與檢測器2之間。於本形態中，係將源自光源1之照射光I從各向異性光學膜60、70的法線方向入射之情形設為入射光角度0°。又，各向異性光學膜60、70係以可使其以直線L為中心而任意地旋轉之方式配置，光源1及檢測器2則係被固定。亦即，依此方法，試樣(各向異性光學膜60、70)係配置於光源1與檢測器2之間，並以試樣表面的直線L作為中心軸而改變角度，同時測定直進穿透試樣並進入檢測器2之直線穿透量，藉此可得到直線穿透率。
在評估經將各向異性光學膜60、70分別就將第8圖的TD方向(各向異性光學膜的寬度方向)選用於第9圖所示旋轉中心的直線L之情形的光擴散性進行評估，並將所得的光擴散性之評估結果表示於第10圖。第10圖係表示使用第9圖所示方法測定之第8圖所示各向異性光學膜60、70所具有的光擴散性(光散射性)的入射光角度依 賴性者。第10圖的縱軸表示屬於表示散射的程度之指標之直線穿透率[本形態中，係當使預定光量的平行光射入射時，往與入射方向相同方向出射之平行光線的光量之比例，更具體而言，係直線穿透率=(有各向異性光學膜60、70時之檢測器2的檢測光量之直線穿透光量/無各向異性光學膜60、70時之檢測器2的檢測光量之入射光量)×100]，橫軸表示對各向異性光學膜60、70的入射光角度。第10圖中之實線表示柱狀構造之各向異性光學膜60的光擴散性，而虛線表示百葉狀構造之各向異性光學膜70的光擴散性。又，入射光角度的正負係表示使各向異性光學膜60、70旋轉之方向為相反。
如第10圖所示，各向異性光學膜60、70係具有直線穿透率會因入射光角度而改變的光擴散性之入射光角度依賴性者。在此，係將如第10圖之表示光擴散性之入射光角度依賴性的曲線稱為「光學曲線」。光學曲線雖然非直接表現光擴散性者，惟若解釋為「降低直線穿透率，擴散穿透率反而增大」，則可謂是大略地表示光擴散性。就通常的等向性之光擴散膜而言，係顯示0°附近為譜峰之山型的光學曲線；惟就各向異性光學膜60、70而言，係相較於在柱狀結構物63、百葉狀結構物73的中心軸方向，亦即，在散射中心軸方向(將此方向的入射光角度設為0°)進行入射之情形，當入射光角度為+5°至+20°或-5°至-20°時，直線穿透率一度成為極小值，且直線穿透率會隨著其入射光角度(之絕對值)增大而變大，當入射光角度為+40°至 +60°或-40°至-60°時，直線穿透率成為極大值之顯示谷型的光學曲線者。如此，各向異性光學膜60、70係具有：雖然在入射光靠近散射中心軸方向之±20°的入射光角度範圍為強烈擴散，惟在超過前述範圍的入射光角度範圍為擴散減弱而直線穿透率提高之性質。以下係將對於最大直線穿透率與最小直線穿透率的中間值的直線穿透率之2個入射光角度的角度範圍稱為「擴散區域」(將此擴散區域的幅度稱為「擴散幅度」，並將此外之入射光角度範圍稱為非擴散區域(穿透區域)。在此，係參照第11圖並列舉百葉狀構造之各向異性光學膜70為例來說明擴散區域及非擴散區域。第11圖係表示第10圖之百葉狀構造的各向異性光學膜70的光學曲線者，惟如第11圖所示，係以對最大直線穿透率(第11圖之例中，直線穿透率為約78%)與最小直徑穿透率(第11圖之例中，直線穿透率為約6%)之中間值的直線穿透率(第11圖之例中，直線穿透率為約42%)之2個入射光角度之間(第11圖所示之光學曲線上的2個黑點的位置之2個入射光角度之內側)的入射光角度範圍作為擴散區域，並以此外(第11圖所示光學曲線上的2個黑點的位置之2個入射光角度的外側)的入射光角度範圍作為非擴散區域。
再者，於本發明中，由於各向異性光學膜係與導光板組合使用，因此係將直線穿透率為30%以下之入射光的角度範圍(在光學曲線上2個直線穿透率為30%以下之各入射光角度值間的範圍)作為擴散性高的範圍之「擴散範圍」 來處理。
就柱狀構造之各向異性光學膜60而言，如從第8圖(a)所能看到的穿透光之情況，穿透光係成為略圓形狀者，在MD方向與TD方向係顯示大致相同的光擴散性。亦即，在柱狀構造的各向異性光學膜60，擴散係具有等向性。又，如第10圖之實線所示，因為即使改變入射光角度，光擴散性(特別是於非擴散區域與擴散區域之邊界附近之光學曲線)之改變仍為較緩和，故具有所謂不會產生亮度的急遽變化或眩光之效果。然而，就各向異性光學膜60而言，若與第10圖之虛線所示之百葉狀構造的各向異性光學膜70的光學曲線進行比較，便可知由於非擴散區域之直線穿透率較低，因此亦有所謂顯示特性(亮度或對比度等)會稍為降低之問題。又，柱狀構造之各向異性光學膜60相較於百葉狀構造之各向異性光學膜70，還有擴散區域的幅度亦較狹窄之問題。
另一方面，就百葉狀構造之各向異性光學膜70而言，如由第8圖(b)所見之穿透光之情況可知，穿透光係成為略針狀，而在MD方向與TD方向之光擴散性係大為不同。亦即，於百葉狀構造之各向異性光學膜70，擴散係具有各向異性。具體而言，於第8圖所示之例中，在MD方向係相較於柱狀構造為擴散更廣，惟在TD方向則係相較於柱狀構造為擴散較狹。又，如第10圖之虛線所示般，改變入射光角度時，則(在本形態之情形下係於TD方向)由於光擴散性(特別是在非擴散區域與擴散區域之邊 界附近的光學曲線)之改變極為劇烈，因此在將各向異性光學膜70應用於顯示裝置時，有出現亮度之急遽變化改變、眩光，以致視認性降低之虞。而且，還有百葉狀構造之各向異性光學膜容易產生光的干涉(虹彩)之問題。然而，各向異性光學膜70於非擴散區域之直線穿透率高，有可提升顯示特性之效果。
如上所述，各向異性光學膜的光學特性會因各向異性光學膜內的複數個結構物之縱橫比而改變。亦即，藉由調整前述縱橫比，可調整各向異性光學膜的光學特性。前述縱橫比並無特別限制，惟有擴散範圍隨著縱寬比變小而變窄之虞，因此縱橫比較佳為2以上50以下，更佳為2以上10以下，又更佳為2以上5以下。藉由將上述緃橫比設為此種範圍，光的擴散性/聚光性會更優異。
本發明之各向異性光學膜，較佳為於法線方向(0°)之直線穿透率為40%以上，更佳為50%以上，又更佳為60%以上。亦即，因為對從法線方向入射之光之擴散性較弱，故可防止顯示變模糊之情況。
又，本發明之各向異性光學膜，較佳為相對於前述導光板的出射面內之出射強度成為最大之角度(20°至60°)時之入射光，其直線穿透率係在30%以下。亦即，因為擴散性強，故可增強法線方向的光之照度。
再者，相對於前述各向異性光學膜的法線方向之散射中心軸角度係較前述導光板的出射強度成為最大之角度(第7圖(c)、θ1)更往前述法線方向側傾斜，較佳 為前述散射中心軸角度(第7圖(c)、θ2)與前述導光板出射強度成為最大之角度的差在30°以內，更佳為20°以內，又更佳為10°以內。藉此方式，導光板出射光會被強烈擴散，惟在導光板出射光之入射角度超出所述的範圍時，擴散會減弱而直線穿透率會變高。
3.導光積層體之製造方法
3-1. 各向異性光學膜之製造方法
本形態之各向異性光學膜可藉由對光硬化性組成物層照射UV(紫外線)等光線而製造。以下，首先說明各向異性光學膜的原料，其次說明各向異性光學膜之製造程序。
3-1-1. 各向異性光學膜之原料
對於各向異性光學膜之原料，係依序說明：(1)光聚合性化合物、(2)光起始劑、(3)調配量、其他的任意成分。
3-1-1-1. 光聚合性化合物
屬於形成本形態之各向異性光學膜的材料之光聚合性化合物，係由選自具有自由基聚合性或陽離子聚合性的官能基之大分子單體、聚合物、寡聚物、單體之光聚合性化合物與光起始劑所構成，為藉由照射紫外線及/或可見光線而聚合/硬化之材料。在此，各向異性光學膜所含之形成各向異性光學膜之材料即使僅為一種，亦可藉由密度的高低差而產生折射率差。由於UV的照射強度較強之部分硬化速度會變快，因此聚合/硬化材料係往其硬化區域移動，結果係形成折射率變高之區域及折射率變低之區域。又，(甲基)丙烯酸酯係意指可為丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯中之 任一者。
自由基聚合性化合物係主要在分子中含有1個以上不飽和雙鍵者，具體而言，可列舉：可稱為環氧丙烯酸酯、胺酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚丁二烯丙烯酸酯、聚矽氧丙烯酸酯等名稱之丙烯酸寡聚物；及丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異戊酯、丙烯酸丁氧基乙酯、乙氧基二乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸四氫糠酯、丙烯酸異降冰片酯、丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、2-丙烯醯氧基苯二甲酸、丙烯酸二環戊烯酯、三乙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、雙酚A之EO加成物二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、EO改質三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯、二新戊四醇六丙烯酸酯等丙烯酸酯單體。又，此等化合物可使用各單體，亦可以將複數種混合使用。再者，亦可以相同方式使用甲基丙烯酸酯，惟一般而言丙烯酸酯之光聚合速度係較甲基丙烯酸酯快，故為較佳。
陽離子聚合性化合物可使用於分子中具有1個以上環氧基或乙烯醚基、氧雜環丁烷基之化合物。具有環氧基之化合物可列舉：2-乙基己基二甘醇縮水甘油醚、聯苯之縮水甘油醚、雙酚A、氫化雙酚A、雙酚F、雙酚AD、雙酚S、四甲基雙酚A、四甲基雙酚F、四氯雙酚A、四溴雙酚A等雙酚類之二縮水甘油醚類，苯酚酚醛清漆、 甲酚酚醛清漆、溴化苯酚酚醛清漆、鄰位甲酚酚醛清漆等酚醛清漆樹脂之聚縮水甘油醚類，乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、丁二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、三羥甲基丙烷、1,4-環己烷二甲醇、雙酚A之EO加成物、雙酚A之PO加成物等烷二醇類之二縮水甘油醚類，六氫鄰苯二甲酸之縮水甘油酯或二聚物酸之二縮水甘油酯等縮水甘油酯類。
作為具有環氧基之化合物，尚可再列舉：3,4-環氧基環己基甲基-3’,4’-環氧基環己烷羧酸酯、2-(3,4-環氧基環己基-5,5-螺-3,4-環氧基)環己烷-間-二
Figure 107110502-A0202-12-0023-21
烷、二(3,4-環氧基環己基甲基)己二酸酯、二(3,4-環氧基-6-甲基環己基甲基)己二酸酯、3,4-環氧基-6-甲基環己基-3’,4’-環氧基-6’-甲基環己烷羧酸酯、亞甲基雙(3,4-環氧基環己烷)、二環戊二烯二環氧化物、乙二醇之二(3,4-環氧基環己基甲基)醚、乙烯基雙(3,4-環氧基環己烷羧酸酯)、內酯改質3,4-環氧基環己基甲基-3’,4’-環氧基環己烷羧酸酯、四(3,4-環氧基環己基甲基)丁烷四羧酸酯、二(3,4-環氧基環己基甲基)-4,5-環氧基四氫苯二甲酸酯等脂環式環氧基化合物，惟並不限定於此等。
具有乙烯醚基之化合物可列舉例如：二乙二醇二乙烯醚、三乙二醇二乙烯醚、丁二醇二乙烯醚、己二醇二乙烯醚、環己烷二甲醇二乙烯醚、羥基丁基乙烯醚、乙基乙烯醚、十二基乙烯醚、三羥甲基丙烷三乙烯醚、丙烯基醚碳酸丙烯酯等，惟並不限定於此等。再者，乙烯醚化合物一般而言係屬於陽離子聚合性，惟亦能夠藉由與丙 烯酸酯組合而自由基聚合。
又，具有氧雜環丁烷基之化合物可使用：1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基甲氧基)甲基]苯、3-乙基-3-(羥甲基)-氧雜環丁烷等。
再者，以上之陽離子聚合性化合物係可使用各單體，亦可混合複數個使用。上述光聚合性化合物並不限定於上述者。又，為使產生充分的折射率，於上述光聚合性化合物中，為了謀求低折射率化，可導入氟原子(F)，而為了謀求高折射率化，亦可導入硫原子(S)、溴原子(Br)、各種金屬原子。再者，如日本特表2005-514487號公報所揭示，於上述光聚合性化合物中添加在由氧化鈦(TiO2)、氧化鋯(ZnO2)、氧化錫(SnOx)等高折射率的金屬氧化物所成之超微粒子的表面導入有丙烯酸基或甲基丙烯酸基、環氧基等光聚合性官能基之功能性超微粒子之作法亦屬有效。
3-1-1-1-1. 具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物
本形態中，較佳為使用具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物作為光聚合性化合物。具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物，係隨著其構造(主要為醚鍵)而定向並進行聚合/硬化，而形成低折射率區域、高折射率區域，或者低折射率區域以及高折射率區域。藉由使用具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物，變得容易使結構物63、73傾斜，而提高往正面方向之聚光性。再者，低折射率區域係相當於結構物 63、73或基質區域61、71之任何一者，另一者則相當於高折射率區域。
於低折射率區域中，屬於具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物的硬化物之聚矽氧樹脂能係以相對較多為較佳。藉此，而能使散射中心軸更容易傾斜，故往正面方向的聚光性會提升。因為聚矽氧樹脂相較於不具有聚矽氧骨架之化合物係含有較多矽(Si)，故可以該矽作為指標，而藉由使用EDS(能量分散型X光分光器)來確認聚矽氧樹脂的相對的量。
具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物，係具有自由基聚合性或者陽離子聚合性之官能基之單體、寡聚物、預聚物或者大分子單體。自由基聚合性之官能基可列舉：丙烯醯基、甲基丙烯醯基、烯丙基等，而陽離子聚合性之官能基可列舉：環氧基、氧雜環丁烷基等。此等官能基之種類及數目並無特別限制，惟由於官能基愈多則交聯密度愈上升，愈容易產生折射率之差而為較佳之故，因此較佳為具有多官能之丙烯醯基或者甲基丙烯醯基。又，具有聚矽氧骨架之化合物係由於其構造而與其他化合物之間在相溶性方面有不充分之情形，惟此種情形下可加以胺酯化以提高相溶性。本形態中，適合使用於末端具有丙烯醯基或者甲基丙烯醯基之聚矽氧/胺酯/(甲基)丙烯酸酯。
具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物的重量平均分子量(Mw)較佳為在500至50,000之範圍。更佳為在2,000至20,000之範圍。藉由重量平均分子量在上述範 圍，會發生充分的光硬化反應，而各向異性光學膜60、70的存在於各向異性光學膜內之聚矽氧樹脂會變得容易配向。隨著聚矽氧樹脂之配向，變得容易使散射中心軸傾斜。
聚矽氧骨架係例如符合下述通式(1)所示者。於通式(1)中，R1、R2、R3、R4、R5、R6係依分別獨立地具有甲基、烷基、氟烷基、苯基、環氧基、胺基、羧基、聚醚基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基等官能基。又，通式(1)中，n較佳為1至500之整數。
Figure 107110502-A0202-12-0026-1
3-1-1-1-2. 不具有聚矽氧骨架之化合物
當於具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物中調配不具有聚矽氧骨架之化合物而形成各向異性光學膜時，變得容易分離並形成低折射率區域與高折射率區域，各向異性之程度變強，故為較佳。不具有聚矽氧骨架之化合物，除了光聚合性化合物之外，尚可採用熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂，亦可將此等併用。此光聚合性化合物可使用具有自由基聚合性或者陽離子聚合性之官能基之聚合物、寡聚物、單體(惟係不具有聚矽氧骨架者)。熱塑性樹脂可列舉：聚酯、聚醚、聚胺酯、聚醯胺、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚縮醛、聚乙酸乙烯酯、丙烯酸樹脂及其共聚物和改質物。在使用 熱塑性樹脂時，係使用能溶解熱塑性樹脂之溶劑進行溶解，並在塗佈、乾燥後用紫外線使具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物硬化，而使各向異性光學膜成形。熱硬化性樹脂可列舉：環氧樹脂、苯酚樹脂、三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、不飽和聚酯及其共聚物或改質物。在使用熱硬化性樹脂時，係藉由在以紫外線使具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物硬化後適當進行加熱，使熱硬化性樹脂硬化而成形各向異性光學膜。作為不具有聚矽氧骨架之化合物，最佳者乃光聚合性化合物，就低折射率區域與高折射率區域容易分離、不需要在使用熱塑性樹脂時之溶劑且不需要乾燥過程、不需要如熱硬化性樹脂般的熱硬化程序等而言，係生產性優異。
3-1-1-2. 光起始劑
可使自由基聚合性化合物聚合之光起始劑，可列舉：二苯甲酮、二苯甲醯(benzil)、米其勒酮(Michler's ketone)、2-氯硫雜蒽酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯隅姻異丁基醚、2,2-二乙氧基苯乙酮、苄基二甲基縮酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙酮-1,1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、雙(環戊二烯基)-雙(2,6-二氟-3-(吡咯-1-基)鈦、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1,2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦等。又，此等化合物係可使用各單體，亦可將複數個混合 使用。
又，陽離子聚合性化合物之光起始劑係藉由光照射而產生酸，並可藉由所產生之該酸而使上述陽離子聚合性化合物聚合之化合物，一般而言，適合使用鎓鹽、金屬(metallocene)錯合物。鎓鹽可使用：重氮鹽、鋶鹽、碘鹽、鏻鹽、硒鹽等，此等的相對離子能夠使用：BF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -等陰離子。具體例可列舉：4-氯苯重氮六氟磷酸鹽、三苯基鋶六氟銻酸鹽、三苯基鋶六氟磷酸鹽、(4-苯基苯硫基)二苯基鋶六氟銻酸鹽、(4-苯基苯硫基)二苯基鋶六氟磷酸鹽、雙[4-(二苯基二氫硫基)苯基]硫醚-雙-六氟銻酸鹽、雙[4-(二苯基二氫硫基)苯基]硫醚-雙-六氟磷酸鹽、(4-甲氧基苯基)二苯基鋶六氟銻酸鹽、(4-甲氧基苯基)苯基碘鎓六氟銻酸鹽、雙(4-第三丁基苯基)碘鎓六氟磷酸鹽、苄基三苯基鏻六氟銻酸鹽、三苯基硒六氟磷酸鹽、(η5-異丙基苯)(η5-環戊二烯基)鐵(II)六氟磷酸鹽等，惟並不限定於此等。又，此等化合物可使用各單體，亦可將複數種混合使用。
3-1-1-3. 調配量、其他任意成分
本形態中，相對於光聚合性化合物100重量份，上述光起始劑係調配0.01至10重量份，較佳為0.1至7重量份，更佳為0.1至5重量份左右。此係因為在調配未達0.01重量份時，光硬化性會降低，而在調配超過10重量時，會導致僅表面硬化而內部的硬化性降低之弊病，妨礙著色、柱狀構造的形成之故。此等光起始劑，通常係將粉體直接 溶解於光聚合性化合物中後使用，惟溶解性差時，亦可使用將光起始劑預先溶解於極少量的溶劑中而為高濃度者。此種溶劑更佳為屬於光聚合性者，可具體列舉：碳酸丙烯酯、γ-丁內酯等。又，亦可為了提升光聚合性而添加周知之各種染料、增敏劑。再者，亦可將可藉由加熱光聚合性化合物而硬化之熱硬化起始劑與光起始劑一起併用。此時，可期待藉由在光硬化之後加熱而進一步促進光聚合性化合物之聚合硬化的完全硬化者。
本形態中，可使上述之光聚合性化合物單獨硬化，或使混合有複數種之組成物硬化，以形成各向異性光學膜。又，藉由使光聚合性化合物與不具有光硬化性之高分子樹脂的混合物硬化，亦可形成本形態之各向異性光學膜。在此可使用之高分子樹脂可列舉：丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚胺酯樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、纖維素系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇縮丁醛(polyvinyl butyral)樹脂等。此等高分子樹脂與光聚合性化合物需為在光硬化前具有充分的相溶性者，而為了確保此種相溶性，亦可使用各種有機溶劑和塑化劑等。再者，使用丙烯酸酯作為光聚合性化合物之情形下，就相溶性之點而言，較佳為從丙烯酸樹脂選出作為高分子樹脂者。
具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物、與不具有聚矽氧骨架之化合物之比例，就質量比而言，較佳為在15：85至85：15之範圍。更佳為30：70至70：30之 範圍。藉由設於該範圍，則容易進行低折射率區域與高折射率之相分離，同時柱狀區域會變得容易傾斜。若具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物之比例未達下限值或超過上限值，則會變得難以進行相分離，而複數個結構物會變得難以傾斜。若使用聚矽氧/胺酯/(甲基)丙烯酸酯作為具有聚矽氧骨架之光聚合性化合物，則與不具有聚矽氧骨架之化合物之間的相溶性會提升。藉此，即使增大材料之混合比例，仍然能使複數個結構物傾斜。
3-1-1-3-1. 溶劑
就調製含有光聚合性化合物之組成物時的溶劑而言，可使用例如：乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁酮、環己酮、甲苯、二甲苯等。
3-2. 各向異性光學膜之製造程序
其次，就本形態之各向異性光學膜60及各向異性光學膜70之製造程序加以說明。第12圖表示屬於柱狀構造之本形態的各向異性光學膜60之製造程序的概況及依照製造程序所成長之柱狀物63的形成概況。又，第13圖表示本形態的各向異性光學膜70之製造程序之概況及依照製程序而成長之百葉狀結構物73的形成概況。
各向異性光學膜60及各向異性光學膜70之製造的程序之概況，係如以下所示。首先，將含有上述之光聚合性化合物之組成物(以下亦稱為「光硬化性組成物」)塗佈或以片料(sheet)狀設置於如透明PET膜之適當的基材(基體)上，加以成膜而設置光硬化性組成物層。將此 光硬化性組成物層依需要而進行乾燥以揮發溶劑後，在經乾燥之光硬化性組成物層上照射光線，藉此可製作一種具有一層各向異性光學膜60或各向異性光學膜70之各向異性光學膜。以下，對於將光硬化性組成物塗佈或以片料狀設置於基體上並乾燥而成者，於各向異性光學膜60中係稱為塗佈膜64，而且於各向異性光學膜70中係稱為塗佈膜74。
3-2-1. 各向異性光學膜60及各向異性光學膜70之形成步驟
本形態之各向異性光學膜60及各向異性光學膜70之形成步驟，係就以下之步驟加以詳述。
(步驟1)塗佈步驟，係於基材上，塗佈各向異性光學膜形成用組成物，以設置塗佈膜並使其乾燥(於各向異性光學膜60及70之製造中為共通的步驟)
(步驟2)遮罩膜積層步驟，係於塗佈膜上積層遮罩膜(mask film)(於各向異性光學膜60及70之製造中為共通的步驟且為任意者)
(步驟3)各向異性光學膜構造區域形成步驟，係藉由於塗佈膜上照射光線而進行(於各向異性光學膜60及70之製造中為相異的步驟，將敘述於後)
3-2-1-1. 步驟1：塗佈步驟
於步驟1中，就將含有光聚合性化合物以片料狀設置在基體上之手法而言，可應用通常的塗佈方法和印刷方式。具體而言，可使用：氣動刮刀塗佈(air-doctor coating)、 棒塗佈、刮刀塗佈(blade coating)、刀式塗佈(knife coating)、反向塗佈、傳送輥塗佈(transfer roll coating)、凹版塗佈、接觸式塗佈(kiss coating)、澆注塗佈、噴霧塗佈、狹縫噴嘴塗佈(slot orifice coating)、壓延塗佈、擋板塗佈(dam coating)、浸漬塗佈、模塗佈等塗佈；和凹版印刷(gravure printing)等凹版印刷、網版印刷等孔版印刷等印刷等。組成物為低黏度時，亦可於基體的周圍設置一定的高度的堰體，並於此堰體所圍起的範圍中進行組成物之澆注。
3-2-1-2. 步驟2：遮罩膜積層步驟(任意)
於步驟2中，為了防止光硬化性組成物層的氧阻礙，並有效率地形成本形態之各向異性光學膜的特徵之構造區域(複數個結構物)，較佳為積層密接於塗佈膜之光照射側而使光的照射強度局部性方式改變之遮罩膜(以下，簡稱為遮罩(mask))。遮罩之材質並無特別限定，可使用例如通常之透明塑膠膜等，惟亦可為如下之構成者：於基質中分散有碳等光吸收性的填料者，而作成雖然入射光的一部分會被碳所吸收，但開口部能使光充分穿透者。就此種基質而言，可為含有：PET、TAC、PVAc、PVA、丙烯酸、聚乙烯等透明塑膠；和玻璃、石英等無機物；和於含有此等基質之片料中包含用以調控紫外線穿透量之圖案或吸收紫外線之顏料者。於不採用此種遮罩之情形下，亦能夠藉由在氮氣氣體環境下進行光照射而防止光硬化性組成物層之氧阻礙。又，就促進形成防止氧阻礙之構造區域而言，即使 僅是將通常的透明膜積層於光硬化性組成物層上，亦屬有效。以此方式，隔著遮罩或透明膜之光照射對於本形態之各向異性光學膜之製造係屬有效。
3-2-1-3. 步驟3：各向異性光學膜構造區域形成步驟
其次，根據第12圖及第13圖，進行於各向異性光學膜區域形成步驟中所使用的裝置之說明，而就各向異性光學膜之具體的形成程序加以說明。
3-2-1-3-1. 裝置
首先，於各向異性光學膜60之製造中，係如第12圖所示，主要使用：光源(未圖示)、遮光板65及移動載物台(未圖示)。
然後，於各向異性光學膜70之製造中，係如第13圖所示，主要使用：光源(未圖示)、指向性擴散元件76、遮光板75及移動載物台(未圖示)。
移動載物台係用以使塗佈膜按預定速度移動者。移動載物台係由步進馬達或線型馬達(未圖示)等所驅動，並可由馬達操緃者控制移動速度、移動方向等。更具體而言，於第12圖及第13圖中，載於移動載物台之塗佈膜64及塗佈膜74能夠從各狀態(a)所示位置連續地移動到狀態(e)所示位置。
光源係用以將所產生之光照射於塗佈膜上，使其產生相分離，藉此於形成構造區域同時硬化，而形成各向異性光學膜者。複數個結構物的形成程序之詳細 內容係敘述於後。
作為光源，通常係使用短弧之紫外線產生光源，具體而言，可使用：高壓水銀燈、低壓水銀燈、金屬鹵素燈、氙氣燈等。
特別是，於形成後述之構造區域(複數個結構物)之詳細程序中，需要對塗佈膜照射與所希望之散射中心軸Q平行的光線。欲獲得此種平行光D時，只要配置點光源，並於該點光源與光硬化性組成物層之間配置用以照射平行光D之反射鏡或菲涅耳透鏡等光學透鏡即可。藉由隔著此種光學透鏡，將從光源所發出的光轉換為平行光，而可於塗佈膜上或者於指向性擴散元件上照射平行光D。
照射於含有光聚合性化合物之組成物之光線，需含有能使前述光聚合性化合物硬化之波長，通常可利用以水銀燈之365nm作為中心之波長之光。使用此種波長帶來製作各向異性光學膜時，照度較佳為於0.01至100mW/cm2之範圍，更佳為於0.1至20mW/cm2之範圍。此係因為，當照度未達0.01mW/cm2時，由於硬化需要較長時間，而會有生產效率變差之情形；當照度若超過100mW/cm2時，光聚合性化合物之硬化過於快速以致未能產生結構物，而有變得無法表現出目的之各向異性擴散特性之情形。
第13圖之指向擴散元件76，係用以對平行光D賦與指向性而變為擴散光E者。藉由對塗佈膜74上照射擴散光E，可形成複數個百葉狀結構物73。在形成屬 於百葉狀構造之複數個百葉狀結構物63之各向異性光學膜60的製造程序中，並不使用指向性擴散元件。
指向性擴散元件76只要是能對所入射之平行光D賦與指向性者即可。為了獲得此種具有指向性之擴散光E，例如可採用：使指向性擴散元件76內含有縱橫比高的針狀填料，同時使該針狀填料以長軸方向係於Y方向延伸存在之方式定向之方法。指向性擴散元件76除了使用針狀填料之方法以外，可使用各種方法。只要配置成平行光D能隔著指向性擴散元件76而獲得擴散E即可。此種指向性擴散元件76之具體例可列舉：柱狀透鏡(lenticular Lens)等。
遮光板係用以遮蔽來自光源所發出之光，而使含有光聚合性化合物之組成物不被光照射者。遮光板之材料、大小及厚度等，只要依從光源發出之光的波長、強度而適當地決定即可。
在此，如第13圖所示，指向性擴散元件76係以在沿著塗佈膜74之移動方向從遮光板75突出之方式配置。藉此方式，可形成下述2個區域：藉由遮光板75而將從光源所發出之光全部遮蔽之區域AR1；及被擴散光E照射之區域AR2。
以下，就於經區分為區域AR1至區域AR2之各區域中具體的各向異性光學膜之形成程序加以說明。
3-2-1-3-2. 區域AR1之步驟
於AR1區域之步驟中，塗佈膜之整體仍被遮光板覆 蓋，從光源所發出之光並未照射至塗佈膜上。於此階段，塗佈膜全部位於區域AR1。從而，如第12圖及第13圖之狀態(a)所示，係尚未形成構造區域，塗佈膜之整體為未硬化之狀態。
3-2-1-3-3. 區域AR2之步驟：各向異性光學膜形成步驟
藉由移動載物台之驅動，將塗佈膜移動某程度之距離時，塗佈膜係由區域AR1往區域AR2移動。
於區域AR2之步驟中，藉由驅動移動載物台，塗佈膜(64或74)緩慢地從遮光板(65或75)露出。在此，塗佈膜(64或74)係位置於區域AR1及區域AR2這2個區域。塗佈膜(64或74)係隨著從遮光板(65或75)露出而由區域AR1往區域AR2移動。於第13圖之區域AR2，擴散光E係照射於塗佈膜74上。
藉由於塗佈膜上照射平行光D或擴散光E，會從塗佈膜的上面開始相分離。藉由平行光D或擴散光E之照射，從塗佈膜(64或74)的上面開始形成複數個各結構物(柱狀結構物63或百葉狀結構物73)並緩慢地成長。隨著複數個各結構物(柱狀結構物63或百葉狀結構物73)的形成，亦會形成各基質區域(61或71)。
更具體而言，如第12圖及第13圖之狀態(b)所示，從塗佈膜(64或74)的上面開始相分離，並藉由相分離而開始從上面往下面形成複數個各結構物(柱狀結構物63或百葉狀結構物73)及各基質區域(61或71)。就此時間 點而言，如第12圖及第13圖之狀態(b)至(d)所示，係呈現複數個各結構物(柱狀結構物63或百葉狀結構物73)及各基質區域(61或71)形成為尚未到達下面且於塗佈膜(64或74)之上面與下面之間的中間位置為止之狀態。再者，中間位置並不限於上面與下面之間的中央或中心的位置，而係表示上面與下面之間所挾介之區域的任意位置之意。
如第12圖及第13圖之狀態(b)至(e)所示，複數個各結構物(柱狀結構物63或者百葉狀結構物73)及基質區域(61或71)，係依序從塗佈膜(64或74)的上面往下面形成。
在此，於第13圖之步驟中，藉由調整擴散光E之照射強度及擴展程度，可適當決定所形成之百葉狀結構物73之大小(在垂直於散射中心軸的平面之短徑及長徑、緃橫比等)。
擴散光E之擴展程度主要依賴於指向性擴散元件76與塗佈膜74之間的距離、及指向性擴散元件76之種類等。隨著縮短該距離，百葉狀結構物的大小會變小，而隨著增長該距離，百葉狀結構物之大小會變大。從而，可藉由該距離之調整來調整柱狀區域之大小。
於本步驟中，擴散光E之縱橫比較佳係設為2以上。以大致對應於按該縱橫比之形狀，形成複數個百葉狀結構物73之縱橫比。由於隨著上述縱橫比變小，會有擴散範圍變狹窄之可疑慮，故於本形態中，係將縱橫比設為2以上。上述縱橫比更佳為2以上未達50，又更佳為 2以上10以下，特佳為2以上5以下。藉由將上述緃橫比設為如此範圍，光之擴散性/聚光性方面變得更加優異。
再者，於本各向異性光學膜形成步驟中，合計的光之照射時間並無特別限定，係10至180秒鐘，更佳為10至120秒鐘。
本形態之各向異性光學膜60及各向異性光學膜70，係將如上述之低照度的光以較長時間進行照射，藉此於光硬化性組成物層中形成特定的內部構造而得者。因此，僅以如此之光照射時，會有殘留未反應之單體成分、產生發黏而有處理性、耐久性方面的問題之情形。如此情形，可追加照射1000mW/cm2以上的高照度之光，以使殘留單體進行聚合。此時之光照射，亦可是從與使塗佈膜(64或74)之各向異性光學膜形成之用的起初所實施之光線為相反側之面的下面側(例如，積層有遮罩側之相反側)來進行。
4.導光積層體之使用方法
前述導光積層體係藉由於導光板之側面部設置光源而作為邊緣型的面狀光源裝置使用。光源可設置於導光板之一個側面部(端面)或者複數個側面部(端面)。於複數個側面部設置光源時，可如上述般調整導光板表面之點狀的構造之分佈密度。從裝置之節約空間化之觀點來看，較佳為光源設置於一個側面部。
前述光源可使用周知者，而無特別限定。可舉例如：棒狀的冷陰極管、LED等。從節約空間化和消 費電力之觀點來看，較佳為LED光源。
前述面狀光源裝置，可藉由於導光板之出射面側將各向異性光學膜作為中間層並設置反射板，而作為背光使用。
前述面狀光源裝置可作為屬於顯示用裝置之穿透型顯示裝置、反射型顯示裝置之邊緣型顯示裝置用之面狀光源裝置使用。
[實施例]
其次，藉由實施例及比較例而更具體地說明本發明，惟本發明並不以此等例而有所限定。
(凹凸型點狀構造導光板之製作)
於本發明中所用之具有凹型點狀構造之導光板，係用周知之奈米壓印技術製作。
於130mm×90mm的尺寸之厚度2mm之PMMA的片料上，藉由UV硬化丙烯酸樹脂(含有光聚合起始劑)以10μm之厚度形成塗佈層，使用具有直徑約40μm且高度約10μm之凸透鏡型的點狀構造之金屬模具(凸型透鏡密度：約100個/mm2)進行按壓，同時從與PMMA之片料的塗佈層為相反側的面照射UV光線以使其硬化，藉此製作本發明所用之凹型點狀構造之導光板A。用雷射顯微鏡觀察所得之導光板A的表面，確認製得以約100個/mm2之密度存在有大小(直徑)為約40μm且深度為約8μm之凹透鏡型點狀構造(第14圖(a))的凹型點狀構造之導光板。
接著，於130mm×90mm的尺寸之厚度2mm之PMMA 之片料上，藉由UV硬化丙烯酸樹脂(含有光聚合起始劑)以10μm之厚度形成塗佈層，使用具有直徑約60μm且高度為約10μm之凸透鏡型之點狀構造之金屬模具(凸型透鏡密度：約100個/mm2)進行按壓，同時從與PMMA之片料的塗佈層為相反側的面照射UV光線以使其硬化，藉此製作本發明所用之凹型點狀構造之導光板B。用雷射顯微鏡觀察所得之導光板B的表面，確認製得以約100個/mm2之密度存在有大小(直徑)約60μm且深度約8μm之凹透鏡型點狀構造(第14圖(b))的凹型點狀構造之導光板。
再者，於130mm×90mm的尺寸之厚度2mm之PMMA之片料上，藉由UV硬化丙烯酸樹脂(含有光聚合起始劑)以10μm之厚度形成塗佈層，使用具有直徑約40μm且高度約10μm之凹透鏡型之點狀構造之金屬模具(凹型透鏡密度：約100個/mm2)進行按壓，同時從與PMMA之片料的塗佈層為相反側的面照射UV光線以使其硬化，藉此製作本發明所用之凸型點狀構造之導光板C。用雷射顯微鏡觀察所得之導光板C的表面，確認製得以約100個/mm2之密度存在有大小(直徑)約40μm且高度約9μm之凸透鏡型點狀構造(第14圖(c))的凸型點狀構造之導光板。
(直線稜鏡型溝槽構造導光板之製作)
比較例所用之溝槽狀導光板係採用周知之奈米壓印技術製作。於130mm×90mm的尺寸之厚度2mm之PMMA之片料上，藉由UV硬化丙烯酸樹脂(含有光聚合起始劑)以50μm之厚度形成塗佈層，使用具有間距50μm、高度50μm 及長度90μm之直線稜鏡型的溝槽構造之金屬模具進行按壓，同時從與PMMA之片料的塗佈層為相反側的面照射UV光線以使其硬化，藉此製作比較例所使用之直線稜鏡型溝槽構造之導光板D。用雷射顯微鏡觀察所得之導光板D的表面，確認製得存在有大小(稜鏡三角形形狀之底邊長度)約50μm且深度約45μm之直線稜鏡型溝槽構造(第14圖(d))的直線稜鏡型溝槽構造之導光板。
(導光板面狀光源裝置之製作及導光板光學特性之評估)
本實施例所採用之導光板係藉由於導光板尺寸90mm邊的端部以15mm之間隔設置5個LED光源(200mW)而作為導光板面狀光源裝置。
將導光板面狀光源裝置之LED光源加以點燈，並使用變角光度計(goniophotometer)(genesia公司)測定從導光板出射側之面(以下稱為出射面，為非屬於凹型點狀構造、凸型點狀構造或者直線稜鏡型溝槽構造之側的面，為平滑面)中心附近所出射之光的照度(出射照度)，以評估導光板的光學特性。再者，測定照度時，為了避免來自與導光板出射側之面為相反側之面(以下簡稱相反面)之光的影響，係對相反面密接和氣產業公司製黑色墊片(FU-74，厚度2mm)而加以測定。
將光之照度測定值之最大值設為00%，而將相對於該最大值之各出射光角度之照度測定值的相對值設為亮度(%)。再者，以與上述出射面之光的照度相同的方式測定於 相反面所出射之光的照度後，將於各個面側的各出射光角度之亮度的除算值(出射側之亮度)/(相反側之亮度)設為對比度。作成導光板面狀光源裝置時，導光板之光學特性之評估結果係示於表1。
Figure 107110502-A0202-12-0042-2
(各向異性光學膜之製作)
各向異性光學膜(LCF 1至10)之製作方法，首先，關於柱狀構造，係參考國際公開WO2015/111523；接著，關於百葉狀構造，係參考日本特開2015-127819；然後，關於LCF9(各向異性光學膜之散射中心軸角度將在面內連續地改變之構造)，係參考關於上述百葉狀構造之公報及日本特開2013-182227，藉由變更各種條件而製作具有表2所記載之構造及特性之各向異性光學膜(LCF 1至10)。
(各向異性光學膜之特性評估)
所製作之各向異性光學膜(LCF 1至10)之特定評估，係以下述方式實施。
(縱橫比)
用光學顯微鏡觀察實施例及比較例之各向異性光學膜的表面(紫外線照射時之照光側)，測定任意的100個構造之長徑LA及短徑SA，並算出各自的平均值後，根據所算出之平均長徑及平均短徑算出縱橫比(平均長徑/平均短徑)。
(散射中心軸角度、0°之直線穿透率及擴散範圍)
採用如第9圖所示之測角光度計(genesia公司製)進行實施例及比較例之各向異性光學膜的光學特性之評估。將檢測器固定於接受來自於已固定之光源之直進光的位置，並於其間的試樣夾持器處設置實施例及比較例所得之各向異性光學膜。如第9圖所示般設置旋轉軸(L)而使試樣旋轉，測定對應於各個入射光角度(包含直進光會成為各向異性光學膜平面之法線方向之0°)之直線穿透光量，並算出直線穿透率。在此，第9圖中所示之旋轉軸(L)係與第8圖中所示各構造中之TD方向為相同的軸。再者，直線穿透光量之測定，係於使用視敏度過濾器之可見光線區域的波長下測定。
根據上述直線穿透率以製作光學曲線，並依該光學曲線，將具有略對稱性之入射光角度設為散射中心軸角度，並求出直線穿透率成為30%以下之入射光的角度範圍，而將此範圍設為擴散範圍。
將以上所製作之各向異性光學膜(LCF 1至10)之構造 及特性評估結果示於表2。
Figure 107110502-A0202-12-0044-3
(導光積層體之製作)
對所得導光板(導光板A至D)的出射面貼合由周知之透明性丙烯酸黏著劑所得之黏著層(厚度25μm)後，依表3所示之組合，於黏著層表面貼合各向異性光學膜(LCF 1至10)，得到實施例1至10及比較例1至7之導光積層體。
將導光板及各向異性光學膜之種類、表1所示之導光板的最大亮度角度(以下稱為Y)及表2所示之各向異性光學膜的散射中心軸角度(以下稱為X)之差(X-Y)、以及於導光板的最大亮度角度之各向異性光學膜的直線穿透率彙整表示於表3。再者，於導光板的最大亮度角度之各向異性光學膜的直線穿透率，於上述各向異性光學膜的光學曲線中，係設為表1記載之導光板的最大亮度角度之直線穿透率。
Figure 107110502-A0305-02-0049-1
(導光積層體面狀光源裝置之製作及導光積層體光學特性之評估)
導光積層體之評估，係以與上述導光板面狀光源裝置之製作及導光板光學特性之評估相同的方式，製作以導光積層體取代導光板之導光積層體面狀光源裝置而實施者(惟光源之設置，係以對導光積層體之導光板與上述導光板面狀光源裝置製作時相同的方式設置)。將評估結果，示於表4。
Figure 107110502-A0202-12-0046-5
(導光積層體之視認性之評估)
視認性之評估，係將導光積層體面狀光源裝置中之導 光板設於開燈狀態後，從導光板出射側的面之法線方向以目視進行觀察，而就眩光感及導光積層體出射側之面內之亮度的面內性均勻進行評估。又，於印刷有直徑0.25mm、間距0.5mm的黑色點狀圖案之白色紙上，放置厚度2mm的玻璃板，並於其上以出射面成為玻璃板側之方式重疊導光積層體，而從相反面之法線方向依目視進行觀察，將能否明瞭地確認到所印刷之點狀圖案設為模糊感而加以評估。再者，對於眩光感及模糊感，是不僅在將導光板設於開燈狀態時實施，在非開燈之狀態下亦實施，而就兩者進行評估。
上述眩光感及亮度之面內均勻性評估之指標，係彙整各評估項目，並由5人依1：不良(容易眩光、容易模糊、亮度為面內不均勻)至5：優良(不易眩光、不易模糊、亮度之面內均勻性良好)為止之5個階段進行判定，並將5個人所判定之平均值作為評估點。將評估結果示於表5。
Figure 107110502-A0202-12-0048-6
(作用效果)
如表4所示般，於本發明實施例中，相對於比較例1至4，最大亮度角度係接近法線方向(導光積層體之出射面0°)，不僅於視認之角度有效發揮作用，於最大亮度角度之對比度、於0°之亮度及於0°之對比度係較比較例1至4之數值大，是能成為優異的照明者。
特別是實施例5及7，依表2，0°之直線穿透率係60%以上，且依表3，導光板之最大亮度角度與散射中心軸之間的差(X-Y)係在5至20°之範圍，因此咸認於表4中能獲得在實施例中更高的於0°之對比度。
相對於此，比較例5至7雖然係使用直線稜鏡型溝槽構造(第14圖(d))之導光板，而於表4中係最大亮度角度接近法線方向而優異者，惟最大亮度角度之對比度及於0°之對比度相較於實施例之數值為低，因此作為照明係較實施例差者。
再者，如表5所示般，就視認性方面而言，本發明實施例相較於比較例1至7為能均衡良好地抑制眩光感及模糊感，當用於顯示器的照明時，不僅不會阻礙圖像視認性，亮度之面內均勻性亦優，因此光源之利用效率良好，是能夠成為優異的照明者。
特別是實施例10，咸認因為係使用散射中心軸連續地改變之各向異性光學膜，故能獲得優異的面內均勻性。
如以上所述，本發明實施例係能成為優異的照明者，特別是實施例7，其在導光積層體之任一評估中均屬優異，且具有於0°之高的亮度，和於最大亮度角度及0°之對比度，同時具有高的視認性，而為優異者。
100、110、120、130、140、150‧‧‧導光積層體
101‧‧‧導光板
103‧‧‧各向異性光學膜
104‧‧‧位相差板
105‧‧‧偏光板
106‧‧‧反射板
107‧‧‧密封構件

Claims (9)

  1. 一種導光積層體，係具有導光板及各向異性光學膜：前述導光板係具有從端面之光源入射之光經屈折而往表面出射之出射面，前述光之前述出射面內的出射強度成為最大之角度係相對於與前述出射面垂直的方向為20°至60°，前述各向異性光學膜係直接或隔著其他層而積層於前述出射面，且其擴散性係因從前述導光板出射之光的入射光角度而改變；該導光積層體中，與前述導光板的出射面為相反側的面之相反面係具有複數個大小為50μm以下且高度或深度為50μm以下之凹型或凸型之構造，前述各向異性光學膜具有基質區域，及在前述基質區域中以從前述各向異性光學膜的一表面至另一表面作為定向方向而形成之由複數個結構物所成之結構區域，於前述導光板的出射強度成為最大的角度，對前述各向異性光學膜入射之光的直線方向的穿透光量/入射之光的光量之各向異性光學膜的直線穿透率為30%以下，前述各向異性光學膜的法線方向的直線穿透率為33%以上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之導光積層體，其中，相對於前述各向異性光學膜的法線方向之散射中心軸角度，係較前述出射強度成為最大之角度更往前述法 線方向側傾斜；前述散射中心軸角度與前述出射強度成為最大之角度的差係20°以內。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之導光積層體，其中，前述散射中心軸角度係從距離前述光源近的位置至距離前述光源遠的位置連續性地改變。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之導光積層體，其中，前述複數個結構物的形狀係板狀。
  5. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之導光積層體，其中，前述各向異性光學膜法線方向的直線穿透率為60%以上。
  6. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之導光積層體，其中，前述導光板相反面之構造係凹型。
  7. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之導光積層體，其中，前述凹型或凸型的構造係被密封，前述密封內部是由氣體、液體、固體或真空之至少任一者所填滿。
  8. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之導光積層體，其中，前述其他層係偏光板、相位差板或者此兩者中之至少任一者。
  9. 一種面狀光源裝置，係至少由申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述之導光積層體及光源所成者。
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