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TWI746451B - 具有透明之黏著劑層的導電性薄膜層積體 - Google Patents

具有透明之黏著劑層的導電性薄膜層積體 Download PDF

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Publication number
TWI746451B
TWI746451B TW105122749A TW105122749A TWI746451B TW I746451 B TWI746451 B TW I746451B TW 105122749 A TW105122749 A TW 105122749A TW 105122749 A TW105122749 A TW 105122749A TW I746451 B TWI746451 B TW I746451B
Authority
TW
Taiwan
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refractive index
adhesive
transparent conductive
layer
double
Prior art date
Application number
TW105122749A
Other languages
English (en)
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TW201725110A (zh
Inventor
形見普史
梅本徹
鷹尾寛行
保井淳
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商日東電工股份有限公司 filed Critical 日商日東電工股份有限公司
Publication of TW201725110A publication Critical patent/TW201725110A/zh
Application granted granted Critical
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Abstract

作為靜電電容方式觸控面板之感測器層構造的其中一者，係使用有在1個的基材之雙面上形成有透明導電性層的GFD型態之層構造。在本構成中，為了對於透明導電層之內部反射充分地作抑制，由於係需要採用在1個的基材之雙面上形成複數層之折射率調整(IM)層之手法，或者是需要在形成了圖案的導電性層之上以作重疊的形態來更進而形成折射率調整層，因此，係有著產率會容易降低並且成本會變高的課題。
本發明，係為了解決此種課題，而藉由對於雙面透明導電薄膜之透明導電層的各層來層積可容易且低價地製造之具有折射率調整區塊的黏著劑層，而能夠對於該層積體之內部反射有效地作抑制。

Description

具有透明之黏著劑層的導電性薄膜層積體
本發明，係有關於在雙面上具有透明之黏著劑層的導電性薄膜層積體。特別是，本發明，係有關於身為在雙面上具備有透明導電層之導電性薄膜層積體並且在雙面上被貼合有包含能夠對於該導電性薄膜層積體之內部反射有效地作抑制的黏著劑層之黏著劑薄片的導電性薄膜層積體。
例如液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置一般之顯示裝置，係為了將偏光薄膜、相位差薄膜、覆蓋玻璃等之透明覆蓋構件或其他之各種的透明光學構件，與其他之光學構件作接合，而使用黏著劑。亦即是，在被作接合之2個的光學構件之間，係被配置有黏著劑層，該2個的光學構件，係藉由將此些相互作推壓附著而被作接合，並形成光學構件層積體。此種構成之光學構件層積體，係於顯示裝置中，以使透明光學構件之側會成為視覺辨認側的方式而被作配置。於此構成中，係有著下述之問題：亦即是，當外部光從視覺辨認側之透明光學構件而射入時，射 入光係會在黏著劑層與非視覺辨認側之光學構件之間的界面處而反射，並回到視覺辨認側。此問題，當外部光之射入角為淺時，係特別會變得顯著。
又，在近年來具有增加之傾向的具備觸控面板之顯示裝置中，於被接合有透明光學構件之被接合側光學構件的表面上，係被形成有被作了圖案化的如同ITO(銦錫氧化物)一般之透明的導電性之層。在此種顯示裝置中，係被指摘有下述一般之「圖案顯現」的問題，亦即是，起因於在黏著劑層與透明導電性層之間的界面處之射入光的內部反射之影響，會成為能夠從視覺辨認側來觀察到透明導電性層之圖案。
不論是在何種的情況中，均同樣的，內部反射，係為起因於黏著劑與被接合側光學構件以及透明導電性層之折射率差所導致者。日本專利第4640740號公報(專利文獻1)，係揭示用以處理此問題之手法。亦即是，該專利文獻1，係揭示有一種能夠將在透明光學構件與黏著劑層之間之界面以及在黏著劑層與被接合側光學構件之間之界面處的光之全反射減低的黏著劑組成物。於該文獻中，係記載有下述之說明：亦即是，於此所揭示之組成物，其之乾燥後及/或硬化後之折射率係為高，而為接近於透明光學構件以及被接合側光學構件之折射率者。此專利文獻1之揭示內容，係為使將2個的光學構件作接合之黏著劑層全體成為具有與該2個的光學構件之折射率相近的折射率者。
藉由此專利文獻1所揭示之手法，在對於界面反射作抑制一點上，雖然也許會存在有效果，但是，由於係為使用特定之單體成分者，因此，係有著組成物本身係為高價的問題。
日本專利第5564748號公報(專利文獻2)，係揭示有一種黏著劑，其係構成為將分散平均粒徑為1nm以上並且20nm以下的氧化鋯或氧化鈦粒子，涵蓋由丙烯酸系樹脂所成之透明黏著劑的厚度全體地而分散，而對於折射率作了調整。此黏著劑，由於係將身為高折射率材料之氧化鋯或者是氧化鈦粒子混合於透明黏著劑中，因此，可以推測到，黏著劑層全體之折射率會變高，而能夠對於上述之界面反射作抑制。但是，在專利文獻2之手法中，係需要使用多量的高折射率材料，而有著會使作為黏著劑之特性降低之虞，並且會成為高價。又，由於所使用的高折射率材料係身為無機物質之粒子，因此，係有著難以分散並且會產生起因於散射所導致之白濁化的問題。因此，係亦可考慮使用有機材料之粒子，但是，於此情況，係會成為並不容易對於著色的問題作解決。
日本專利第5520752號公報(專利文獻3)，係為了對於專利文獻2中所記載之手法作改良，而提案有將被分散在黏著劑中之金屬氧化物粒子以高分子來作被覆的手法。在專利文獻2之黏著劑層中，由於金屬氧化物係露出於黏著劑層之表面，因此係有著黏著性降低的問題，專利文獻3所揭示之手法，係為藉由將該金屬氧化物粒子以 高分子來作被覆，而對於此問題作解決。藉由此專利文獻3所提案之手法，雖然可能能夠對於黏著劑層之黏著性作某種程度的改善，但是，針對關連於專利文獻2而指摘的多數之問題，係仍無法作解決。特別是，在專利文獻3中所記載之構成，由於係為將金屬氧化物粒子以特定之高分子來作被覆者，因此，相較於專利文獻2之構成，係變得更為高價。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第4640740號公報
[專利文獻2]日本專利第5564748號公報
[專利文獻3]日本專利第5520752號公報
本發明之主要目的，係在於提供一種能夠容易且低價地製造並且當被使用在光學構件層積體之接合中時能夠對內部反射作有效的抑制之包含黏著劑層之黏著劑薄片(具有折射率調整區塊(亦稱作折射率調整層)之黏著劑薄片)，並對於當將具有折射率調整區塊之黏著劑薄片(亦稱作「附折射率調整區塊黏著劑薄片」)使用於被使用在具有觸控輸入功能之顯示面板裝置中的觸控感測器層積體 處時所產生的下述之課題作解決。
作為靜電電容方式觸控面板之感測器層構造的其中一者，係使用有在1個的基材之雙面上形成有透明導電性層的GFD型態(覆蓋玻璃+雙面附ITO層薄膜)之層構造。相較於先前技術型之GFF型態(覆蓋玻璃+單面ITO薄膜2枚)，係能夠達成層構成之薄型化並將在層積體之作成時的貼合工程數作削減，並且，藉由在基材之表背面或者是單側處形成導電性圖案(X，Y)，係能夠消除對位等之繁雜程度。又，藉由使薄膜層積數量減少，係有著能夠降低感測器之厚度並改善起因於薄膜之色調所導致的顯示品質之降低之優點。
在本構成中，為了對於透明導電層之內部反射充分地作抑制，由於係需要採用在1個的基材之雙面上形成複數層之折射率調整(IM)層之手法，或者是需要在形成了圖案的導電性層之上以作重疊的形態來更進而形成折射率調整層，因此，工程數量會變多，而有著產率會容易降低並且成本會變高的課題。
若是作簡潔敘述，則本發明，係為了解決此種課題，而藉由對於雙面透明導電薄膜之透明導電層的各層來層積可容易且低價地製造之具有折射率調整區塊的黏著劑層，而能夠並不使產率降低地來對於該層積體之內部反射有效地作抑制。
本發明之其中一種實施形態之雙面透明導電性薄膜層積體，其特徵為，係具備有：透明之薄膜基材；和第1透明導電性層，係被層積於前述透明之薄膜基材之其中一面上；和第2透明導電性層，係被層積於前述透明之薄膜基材之另外一面上；和透明之第1黏著劑層，係被層積於前述第1透明導電性層之與前述透明之薄膜基材側相反側之面上；和透明之第2黏著劑層，係被層積於前述第2透明導電性層之與前述透明之薄膜基材側相反側之面上，前述第1以及第2黏著劑層，係包含有：從其中一方之主面起涵蓋厚度方向而藉由透明之黏著劑基礎材料所本質性地形成之基礎黏著劑區塊、和從該黏著劑層之另外一方之主面起涵蓋厚度方向所形成之透明之黏著性之折射率調整用區塊，前述折射率調整用區塊，係與前述第1以及第2透明導電性層相接，並具備有較前述黏著劑基礎材料的折射率而更高之折射率。
折射率調整用區塊，較理想，厚度係為20nm~600nm。在本發明之其中一種形態中，係可構成為：折射率調整用區塊，係以在與黏著劑基礎材料相同之黏著性材料中使具有較該黏著性材料而更高的折射率之高折射率材料的粒子並將該折射率調整用區塊之平均折射率提高的方式，來構成之。該高折射率材料之粒子的折射率，較理想，係為1.60~2.74。高折射率材料之粒子，較理想，由TEM觀察所得到的平均一次粒徑係為3nm~100nm。又，高折射率材料，係可設為從由TiO2、 ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5以及SnO2而成之群中所選擇的1或複數之化合物。
在本發明之其中一種形態中，係可構成為：在折射率調整用區塊之該另外一方之主面處，係被形成有使高折射率材料的粒子露出於該另外一方之主面處的區域、和使該折射率調整用區塊之黏著性材料露出於該另外一方之主面處的母體區域。於此情況，較理想，高折射材料之粒子所露出於該主面處之該區域，係以面積比為30~99%之範圍而被形成。進而，較理想，該高折射率材料之粒子與該黏著劑基礎材料的折射率之差，係為0.15~1.34。
較理想，黏著劑層之全光線透射率，係為80%以上。高折射率材料的粒子，係可包含以使複數之粒子作了凝集的凝集體之形態所存在的部份。
折射率調整用區塊，較理想，厚度係設為20nm~600nm。係可構成為：折射率調整用區塊，係設為在與黏著劑基礎材料相同之黏著性材料中使具有較該黏著性材料而更高的折射率之高折射率材料的粒子分散之構成，並藉由此高折射率材料粒子來將該折射率調整用區塊之平均折射率提高。於此情況，較理想，係將黏著劑基礎材料的折射率設為1.40~1.55，並將高折射率材料的粒子之折射率設為1.60~2.74。在折射率調整用區塊之被與光學構件作接合的接合面處，係被形成有使高折射率材料的粒子與該光學構件作接觸的區域、和使該折射率調整用區 塊之黏著性材料與該光學構件作接觸的母體區域。於此情況，較理想，高折射材料之粒子的與光學構件相接觸之區域，係以面積比為30~99%之範圍而被形成。又，較理想，高折射率材料之粒子與黏著劑基礎材料的折射率之差，係為0.15~1.34。
折射率調整用區塊，係可構成為藉由在與黏著劑基礎材料相同之黏著性材料中使具有較該黏著性材料而更高的折射率的粒子、聚合物或寡聚物之形態的有機材料來將該折射率調整用區塊之平均折射率提高者。又，當將此構成之黏著劑層適用於在光學構件處被形成有透明導電性層之構成的情況時，較理想，係將透明導電性層之折射率設為1.75~2.14，並將黏著劑基礎材料的折射率設為1.40~1.55，並且將有機材料之折射率設為1.59~2.04。作為於此所使用的具有高折射率之有機材料，雖並未特別作限定，但是，除了如同苯乙烯系一般之具有芳香環的樹脂以外，亦可列舉出包含硫或氮等之雜原子的樹脂(例如包含硫醇或三嗪環之聚合物)。又，作為粒子，較理想，係為包含有奈米尺寸之有機奈米粒子、球狀高分子，並且粒徑為由TEM觀察所得到的平均一次粒徑係為3nm~100nm。
較理想，黏著劑層之全光線透射率，係為80%以上。高折射率材料的粒子，係可包含以使複數之粒子作了凝集的凝集體之形態所存在的部份。通常，在折射率調整用區塊中所包含之高折射材料的粒子，係在黏著劑 層之厚度方向上以不規則性之深度而存在。
當為了將透明之第1光學構件接合於具備有例如構成觸控感測器之透明導電性層的第2光學構件上，而使用由本發明所致之黏著劑薄片的情況時，係將黏著劑層從支持體而剝下，並在使透明之黏著性的折射率調整用區塊面向透明導電性層以及第2光學構件並且使黏著劑層之相反側之面面向第1光學構件的狀態下，將該透明之黏著性折射率調整用區塊接合於該透明導電性層以及該第2光學構件上，且將黏著劑層之該相反側之面接合於第1光學構件上，而設為使折射率調整用區塊以將該透明導電性層與前述第2光學構件之間之階差作填埋的方式來與該透明導電性層和該第2光學構件之雙方相接的狀態，來成為使通過第1光學構件所射入的外光之於黏著劑基礎層與折射率調整用區塊之間之界面處的反射光和在折射率調整用區塊與透明導電性層之間之界面處的反射光藉由光學性干涉來至少部分性地相互抵消。
在使用本發明之黏著劑薄片而對於內部反射作抑制的情況時，係能夠使通過第1光學構件所射入的外光之於黏著劑層中的藉由黏著劑基礎材料所本質性地形成的區塊與折射率調整用區塊之間之界面處的反射光和在折射率調整用區塊與第2光學構件之間之界面處的反射光藉由光學性干涉來至少部分性地相互抵消。
若依據本發明，則由於係從黏著劑層之一個面起而在厚度方向上形成具有較黏著劑層之基礎材料而更高的折射率之折射率調整區塊，因此，係成為能夠並不使霧值提高地來形成高折射率之區域。故而，在使用本發明之黏著劑薄片而將上述一般之2個的光學構件作接合的情況時，身為高折射率之區域的折射率調整用區塊，係能夠對於與第2光學構件之間之折射率差作調整，藉由此，係能夠對於在黏著劑層與第2光學構件之間之界面處的反射作抑制。
又，於在第2光學構件側處形成有被作了圖案化之透明導電性層的構成中，藉由對相對於該透明導電性層與第2光學構件之折射率的黏著劑層之折射率調整區塊的折射率作調整，係成為能夠對於界面反射作抑制。進而，係能夠藉由起因於在該透明導電性層處之反射光與在第2光學構件表面處之反射光、以及在黏著劑層內部所產生的反射光，此兩者之間的反射光彼此之相位差，所導致的抵消效果，來將回到第1光學構件處的反射光大幅度地降低。
本發明，係藉由對於雙面透明導電薄膜之透明導電層的各層來層積可容易且低價地製造之具有折射率調整區塊的黏著劑層，而能夠並不使產率降低地來對於該層積體之內部反射有效地作抑制。其結果，係使層積感測器全體之厚度降低，而能夠以良好之產率來提供一種對起因於薄膜之色調所導致的顯示品質之降低作了改善的層積 感測器。
S‧‧‧黏著劑薄片
S1、S2‧‧‧支持體
1‧‧‧光學構件層積體
2‧‧‧第1光學構件
3、13‧‧‧透明之黏著劑層
3a、13a‧‧‧基礎黏著劑區塊
3b、13b‧‧‧折射率調整用區塊
4‧‧‧第2光學構件
7‧‧‧透明導電性層
17‧‧‧高折射率材料粒子
19‧‧‧分散液
20‧‧‧黏著劑基礎材料
21、26、30、33、41、45‧‧‧層積體
22‧‧‧附IM層黏著劑
23‧‧‧ITO層
24‧‧‧薄膜基材
25、27、31、34‧‧‧透明導電性薄膜
28‧‧‧覆蓋玻璃
29‧‧‧保護薄膜
43‧‧‧折射率調整層
44‧‧‧COP基材
46‧‧‧PET基材
47‧‧‧評價用ZEONOR
48‧‧‧評價用黑PET
[圖1(a)]係為對於由本發明所致之黏著劑薄片的其中一種實施形態作展示之剖面圖。
[圖1(b)]係為對於使用由本發明所致之黏著劑薄片的最為單純之實施形態的其中一例作展示之光學構件層積體的剖面圖。
[圖2]係為對於被使用在本發明之黏著劑薄片中的黏著劑層之其中一種實施形態作展示之剖面圖。
[圖3]係為對於在形成有被作了圖案化的透明導電性層之構成中適用了圖2中所示之黏著劑層13的實施形態作展示之剖面圖。
[圖4]係為對於與第2光學構件作接觸的黏著劑層之主面的狀態作展示之平面圖。
[圖5(a)]係為對於用以製作圖2中所示之黏著劑層的工程作展示者，並為對於分散液之塗布工程作展示的概略圖。
[圖5(b)]係為對於用以製作圖2中所示之黏著劑層的工程作展示者，並為對於高折射率材料粒子之浸透工程作展示的概略圖。
[圖5(c)]係為對於用以製作圖2中所示之黏著劑層的工程作展示者，並為對於乾燥工程作展示的概略圖。
[圖6(a)]係為對於本發明之其中一種實施形態的雙面ITO薄膜層積感測器作展示之剖面圖。
[圖6(b)]係為對於本發明之其中一種實施形態的雙面ITO薄膜層積感測器作展示之剖面圖。
[圖6(c)]係為對於本發明之其中一種實施形態的雙面ITO薄膜層積感測器作展示之剖面圖。
[圖6(d)]係為對於本發明之其中一種實施形態的雙面ITO薄膜層積感測器作展示之剖面圖。
[圖7(a)]係為對於在本發明之實施例中所製作的雙面透明導電性薄膜之構成作展示。
[圖7(b)]係為對於在本發明之實施例中所製作的雙面透明導電性薄膜之構成作展示。
[圖8(a)]係對於在本發明之實施例以及比較例中所使用的附折射率調整區塊黏著劑薄片(A1)之構成作展示。
[圖8(b)]係對於在本發明之實施例以及比較例中所使用的附折射率調整區塊黏著劑薄片(B1)之構成作展示。
[圖8(c)]係對於在本發明之實施例以及比較例中所使用的附折射率調整區塊黏著劑薄片(C1)之構成作展示。
[圖9(a)]係對於由本發明之實施例所致的光學構件層積體之構成作展示。
[圖9(b)]係對於由本發明之實施例所致的光學構件層積體之構成作展示。
[圖9(c)]係對於由本發明之實施例所致的光學構件層積體之構成作展示。
[圖9(d)]係對於由本發明之實施例所致的光學構件層積體之構成作展示。
[圖10(a)]係對於由本發明之比較例所致的光學構件層積體之構成作展示。
[圖10(b)]係對於由本發明之比較例所致的光學構件層積體之構成作展示。
[圖10(c)]係對於由本發明之比較例所致的光學構件層積體之構成作展示。
[圖10(d)]係對於由本發明之比較例所致的光學構件層積體之構成作展示。
[圖11]係為對於藉由本發明之實施例所製作的黏著劑層之折射率調整用區塊之表面狀態作展示的20000倍SEM照片。
[圖12(a)]係為對於在藉由本發明之相異的實施例所得到的黏著劑層中之折射率調整用區塊之高折射率材料粒子分布作展示的30000倍TEM剖面照片。
[圖12(b)]係為對於在藉由本發明之相異的實施例所得到的黏著劑層中之折射率調整用區塊之高折射率材料粒子分布作展示的30000倍TEM剖面照片。
以下，針對本發明之實施形態，與圖面一同作關連說明。圖1(a)係為對於由本發明所致之黏著劑薄片的其中一個實施形態作展示之剖面圖，(b)係為對於使用 由本發明所致之黏著劑薄片的最為單純之實施形態的其中一例作展示之光學構件層積體1的剖面圖。若是參考圖1(a)，則由本發明之其中一個實施形態所致之黏著劑薄片S，係由光學性為透明之黏著劑層3、和被貼合於該黏著劑層3之其中一方之主面上的由剝離紙所成之第1支持體S1、以及被貼合於該黏著劑層3之另外一方之主面上的由剝離紙所成之第2支持體S2，所構成之。若是參考圖1(b)，則光學構件層積體1，係由光學性為透明之第1光學構件2、和經由光學性為透明之黏著劑層3而被接合於該第1光學構件2處的第2光學構件4，而構成之。黏著劑層3，係為從圖1(a)中所示之黏著劑薄片S而將支持體S1、S2剝下並被貼合於第1以及第2光學構件處者。該透明之第1光學構件2，係可藉由偏光薄膜、相位差薄膜、其他之被使用於光學性顯示裝置中之光學構件、或者是如同光學性顯示裝置之視覺辨認側覆蓋玻璃一般之透明覆蓋構件，而構成之。第1光學構件2，係被接合於黏著劑層3之第1主面5處，第2光學構件4，係被接合於黏著劑層3之第2主面6處。
透明之黏著劑層3，係具備有藉由黏著劑基礎材料所本質性地形成之基礎黏著劑區塊3a、和具有較該基礎黏著劑區塊3a而更高的折射率之折射率調整用區塊3b。形成基礎黏著劑區塊3a之黏著劑基礎材料的折射率，較理想，係具有接近於第1光學構件2之折射率的折射率。
黏著劑基礎材料，只要是能夠使用於光學用途中之具有黏著性的透明之材料，則係並不特別作限定。例如，係可從丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、環氧系黏著劑以及聚醚系黏著劑而適宜作選擇並使用。從透明性、加工性以及耐久性等的觀點來看，係以使用丙烯酸系黏著劑為理想。黏著劑基礎材料，係可將上述之黏著劑的任一者作單獨使用，或者是亦可將2種類以上作組合使用。作為丙烯酸系黏著劑之基礎聚合物所使用的丙烯酸系聚合物，雖並不特別作限定，但是，係以身為以(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分的單體之同元聚合物或者是共聚物為理想。於此，所謂「(甲基)丙烯酸」之表現，係為作為代表「丙烯酸」以及「甲基丙烯酸」中的其中一者或者是雙方者而使用者，在其他之情況中，亦為相同。在本發明中，所謂丙烯酸系聚合物之用語，係以除了上述之(甲基)丙烯酸烷基酯以外亦包含有能夠與其作共聚合的其他之單體的意義來作使用。黏著劑基礎材料的折射率，一般而言，係為1.40~1.55。
於在本發明所使用的黏著劑基礎材料中，係可添加各種添加劑。例如，為了使在高溫多濕條件下的密著性提昇，較理想，係投入各種的矽烷耦合劑。此矽烷耦合劑，係亦具備有賦予使黏著劑之耐久性提昇的凝集力之效果。進而，於在本發明所使用的黏著劑層中，藉由添加交聯劑，由於係能夠賦予與黏著劑之耐久性有所關連的凝 集力，因此係為理想。又，因應於需要，係亦可適宜使用黏度調整劑、剝離調整劑、黏著賦予劑、可塑劑、軟化劑、由無機粉末等所成之填充劑、顏料、著色劑(顏料、染料等)、pH調整劑(酸或鹼基)、防鏽劑、防氧化劑、紫外線吸收劑等。
黏著劑層3之厚度雖無特別限定，但通常係為5μm~500μm，較理想，係為5μm~350μm，更理想，係為5μm~250μm。其中，折射率調整用區塊3b之厚度，較理想，係為20nm~600nm，更理想，係為20nm~300nm，又更理想，係為20nm~200nm。折射率調整區塊3b與基礎黏著劑區塊3a之間的邊界，係成為非規則性之凹凸形狀，但是，在本發明中，折射率調整區塊3b之厚度，係藉由將凹凸形狀之深度的測定值作平均，來決定之。基礎黏著劑區塊之厚度，係成為從黏著劑層3之厚度而減去折射率調整區塊3b之厚度後之值。黏著劑層3全體之全光線透射率，係以準據於JIS K7361所測定之值而為80%以上，較理想係為90%以上。黏著劑層3之全光線透射率，係以越高為越理想。進而，霧值，係以1.5%以下為理想，更理想，係為1%以下。
折射率調整用區塊3b，例如係能夠藉由將具有較黏著劑基礎材料而更高之折射率的樹脂材料之溶液，於藉由黏著劑基礎材料所形成的黏著劑層之其中一面上作特定量之塗布，並使其乾燥，而形成之。作為能夠使用於此目的中之樹脂材料，例如，係存在有在專利文獻1中所 記載之黏著劑組成物。或者是，係亦可藉由將使具有較黏著劑基礎材料而更高之折射率的有機物(例如苯乙烯寡聚物)作為固形物而作了分散的分散液，塗布在黏著劑基礎材料之層的表面上並使其乾燥，而形成之。但是，在本發明中，如同以下針對圖2所說明一般，較理想，係使高折射率材料之粒子從藉由黏著劑基礎材料所形成的黏著劑層之其中一面起來浸透，並使該高折射率材料之粒子分散於與黏著劑層之該其中一面相鄰接的區域中。
以下，參考圖2，對由本發明之其中一個實施形態所致的黏著劑層13之構成作詳細說明。
圖2中所示之由本發明之實施形態所致之黏著劑層13，係與圖1中所示之實施形態之黏著劑層3同樣的，為具備有第1主面15以及第2主面16並且具有藉由黏著劑基礎材料所本質性地形成之基礎黏著劑區塊13a和具備較該基礎黏著劑區塊13a而更高的折射率之折射率調整用區塊13b的構成，但是，在本實施形態中，折射率調整用區塊13b，係構成為藉由包含有從第2主面16起涵蓋厚度方向之深度而浸透至黏著劑基礎材料內並被分散在黏著劑基礎材料內之高折射率材料的粒子17，而具備有較基礎黏著劑區塊13a更高的折射率。
在折射率調整用區塊13b中之高折射率材料粒子17的折射率，較理想，係為1.6~2.7之範圍。較理想，高折射率材料之粒子與黏著劑基礎材料的折射率之差，係為0.2~1.3。當折射率調整用區塊為藉由將具有較 黏著劑基礎材料而更高之折射率的有機物作含浸而形成的情況時，同樣的，較理想，該有機物與黏著劑基礎材料的折射率之差，係設為0.1~0.6。從在高溫或高溫高濕下之信賴性的觀點來看，相較於樹脂材料，係以無機物之高折射率材料為更理想。例如，作為能夠於在折射率調整用區塊中使用高折射率材料粒子的本發明之此實施形態中作使用的高折射率材料，係存在有TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5以及SnO2，而能夠使用從此些之群中所選擇的1或複數之化合物來形成高折射率材料粒子17。高折射率材料粒子17之平均一次粒徑，係只要設為3nm~100nm即可，粒子，係以個別作分散之狀態或者是使一部分作了凝集之狀態，而分布在折射率調整用區塊13b內。折射率調整區塊13b與基礎黏著劑區塊13a之間的邊界，係如同關連於圖1所說明一般，成為非規則性之凹凸形狀，但是，在對於折射率調整用區塊13b之厚度作測定時，係於各測定位置處，將高折射率材料粒子17之90%所存在的深度之範圍，作為於該測定位置處之區塊13b的厚度測定值，並對於在複數之測定位置處的測定值作平均，來作為折射率調整用區塊13b之厚度。
圖3，係為對於在為了構成觸控面板感測器而於第2光學構件4之黏著劑層側表面上被形成有例如被作了圖案化的如同ITO膜一般之透明導電性層7之構成中而適用了圖2中所示之黏著劑層13的實施形態作展示之剖面圖。作為於此情況中之第2光學構件4之例，例如係可 列舉出在液晶顯示裝置或者是有機EL顯示裝置中的顯示面板之玻璃基板。
如同圖3中所示一般，黏著劑層13之折射率調整用區塊13b的主面16，係以將第2光學構件4和透明導電性層7之間之階差作填埋的方式，而被接合於第2光學構件4之黏著劑層側表面與透明導電性層7之雙方處。圖4，係為對於與第2光學構件4作接觸的黏著劑層13之主面16的狀態作展示之平面圖。如同圖4中所示一般，高折射率材料粒子17係以島狀而分散在黏著劑基礎材料之主體18中，而成為海島構成，在黏著劑層13與第2光學構件4作接觸之面上，係存在有對於第2光學構件4而以黏著劑基礎材料來作接觸之部分和以高折射率材料粒子17來作接觸之部分。較理想，在此位置處之高折射率材料粒子17的面積之相對於高折射率材料粒子17與黏著劑基礎材料之合計面積的面積比，係設為30~99%之範圍。
面積比，係設為在一邊為10μm~200μm之方形區域中的相對於該方形區域之全體面積的高折射率材料粒子17所佔據之面積的比例，並針對複數之方形區域而進行測定，再藉由將該測定值作平均，而求取出面積比。
圖5(a)、(b)、(c)，係為對於製作圖2中所示之黏著劑層13的工程作概略性展示之圖。首先，準備使上述之高折射率材料粒子17分散於溶媒中的分散液19、和黏著劑基礎材料之層20。接著，如同圖5(a)中所示一 般，將此分散液19塗布在黏著劑基礎材料層20之表面上。黏著劑基礎材料層20之表面，係藉由分散液19之溶媒而膨潤，於其過程中，分散液19內之高折射率材料粒子17係在黏著劑基礎材料層20內而於厚度方向上作浸透。將此狀態展示於圖5(b)中。之後，藉由以乾燥工程來使黏著劑基礎材料層20乾燥，來使分散液19之溶媒蒸發，而能夠得到圖2中所示之黏著劑層13。將此狀態展示於圖5(c)中。
相對於黏著劑基礎材料層20之高折射率材料粒子17的浸透深度，係依據黏著劑基礎材料與分散液19之溶媒之間的關係而制定。溶媒，係能夠以使浸透深度會成為上述之值的方式來適當作選擇。
[實施例]
以下，針對本發明之實施例作說明。
[黏著劑基礎之製作]
(丙烯酸寡聚物之作成)
將二環戊二烷基丙烯酸酯(DCPMA，甲基丙烯酸二環戊二烷基酯)60重量份、甲基甲基丙烯酸酯(MMA，甲基丙烯酸甲酯)40重量份、作為鏈轉移劑之α-硫甘油3.5重量份以及作為聚合溶媒之甲苯100重量份，投入至四口燒瓶中，並將此些在氮氣氛圍下以70℃來作了1小時的攪拌。接著，將作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.2重 量份投入至四口燒瓶中，並以70℃來作了2小時的反應，接著，以80℃來作了2小時的反應。之後，將反應液投入至130℃之溫度氛圍中，而將甲苯、鏈轉移劑以及未反應單體作乾燥除去，而得到了固形狀之丙烯酸系聚合物。將如此這般所得到的丙烯酸系聚合物，作為「丙烯酸系聚合物(A-1)」。此丙烯酸系聚合物(A-1)之重量平均分子量(Mw)，係為5.1×103。
(黏著劑A之作成)
在由2-乙基己基丙烯酸酯(2EHA)68重量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)14.5重量份、以及羥乙基丙烯酸(HEA)17.5重量份所構成的單體混合物中，配合光聚合起始劑(商品名稱「IRGACURE184」、BASF公司製)0.035重量份以及光聚合起始劑(商品名稱「IRGACURE651」、BASF公司製)0.035重量份，之後，將此單體混合物在氮氣氛圍下曝露於紫外線中而使其部分性地進行光聚合，藉由此，而得到了聚合率約10重量%之部分聚合物(丙烯酸系聚合物漿(syrup))。
在所得到的該丙烯酸系聚合物漿中，添加上述之丙烯酸系聚合物(A-1)5重量份、己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.15重量份、矽烷耦合劑(商品名稱「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製)0.3重量份，並均勻地混合，而得到了丙烯酸系黏著劑組成物。將上述丙烯酸系黏著劑組成物，在剝離薄膜(商品名稱「DIAFOIL MRN#38」、三菱樹脂股份有限公司製)的被作了剝離處理之面上，以使黏著劑層形成後之厚度會成為150μm的方式來作塗布，而形成黏著劑組成物層，接著，在該黏著劑組成物層之表面上，將剝離薄膜(商品名稱「DIAFOIL MRN#38」、三菱樹脂股份有限公司製)以使該薄膜之剝離處理面會成為塗布層側的方式來作了被覆。藉由此，來將單體成分之塗布層與氧作遮斷。之後，以照度：5mW/cm2、光量：1500mJ/cm2之條件來進行紫外線照射，來使黏著劑組成物層作光硬化，而形成了黏著劑層。
(黏著劑B之作成)
在將2-乙基己基丙烯酸酯(2EHA)28.5重量份、異硬脂丙烯酸酯(ISTA)28.5重量份、異莰基丙烯酸酯22重量份、4-羥丁基丙烯酸(4HBA)20重量份、2種類的光聚合起始劑(商品名稱「IRGACURE184」、BASF公司製)0.05重量份以及光聚合起始劑(商品名稱「IRGACURE651」、BASF公司製)0.05重量份作了配合之後，將此單體混合物在氮氣氛圍下曝露於紫外線中而使其部分性地進行光聚合，藉由此，而得到了聚合率約10重量%之部分聚合物(丙烯酸系聚合物漿)。
在如此這般所得到的丙烯酸系聚合物漿之100重量份中，添加己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.3重量份、矽烷耦合劑(商品名稱「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製)0.3重量份，並均勻地混合，而得到了丙烯酸系 黏著劑組成物。將上述丙烯酸系黏著劑組成物，在剝離薄膜(商品名稱「DIAFOIL MRF#38」、三菱樹脂股份有限公司製)的被作了剝離處理之面上，以使黏著劑層形成後之厚度會成為100μm的方式來作塗布，而形成黏著劑組成物層，接著，在該黏著劑組成物層之表面上，將剝離薄膜(商品名稱「DIAFOIL MNF#38」、三菱樹脂股份有限公司製)以使該薄膜之剝離處理面會成為塗布層側的方式來作了被覆。藉由此，來將單體成分之塗布層與氧作遮斷。之後，以照度：5mW/cm2、光量：1500mJ/cm2之條件來進行紫外線照射，來使黏著劑組成物層作光硬化，而形成了黏著劑層。
(黏著劑C之作成)
在具備有溫度計、攪拌機、回流冷卻管以及氮氣導入管的可分離燒瓶中，作為單體成分而投入2-乙基己基丙烯酸酯(2EHA)63重量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)15重量份、甲基甲基丙烯酸酯(MMA)9重量份、羥乙基丙烯酸(HEA)13重量份，並作為聚合溶媒而投入乙酸乙酯200重量份，並一面導入氮氣一面作了1小時的攪拌。在如此這般地而將聚合系內之氧除去之後，作為聚合起始劑而添加2,2'-偶氮二異丁腈0.2重量份，並升溫至60℃而使其作了10小時的反應。之後，添加甲苯，而得到了固形份濃度為30重量%之丙烯酸系聚合物溶液。係得到了重量平均分子量(Mw)為80萬之丙烯酸系聚合物。在此丙烯酸系聚 合物之溶液(固形份100份)中，作為異氰酸酯系交聯劑而添加三羥甲基丙烷伸二甲苯二異氰酸酯(三井化學(股份有限公司)製「TAKENATE D110N」)1.0份，並添加矽烷耦合劑(信越化學(股份有限公司)製「KBM-403」)0.2份，而調製了黏著劑組成物(溶液)。將如此這般所調製了的黏著劑溶液，在剝離薄膜(商品名稱「DIAFOIL MRF#75」、三菱樹脂股份有限公司製)的被作了剝離處理之面上，以使黏著劑層形成後之厚度會成為75μm的方式來作塗布，並在常壓下以60℃來作3分鐘之加熱乾燥，且接著以155℃而進行4分鐘之加熱乾燥，再進而以50℃而進行72小時之熟成，而作成了黏著劑層。
[附折射率調整區塊黏著劑之製作]
<使用黏著劑A/高折射率材料之奈米粒子分散液的事例>
<使用了黏著劑A/奈米粒子分散液(分散媒：乙醇)的事例>
將黏著劑層之厚度為150μm並且使該黏著劑層之兩面藉由PET剝離薄片來作了保護的狀態下之黏著劑A(黏著劑層之折射率：1.49)的其中一方之輕剝離PET薄片作了剝離。在所露出的黏著劑層之表面上，將作為含有高折射率粒子之分散液的含有二氧化鋯粒子(ZrO2、折射率：2.17、平均一次粒徑：20nm)之塗布用處理液(分散媒：乙醇、粒子濃度：1.5重量%、分散液之透射率：82%、CIK NANOTECH(股份有限公司)製)，以使折射率調整區塊之厚度會成為20nm~200nm的方式來藉由棒式塗佈機RDS No.5而作塗布，並以110℃之乾燥烤箱來作了180秒的乾燥。接著，在使二氧化鋯(ZrO2)粒子作了分散的黏著劑層表面上，作為支持體而貼合PET剝離薄片(75μm)，而得到了附折射率調整區塊黏著劑(A1)(亦稱作附折射率調整區塊黏著劑薄片(A1))。折射率調整區塊之厚度，係為140nm。另外，二氧化鋯粒子之平均一次粒徑，係藉由TEM觀察來作了計測。
<其他事例>
與上述之事例相同的，使用下述之黏著劑以及高折射率材料之奈米粒子分散液，而同樣的製作了附折射率調整區塊黏著劑(B1)以及附折射率調整區塊黏著劑(C1)(分別亦稱作附折射率調整區塊黏著劑薄片(B1)以及附折射率調整區塊黏著劑薄片(C1))。所使用的黏著材料，係為黏著劑B(折射率1.48)以及黏著劑C(折射率1.49)、ZrO2奈米粒子分散液(分散媒：乙醇，粒徑20nm)。附折射率調整區塊黏著劑(B1)之折射率調整區塊的厚度，係為120nm，附折射率調整區塊黏著劑(C1)之折射率調整區塊的厚度，係為200nm。
剝離薄片(剝離紙)，係於折射率調整區塊之糊面側而被進行有離模處理。係亦對於作為載體材料之機械性強度有所要求。當透明導電性層係為ITO的情況時，係 以具備有能夠耐住高溫之結晶化處理工程的耐熱性為理想，並以在尺寸安定性上為優良為理想。例如，係為環烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚烯烴系樹脂，具體而言，係為PET、聚碳酸酯(PC)、COP(ZEONOR)。
與離模處理相獨立地，亦可在剝離薄片(剝離紙)之單面或雙面處，具有單一或複數層之功能層。例如，係為硬塗(HC)層/寡聚物防止層/防結塊(AB)層/防帶電層。係將此些任意作組合、複合化，而形成之。從薄型化的觀點來看，係以越薄為越理想，但是，若是過薄，則機械性強度係為不足，而成為難以處理。若是過厚，則在捲繞等之卷形狀下的處理係變得困難，而會有損及生產性之虞。厚度係為2~200μm，較理想係為10~125μm。
於下述表中，對於附折射率調整區塊黏著劑薄片之各別的構成以及特徵作展示。
Figure 105122749-A0202-12-0027-1
黏著劑，係以在光學性透明性、接著性、凝集性(加工性)上為優良者為理想。例如，當透明導電性層係為ITO的情況時，係以具備有能夠耐住高溫之結晶化處理工程的耐熱性為理想。在黏著劑中，係可從丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、環氧系黏著劑以及聚醚系黏著劑而適宜作選擇並使用。從在光學性透明性上為優良並展現有凝集性以及接著性等之黏著特性並且在耐候性和耐熱性等上 亦為優良的觀點來看，係可理想使用丙烯酸系黏著劑。
折射率調整用區塊，係以折射率為較黏著劑基礎材料之折射率而更高的材料為理想。從在高溫或高溫高濕下之信賴性的觀點來看，相較於樹脂材料，係以無機系之高折射率材料為更理想。係可使用從由TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5以及SnO2而成之群中所選擇的1或複數之化合物。高折射率材料粒子之平均一次粒徑，較理想，係為3nm~100nm。折射率調整用區塊之厚度，較理想，係為20nm~600nm，更理想，係為20nm~300nm，又更理想，係為20nm~200nm。
<雙面透明導電性薄膜之層積體之製作>
<作為基材而使用COP的透明導電層之製作(雙面透明導電性薄膜(1))之製作>
在厚度100μm之環烯烴聚合物薄膜(日本ZEON(股份有限公司)製，商品名稱：「ZEONOR ZF16」、面內雙折射率：0.0001)之兩面上，將對於黏合劑樹脂(DIC公司製、商品名稱：「UNIDIC RS29-120」)100份而將直徑3μm之複數之粒子(積水樹脂(股份有限公司)製、商品名稱：「SSX105」)作了0.07份之添加的塗布液，使用棒式塗布機來作塗布，並在80℃之烤箱中而作1分鐘的乾燥，之後，藉由照射積算光量各300mJ之紫外線(高壓水銀燈)，而形成了於兩面上具備有抗結塊層之薄膜(以下，稱作COP基材)。接著，在各個的抗結塊層之表面上，將 折射率調整劑(JSR(股份有限公司)製、商品名稱：「OPSTAR KZ6661」)藉由棒式塗布機來作塗布，並在80℃之烤箱中而作1分鐘的乾燥，之後，藉由照射積算光量各300mJ之紫外線(高壓水銀燈)，而形成了厚度100nm、折射率1.65之折射率調整層(以下，稱作COP基材)。在所得到的COP基材之折射率調整層之各個的表面上，於捲繞式濺鍍裝置中作為透明導電層而層積了厚度23nm之銦錫氧化物層(ITO)。如此這般所製作出的透明導電性層，係為相當於圖7(a)中所示之雙面透明導電性薄膜(1)者，針對其之詳細內容，係於後再述。
<作為基材而使用PET的透明導電性層之製作(雙面透明導電性薄膜(2))之製作>
除了將基板變更為PET以外，藉由與上述相同之方法，而製作了於雙面上具備有折射率調整層之基材(以下，稱作PET基材)。之後，在所得到的PET基材之折射率調整層之各個的表面上，於捲繞式濺鍍裝置中作為透明導電層而層積了厚度23nm之銦錫氧化物層(ITO)。如此這般所製作出的透明導電性層，係為相當於圖7(b)中所示之雙面透明導電性薄膜(2)者，針對其之詳細內容，係於後再述。
透明導電層，較理想，係為具有導電性且具備透明性、視覺辨認性並且能夠進行圖案化者。例如，除了ITO之外，亦存在有銀奈米線或金屬網格(銀、銅)等。 又，透明基材，較理想，係具備有高透明性(高透射率、低霧度)。例如，當透明導電性層係為ITO的情況時，係以具備有能夠耐住高溫之結晶化處理工程的耐熱性為理想。並且，在耐蝕刻性(耐藥品性)、尺寸安定性、加工性、處理性上亦為優良。
於透明基材中，係可使用環烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚烯烴系樹脂，例如，係為PET、聚碳酸酯(PC)、COP(ZEONOR)等。亦可在薄膜基材之單面或雙面處，具有單一或複數層之功能層。例如，係為將易接著層/硬塗(HC)層/寡聚物防止層/折射率調整(基材IM)層/防結塊(AB)層/SiO2等之防濕層的此些作任意組合、複合化而形成之。於透明基材處，係亦可於表面預先施加濺鍍、電暈放電、火焰、紫外線照射、電子線照射、化成、氧化等之蝕刻處理或底塗處理，而使其之與被形成在基材上的功能層之間之密著性提昇。又，在形成功能層之前，係亦可因應於需要，而藉由溶劑洗淨或超音波洗淨等來對於透明基材表面進行除塵、清淨化。
於在偏光板所被作使用之畫像顯示裝置的外側(視覺辨認側)處配置有透明基材的構成中，係藉由將透明基材設為λ/4板，並以使該透明基材之遲相軸會相對於位置在外側(視覺辨認側)之偏光板的偏光軸而成為45度之關係的方式來作配置，來將從畫像顯示裝置所射出的直線偏光轉換為圓偏光，就算是在隔著偏光墨鏡來作了觀察的情況時，也能夠防止其完全的變暗。又，當從斜方向來 對於PET基材等之透明基材作了觀察的情況時，會有起因於PET基材之雙折射而導致看到彩虹暈現象的情形。藉由將不具有雙折射之光學等向性薄膜作為基材，係能夠對此作改善。
透明基材，從薄型化的觀點來看，係以越薄為越理想，但是，若是過薄，則機械性強度係為不足，在加工性和處理性上會變得困難。若是過厚，則在捲繞等之卷形狀下的處理係變得困難，而會有損及生產性之虞。因此，透明基材之厚度係為2~200μm，較理想係為10~125μm。
保護薄膜，較理想，係藉由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜、三醋酸纖維素(TAC)薄膜或者是光等向性薄膜來形成之。亦可在保護薄膜之與黏著劑薄片相反側的面上具有功能層。例如，係存在有硬塗(HC)層/防結塊(AB)層/防反射層/防帶電層/以防擴散、防眩作為目的之處理等。係將此些任意作組合、複合化，而形成之。當在保護薄膜與畫像顯示裝置(LCD、OLED)之間而具有空氣層的情況時，藉由配置防反射層，係能夠防止在空氣層與顯示裝置之界面處的內部反射。
<作為觸控面板感測器而起作用的光學構件層積體之製造>
在上述透明導電性層以及透明導電性薄膜層積體上之一部分處，形成光阻膜，之後，將此在25℃、5重量%之 鹽酸(氯化氫水溶液)中作1分鐘的浸漬，而進行了透明導電層之蝕刻。藉由此，而製作了存在有相當於電極配線圖案之透明導電層的部份(圖案部)和被作了除去的部份(開口部)。將上述之黏著劑薄片的具有高折射率材料粒子之側之PET剝離薄片作剝離，並在被作了圖案化的透明導電層之上，以使該黏著劑薄片之黏著劑層(前述具有高折射率粒子之側)與該透明導電層作接觸的方式來將該黏著劑薄片作了層積。在將黏著劑薄片之相反側的PET剝離薄片作了剝離之後，為了進行表面保護以及光學測定，而將載玻片或者是厚度100μm之環烯烴聚合物薄膜(商品名稱：「ZEONOR ZF16」，面內雙折射率：0.0001，日本ZEON(股份有限公司)製)作了貼合。針對如此這般所製造出的實施例1~4以及比較例1~4，參考圖9(a)~(d)以及圖10(a)~(d)而於後作敘述。針對其之詳細內容，係於後再述。
[評價方法]
<黏著劑層之表面狀態的觀察>
對於在各實施例中的黏著劑層之具有高折射率材料粒子之側的表面，使用FE-SEM，而以加速電壓2kV、觀察倍率500倍、2000倍、5000倍以及20000倍來作了觀察。於圖11中，對於其之20000倍照片作展示。可以得知，高折射率材料粒子係均勻地作了分散。
<階度(gradation)構造之觀察>
對於實施例之黏著劑層的具有高折射率材料粒子之側之表面近旁的剖面，使用透射型電子顯微鏡(TEM)來以倍率30000倍而作了觀察。將其結果展示於圖9(a)、(b)中。可以得知，於圖12(a)中，高折射率材料粒子係涵蓋折射率調整用區塊之厚度的略全體而略均一地分布，但是，在圖12(b)之例中，於黏著劑層中的高折射率材料粒子之分布，係具有於黏著劑層之表面處而成為最高並隨著黏著劑層之厚度方向而逐漸減少的分布。
<平均表面折射率>
針對藉由實施例以及比較例所得到了的黏著層之平均表面折射率，使用分光橢圓偏光計(EC-400 JA.Woolam製)來對於在鈉D線(589nm)處的折射率作了測定。對於實施例以及比較例之黏著層，係於將兩面的剝離薄片作剝離並且將黑板貼合於並未塗布有粒子之面上的狀態下，對於被塗布有粒子之面的平均折射率作了測定。對於比較例之黏著薄片，係於將雙方的剝離薄片作剝離並且將黑板貼合於其中一面上的狀態下，對於黏著劑層表面的平均折射率作了測定。
<折射率調整層之厚度之測定>
對於黏著劑層之深度方向的剖面作調整，並進行了TEM觀察。根據所得到的TEM像(直接倍率3000~30000 倍)，來對於折射率調整層之厚度的測定作了計測。折射率調整層之厚度，係設為在與黏著劑基礎層之間之調整層之間的界面之凹凸的平均值，當與黏著劑基礎層之間的界面之判別係為困難的情況時，係對於表面TEM像而藉由畫像處理軟體(ImageJ)來進行二值化畫像處理，並將奈米粒子之90%所存在的區域之深度作為調整層之厚度。
<高折射率粒子之面積比例>
對於黏著劑層之粒子塗布側的表面，使用FE-SEM，而以加速電壓2kV、觀察倍率500倍、2000倍、5000倍來作了觀察。藉由對於所得到的表面SEM像而以畫像處理軟體(ImageJ)來進行二值化畫像處理，來作為相對於在長邊23μm、短邊18μm之長方形區域中的全體面積之面積，而求取出了高折射率粒子所佔據的面積比例(%)。
<全光線透射率、霧值>
在藉由實施例以及比較例所得到的黏著薄片處，將塗布有高折射率材料之側的剝離薄片剝離，並貼合了載玻片(商品名稱：白研磨No.1，厚度：0.8~1.0mm，全光線透射率：92%，霧度：0.2%，松浪硝子工業(股份有限公司)製)。進而將另外一方之剝離薄片剝離，而製作了具備有基礎黏著劑層/黏著性之折射率調整用層/載玻片之層構成的試驗片。又，在比較例的黏著薄片處，係將其中一方之剝離薄片剝離，並貼合了載玻片(商品名稱：白研磨 No.1，厚度：0.8~1.0mm，全光線透射率：92%，霧度：0.2%，松浪硝子工業(股份有限公司)製)，且進而將另外一方之剝離薄片剝離，而製作了具有基礎黏著劑層/載玻片之層構成的試驗片。針對上述試驗片之在可視光區域中的全光線透射率、霧值，使用霧度計(裝置名稱：HM-150，(股份有限公司)村上色彩研究所製)來作了測定。
<180度揭膜(peel)接著力(相對於玻璃板之180度拉扯剝離力)>
從藉由實施例以及比較例所得到了的黏著薄片，而切出了長度100mm、寬幅25mm之薄片。接著，在實施例以及比較例之薄片處，將並未被塗布有粒子之側的剝離薄片作剝離，並貼附(背貼)了PET薄膜(商品名稱：LUMIRROR S-10，厚度：25μm，TORAY(股份有限公司)製)。又，在比較例1、2之薄片處，將其中一方之剝離薄片作剝離，並貼附(背貼)了PET薄膜(商品名稱：LUMIRROR S-10，厚度：25μm，TORAY(股份有限公司)製)。接著，將另外一方之剝離薄片剝離，並在作為試驗板之玻璃板(商品名稱：SODA-LIME GLASS #0050，松浪硝子工業(股份有限公司)製)上，以2kg滾輪、1次往返的壓著條件而作壓著，而製作了由試驗板/黏著劑層/PET薄膜所構成的樣本。
針對所得到的樣本，進行高壓(autoclave)處理(50℃、0.5MPa、15分鐘)，之後，在23℃、50%R.H.之氛 圍下作了30分鐘的放置冷卻。在放置冷卻後，使用拉張試驗機(裝置名稱：AUTOGRAPH AG-IS，(股份有限公司)島津製作所製)，而準據於JIS Z0237，來在23℃、50%R.H.之氛圍下，以拉張速度300mm/分鐘、剝離角度180°的條件，來將黏著薄片(黏著劑層/PET薄膜)從試驗板拉扯剝下，而對於180°拉扯剝離接著力(N/25mm)作了測定。又，在各實施例、比較例中，係製作未塗布高折射率材料之粒子的黏著薄片，並在該未塗布高折射率材料之粒子的黏著薄片處，係與上述相同的而對於180度揭膜接著力作了測定。
<含有高折射率粒子之分散液的透射率>
含有高折射率粒子之分散液的透射率，係藉由光電比色計(AC-114，OPTIMA公司製)來使用530nm之濾片而作了測定。將分散溶媒單獨之透射率設為100%，而對於在各實施例、比較例中所使用了的分散液之透射率(%)作了測定。
<反射抑制率之測定>
將實施例以及比較例之光學構件層積體的其中一面作為反射率測定面，並在相反側之面上貼合附單面黏著黑色PET(PET75NBPET38，LINTEC(股份有限公司)製)，而作為反射率測定用之試料。對於光學構件層積體之反射率測定面側的反射率(Y值)，藉由反射型分光光度計(U4100， (股份有限公司)HITACHI HIGH TECHNOLOGIES製)來作了測定。測定，係在對於透明導電層進行了蝕刻的部份和並未進行蝕刻的部份之雙方的位置處而進行之。亦即是，對於透明導電層進行了蝕刻的部份(開口部)之測定，係為黏著劑層之折射率調整層與光學構件層積體之折射率調整層之間的界面之反射率，並未進行蝕刻之部分(圖案部)的測定，係代表黏著劑層之折射率調整層與透明導電層之界面的反射率。
反射抑制率，係針對進行了蝕刻的部份和並未進行蝕刻的部份之各者，而基於下式來算出。另外，下述式中之所謂「不存在有粒子的情況時之反射率(%)」，係為比較例(並未使用粒子的情況)之光學構件層積體的反射率。亦即是，反射抑制率，係為代表能夠藉由具備有折射率調整層一事而將反射率作何種程度的降低之指標。
反射抑制率(%)=反射率(%)-不存在有粒子的情況時之反射率(%)
[在對於雙面ITO薄膜而作了適用的情況時之感測器構成(G/FD)]
圖6(a)中所示之層積體21，係代表具備有成為本發明之基本構成的附折射率調整區塊黏著劑(附IM層黏著劑22)之雙面ITO薄膜層積感測器。本發明之雙面ITO薄膜層積感測器，基本上，係將附折射率調整區塊(IM層)黏著劑薄片之IM層之面分別貼合於透明導電性薄膜25之雙面 的ITO層23處，而構成之。
圖6(b)中所示之層積體26，係為具備有本發明之其中一種實施形態的附折射率調整區塊黏著劑(附IM層黏著劑22)之雙面ITO薄膜層積感測器，並為將附折射率調整區塊(IM層)黏著劑薄片之IM層之面分別貼合於透明導電性薄膜27之雙面的被作了圖案化之ITO層處所構成的層積體。與被和ITO層作了貼合之面相反側的附折射率調整區塊(IM層)黏著劑(附IM層黏著劑22)之面，係分別被貼合有身為覆蓋構件之覆蓋玻璃(cover glass)28、保護薄膜29。
圖6(c)中所示之層積體30，係為當將具備有本發明之其中一種實施形態的附折射率調整區塊黏著劑(附IM層黏著劑22)之雙面ITO薄膜層積感測器適用於LCD、OLED等之畫像顯示裝置32處的情況時之層積體。當在施加有偏光墨鏡的狀態下而對畫像顯示裝置(LCD、OLED)作觀察的情況時，依存於角度，會有墨鏡之偏光軸與畫像顯示裝置(LCD、OLED)上之偏光板的偏光軸成為正交關係並變得完全無法觀察到顯示(變暗)的情況。作為對策，係藉由將透明基材設為λ/4板，並相對於偏光板的偏光軸而將λ/4板之遲相軸以45度之關係來作配置，來將從畫像顯示裝置所射出的直線偏光轉換為圓偏光，就算是在隔著偏光墨鏡來作了觀察的情況時，也能夠防止其完全的變暗。
圖6(d)，係為圖6(c)中所示之感測器構成的 變形例，並對於在單面形成感測器圖案且將單面設為電磁波遮蔽層的雙面ITO薄膜層積感測器的構成作展示。
[雙面透明導電性薄膜(1)]
作為在雙面上貼合附折射率調整區塊(層)黏著劑之光學構件，而準備了圖7(a)中所示之層積體41和圖7(b)中所示之層積體45。圖7(a)中所示之層積體41，其構成係為在折射率1.53之COP基材44的雙表面上被形成有折射率1.65之折射率調整層43，並在該折射率調整層43之其中一個表面上分別被形成有可被作圖案化(patterning)的ITO層42。ITO層42之折射率，係為1.9。將此層積體41稱作「雙面透明導電性薄膜(1)」。在圖中之各層處所記載之數值，係代表折射率。以下，同樣的，在其他之圖(圖7~圖10)中的於各層處所記載之數值，若是不存在有單位之標記，則係代表折射率。
[雙面透明導電性薄膜(2)]
圖7(b)中所示之層積體45，其構成係為在折射率1.57之PET基材46的雙表面上被形成有折射率1.65之折射率調整層43，並在該折射率調整層43之其中一個表面上分別被形成有可被作圖案化(patterning)的ITO層42。於此情況，亦同樣的，ITO層42之折射率，係為1.9。將此層積體45稱作「雙面透明導電性薄膜(2)」。
藉由上述之「附折射率調整區塊黏著劑之製 作」的方法，而在圖8(a)、(b)、(c)中展示附折射率調整區塊黏著劑薄片(A1)、(B1)、(C1)之構成。在雙面透明導電性薄膜(1)或(B)之雙面上，貼合附折射率調整區塊黏著劑薄片(A1)(B1)(C1)之其中一種類的黏著劑薄片而構成了實施例1~4。藉由使用上述一般之雙面透明導電性薄膜，係能夠將在層積體之作成時的貼合工程數作削減，並且，藉由在基材之表背面或者是單側處形成圖案，係能夠消除圖案之(X，Y)的對位等之繁雜程度。
[實施例1]
基於上述之<作為觸控面板感測器而起作用的光學構件層積體之製造>的方法，而製作了圖9(a)中所示之光學構件層積體。圖9(a)中所示之光學構件層積體，係構成為在雙面透明導電性薄膜(1)(層積體41)之兩面的被施加有圖案化之ITO層之面處，分別貼合附折射率調整區塊(層)黏著劑薄片(A1)之折射率調整區塊側之面，並在上方之附折射率調整層黏著劑薄片(A1)之另外一面處，貼合評價用ZEONOR47，且在下方之附折射率調整層黏著劑薄片(A1)之另外一面處，為了進行反射率測定而貼合有評價用之黑色的PET薄膜48。
[實施例2]
與上述實施例相同的，而製作了圖9(d)中所示之光學構件層積體。圖9(b)中所示之光學構件層積體，係構成為 在雙面透明導電性薄膜(2)(層積體45)之兩面的被施加有圖案化之ITO層之面處，分別貼合附折射率調整區塊(層)黏著劑薄片(B1)之折射率調整區塊側之面，並在上方之附折射率調整層黏著劑薄片(B1)之另外一面處，貼合評價用ZEONOR47，且在下方之附折射率調整層黏著劑薄片(B1)之另外一面處，為了進行反射率測定而貼合有評價用之黑色的PET薄膜48。
[實施例3]
與上述實施例相同的，而製作了圖9(c)中所示之光學構件層積體。圖9(c)中所示之光學構件層積體，係構成為在雙面透明導電性薄膜(1)(層積體41)之兩面的被施加有圖案化之ITO層之面處，分別貼合附折射率調整區塊(層)黏著劑薄片(C1)之折射率調整區塊側之面，並在上方之附折射率調整層黏著劑薄片(C1)之另外一面處，貼合評價用ZEONOR47，且在下方之附折射率調整層黏著劑薄片(C1)之另外一面處，為了進行反射率測定而貼合有評價用之黑色的PET薄膜48。
[實施例4]
與上述實施例相同的，而製作了圖9(d)中所示之光學構件層積體。圖9(d)中所示之光學構件層積體，係構成為在雙面透明導電性薄膜(1)(層積體41)之其中一面的被施加有圖案化之ITO層之面處，貼合附折射率調整區塊(層) 黏著劑薄片(B1)之折射率調整區塊側之面，而在另外一面的並未被施加有圖案化之ITO層之面處，亦貼合附折射率調整區塊(層)黏著劑薄片(B1)之折射率調整區塊側之面，並在上方之附折射率調整層黏著劑薄片(B1)之另外一面處，貼合評價用ZEONOR47，且在下方之附折射率調整層黏著劑薄片(B1)之另外一面處，為了進行反射率測定而貼合有評價用之黑色的PET薄膜48。
[比較例1]
基於上述之<作為觸控面板感測器而起作用的光學構件層積體之製造>的方法，而製作了圖10(a)中所示之光學構件層積體。圖10(a)中所示之光學構件層積體，係構成為在雙面透明導電性薄膜(1)(層積體41)之兩面的被施加有圖案化之ITO層之面處，分別貼合薄片狀之黏著劑A，並在上方之薄片狀之黏著劑A之另外一面處，貼合評價用ZEONOR47，且在下方之薄片狀黏著劑A之另外一面處，為了進行反射率測定而貼合有評價用之黑色的PET薄膜48。
[比較例2]
與上述比較例相同的，而製作了圖10(b)中所示之光學構件層積體。圖10(b)中所示之光學構件層積體，係構成為在雙面透明導電性薄膜(2)(層積體45)之兩面的被施加有圖案化之ITO層之面處，分別貼合薄片狀之黏著劑 B，並在上方之薄片狀之黏著劑B之另外一面處，貼合評價用ZEONOR47，且在下方之薄片狀黏著劑B之另外一面處，為了進行反射率測定而貼合有評價用之黑色的PET薄膜48。
[比較例3]
與上述比較例相同的，而製作了圖10(c)中所示之光學構件層積體。圖10(c)中所示之光學構件層積體，係構成為在雙面透明導電性薄膜(1)(層積體41)之兩面的被施加有圖案化之ITO層之面處，分別貼合薄片狀之黏著劑C，並在上方之薄片狀之黏著劑C之另外一面處，貼合評價用ZEONOR47，且在下方之薄片狀黏著劑B之另外一面處，為了進行反射率測定而貼合有評價用之黑色的PET薄膜48。
[比較例4]
與上述比較例相同的，而製作了圖10(c)中所示之光學構件層積體。圖10(c)中所示之光學構件層積體，係構成為在雙面透明導電性薄膜(1)(層積體41)之其中一方的被施加有圖案化之ITO層之面處，貼合薄片狀之黏著劑B，而在另外一方的並未被施加有圖案化之ITO層之面處，貼合薄片狀之黏著劑B的折射率調整區塊側之面，並在上方之薄片狀之黏著劑B之另外一面處，貼合評價用ZEONOR47，且在下方之薄片狀黏著劑B之另外一面處， 為了進行反射率測定而貼合有評價用之黑色的PET薄膜48。
對於如同上述一般所得到了的實施例1~4以及比較例1~4，而在下述表中展示ITO部分之反射率以及反射抑制率和基材部分之反射率以及反射抑制率。
Figure 105122749-A0202-12-0044-2
根據上述表之結果，在雙面透明導電性薄膜(1)~(2)處而使用了附折射率調整區塊(層)黏著劑(A1)(B1)(C1)之實施例1~4的反射抑制率，係成為-1.2%~-0.9%，藉由附折射率調整區塊黏著劑，反射係被抑制，而能夠得到有改善效果。另一方面，在比較例1~4中，由於係並未包含有附折射率調整區塊黏著劑，因此反射係並 未特別被抑制，而並未發現到改善的效果。根據此，本發明之實施形態之在雙面透明導電性薄膜處貼合有附折射率調整區塊黏著劑薄片之導電性薄膜層積體，係能夠對於反射有效地作抑制。
[產業上之可利用性]
如同以上所述一般，在本發明中，於將第1光學構件和第2光學構件作接合的黏著劑層處，係從第2光學構件側之面起，而於厚度方向上設置具備有較黏著劑基礎材料之折射率而更高的折射率之折射率調整區塊，而能夠對於外光之內部反射光通過第1光學構件而返回的情形作抑制。本發明，係可適用在如同液晶顯示裝置以及有機EL顯示裝置一般之光學性顯示裝置中。本發明，特別是能夠有利地適用在具有觸控感測器之觸控面板方式的顯示裝置中。
21‧‧‧層積體
22‧‧‧附IM層黏著劑
23‧‧‧ITO層
24‧‧‧薄膜基材
25‧‧‧透明導電性薄膜

Claims (17)

  1. 一種雙面透明導電性薄膜層積體，其特徵為，係具備有：透明之薄膜基材；和第1透明導電性層，係被層積於前述透明之薄膜基材之其中一面上；和第2透明導電性層，係被層積於前述透明之薄膜基材之另外一面上；和透明之第1黏著劑層，係被層積於前述第1透明導電性層之與前述透明之薄膜基材側相反側之面上；和透明之第2黏著劑層，係被層積於前述第2透明導電性層之與前述透明之薄膜基材側相反側之面上，前述第1以及第2黏著劑層，係分別為單一之層，並分別包含有：從其中一方之主面起涵蓋厚度方向而藉由透明之黏著劑基礎材料所本質性地形成之基礎黏著劑區塊、和從該黏著劑層之另外一方之主面起涵蓋厚度方向所形成之透明之黏著性之折射率調整用區塊，前述折射率調整用區塊，係與前述第1以及第2透明導電性層相接，並具備有較前述黏著劑基礎材料的折射率而更高之折射率，前述折射率調整用區塊，係以在與前述黏著劑基礎材料相同之黏著性材料中使具有較該黏著性材料而更高的折射率之高折射率材料的粒子分散並將該折射率調整用區塊之平均折射率提高的方式，來構成之。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之雙面透明導電性 薄膜層積體，其中，前述第1以及第2透明導電性層係被作圖案化。
  3. 如申請專利範圍第1項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述第1透明導電性層係被作圖案化，前述第2透明導電性層係並未被作圖案化。
  4. 如申請專利範圍第2項或第3項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，係更進而在前述第1黏著劑層之與前述第1透明導電性層側相反側之面上包含有覆蓋構件，並在前述第2黏著劑層之與前述第2透明導電性層側相反側之面上，包含有畫像顯示裝置或保護薄膜。
  5. 如申請專利範圍第1~3項中之任一項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述透明之薄膜基材，厚度係為2μm~200μm。
  6. 如申請專利範圍第1~3項中之任一項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述折射率調整用區塊，厚度係為20nm~600nm。
  7. 如申請專利範圍第1項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述高折射率材料的粒子之折射率，係為1.60~2.74。
  8. 如申請專利範圍第1項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述高折射率材料之由TEM觀察所得到的平均一次粒徑，係為3nm~100nm。
  9. 如申請專利範圍第1項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述高折射率材料的粒子與前述黏著 劑基礎材料之折射率之差，係為0.15~1.34。
  10. 如申請專利範圍第1項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述高折射率材料，係為從由TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5以及SnO2而成之群中所選擇的1或複數之化合物。
  11. 如申請專利範圍第1~3項中之任一項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述折射率調整用區塊，係以藉由在與前述黏著劑基礎材料相同之黏著性材料中包含具有較該黏著性材料而更高的折射率之粒子、聚合物或者是寡聚物之形態的有機材料來將該折射率調整用區塊之平均折射率提高的方式，而構成之。
  12. 如申請專利範圍第11項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述黏著劑基礎材料之折射率，係為1.40~1.55，前述有機材料之折射率，係為1.59~2.04。
  13. 如申請專利範圍第1~3項中之任一項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述黏著劑層之全光線透射率，係為80%以上。
  14. 如申請專利範圍第1項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述高折射率材料的粒子，係包含以使複數之粒子作了凝集的凝集體之形態所存在的部份。
  15. 如申請專利範圍第1~3項中之任一項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述折射率調整用區塊，係在前述黏著劑層之厚度方向上，以不規則性之深度而存在。
  16. 如申請專利範圍第1~3項中之任一項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，前述透明之薄膜基材，係在與前述第1透明導電性層之間包含有第1折射率調整層，並在與前述第2透明導電性層之間包含有第2折射率調整層。
  17. 如申請專利範圍第1~3項中之任一項所記載之雙面透明導電性薄膜層積體，其中，透明層積體之折射率n1和前述折射率調整區塊之折射率n2以及前述黏著劑基礎材料之折射率n3的關係，係成為n1>n2>n3。
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