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TWI692005B - 利用基於目標之空中圖像之變換之目標及焦點度量 - Google Patents

利用基於目標之空中圖像之變換之目標及焦點度量 Download PDF

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TWI692005B
TWI692005B TW105125019A TW105125019A TWI692005B TW I692005 B TWI692005 B TW I692005B TW 105125019 A TW105125019 A TW 105125019A TW 105125019 A TW105125019 A TW 105125019A TW I692005 B TWI692005 B TW I692005B
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TW
Taiwan
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focus
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target
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transformation
Prior art date
Application number
TW105125019A
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English (en)
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TW201717255A (zh
Inventor
那達夫 古特曼
亞爾 飛勒
維拉得摩 朗維司基
奧迪帝 卡米斯開
Original Assignee
美商克萊譚克公司
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Publication date
Application filed by 美商克萊譚克公司 filed Critical 美商克萊譚克公司
Publication of TW201717255A publication Critical patent/TW201717255A/zh
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Publication of TWI692005B publication Critical patent/TWI692005B/zh

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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605—Workpiece metrology
    • G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
    • G03F7/70641—Focus
    • H10P74/203—
    • H10P74/238—
    • H10P76/2041—

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Abstract

本發明提供焦點度量方法及模組，其等使用基於空中圖像之變換以共用自多個目標導出之量測資訊及/或設計針對指定相容目標之額外目標，此實現依據改變之生產條件簡單調整焦點目標。方法包括：將兩個或兩個以上焦點目標定位在各晶圓場中；進行該等目標之焦點量測；將該等焦點量測變換為針對各場之一單組結果；使用基於該等目標之空中圖像之該等目標之間之一變換；及自該等單組結果導出焦點結果；及可能使用指定目標之空中圖像參數自該等指定目標設計該等焦點目標。

Description

利用基於目標之空中圖像之變換之目標及焦點度量 【相關申請案之交叉參考】
本申請案主張2015年8月6日申請之美國臨時專利申請案第62/201,975號之權利，該申請案之全文以引用的方式併入本文中。
本發明係關於焦點劑量度量之領域，且更特定言之，係關於改良焦點及劑量量測準確度及靈活性之量測方法及目標。
在信號回應度量(SRM)中，依據若干所關注參數學習信號之回應。使用一組指定實驗，改變所關注參數且量測信號。在微影印刷工具(諸如掃描器或一步進器)之情況中，使用SRM以焦點及劑量為參數完成焦點及劑量度量。在一特殊晶圓(即，焦點曝露矩陣(FEM)晶圓)上針對不同焦點及劑量值印刷一組單元(即，一度量目標)。經學習信號可由(例如)實施角度解析之散射量測技術之一對應度量工具導出。
SRM中之固有問題係經學習信號中之誤差。在焦點度量之情況中，FEM焦點之模糊度可係約20nm。在FEM及生產晶圓兩者上預期此等焦點誤差。FEM晶圓上之掃描器焦點位置之此一大模糊度不容許建立一良好校準之模型且導致隨後焦點/劑量量測中之大誤差。再者，如在底層及光阻劑中之程序變動引起FEM與生產印刷圖案之間之 差異且繼而經量測信號之差異。
先前技術焦點劑量量測通常使用由線-空間圖案組成之兩個單元。一個單元(稱為密集單元)具有依一最小節距之線且另一單元(稱為ISO單元)具有與密集單元相同之線但具有一雙倍節距。雖然ISO單元對焦點及劑量兩者非常靈敏，但密集單元對焦點不靈敏。因此，可使焦點與劑量貢獻去相關(見Mack、Chris之2008年，Fundamental principles of optical lithography：the science of microfabrication，John Wiley & Sons)。不對稱目標具有取決於焦點及曝露之(若干)不對稱特徵。此等目標通常具有一大節距(400nm至900nm)，此實現量測第一階之間之差動信號。使用具有不同節距及不對稱性之多個目標來使焦點及劑量去相關(見WIPO公開案第2013/189724號，該案之全文以引用的方式併入本文中)。
以下係提供本發明之一初步理解之一簡明概要。概要不一定識別關鍵元件，亦不限制本發明之範疇，而僅充當以下描述之一導論。
本發明之一態樣提供一種焦點度量方法，其包括：將兩個或兩個以上焦點目標定位在各晶圓場中；進行目標之焦點量測；將焦點量測變換為針對各場之一單組結果；使用基於目標之空中圖像之目標之間之一變換；及自單組結果導出焦點結果。
本發明之此等、額外及/或其他態樣及/或優點在下文之詳細描述中闡述；可能可自詳細描述推斷；及/或可藉由實踐本發明而學習。
60:晶圓
70:晶圓場
80A:先前技術目標
80B:先前技術目標
85:空中圖像
90:度量工具
100:焦點模組
101:目標
105:焦點結果
110:處理模組
112:焦點量測
115:變換
118:單組結果
120:目標
120A:多參數光罩設計
200:方法
210:階段
220:階段
230:階段
235:階段
240:階段
250:階段
255:階段
260:階段
P1:幾何參數
P2:幾何參數
P3:幾何參數
為了較佳理解本發明之實施例且展示可如何實行本發明之實施例，現將純粹藉由實例參考隨附圖式，其中遍及圖式中之相同數字指定對應元件或區段。
在隨附圖式中： 圖1係根據本發明之一些實施例之一度量工具中之一焦點模組之一高階示意性方塊圖。
圖2A示意性繪示自量測之一理想化焦點劑量結果導出，且圖2B示意性繪示自量測之先前技術焦點劑量結果導出。
圖3係根據本發明之一些實施例之用於導出變換之針對變動焦點值之一單一目標元件之經計算空中圖像之一例示性圖解。
圖4A及圖4B分別示意性繪示根據本發明之一些實施例之使用基於空中圖像之變換將多個目標之焦點量測變換為單組結果之一非限制性實例及所得經改良之焦點量測。
圖5係根據本發明之一些實施例之使用基於空中圖像之變換達成之經改良準確度之一例示性圖解。
圖6示意性繪示根據本發明之一些實施例之用於實行目標最佳化程序之一可能多參數光罩設計。
圖7係繪示根據本發明之一些實施例之一方法之一高階流程圖。
在闡述詳細描述之前，闡述將在下文中使用之某些術語之定義可係有用的。
如本申請案中使用之術語「目標」或「單元」係指印刷於一晶圓上之一幾何圖案，通常一目標包括一或多個單元。單元包括元件之一或多個週期性圖案，在最簡單非限制性情況中係由條構成之一光柵。
如本申請案中使用之術語「空中圖像」係指在一晶圓平面處之一光學圖像，其在與晶圓互動時用於在晶圓上產生各自結構。通常空中圖像係對應於目標之週期性結構之一週期性圖案。在本文中針對各自目標之一單一元件繪示空中圖像。
在以下描述中，描述本發明之各種態樣。為了解釋之目的，闡 述特定組態及細節以提供本發明之一透徹理解。然而，熟習此項技術者亦將瞭解，本發明可在無本文中呈現之具體細節之情況下實踐。此外，可能已省略或簡化熟知特徵以不模糊本發明。具體參考圖式，應強調，所展示細項係藉由實例且僅係為了闡釋性討論本發明之目的，且為了提供據信係本發明之原理及概念態樣之最有用且容易理解之描述之原因而呈現。在此方面，不試圖比基本理解本發明所需般更詳細展示本發明之結構細節，結合圖式進行之描述使熟習此項技術者瞭解實務上可如何體現本發明之若干形式。
在詳細解釋本發明之至少一項實施例之前，應理解，本發明在其應用上不限於以下描述中闡述或圖式中繪示之組件之構造及配置之細節。本發明可應用於可以各種方式實踐或實行之其他實施例以及所揭示實施例之組合。又，應理解，本文中採用之片語及術語係為了描述之目的且不應視為限制性。
除非另外明確陳述，否則如自以下論述顯而易見，應瞭解，貫穿說明書，利用諸如「處理」、「計算(computing/calculating)」、「判定」、「增強」或類似者之術語之論述係指一電腦或計算系統或類似電子計算裝置之動作及/或程序，該等動作及/或程序將表示為計算系統之暫存器及/或記憶體內之物理(諸如電子)量的資料操縱及/或變換為類似表示為計算系統之記憶體、暫存器或其他此等資訊儲存、傳輸或顯示裝置內之物理量的其他資料。
本發明之實施例提供用於以高準確度量測度量工具中之焦點及劑量之有效且經濟的方法及機構。本發明提供在度量目標之印刷單元之間共用資訊以藉由考量單元之光罩之經計算空中圖像而改良信號校準及量測兩者之新方法。特定言之，發明者已發現，使用具有相同節距之單元之經計算空中圖像可用於改良焦點及劑量度量。本發明可在任何度量平台中實施以用於焦點及劑量控制且可與使用具有相同節距 之兩個或兩個以上之單元之任何類型之焦點/劑量量測且與任何工具頭且與任何量測演算法組合。
提供焦點度量方法及模組，其等使用基於空中圖像之變換以共用自多個目標導出之量測資訊及/或設計針對指定相容目標之額外目標，此實現依據改變之生產條件簡單調整焦點目標。方法包括：將兩個或兩個以上焦點目標定位在各晶圓場中；進行目標之焦點量測；將焦點量測變換為針對各場之一單組結果；使用基於目標之空中圖像之目標之間之一變換；及自單組結果導出焦點結果；及可能使用指定目標之空中圖像參數自指定目標設計焦點目標。
圖1係根據本發明之一些實施例之一度量工具90中之一焦點模組100之一高階示意性方塊圖。度量焦點模組100包括一處理模組110，該處理模組110經組態以使用基於目標101之空中圖像85之目標101之間之一變換115將定位於一晶圓60之一晶圓場70中之多個目標101之焦點量測112變換為針對該晶圓場70之一單組結果118。度量焦點模組100經組態以自(若干)單組結果118導出焦點結果105。目標101可係選自先前技術目標80A、80B(諸如在美國專利公開案第20140141536號中揭示)，可自其修改或設計為目標120，如下文中解釋。由美國專利公開案第20140141536號教示之一般目標設計可用作目標80A、80B且根據下文中提供之指導對應地修改為目標120。特定言之，目標120可包括如下文中解釋使用變換115實現在目標120之間傳送資訊之單節距目標。
處理模組110可進一步經組態以根據指定目標使用指定目標之空中圖像參數建議焦點目標設計，其中自由度量焦點模組100實行之初步量測憑經驗判定指定目標。某些經量測目標80A、80B、120可用作如下文中揭示用於使用基於空中圖像之變換115導出其他目標120之模板。
圖2A示意性繪示自量測之一理想化焦點劑量結果導出，且圖2B示意性繪示自量測之先前技術焦點劑量結果導出。在當前程序中，單獨完成各單元之信號校準及量測。無資訊在單元之間傳送以改良經量測信號。當使用具有不同節距及不同對稱性之目標單元時，像差效應不同地作用於各目標。不同效應引起焦點量測之不準確度，如由van Haver、Sven等人之2014年，Wafer-based aberration metrology for lithographic systems using overlay measurements on targets imaged from phase-shift gratings，Applied Optics 53.12：第2562-2582頁展示。在先前技術中(例如)藉由minΣi(SSj(fi,di)-Sj)針對各單元單獨計算經印刷目標對焦點及劑量之回應，其中Sj係針對單元j在各焦點及劑量值i下之經量測信號(分別表示為fi、di)且SSj係使用FEM晶圓在一較早訓練階段期間學習之一函數。當前方法之缺點係其受作為誤差源之以下項目高度影響：程序變動(光阻劑及底層參數之變動)及掃描器誤差(在印刷結構中達成之焦點及劑量之值相對於程式化值之差)。在圖2A及圖2B中例示性繪示此等誤差，圖2A及圖2B繪示不具有及具有掃描器變動之經校準信號。表面描繪經計算之焦點-劑量相依性且點係量測點。掃描器變動作為一因素在先前技術中導致引入計算焦點-劑量相依性之一顯著誤差之一大變動。
圖3係根據本發明之一些實施例之用於導出變換115之針對變動焦點值之一單一目標元件之經計算空中圖像85之一例示性圖解。發明者已發現，如下文中描述可使用單元之空中圖像來達成信號之較佳校準。針對一週期性圖案使用光罩及掃描器照明方案計算傳達晶圓上之光強度之空中圖像。空中圖像不受晶圓程序影響。圍繞一特定焦點值(稱為最佳焦點)，可依據如由方程式1表達之焦點及劑量來近似表示強度I(f,d)，其中f及d分別表示焦點及劑量偏移，d0表示一標稱劑量 且A、B、α及φ表示光罩之性質。
I(f,d)=[A+B cos(αf-φ)](d+do) 方程式1
圖3繪示由一目標元件針對各種焦點值產生之空中圖像85。
針對一些情況，一單元在一給定焦點及劑量(fk,dk)下之空中圖像85可藉由另一單元使用不同焦點及劑量值(fj,dj)而建立。若兩個單元產生相同空中圖像，則兩個單元亦印刷相同光柵圖案(目標)。一必要條件係兩個單元具有相同節距。使用經計算空中圖像85，可使用方程式1之參數表達單元k之(fk,dk)與單元j之(fj,dj)之間之變換115，如由方程式2提供，方程式2可指定為自j至k之變換115，(f j ,d j )=G k→j (f k ,d k )。
dj=(Ak/Aj)dk 方程式2
fj=(1/αj)[cos-1(cos(αkf-φk)(BkAj/BjAk))+φj]。
圖4A及圖4B分別示意性繪示根據本發明之一些實施例之使用基於空中圖像之變換115將多個目標101之焦點量測112變換為單組結果118之一非限制性實例及所得經改良之焦點量測(焦點結果105)。圖4A繪示繪製在一起之兩個目標之(f j ,d j )及(f k ,d k )值。可排除不存在針對其等之各自變換之一些點((f k ,d k )值)。在使用單元k量測之信號之校準步驟期間，可添加具有焦點及劑量值(f j ,d j )之單元j之校準以藉由關聯至來自多個目標單元之作為一單組量測之(經變換)焦點量測112而改良焦點及劑量量測之準確度，該單組量測具有比任何單目標量測更多之點。圖4B使用經變換信號例示經改良之經校準信號(焦點結果105)，表面繪示經計算之焦點劑量相依性且點指示量測及經變換量測(一更系統比較見圖5)。方程式3表達使用單元之間之經傳送資訊以提供單元j之經改良之經校準信號SS j (f,d)，其中當變換115G k→j (f,d)真實且有效時，(f,d)最小化自單元j及單元k量測之信號兩者。
Figure 105125019-A0305-02-0011-1
應注意，雖然圖4A及圖4B例示使用結合兩個單元之變換115，但可使用任何數目個單元以用於信號回應之校準。資料在單元之間之變換不受單元之數目限制。
圖5係根據本發明之一些實施例之使用基於空中圖像之變換115達成之經改良準確度之一例示性圖解。所揭示之實施例減小經校準且經量測之信號之模糊度，例如，圖5呈現在先前技術中及在使用基於空中圖像之變換115來改良焦點及劑量量測之準確度之情況下，依據FEM晶圓中之印刷焦點模糊度之焦點誤差之標準差。資料係基於共用其等之信號回應之五個目標，每一目標具有55個不同焦點及劑量組合及900個不同信號之一學習組。在此實例中，空中圖像僅用於改良校準而非量測。在所繪示之實例中，尤其針對大模糊度達成大益處，其中使用空中圖像之經校準信號更抗模糊度。
關於目標120，以下揭示內容提供目標選擇及/或設計之方式，其等使用上文揭示之使用基於空中圖像之變換115以在目標120之間連接之原理進一步增強焦點劑量量測之準確度及靈活性。
在先前技術中，小節距度量目標用於掃描器之焦點量測中以及用於不同類型之量測(諸如像差量測)且亦可併入一較大節距之目標中。然而，找到一可印刷且靈敏目標之一光罩設計(特定於度量)仍係一主要問題。在下文中，提供減輕找到此等目標之負擔之方式，假定已知針對一些不同照明條件及/或不同光罩類型及/或不同程序窗之設計，該等方式簡化找到此等目標之光罩設計。
以下揭示內容克服先前技術之主要缺點，諸如經驗方法(在恰係隨後在生產中使用之類型之一特殊倍縮光罩上曝寫約10000個不同設計；使用此光罩曝寫晶圓；收集度量信號；及評定設計；及選擇最佳 適當光罩設計)不適用於處置快速改變之產品(諸如在晶圓代工廠設計中)。改變之產品可需要掃描器照明改變、光罩類型改變、底層堆疊改變等，其等接著需要相應地改變焦點劑量晶圓及/或特殊倍縮光罩，因此需要進行一長搜尋來找到可印刷且靈敏之度量目標。以下揭示內容克服先前技術之主要缺點，諸如模擬方法中對非常良好校準之微影及度量模擬的需要(使用非常良好校準之微影及度量模擬找到針對度量目標之最佳適當光罩設計)。特定言之，非常難以依一適當準確度位準達成光阻劑校準(其在模擬中起一關鍵作用)。再者，使用詳細微影及度量模擬之度量目標設計非常耗資源及時間。
相較於先前技術方法，發明者已發現，假設已知一些指定目標，可使用基於空中圖像之變換115以導出額外適當目標120。指定目標根據與(若干)給定光罩類型(例如，二元光罩)、光阻劑(化學、物理性質(介電常數及磁導率)及厚度)、堆疊(TARC(頂部抗反射塗層)、BARC(底部抗反射塗層)及其他底層，包含其等之厚度及物理性質-介電常數及磁導率)及照明條件相關的要求必須可印刷(在整個程序窗中)且靈敏。指定目標可由一先前技術方法識別，諸如上文描述之經驗方法或模擬方法。
可使用基於空中圖像之變換115以導出具有與先前找到之目標相同之可印刷性及靈敏度之其他目標120。此假設TARC、光阻劑及BARC化學性、厚度及物理性質保持不變(可能未知，但固定)而任意掃描器照明、光罩類型改變及/或底層堆疊(厚度及/或物理性質)改變及/或程序窗移動。
應注意，目標設計、光罩類型及照明之一組合等效於另一此組合，使得若此等組合引發相同空中圖像，則其產生目標之完全相同之光柵幾何形狀。小節距目標設計之空中圖像由方程式1A表達，其中F表示焦點，x表示x座標，p x 表示沿著x方向之節距且A、B、F0及α表示 對應參數(見上文中之方程式1，此處加上cos(x/2πp x )以表達空中圖像之空間相依性)。
C+[A+B cos(α(F-F0))]cos(x/2πp x ) 方程式1A
參數A、B、C、α、F0及p x 取決於光罩設計、光罩堆疊及照明條件。針對作為針對照明條件及光罩參數之(若干)特定組合之經驗證目標設計之指定目標，可導出處理(若干)類似空中圖像之(若干)新光罩及目標，此在參數A、B、C、α、F0及p x 之一不同組合下維持相同空中圖像。在一程序窗移動之情況中，可使用一最佳焦點相依常數將空中圖像公式乘以一最佳劑量相依係數而額外調整F0。
有利地，發明者已發現，使用此方法，可在不知道堆疊(包含光阻劑)之情況下實行具有規定空中圖像之光罩設計。所需之唯一資訊係光罩堆疊及照明。
圖6示意性繪示根據本發明之一些實施例之用於實行目標最佳化程序之一可能多參數光罩設計120A。應強調，可針對對應於任何目標120之光罩以及針對目標80A、80B及在以引用的方式併入本文中的美國專利公開案第20140141536號中教示之其他目標類型實行類似分析。多參數光罩設計120A之例示性幾何參數表示為P1、P2、P3及節距X。在最佳化程序中，變動光罩參數以在參數之不同組合下產生相同空中圖像。應注意，由於空中圖像計算係計算上非常輕之運算，因此方法可行且有效。又，雖然最佳化問題可能非凸的，但在大多數情況下使用具有足夠參數之一光罩模板實現找到適當光罩設計。此外，若僅存在一程序窗改變，則可在一較小參數範圍內實行最佳化(例如，節距X及α可保持恆定(雙光束成像效應)，使得空中圖像參數之數目較小地降低(A、B、C及F0)。
有利地，所揭示之方法實現在微小照明及光罩堆疊改變之後目標之可印刷性及靈敏度之驗證以及隨著提供目標之可印刷性及靈敏度 之驗證即時實施微小照明改變之能力。使用所揭示之方法，不需要經驗光罩設計搜尋，亦不需要具有非常準確校準程序之長模擬程序。
在某些實施例中，取代「空中圖像」近似或作為其補充，可使用「光阻劑中之圖像」近似。方法可實施為(例如)由處理模組110運行之一軟體工具或實施為可由開發者及/或客戶使用以改良焦點偏移目標設計流程之獨立軟體。
圖7係繪示根據本發明之一些實施例之一方法200之一高階流程圖。可針對上文中描述之焦點模組100實行方法階段，該焦點模組100可視情況經組態以實施方法200。方法200可至少部分由至少一電腦處理器(例如，由度量工具90中之處理模組110)實施。某些實施例包括電腦程式產品，其等包括具有以其體現且經組態以實行方法200之相關階段之電腦可讀程式之一電腦可讀儲存媒體。某些實施例包括由方法200之實施例設計之各自焦點目標之目標設計檔案。
焦點度量方法200包括：將兩個或兩個以上焦點目標定位在各晶圓場中(階段210)；進行目標之焦點量測(階段220)；將焦點量測變換為針對各場之一單組結果(階段230)；使用基於目標之空中圖像之目標之間之一變換(階段235)；及自該等組結果導出焦點結果(階段240)。
方法200可進一步包括使用指定目標之空中圖像參數自指定目標(例如，自根據指定要求可印刷且靈敏之指定目標)設計焦點目標(階段250)。指定目標可自初步量測憑經驗判定(階段255)且用於使用基於空中圖像之變換115提供額外目標。
方法200可進一步包括使用基於空中圖像之變換115選擇描述焦點目標之指定參數之參數值(階段260)以將焦點目標設計為等效於指定目標。
某些實施例包括根據方法200設計之焦點目標之目標設計檔案及/ 或此等目標之度量焦點/劑量量測。
某些實施例包括度量焦點模組100，其包括經組態以使用基於目標之空中圖像之目標之間之一變換將定位於一晶圓場中之多個目標之焦點量測變換為針對該場之一單組結果，其中度量焦點模組經組態以自單組結果導出焦點結果。在度量焦點模組100中，處理模組110可進一步經組態以根據指定目標使用指定目標之空中圖像參數建議焦點目標設計，其中自由度量焦點模組實行之初步量測憑經驗判定指定目標。
某些實施例包括(例如，處理模組110中之)一電腦程式產品，其包括具有以其體現之電腦可讀程式之一非暫時性電腦可讀儲存媒體，電腦可讀程式經組態以使用基於目標之空中圖像之目標之間之一變換將定位於一晶圓場中之多個目標之焦點量測變換為針對該場之一單組結果，且進一步自單組結果導出焦點結果。
某些實施例包括(例如，處理模組110中之)一電腦程式產品，其包括具有以其體現之電腦可讀程式之一非暫時性電腦可讀儲存媒體，電腦可讀程式經組態以藉由選擇描述焦點目標之指定參數之參數值以提供與指定目標相同之空中圖像而使用指定目標之空中圖像參數自指定目標設計焦點目標。
在上文中參考根據本發明之實施例之方法、設備(系統)及電腦程式產品之流程圖圖解及/或部分圖式描述本發明之態樣。應瞭解，流程圖圖解及/或部分圖式之各部分及流程圖圖解及/或部分圖式中之部分之組合可由電腦程式指令實施。可將此等電腦程式指令提供至一通用電腦、專用電腦或其他可程式化資料處理設備之一處理器以產生一機器，使得經由電腦或其他可程式化資料處理設備之處理器執行之指令建立用於實施流程圖及/或部分圖式或其等之部分中指定之功能/動作之構件。
此等電腦程式指令亦可儲存於一電腦可讀媒體中，該等電腦程式指令可引導一電腦、其他可程式化資料處理設備或其他裝置以一特定方式起作用，使得儲存於電腦可讀媒體中之指令產生一製品，包含實施流程圖及/或部分圖式或其等之部分中指定之功能/動作之指令。
電腦程式指令亦可載入至一電腦、其他可程式化資料處理設備或其他裝置上以導致在電腦、其他可程式化設備或其他裝置上執行一系列操作步驟以產生一電腦實施程序，使得在電腦或其他可程式化設備上執行之指令提供用於實施在流程圖及/或部分圖式或其等之部分中指定之功能/動作之程序。
前述流程圖及圖式繪示根據本發明之各項實施例之系統、方法及電腦程式產品之可能實施方案之架構、功能及操作。在此方面，流程圖或部分圖式中之各部分可表示一模組、片段或程式碼之部分，其包括用於實施(若干)指定邏輯功能之一或多個可執行指令。亦應注意，在一些替代實施方案中，部分中提及之功能可不以圖中提及之順序發生。舉例而言，事實上，取決於所涉及之功能，依序展示之兩個部分可實質上同時執行或該等部分有時可以相反順序執行。亦應注意，部分圖式及/或流程圖圖解之各部分及部分圖式及/或流程圖圖解中之部分之組合可由執行指定功能或動作之基於專用硬體之系統或專用硬體及電腦指令之組合實施。
在上文之描述中，一實施例係本發明之一實例或實施方案。「一項實施例」、「一實施例」、「某些實施例」或「一些實施例」之不同出現不一定全部係指相同實施例。雖然可在一單一實施例之背景內容中描述本發明之各種特徵，但該等特徵亦可單獨或以任何適合組合提供。相反地，雖然為了清楚起見本文中在單獨實施例之背景內容中描述本發明，但本發明亦可在一單一實施例中實施。本發明之某些實施例可包含來自上文中揭示之不同實施例之特徵，且某些實施例可併入 來自上文中揭示之其他實施例之元件。不應將在一特定實施例之背景內容中對本發明之元件的揭示視為將其等之用途單獨限於特定實施例中。此外，應理解，本發明可以多種方式實行或實踐且本發明可實施於除了上文中之描述中概述之實施例之外之某些實施例中。
本發明不限於該等圖式或對應描述。舉例而言，流程不需要進行各所繪示之方塊或狀態或按如所繪示且描述之完全相同的順序進行。本文中使用之技術及科學術語之意義係如由本發明所屬之此項技術的一般技術者普遍理解，除非另外定義。雖然已針對一有限數目個實施例描述本發明，但不應將此等理解為對本發明之範疇之限制，而為一些較佳實施例之例證。其他可能變動、修改及應用亦在本發明之範疇內。因此，本發明之範疇不應由目前為止已描述之內容限制，而應由隨附申請專利範圍及其等之合法等效物限制。
60‧‧‧晶圓
70‧‧‧晶圓場
80A‧‧‧先前技術目標
80B‧‧‧先前技術目標
85‧‧‧空中圖像
90‧‧‧度量工具
100‧‧‧焦點模組
101‧‧‧目標
105‧‧‧焦點結果/經改良之經校準信號
110‧‧‧處理模組
112‧‧‧焦點量測
115‧‧‧變換
118‧‧‧單組結果
120‧‧‧目標

Claims (20)

  1. 一種焦點度量方法，其包括：將兩個或兩個以上焦點目標定位在各晶圓場中，進行該等焦點目標之焦點量測，使用基於該等焦點目標之空中圖像之該等目標之間且在一第一單元k之(fk,dk)至一第二單元j之(fj,dj)之間之一變換將該等焦點量測變換為針對各場之一單組結果，其中f代表一焦點而d代表一劑量，及自該等單組結果導出焦點結果。
  2. 如請求項1之方法，其進一步包括使用指定目標之空中圖像參數自該等指定目標設計該等焦點目標。
  3. 如請求項2之方法，其進一步包括自初步量測憑經驗判定該等指定目標。
  4. 如請求項2之方法，其中該設計包括選擇描述該等焦點目標之指定參數之參數值。
  5. 如請求項1之方法，其至少部分由至少一電腦處理器實行。
  6. 如請求項1之方法，其中該變換經描述為自該第二單元j至該第一單元k，(f j ,d j )=G k→j (f k ,d k )，其中該變換經表示為方程式dj=(Ak/Aj)dk以及方程式fj=(1/αj)[cos-1(cos(αkf-φk)(BkAj/BjAk))+φj]，且其中A、B、α及φ為一光罩之性質。
  7. 如請求項1之方法，其中該等焦點結果包括強度I(f,d)之一最佳焦點。
  8. 如請求項7之方法，其中該最佳焦點經表示為方程式I(f,d)=[A+B cos(αf-φ)](d+do)，其中d0表示一標稱劑量，且其 中A、B、α及φ為一光罩之性質。
  9. 如請求項1之方法，其進一步包括不存在該變換的排除點。
  10. 一種依照如請求項2之方法設計之目標之目標設計檔案。
  11. 一種度量焦點模組，其包括一處理模組，該處理模組經組態以使用基於目標之空中圖像之該等目標之間且在一第一單元k之(fk,dk)至一第二單元j之(fj,dj)之間之一變換將定位於一晶圓場中之多個目標之焦點量測變換為針對該晶圓場之一單組結果，其中f代表一焦點而d代表一劑量，其中該度量焦點模組經組態以自該等單組結果導出焦點結果。
  12. 如請求項11之度量焦點模組，其中該處理模組進一步經組態以根據指定目標使用該等指定目標之空中圖像參數建議焦點目標設計，其中自由該度量焦點模組實行之初步量測憑經驗判定該等指定目標。
  13. 如請求項11之度量焦點模組，其中該變換經描述為自該第二單元j至該第一單元k，(f j ,d j )=G k→j (f k ,d k )，其中該變換經表示為方程式dj=(Ak/Aj)dk以及方程式fj=(1/αj)[cos-1(cos(αkf-φk)(BkAj/BjAk))+φj]，且其中A、B、α及φ為一光罩之性質。
  14. 如請求項11之度量焦點模組，其中該等焦點結果包括強度I(f,d)之一最佳焦點，其中該最佳焦點經表示為方程式I(f,d)=[A+B cos(αf-φ)](d+do)，其中d0表示一標稱劑量，且其中A、B、α及φ為一光罩之性質。
  15. 一種電腦程式產品，其包括具有以其體現之電腦可讀程式之一非暫時性電腦可讀儲存媒體，該電腦可讀程式經組態以使用基於目標之空中圖像之該等目標之間且在一第一單元k之(fk,dk)至一第二單元j之(fj,dj)之間之一變換將定位於一晶圓場中之多個目 標之焦點量測變換為針對該晶圓場之一單組結果，且進一步自該等單組結果導出焦點結果，其中f代表一焦點而d代表一劑量。
  16. 如請求項15之電腦程式產品，其中該變換經描述為自第二單元j至第一單元k，(f j ,d j )=G k→j (f k ,d k )，其中該變換經表示為方程式dj=(Ak/Aj)dk以及方程式fj=(1/αj)[cos-1(cos(αkf-φk)(BkAj/BjAk))+φj]，且其中A、B、α及φ為一光罩之性質。
  17. 如請求項15之電腦程式產品，其中該等焦點結果包括強度I(f,d)之一最佳焦點，其中該最佳焦點經表示為方程式I(f,d)=[A+B cos(αf-φ)](d+do)，其中d0表示一標稱劑量，且其中A、B、α及φ為一光罩之性質。
  18. 一種包括請求項15之電腦程式產品之度量焦點模組。
  19. 一種電腦程式產品，其包括具有以其體現之電腦可讀程式之一非暫時性電腦可讀儲存媒體，該電腦可讀程式經組態以藉由選擇描述焦點目標之指定參數之參數值以提供與指定目標相同之空中圖像而使用該等指定目標之空中圖像參數自該等指定目標設計該等焦點目標，其中該等設計焦點目標係該等指定目標之間之一變換，該變換係基於該等指定目標之空中圖像且在第一單元k之(fk,dk)至第二單元j之(fj,dj)之間，其中f代表一焦點而d代表一劑量。
  20. 一種包括請求項19之電腦程式產品之度量焦點模組。
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