TWI666131B

TWI666131B - 磷光轉印片的製造方法、磷光轉印片、磷光轉印片的轉印方法

Info

Publication number: TWI666131B
Application number: TW106109689A
Authority: TW
Inventors: 左成勝男
Original assignee: 日商三登商事股份有限公司
Priority date: 2016-05-10
Filing date: 2017-03-23
Publication date: 2019-07-21
Also published as: US10717270B2; JP2017202597A; TW201803738A; JP6109382B1; US20190039371A1; WO2017195445A1

Abstract

提供一種能夠以高亮度來進行長時間之發光之磷光轉印片的製造方法、磷光轉印片、磷光轉印片的轉印方法。

磷光轉印片的製造方法係一種磷光轉印片的製造方法，其特徵為包含：在支持層，形成黏著層之黏著層形成製程；在黏著層，形成樹脂層之樹脂層形成製程；在樹脂層，形成包含色素層之發熱層之發熱層形成製程，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及在發熱層，形成包含磷光性顏料之顏料分散層之顏料分散層形成製程。

Description

磷光轉印片的製造方法、磷光轉印片、磷光轉印片的轉印方法

本發明係關於一種磷光轉印片的製造方法、磷光轉印片、磷光轉印片的轉印方法。更加詳細地說，本發明係關於一種能夠以高亮度來進行長時間之發光之磷光轉印片的製造方法、磷光轉印片、磷光轉印片的轉印方法。

向來，為了在暗處，發現辨識性，因此，開發包含磷光性顏料之轉印片(專利文獻1)。記載於專利文獻1之轉印片係由基材以及可以對於該基材而進行剝離且包含熱熔接著性粒子和磷光性顏料之轉印層而構成。

【先前技術文獻】【專利文獻】

【專利文獻1】日本特開2003-312196號公報

但是，記載於專利文獻1之轉印片係藉由磷光性顏料而造成之發光呈不充分，並且，發光時間變短。

本發明係有鑑於此種向來之問題而完成的，其目的係提供一種能夠以高亮度來進行長時間之發光之磷光轉印片的製造方法、磷光轉印片、磷光轉印片的轉印方法。

關於解決前述課題之本發明之某一形態之磷光轉印片的製造方法，係一種磷光轉印片的製造方法，該磷光轉印片的製造方法係包含：在支持層，形成黏著層之黏著層形成製程；在前述之黏著層，形成樹脂層之樹脂層形成製程；在前述之樹脂層，形成包含色素層之發熱層之發熱層形成製程，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及在前述之發熱層，形成包含磷光性顏料之顏料分散層之顏料分散層形成製程。

此外，關於解決前述課題之本發明之某一形態之磷光轉印片，係包含磷光性顏料之磷光轉印片，該磷光轉印片係包含：支持層；形成於前述支持層上之黏著層；形成於前述黏著層上之樹脂層；形成於前述之樹脂層上且包含色素層之發熱層，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及形成於前述之發熱層上且包含磷光性顏料之顏料分散層。

此外，關於解決前述課題之本發明之某一形態之噴墨用磷光轉印片的轉印方法，係包含磷光性顏料之磷光轉印片的轉印方法，該噴墨用磷光轉印片的轉印方法係包含：在前述磷光轉印片之前述之保護層上，藉由噴墨記錄方式而形成噴墨圖像之圖像形成製程；擠壓黏著性剝離薄膜而覆蓋前述之噴墨圖像，接著，剝離前述之支持層而露出前述之黏著層之支持層剝離製程；以及在被轉印物，壓合露出之前述之黏著層，接著，藉由剝離前述之黏著性剝離薄膜，而在前述之被轉印物上，轉印前述之噴墨圖像之轉印製程。

如果是藉由本發明之磷光轉印片的製造方法、磷光轉印片、磷光轉印片的轉印方法的話，則可以提供一種能夠以高亮度來進行長時間之發光之磷光轉印片的製造方法、磷光轉印片、磷光轉印片的轉印方法。

1‧‧‧支持層

2‧‧‧黏著層

3‧‧‧樹脂層

4‧‧‧色素層

5‧‧‧顏料分散層

6‧‧‧黏著性剝離薄膜

7‧‧‧保護層

8‧‧‧潛蓄熱劑層

51‧‧‧磷光性顏料

圖1係使用在本發明之某一實施形態之轉印片的製造方法之支持層之示意側視圖。

圖2係在本發明之某一實施形態之轉印片的製造方法而在支持層上來形成黏著層之狀態之示意側視圖。

圖3係在本發明之某一實施形態之轉印片的製造方法而在黏著層上來形成樹脂層之狀態之示意側視圖。

圖4係在本發明之某一實施形態之轉印片的製造方法而在樹脂層上來形成發熱層(色素層)之狀態之示意側視圖。

圖5係在本發明之某一實施形態之轉印片的製造方法而在發熱層上來形成顏料分散層之狀態之示意側視圖。

圖6係在本發明之某一實施形態之轉印片的製造方法而在轉印片之顏料分散層來適用黏著性剝離薄膜之狀態之示意側視圖。

圖7係用以在本發明之某一實施形態之轉印片的製造方法而說明剝離基材之狀態之示意側視圖。

圖8係在本發明之某一實施形態(第1變化例)之轉印片的製造方法而在顏料分散層上來形成保護層之狀態之示意側視圖。

圖9係在本發明之某一實施形態(第2變化例)之轉印片的製造方法而在樹脂層上來形成作為發熱層之色素層和潛蓄熱劑層之狀態之示意側視圖。

<磷光轉印片的製造方法>

本發明之某一實施形態之磷光轉印片的製造方法(在以下，也稱為轉印片的製造方法。)係參考圖式而進行說明。本實施形態之轉印片的製造方法係主要包含：黏著層形成製程、樹脂層形成製程、發熱層形成製程和顏料分散層形成製程。在以下，關於各個而進行說明。

(黏著層形成製程)

黏著層形成製程係在支持層來形成黏著層之製程。圖1係使用在本實施形態之轉印片的製造方法之支持層1之示意側視圖。圖2係在本實施形態之轉印片的製造方法而在支持層1上來形成黏著層2之狀態之示意側視圖。

‧支持層1

支持層1之材料係並無特別限定。在列舉一例子之時，支持層1係樹脂片、紙、布、橡膠片、發泡體片、金屬箔等。作為樹脂片係例舉聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、乙烯‧丙烯共聚物等之聚烯烴系樹脂片；聚伸乙基對苯二甲酸酯(PET)、聚伸丁基對苯二甲酸酯(PBT)、聚伸乙基萘二甲酸酯(PEN)等之聚酯系樹脂片；氯乙烯樹脂片；乙酸乙烯樹脂片；聚醯亞胺樹脂片；聚醯胺樹脂片；氟樹脂片；玻璃紙等。作為紙係例舉日本紙、牛皮紙、玻璃紙、上質紙、合成紙、外塗紙等。作為布係例舉藉由各種纖維狀物質之單獨或混紡等而造成之織布和不織布等。作為橡膠片係例舉天然橡膠片、丁基橡膠片等。作為發泡體片係例舉發泡PE片等之發泡聚烯烴片、發泡聚酯片、發泡聚胺基甲酸乙酯片、發泡聚氯丁二烯橡膠片等。作為金屬箔之例子係例舉鋁箔、銅箔等。即使是在這些當中，支持層1係也最好是由於物理特性(例如尺寸安定性、厚度精度、加工性、抗拉強度)、經濟性(成本)等之理由而成為聚伸乙基對苯二甲酸酯(PET)製。

支持層1之厚度係並無特別限定。在列舉一例子之時，支持層1之厚度係25~100μm程度。

‧黏著層2

黏著層2係由顯示黏著性之樹脂而組成。在本實施形態，黏著層2係可以是在常溫來顯示黏著性之樹脂，也可以是藉由加熱而顯示黏著性之熱熔樹脂。

作為在常溫來顯示黏著性之樹脂係例舉丙烯系樹脂、胺基甲酸乙酯系樹脂、矽酮系樹脂等。作為熱熔樹脂係例舉胺基甲酸乙酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、烯烴系樹脂、聚酯系樹脂等。

作為胺基甲酸乙酯系樹脂係例舉藉由二異氰酸酯成分和二醇成分之間之反應而得到之熱塑性胺基甲酸乙酯系樹脂。作為二異氰酸酯成分係例舉芳香族二異氰酸酯、芳香脂肪族二異氰酸酯、脂環式二異氰酸酯、脂肪族二異氰酸酯等。作為二醇成分係除了脂肪族二醇、脂環式二醇、芳香族二醇等之低分子量二醇以外，還例舉聚醚二醇、聚酯二醇、聚碳酸酯二醇等。此外，作為胺基甲酸乙酯系樹脂係例舉聚酯型胺基甲酸乙酯系樹脂、聚碳酸酯型胺基甲酸乙酯系樹脂、聚醚型胺基甲酸乙酯系樹脂等之胺基甲酸乙酯系樹脂和聚胺基甲酸乙酯尿素樹脂等。

作為聚醯胺系樹脂係例舉聚醯胺6、聚醯胺46、聚醯胺66、聚醯胺610、聚醯胺612、聚醯胺11、聚醯胺12、藉由二聚物酸和二胺之間之反應而生成之聚醯胺樹脂、聚醯胺系彈性體等。

作為烯烴系樹脂係例舉乙烯、丙烯、1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-丁烯、1-己烯、1-辛烯等之α-烯烴(特別是α-C2-10烯烴)之單體或共聚物、烯烴系彈性體等。

作為聚酯系樹脂係例舉至少使用脂肪族二醇或脂肪族二羧酸之均聚酯樹脂或共聚酯樹脂、聚酯系彈性體等。

熱熔樹脂之軟化點係70~180℃程度。此外，熱熔樹脂之熔點係50~250℃程度。

在被轉印物為衣類等之布帛之狀態下，即使是在前面之敘述中，熱熔樹脂係由層間接著性等之接著性、柔軟性和材質感之方面來看的話，也最好是胺基甲酸乙酯系樹脂、烯烴系樹脂等。

黏著層2之厚度係並無特別限定。在列舉一例子之時，黏著層2之厚度係20~100μm程度。此種厚度之黏著層2係例如在擠壓於被轉印物之際，不容易由端部開始突出，並且，容易在得到之轉印片，賦予耐候性。

黏著層2形成於支持層1上之方法係並無特別限定。在列舉一例子之時，黏著層2係可以藉由照相凹版印刷法、網版印刷法等之常用之印刷方法或者是壓輥塗佈法等而形成於支持層1之上。

(樹脂層形成製程)

樹脂層形成製程係在黏著層2來形成樹脂層之製程。圖3係在本實施形態之轉印片的製造方法而在黏著層2上來形成樹脂層3之狀態之示意側視圖。

‧樹脂層3

構成樹脂層3之樹脂係並無特別限定。作為構成樹脂層3之樹脂係例舉丙烯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、乙烯系樹脂、聚胺基甲酸乙酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、或者是這些樹脂之部分交聯樹脂等。即使是在這些當中，樹脂層3係由良好之柔軟性、容易處理之方面來看的話，也最好是聚酯製。

樹脂層3之厚度係並無特別限定。在列舉一例子之時，樹脂層3之厚度係10~40μm程度。此種厚度之樹脂層3係在被轉印物來將轉印片予以轉印之後，容易遮蔽被轉印物之顏色，例如在轉印片上來設置噴墨圖像之狀態下，容易明瞭地表現噴墨圖像。

此外，樹脂層3之光透過性之程度係並無特別限定。例如樹脂層3係為了降低光透過性，因此，可以分散顏料。作為此種顏料係例舉白色顏料等。

作為白色顏料係除了氧化鈦、氧化鋅等之外，還例舉二氧化矽、氧化鋁、黏土、滑石、碳酸鈣或硫酸鋇等之無機填充劑、丙烯樹脂、環氧樹脂、聚胺基甲酸乙酯樹脂、苯酚樹脂、三聚氰胺樹脂、苯并鳥糞胺樹脂、氟樹脂或矽酮樹脂等之樹脂粒子(塑膠顏料)。本實施形態之轉印片的製造方法係可以在樹脂層3包含顏料(例如白色顏料)之狀態下，在形成後面敘述之噴墨圖像之際，提高形成之噴墨圖像之鮮明性。

在樹脂層3來分散顏料之狀態下，樹脂和顏料之練合比例係例如顏料：樹脂=1：1~1：10程度。

形成樹脂層3之方法係並無特別限定。在列舉一例子之時，樹脂層3係可以藉由照相凹版印刷法、網版印刷法等之常用之印刷方法或者是壓輥塗佈法等而形成於黏著層2之上。

(發熱層形成製程)

發熱層形成製程係在樹脂層3來形成包含色素層之發熱層之製程，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素。圖4係在本實施形態之轉印片的製造方法而在樹脂層3上來形成色素層4之狀態之示意側視圖。

‧色素層4

色素層4係包含近紅外線吸收色素之層，形成於樹脂層3之上。所謂近紅外線吸收色素係在波長800~1200nm之近紅外線區域來具有極大吸收之色素，例舉二亞硝酸鹽系、酞菁系、二硫代金屬錯合物系、水楊酸萘酯菁系、偶氮基系、聚次甲基系、蒽醌系、萘醌系、吡喃鎓系、硫代吡喃鎓系、方酸鹽系、克酮酸系、四脫膽鹼(tetradehydocholine)系、三苯基甲烷系、菁系、偶氮基系、胺鎓系等之化合物。

近紅外線吸收色素係以分散或溶解於樹脂中之狀態，形成於樹脂層3之上。用以分散或溶解近紅外線吸收色素之樹脂係並無特別限定。在列舉一例子之時，此種樹脂係聚酯系、丙烯系、聚醯胺系、聚胺基甲酸乙酯系、聚烯烴系、聚碳酸酯系樹脂。即使是在這些樹脂中，樹脂係也最好是在色素混合時之透明性、耐熱性及耐溶劑性呈良好之丙烯系樹脂。

色素層4之近紅外線吸收色素之含有量係並無特別限定。在列舉一例子之時，近紅外線吸收色素係最好是在樹脂中，成為5質量%以上，更加理想是10質量%以上。此外，近紅外線吸收色素係最好是在樹脂中，成為20質量%以下，更加理想是15質量%以下。在近紅外線吸收色素之含有量未滿5質量%之狀態下，有無法充分地加溫後面敘述之磷光性顏料之傾向發生。另一方面，在近紅外線吸收色素之含有量超過20質量%之狀態下，有過度加溫至必要以上之傾向發生。

此外，近紅外線吸收色素係除了前述之樹脂以外，還可以適度地分散於有機溶媒。作為此種有機溶媒係例舉甲醇、乙醇、n-丙醇、異丙醇、n-丁醇、三癸醇、環己醇、2-甲基環己醇等之醇類、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、二丙二醇、丙三醇等之乙二醇類、乙二醇單甲基醚、乙二醇單伸乙基醚、乙二醇單丁基醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇丁基醚、乙二醇單甲基醚乙酸酯、乙二醇單乙基乙酸酯、乙二醇單丁基乙酸酯、二乙二醇單甲基乙酸酯、二乙二醇單乙基乙酸酯、二乙二醇單丁基乙酸酯等之乙二醇醚類、乙酸乙酯、乙酸異丙烯、乙酸n-丁基等之酯類、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、環戊酮、異佛爾酮、二丙酮醇等之酮類。

色素層4之厚度係並無特別限定。在列舉一例子之時，色素層4之厚度係5~30μm程度。此種厚度之色素層4係藉由曝露於太陽光等而容易適度地進行加溫。

形成色素層4之方法係並無特別限定。在列舉一例子之時，色素層4係可以藉由照相凹版印刷法、網版印刷法等之常用之印刷方法或者是壓輥塗佈法等而形成於樹脂層3之上。

在本實施形態，色素層4係藉由在例如周圍之溫度為20℃之狀態下，在太陽光下，曝露30分鐘程度，而以光熱轉換作用，來發熱2~20℃程度。此外，在此種條件下，色素層4之發熱係維持大約5分鐘~30分鐘程度。藉由此種發熱而使得後面敘述之顏料分散層中之磷光性顏料，經過長時間，來進行加溫，維持良好之發光。此外，可以藉由持續地曝露於太陽光等，而使得色素層4，維持加溫之狀態。此外，曝露之光源係並非限定於太陽。光源係可以是螢光燈、LED光源、不可見光等。

(顏料分散層形成製程)

顏料分散層形成製程係在發熱層來形成包含磷光性顏料之顏料分散層之製程。圖5係在本實施形態之轉印片的製造方法而在發熱層上來形成顏料分散層5之狀態之示意側視圖。

‧磷光性顏料51

磷光性顏料51係在吸收光能而暫時地儲存之後，逐漸地釋出該能量而成為磷光之顏料。作為磷光性顏料51係並無特別限定。在列舉一例子之時，磷光性顏料51係硫化鉀、硫化鋅、硫化鋅鎘等之硫化物螢光體、或者是包含鍶、銪或鏑之鋁酸鹽螢光體等。作為鋁酸鹽螢光體係在藉由MAl₂O₄所表示之化合物中，使得M以由鈣、鍶、鋇而組成之群組來選出之至少一種以上之金屬元素而組成之化合物，來作為母結晶體，作為活化劑係適度地包含銪、鈰、鐠、釹、釤、鋱、鏑、鈥、鉺、銩、鐿、釕等。

在本實施形態，磷光性顏料51係由可以成為更加亮之高亮度且進行長時間之發光之方面來看的話，則最好是包含鍶之磷光性顏料51，更加理想是以鋁酸鍶，來作為主成分而添加銪或鏑等之活化劑。此種磷光性顏料51係具體地例舉SrAl₂O₄：Eu、Dy、Sr₄Al₁₄O₂₅：Eu、Dy等。

此外，磷光性顏料51係例如相同於日本專利第5729698號公報之所記載之磷光顏料，可以藉由非結晶質二氧化矽而被覆表面。此外，記載於該日本專利第5729698號公報之磷光顏料係例舉成為最佳適合使用於本實施形態之磷光性顏料之一種。

磷光性顏料51之平均粒徑係最好是10μm以上，更加理想是45μm以上。此外，磷光性顏料51之平均粒徑係最好是100μm以下。在磷光性顏料51之平均粒徑未滿10μm之狀態下，有無法得到充分之發光之傾向發生。另一方面，在磷光性顏料51之平均粒徑超過100μm之狀態下，有降低處理性之傾向發生。此外，磷光性顏料51之平均粒徑係50%平均粒徑(D50)，例如可以藉由使用SLD-3100(島津製作所(股)公司製)，進行測定而算出平均粒徑。

此外，磷光性顏料51係由於溫度而得到不同之發光程度。也就是說，如果磷光性顏料51係提高溫度的話，則溫度越高(例如200℃程度)而越加增加發光強度。但是，在被轉印物為衣服等之狀態下，那麼並不適合加溫至高溫為止。正如前面之敘述，例如藉由在20~23℃之環境下，曝露於太陽光30分鐘程度，而使得色素層4中之近紅外線顏料，發熱2~20℃程度。因此，磷光性顏料51係藉由以色素層4，來持續地進行加溫，而持續地得到適度之發光。此外，也除了太陽光以外，還藉由持續地曝露於其他之光源(螢光燈等)而維持顏料分散層5之發光。可以藉由像這樣，使得磷光性顏料51，維持加溫之狀態，而以高亮度，來進行長時間之發光。如果是藉由本實施形態之轉印片之製造方法的話，則藉由前述之發熱層而加溫顏料分散層5中之磷光性顏料51，因此，比起從來無形成發熱層之狀態，還能夠以更加亮之高亮度，來進行長時間之發光。

磷光性顏料51係以分散或溶解於樹脂中之狀態，來形成於發熱層上。作為用以分散或溶解磷光性顏料51之樹脂係並無特別限定。在列舉一例子之時，此種樹脂係聚酯系、丙烯系、聚醯胺系、聚胺基甲酸乙酯系、環氧系、聚烯烴系、聚碳酸酯系樹脂。即使是在這些樹脂中，也由透明度變高之方面來看的話，則樹脂係最好是聚酯系、環氧系、聚碳酸酯系之樹脂。

顏料分散層5之磷光性顏料51之含有量係並無特別限定。在列舉一例子之時，磷光性顏料51係最好是在樹脂中，成為10質量%以上。此外，磷光性顏料51係最好是在樹脂中，成為50質量%以下。在磷光性顏料51之含有量未滿10質量%之狀態下，有不容易得到充分之發光之傾向發生。另一方面，在磷光性顏料51之含有量超過50質量%之狀態下，磷光性顏料51係有不容易溶解於樹脂之傾向發生。

顏料分散層5之厚度係並無特別限定。在列舉一例子之時，顏料分散層5之厚度係50~200μm程度。此種厚度之顏料分散層5係有所謂由發熱層來加入之熱能容易充分地傳送至磷光性顏料51而使得磷光性顏料51容易發光之優點。

如果是藉由包含以上製程之本實施形態之磷光轉印片之製造方法的話，則製作磷光轉印片，該磷光轉印片係包含：支持層1；形成於支持層1上之黏著層2；形成於黏著層2上之樹脂層3；形成於樹脂層3之上且包含色素層4之發熱層，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及形成於發熱層上且包含磷光性顏料51之顏料分散層5。如果是藉由此種磷光轉印片的製造方法以及得到之磷光轉印片的話，則發熱層係藉由近紅外線吸收色素之光熱轉換作用而比起周圍之溫度，還更加發熱20~30℃程度。藉此而加溫磷光性顏料51。結果，磷光性顏料51係容易以高亮度，來進行發光。此外，藉由發熱層之發熱而使得磷光性顏料51，容易維持加溫狀態。結果，磷光性顏料51之發光係容易維持長時間。

更加具體地說，作為磷光性顏料51之例如記載於日本專利第5729698號公報之磷光顏料係以樹脂層3之上面俯視，進行設置而覆蓋90%，在這裡曝露於太陽光20分鐘之狀態下，即使是在處理後之8小時後，也能夠以5(mcd/m²)以上，來進行發光。

此外，可以在藉由此種磷光轉印片的製造方法而得到之磷光轉印片，擠壓黏著性剝離薄膜(再黏著薄膜)，接著，剝離支持層1而露出黏著層2。圖6係在本實施形態之轉印片的製造方法而在轉印片之顏料分散層5來適用黏著性剝離薄膜6之狀態之示意側視圖。圖7係用以在本實施形態之轉印片的製造方法而說明剝離基材之狀態之示意側視圖。

藉由本實施形態之轉印片的製造方法而得到之轉印片係可以藉由將以剝離基材來露出之黏著層2，壓合(或熱轉印)於被轉印物，接著，剝離黏著性剝離薄膜6，而轉印於被轉印物上。

作為被轉印物係並無特別限定。在列舉一例子之時，被轉印物係藉由纖維、紙、木材、塑膠、陶瓷、金屬等之各種材料而形成之二次元或三次元構造物。

<關於本實施形態之變化例(第1變化例)>

在前述實施形態之轉印片的製造方法，正如圖6 所示，關於在顏料分散層5來擠壓黏著性剝離薄膜6之狀態而進行例舉。為了取代這個，因此，本實施形態(第1變化例)之轉印片的製造方法係可以還包含保護層形成製程。

(保護層形成製程)

保護層形成製程係在顏料分散層5來形成保護層之製程。此外，保護層7係主要由於在轉印片來賦予耐候性之目的而設置保護層。此外，保護層7係例如在其上面來形成噴墨圖像之狀態下，發揮作為油墨受理層之機能。圖8係在本實施形態之轉印片的製造方法而在顏料分散層5之上來形成保護層7之狀態之示意側視圖。作為保護層7係並無特別限定。在列舉一例子之時，保護層7係可以是構成親水性黏合劑而成為主體之所謂樹脂系油墨受理層，也可以是在記錄層中來具有由於顏料而造成之空隙之顏料系油墨受理層。

樹脂系油墨受理層係塗佈聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、水溶性纖維素衍生物、明膠等之水溶性樹脂之水溶液，進行乾燥而形成樹脂系油墨受理層。樹脂系油墨受理層係透明性變高，光澤也變高。

保護層7之厚度係並無特別限定。在列舉一例子之時，保護層7之厚度係50~150μm程度。此種厚度之保護層7係具有良好之耐候性，並且，在保護層7上，容易形成圖像。

在此種保護層7，正如後面之敘述，可以藉由噴墨記錄方式而形成噴墨圖像。此外，形成噴墨圖像之保護層7係正如前面之敘述，可以藉由擠壓黏著性剝離薄膜6(再黏著薄膜)，接著，剝離支持層1，露出黏著層2，壓合(或熱轉印)於被轉印物，而在被轉印物上，轉印噴墨圖像。轉印之噴墨圖像係有效地發揮磷光性顏料51之發光作用，即使是在暗處，也顯示良好之辨識性。因此，在本實施形態而得到之轉印片係適合應用於特別要求在暗處之裝飾效果之用途、用以對於車輛或人等來喚起注意而使用之交通相關備品、以及使用在工廠和工地現場等之備品等。此外，此種轉印片係藉由配合文字或記號、圖形等之形狀，來進行轉印，而得到突顯顯示用媒體之效果。此外，轉印片係可以轉印成為走廊和樓梯等之導引標誌。另外，轉印片係藉由轉印於照明器具之蓋子或光源本身，而即使是作為一種緊急燈，也可以應用。

<關於本實施形態之變化例(第2變化例)>

在前述實施形態之轉印片的製造方法，正如圖6所示，關於在樹脂層3來形成色素層4之狀態而進行例舉。為了取代這個，因此，本實施形態(第2變化例)之轉印片的製造方法係可以還包含潛蓄熱劑層形成製程。

(潛蓄熱劑層形成製程)

潛蓄熱劑層形成製程係在色素層4來形成包含潛蓄熱劑之潛蓄熱劑層之製程。圖9係在本實施形態之轉印片的製造方法而在樹脂層3之上來形成作為發熱層之色素層4和潛蓄熱劑層8之狀態之示意側視圖。

‧潛蓄熱劑層8

潛蓄熱劑層8係包含潛蓄熱劑之層。潛蓄熱劑係並無特別限定。在列舉一例子之時，潛蓄熱劑係n-十八烷和 n-十六烷為主原料之n-石蠟、無機水合鹽(氯化鈣六水合鹽、硫酸鈉十水合鹽等)、脂肪酸類(棕櫚酸、肉豆蔻酸等)、芳香族烴化合物(苯、p-二甲苯等)、酯化合物(棕櫚酸異丙酯、硬脂酸丁酯等)、醇類(硬脂醯醇等)、聚烷撐乙二醇等。即使是在這些當中，潛蓄熱劑係由價格或容易入手來看的話，則最好是石蠟。

潛蓄熱劑係以分散或溶解於樹脂中之狀態，來形成於色素層4上。作為用以分散或溶解潛蓄熱劑之樹脂係並無特別限定。在列舉一例子之時，此種樹脂係聚酯系、丙烯系、聚醯胺系、聚胺基甲酸乙酯系、環氧系、聚烯烴系、聚碳酸酯系樹脂。即使是在這些樹脂中，也由透明度變高之方面來看的話，則樹脂係最好是聚酯系、環氧系、聚碳酸酯系之樹脂。

潛蓄熱劑層8之厚度係並無特別限定。在列舉一例子之時，潛蓄熱劑層8之厚度係10~50μm程度。此種厚度之潛蓄熱劑層8係可以適度地蓄熱，容易提高磷光性顏料51之發光強度。

在樹脂中來分散潛蓄熱劑等之狀態下，樹脂和潛蓄熱劑之練合比例係例如潛蓄熱劑：樹脂=3：10~5：10程度。

形成潛蓄熱劑層8之方法係並無特別限定。在列舉一例子之時，潛蓄熱劑層8係可以藉由照相凹版印刷法、網版印刷法等之常用之印刷方法或者是壓輥塗佈法等而形成於色素層4之上。

如果是藉由具備此種潛蓄熱劑層8之轉印片的話，則磷光性顏料51係適度地進行加溫。結果，磷光性顏料 51係容易以高亮度，來進行發光。此外，藉由發熱層之發熱而使得磷光性顏料51，容易維持加溫狀態。結果，磷光性顏料51之發光係容易維持長時間。

<關於本實施形態之變化例(第3變化例)>

在前述實施形態(第2變化例)之轉印片的製造方法，正如圖9所示，關於在色素層4之上來形成潛蓄熱劑層8之狀態而進行例舉。為了取代這個，因此，本實施形態(第3變化例)之轉印片的製造方法係可以在樹脂層3中，練合潛蓄熱劑。如果是藉此的話，則藉由樹脂層3中之潛蓄熱劑，透過形成於樹脂層3上之發熱層，而加溫磷光性顏料51。結果，磷光性顏料51係容易以高亮度，來進行發光。此外，藉由發熱層之發熱而使得磷光性顏料51，容易維持加溫狀態。結果，磷光性顏料51之發光係容易維持長時間。

在樹脂層3來混合潛蓄熱劑之狀態下，混合量係並無特別限定。在列舉一例子之時，潛蓄熱劑係可以相對於樹脂100質量份而混合30~50質量份。

<磷光轉印片的轉印方法>

本發明之某一實施形態之磷光轉印片的轉印方法(在以下，也稱為轉印方法。)係在前述之實施形態而製作之磷光轉印片來形成保護層7和噴墨圖像之後，轉印於被轉印物上之方法。也就是說，本實施形態之轉印方法係主要包含圖像形成製程、支持層剝離製程和轉印製程。

(圖像形成製程)

圖像形成製程係在前述磷光轉印片之保護層7 上，藉由噴墨記錄方式而形成噴墨圖像之製程。噴墨記錄方式之條件(列印條件)係並無特別限定。列印條件係為了使得要求之噴墨圖像，形成於保護層7上，因此，例如適度地選擇噴墨列印裝置之噴嘴直徑、施加電壓、脈衝幅寬，驅動頻率、解析度、油墨賦予量等。

(基材剝離製程)

基材剝離製程係擠壓黏著性剝離薄膜6(再黏著薄膜)而覆蓋噴墨圖像，接著，剝離支持層1而露出黏著層2之製程。也就是說，在本製程，對於噴墨圖像而擠壓黏著性剝離薄膜6。

(轉印製程)

轉印製程係在被轉印物，壓合露出之黏著層2，接著，藉由剝離黏著性剝離薄膜6，而在被轉印物上，轉印噴墨圖像之製程。作為被轉印物係並無特別限定。在列舉一例子之時，被轉印物係藉由纖維、紙、木材、塑膠、陶瓷、金屬等之各種材料而形成之二次元或三次元構造物。

如果是藉由本實施形態之轉印方法的話，則使用包含磷光性顏料51之轉印片。此外，發熱層係由於近紅外線吸收色素之光熱轉換作用而比起周圍之溫度，還更加發熱20~30℃程度。藉此而加溫磷光性顏料51。因此，轉印之噴墨圖像係有效地發揮磷光性顏料51之發光作用，即使是在暗處，經過長時間，也顯示良好之辨識性。因此，本實施形態之轉印方法係適合應用於特別要求在暗處之裝飾效果之用途、用以喚起注意而使用之交通相關備品、以及使用在工廠和工地現場等之備品等。此外，轉印方法係除了前面之敘述以外，也還可以應用成為隔扇紙或壁紙。此外，如果是藉由轉印方法的話，則藉由配合文字或記號、圖形等之形狀，來進行轉印，而得到突顯顯示用媒體之效果。此外，轉印方法係可以將轉印片予以轉印而成為走廊和樓梯等之導引標誌。另外，轉印方法係藉由在照明器具之蓋子或光源本身，將轉印片予以轉印，而即使是作為一種緊急燈，也可以應用。

以上，就本發明之某一實施形態而進行說明。本發明係並非限定於前述之實施形態。此外，前述之實施形態係具有以下之構造之發明之某一實施形態。

(1)：磷光轉印片的製造方法，係一種磷光轉印片的製造方法，包含：在支持層，形成黏著層之黏著層形成製程；在前述之黏著層，形成樹脂層之樹脂層形成製程；在前述之樹脂層，形成包含色素層之發熱層之發熱層形成製程，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及在前述之發熱層，形成包含磷光性顏料之顏料分散層之顏料分散層形成製程。

如果是藉由此種構造的話，則發熱層係由於近紅外線吸收色素之光熱轉換作用而比起周圍之溫度，還更加發熱20~30℃程度。藉此而加溫磷光性顏料。結果，磷光性顏料係容易以高亮度，來進行發光。此外，藉由發熱層之發熱而使得磷光性顏料，容易維持加溫狀態。結果，磷光性顏料之發光係容易維持長時間。

(2)：如(1)所記載之磷光轉印片的製造方法，係包含：在前述之顏料分散層，形成保護層之保護層形成製程。

如果是藉由此種構造的話，則例如在保護層來形成噴墨圖像之狀態下，形成之噴墨圖像係以高亮度，經過長時間，呈鮮明地進行發光。

(3)：如(1)或(2)所記載之磷光轉印片的製造方法，前述之發熱層形成製程係包含：形成包含近紅外線吸收色素之色素層之色素層形成製程；以及在前述之色素層，形成包含潛蓄熱劑之潛蓄熱劑層之潛蓄熱劑層形成製程。

如果是藉由此種構造的話，則磷光性顏料係除了藉由近紅外線吸收色素而進行加溫以外，也藉由潛蓄熱劑而進行加溫。結果，磷光性顏料係容易以更加亮之高亮度，來進行發光。此外，藉由發熱層之發熱，而使得磷光性顏料，經過更加長之長時間，容易維持加溫狀態。結果，磷光性顏料之發光係容易維持更加長之長時間。

(4)：如(1)或(2)所記載之磷光轉印片的製造方法，前述之樹脂層係包含潛蓄熱劑。

(5)：磷光轉印片，係包含磷光性顏料之磷光轉印片，包含：支持層；形成於前述支持層上之黏著層；形成於前述黏著層上之樹脂層；形成於前述之樹脂層上且包含色素層之發熱層，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及形成於前述之發熱層上且包含磷光性顏料之顏料分散層。

(6)：如(5)所記載之磷光轉印片，在前述之顏料分散層上，形成保護層。

(7)：如(5)或(6)所記載之磷光轉印片，前述之發熱層係包含：包含近紅外線吸收色素之色素層；以及形成於前述之色素層上且包含潛蓄熱劑之潛蓄熱劑層。

(8)：如(5)或(6)所記載之磷光轉印片，前述之樹脂層係包含潛蓄熱劑。

(9)：噴墨用磷光轉印片的轉印方法，係包含磷光性顏料之磷光轉印片的轉印方法，包含：在如(6)所記載之磷光轉印片之前述之保護層上，藉由噴墨記錄方式而形成噴墨圖像之圖像形成製程；擠壓黏著性剝離薄膜而覆蓋前述之噴墨圖像，接著，剝離前述之支持層而露出前述之黏著層之支持層剝離製程；以及在被轉印物，壓合露出之前述之黏著層，接著，藉由剝離前述之黏著性剝離薄膜，而在前述之被轉印物上，轉印前述之噴墨圖像之轉印製程。

如果是藉由此種構造的話，則發熱層係由於近紅外線吸收色素之光熱轉換作用而比起周圍之溫度，還更加發熱20~30℃程度。藉此而加溫磷光性顏料。結果，磷光性顏料係容易以高亮度，來進行發光。此外，容易藉由發熱層之發熱而使得磷光性顏料，來維持加溫狀態。結果，磷光性顏料之發光係容易維持長時間。此外，形成在包含此種磷光性顏料之顏料分散層上之噴墨圖像係以高亮度，經過長時間，呈鮮明地進行發光。

Claims

一種磷光轉印片的製造方法，係一種磷光轉印片的製造方法，其包含：在支持層上，形成黏著層之黏著層形成製程；在前述黏著層上，形成樹脂層之樹脂層形成製程；在前述樹脂層上，形成包含色素層之發熱層之發熱層形成製程，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及在前述發熱層上，形成包含磷光性顏料之顏料分散層之顏料分散層形成製程，前述發熱層形成製程包含：形成包含近紅外線吸收色素之色素層之色素層形成製程；以及在前述色素層上，形成包含潛蓄熱劑之潛蓄熱劑層之潛蓄熱劑層形成製程。
如申請專利範圍第1項之磷光轉印片的製造方法，其中，包含：在前述顏料分散層上，形成保護層之保護層形成製程。
一種磷光轉印片的製造方法，係磷光轉印片的製造方法，其包含：在支持層上，形成黏著層之黏著層形成製程；在前述黏著層上，形成樹脂層之樹脂層形成製程；在前述樹脂層上，形成包含色素層之發熱層之發熱層形成製程，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及在前述發熱層上，形成包含磷光性顏料之顏料分散層之顏料分散層形成製程，前述樹脂層包含潛蓄熱劑。
一種磷光轉印片，係包含磷光性顏料之磷光轉印片，其包含：支持層；形成於前述支持層上之黏著層；形成於前述黏著層上之樹脂層；形成於前述樹脂層上且包含色素層之發熱層，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及形成於前述發熱層上且包含磷光性顏料之顏料分散層，前述發熱層包含：包含近紅外線吸收色素之色素層；以及形成於前述色素層上且包含潛蓄熱劑之潛蓄熱劑層。
如申請專利範圍第4項之磷光轉印片，其中，在前述顏料分散層上，形成保護層。
一種磷光轉印片，係包含磷光性顏料之磷光轉印片，其包含：支持層；形成於前述支持層上之黏著層；形成於前述黏著層上之樹脂層；形成於前述樹脂層上且包含色素層之發熱層，其中前述色素層包含近紅外線吸收色素；以及形成於前述發熱層上且包含磷光性顏料之顏料分散層，前述樹脂層包含潛蓄熱劑。
一種噴墨用磷光轉印片的轉印方法，係包含磷光性顏料之磷光轉印片的轉印方法，其包含：在如申請專利範圍第5項所記載之磷光轉印片之前述保護層上，藉由噴墨記錄方式而形成噴墨圖像之圖像形成製程；擠壓黏著性剝離薄膜而覆蓋前述噴墨圖像，接著，剝離前述支持層而露出前述黏著層之支持層剝離製程；以及在被轉印物上，壓合露出之前述黏著層，接著，藉由剝離前述黏著性剝離薄膜，而在前述被轉印物上，轉印前述噴墨圖像之轉印製程。