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TWI659092B - 紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、感光性樹脂組成物、化合物、近紅外線吸收濾波器及攝像裝置 - Google Patents

紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、感光性樹脂組成物、化合物、近紅外線吸收濾波器及攝像裝置 Download PDF

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TWI659092B
TWI659092B TW104113623A TW104113623A TWI659092B TW I659092 B TWI659092 B TW I659092B TW 104113623 A TW104113623 A TW 104113623A TW 104113623 A TW104113623 A TW 104113623A TW I659092 B TWI659092 B TW I659092B
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法月祐太朗
志
村山哲
神保良弘
佐佐木大輔
有村啓佑
鶴田拓也
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日商富士軟片股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、感光性樹脂組成物、化合物、近紅外線吸收濾波器及攝像裝置。本發明的紅外線感測器100具有紅外線透射濾波器113及近紅外線吸收濾波器111，且藉由檢測波長900nm以上且1000nm以下的光來檢測物體，並且近紅外線吸收濾波器111含有在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質。

Description

紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、感光性樹脂 組成物、化合物、近紅外線吸收濾波器及攝像裝置
本發明是有關於一種紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、感光性樹脂組成物、化合物、近紅外線吸收濾波器及攝像裝置。
於攝影機(video camera)、數位靜態照相機(digital still camera)、帶有照相功能的行動電話等中，一直使用作為彩色圖像的固體攝像元件的電荷耦合元件(Charge-Coupled Device，CCD)或互補式金屬氧化膜半導體(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor，CMOS)。該些固體攝像元件於其受光部中使用對近紅外線具有感度的矽光電二極體(silicon photodiode)，故必須進行視感度修正，大多情況下使用近紅外線吸收濾波器。
作為具有近紅外線吸收能力的化合物，已知吡咯并吡咯色素等(例如專利文獻1、專利文獻2等)。
[現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2010-222557號公報
[專利文獻2]日本專利特開2011-68731號公報
關於固體攝像元件，正在研究將其用於各種用途中。
近紅外線與可見光相比波長更長，故不易散射，亦可用於距離測量或三維測量等。另外，近紅外線不會被人、動物等的眼睛看見，因此即便於夜間以近紅外線光源照射被攝體亦不會引起被攝體注意，亦可作為拍攝夜行性野生動物的用途、防止犯罪用途而用於不刺激對象來進行拍攝。
如此，正在研究將固體攝像元件用於檢測近紅外線而檢測物體的紅外線感測器等。
本發明的目的在於提供一種偵測性及畫質優異的紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、感光性樹脂組成物、化合物、近紅外線吸收濾波器及攝像裝置。
本發明者等人根據所述狀況進行了潛心研究，結果發現，藉由將於特定的波長範圍內具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質用於紅外線感測器，可解決所述課題，從而完成了本發明。
具體而言，藉由以下的手段<1>、較佳為手段<2>~手段 <17>解決了所述課題。
<1>一種紅外線感測器，具有紅外線透射濾波器及近紅外線吸收濾波器，且藉由檢測波長900nm以上且1000nm以下的光來檢測物體，並且近紅外線吸收濾波器含有在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質。
<2>如<1>所記載的紅外線感測器，其中近紅外線吸收物質為下述通式(1)所表示的化合物；
通式(1)中，X1及X2分別獨立地表示氫原子或取代基，A1及A2分別獨立地表示取代基，R1~R10分別獨立地表示氫原子或取代基，R1~R8的至少一個表示取代基。
<3>如<2>所記載的紅外線感測器，其中通式(1)中，R1~R8的至少一個為鹵素原子、烷基、烷氧基、芳基、氰基或 -L100-X100所表示的基團；L100表示單鍵或二價連結基，X100表示反應性基。
<4>如<2>或<3>所記載的紅外線感測器，其中通式(1)中，R1~R8的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團；L100表示單鍵或二價連結基，X100表示反應性基。
<5>如<2>至<4>中任一項所記載的紅外線感測器，其中通式(1)中，R1~R4的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團，R5~R8的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團；L100表示單鍵或二價連結基，X100表示反應性基。
<6>如<3>至<5>中任一項所記載的紅外線感測器，其中鹵素原子為氯原子。
<7>如<2>至<6>中任一項所記載的紅外線感測器，其中通式(1)中，A1及A2分別獨立地為芳基或雜芳基，R9及R10分別獨立地為拉電子性基。
<8>如<2>至<7>中任一項所記載的紅外線感測器，其中通式(1)中，R9及R10為氰基。
<9>如<2>至<8>中任一項所記載的紅外線感測器，其中通式(1)中，X1及X2分別獨立地為氫原子或下述通式(2)所表示的基團；[化2]
通式(2)中，R21及R22分別獨立地表示取代基，R21與R22亦可相互鍵結而形成環，*表示結合鍵。
<10>一種近紅外線吸收組成物，其是用於形成藉由檢測波長900nm以上且1000nm以下的光來檢測物體的紅外線感測器的近紅外線吸收濾波器，並且所述近紅外線吸收組成物含有在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質。
<11>一種感光性樹脂組成物，含有下述通式(1)所表示的化合物；
通式(1)中，X1及X2分別獨立地表示氫原子或取代基，A1 及A2分別獨立地表示取代基，R1~R10分別獨立地表示氫原子或取代基，R1~R8的至少一個表示取代基。
<12>如<11>所記載的感光性樹脂組成物，更含有硬化性化合物。
<13>一種由下述通式(1)所表示的化合物；
通式(1)中，X1及X2分別獨立地表示氫原子或取代基，A1及A2分別獨立地表示取代基，R1~R10分別獨立地表示氫原子或取代基，R1~R8的至少一個表示取代基。
<14>如<13>所記載的化合物，其中通式(1)中，R1~R4的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團，R5~R8的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團；L100表示單鍵或二價連結基，X100表示反應性基。
<15>如<14>所記載的化合物，其中R1~R8所表示的鹵素原子為氯原子。
<16>一種近紅外線吸收濾波器，其是使如<11>或<12>所記載的感光性樹脂組成物硬化而成。
<17>一種攝像裝置，具有如<1>所記載的紅外線感測器。
根據本發明，可提供一種偵測性及畫質優異的紅外線感測器。且可提供一種近紅外線吸收組成物、感光性樹脂組成物、化合物、近紅外線吸收濾波器及攝像裝置。
1‧‧‧透鏡光學系統
10‧‧‧固體攝像元件
20‧‧‧信號處理部
30‧‧‧信號切換部
40‧‧‧控制部
50‧‧‧信號蓄積部
60‧‧‧發光控制部
70‧‧‧紅外LED
80、81‧‧‧圖像輸出部
100、100a‧‧‧紅外線感測器
110‧‧‧固體攝像元件
111‧‧‧近紅外線吸收濾波器
112‧‧‧彩色濾光片
113‧‧‧紅外線透射濾波器
114‧‧‧區域
115‧‧‧微透鏡
116‧‧‧平坦化層
120‧‧‧帶通濾波器
hν‧‧‧入射光
圖1為表示本發明的紅外線感測器的一實施形態的構成的概略剖面圖。
圖2為表示本發明的紅外線感測器的其他實施形態的構成的概略剖面圖。
圖3為應用本發明的紅外線感測器的攝像裝置的功能區塊圖。
圖4為表示帶通濾波器的構成的一例的剖面概略圖。
圖5為表示帶通濾波器的構成的另一例的剖面概略圖。
圖6為表示實施例中帶通濾波器的波長與透射率的關係的圖。
以下，對本發明的內容加以詳細說明。
本說明書中，所謂「~」是以包含其前後所記載的數值作為 下限值及上限值的含意而使用。
本說明書的基團(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基團(原子團)，並且亦包含具有取代基的基團(原子團)。例如所謂「烷基」，不僅包含不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，而且亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。
本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，「(甲基)丙烯酸基」表示丙烯酸基及甲基丙烯酸基，「(甲基)烯丙基」表示烯丙基及甲基烯丙基，「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基。
另外，本說明書中，「單量體」與「單體(monomer)」為相同含意。單量體是指與寡聚物及聚合物相區分、重量平均分子量為2,000以下的化合物。
本說明書中，所謂聚合性化合物，是指具有聚合性官能基的化合物，可為單量體亦可為聚合物。所謂聚合性官能基，是指參與聚合反應的基團。
關於本發明中所用的化合物的重量平均分子量及數量平均分子量的測定方法，可藉由凝膠滲透層析儀(Gel Permeation Chromatography，GPC)進行測定，且以由GPC的測定所得的聚苯乙烯換算值的形式來定義。例如可藉由以下方式來求出重量平均分子量及數量平均分子量：使用HLC-8220(東曹(股)製造)，使用TSKgel Super AWM-H(東曹(股)製造，6.0mm ID×15.0cm) 作為管柱，且使用10mmol/L的溴化鋰N-甲基吡咯啶酮(N-methyl-pyrrolidinone，NMP)溶液作為溶離液。
所謂近紅外線，是指最大吸收波長範圍為700nm~2500nm的光(電磁波)。
本說明書中，所謂總固體成分，是指自組成物的總組成中去掉溶劑所得的成分的總質量。本發明中所謂固體成分，是指25℃下的固體成分。
<近紅外線吸收組成物>
本發明的近紅外線吸收組成物含有在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質。
所謂「在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長」，是指於吸收光譜中，在波長900nm以上且1000nm以下的範圍內具有顯示出最大吸光度的波長。
本發明的近紅外線吸收物質較佳為在波長905nm以上且995nm以下具有最大吸收波長，更佳為在波長910nm以上且990nm以下具有最大吸收波長。
在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質較佳為化合物，更佳為吡咯并吡咯化合物，進而佳為喹噁啉型吡咯并吡咯化合物，尤佳為下述通式(1)所表示的化合物。下述通式(1)所表示的化合物於長波長側具有最大吸收波長，具有優異的耐光性。關於具有此種特性的理由，可推測其原因在於：藉由在喹噁啉部中導入取代基，單體傾斜偏移而容易重 疊，J締合性(J-associativeness)提高，吸收波長向長波長側偏移。另外，詳細理由雖不明確，但藉由在喹噁啉部中導入取代基，耐光性提高。
以下，對通式(1)所表示的化合物加以說明。
<<通式(1)所表示的化合物>>
通式(1)中，X1及X2分別獨立地表示氫原子或取代基，A1及A2分別獨立地表示取代基，R1~R10分別獨立地表示氫原子或取代基，R1~R8的至少一個表示取代基。
A1及A2所表示的取代基可列舉芳基、雜芳基等。
芳基較佳為碳數6~20的芳基，更佳為碳數6~12的芳基。尤佳為苯基或萘基。
雜芳基可為單環亦可為多環。構成雜芳基的雜原子的個數較 佳為1~3。構成雜芳基的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。雜芳基的碳數較佳為3~30，更佳為3~18，進而佳為3~12。雜芳基的具體例例如可列舉：咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、噻吩基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、萘并噻唑基、間咔唑基、氮呯基等。
上文所述的芳基及雜芳基可具有取代基，亦可未經取代。就可提高於溶媒中的溶解性等觀點而言，芳基及雜芳基較佳為具有取代基。取代基可列舉：烷基、烯基、烷氧基、後述-L-Rx1所表示的基團、後述-L100-X100所表示的基團等。
烷基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，尤佳為1~25。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為分支。
烯基的碳數較佳為2~40。下限例如更佳為3以上，進而佳為5以上，進一步佳為8以上，尤佳為10以上。上限更佳為35以下，進而佳為30以下。烯基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為分支。
烷氧基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，尤佳為1~25。烷氧基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為分支。
-L-Rx1所表示的基團中，L表示-CO-、-COO-、-OCO-、-(ORx2)m-、-(Rx2O)m-及將該些基團組合而成的基團，Rx1表示烷基、烯基或芳基，Rx2表示伸烷基或伸芳基，m表示2以上的整數，m 個Rx2可相同亦可不同。
L較佳為-(ORx2)m-或-(Rx2O)m-。
Rx1所表示的烷基、烯基、芳基與上文所述的烷基、烯基、芳基為相同含意，較佳範圍亦相同。Rx1較佳為烷基或烯基，更佳為烷基。Rx1所表示的烷基、烯基及芳基可未經取代，亦可具有取代基。取代基可列舉後述R9、R10所表示的取代基及後述-L100-X100所表示的基團。
Rx2所表示的伸烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~10，進而佳為1~5。伸烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。
Rx2所表示的伸芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~12。
m表示2以上的整數，較佳為2~20，更佳為2~10。
-L100-X100所表示的基團中，L100表示單鍵或二價連結基，X100表示反應性基。反應性基較佳為選自乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基、環氧基、氧雜環丁基、異氰酸基、羥基、胺基、羧基、硫醇基、烷氧基矽烷基、羥甲基、磺基、苯乙烯基及馬來醯亞胺基中的一種以上，較佳為乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基、羥基及羧基。另外，反應性基亦較佳為下述通式(A-1)~通式(A-3)所表示的至少一種。
[化6]
式(A-1)中，R15、R16及R17分別獨立地表示氫原子、直鏈或分支的碳數1~18的烷基、直鏈或分支的碳數1~18的烯基、直鏈或分支的碳數1~18的炔基、碳數3~18的環烷基、碳數3~18的環烯基、碳數3~18的環炔基或碳數6~18的芳基。
烷基的碳數較佳為1~10，更佳為1~6，進而佳為1~3，尤佳為1。
烯基的碳數較佳為1~10，更佳為1~6，進而佳為1~3。
炔基的碳數較佳為1~10，更佳為1~6，進而佳為1~3。
環烷基的碳數較佳為3~10，更佳為3~8，進而佳為3~6。
環烯基的碳數較佳為3~10，更佳為3~8，進而佳為3~6。
環炔基的碳數較佳為3~10，更佳為3~8，進而佳為3~6。
芳基的碳數較佳為6~12，更佳為6~8，進而佳為6。
式(A-1)中，R15較佳為氫原子或碳數1~18的烷基，更佳為氫原子。式(A-1)中，R16及R17較佳分別獨立地為氫原子或碳數1~18的烷基，更佳為氫原子。
式(A-2)中，R18、R19及R20分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF3。式(A-2)中，R18較佳為甲基。式(A-2)中，R19及R20較佳為氫原子。
式(A-3)中，R21及R22分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF3，較佳為氫原子。式(A-3)中，Q表示1或2。
於L100表示二價連結基的情形時，L100較佳為碳數1~20的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的伸雜芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-或包含該些基團的組合的基團。
R1~R10分別獨立地表示氫原子或取代基，R1~R8的至少一個表示取代基。較佳為R1~R8的2個~8個為取代基，更佳為2個~6個為取代基，尤佳為2個~4個為取代基。
R1~R8所表示的取代基可列舉：鹵素原子、烷基、烷氧基、芳基、氰基、上文所述的-L100-X100所表示的基團等。
鹵素原子較佳為氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，尤佳為氯原子。
烷基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，尤佳為1~25。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為直鏈。
烷氧基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，尤佳為1~25。烷氧基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為直鏈。
芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~12。
R1~R8所表示的取代基較佳為鹵素原子及上文所述的-L100-X100所表示的基團，更佳為鹵素原子，尤佳為氯原子。
另外，較佳為R1~R4的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表 示的基團，且R5~R8的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團。
R9、R10所表示的取代基可列舉：烷基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~10，例如可列舉甲基、乙基、異丙基、第三丁基、正辛基、正癸基、正十六烷基、2-甲基丁基、2-乙基環己基、環戊基、環己基等)、烯基(較佳為碳數2~30、更佳為碳數2~20、尤佳為碳數2~10，例如可列舉乙烯基、烯丙基、2-丁烯基、3-戊烯基等)、炔基(較佳為碳數2~30、更佳為碳數2~20、尤佳為碳數2~10，例如炔丙基、3-戊炔基等)、芳基(較佳為碳數6~30、更佳為碳數6~20、尤佳為碳數6~12，例如可列舉苯基、對甲基苯基、聯苯基、萘基、蒽基、菲基等)、胺基(較佳為碳數0~30、更佳為碳數0~20、尤佳為碳數0~10，包含烷基胺基、芳基胺基、雜環胺基，例如可列舉胺基、甲基胺基、二甲基胺基、二乙基胺基、二苄基胺基、二苯基胺基、二甲苯基胺基等)、烷氧基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~10，例如可列舉甲氧基、乙氧基、丁氧基、2-乙基己氧基等)、芳氧基(較佳為碳數6~30、更佳為碳數6~20、尤佳為碳數6~12，例如可列舉苯氧基、1-萘氧基、2-萘氧基等)、芳香族雜環氧基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉吡啶氧基、吡嗪氧基、嘧啶氧基、喹啉氧基等)、醯基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉乙醯基、苯甲醯基、甲醯基、三甲基乙醯基 等)、烷氧基羰基(較佳為碳數2~30、更佳為碳數2~20、尤佳為碳數2~12，例如可列舉甲氧基羰基、乙氧基羰基等)、芳氧基羰基(較佳為碳數7~30、更佳為碳數7~20、尤佳為碳數7~12，例如可列舉苯氧基羰基等)、醯氧基(較佳為碳數2~30、更佳為碳數2~20、尤佳為碳數2~10，例如可列舉乙醯氧基、苯甲醯氧基等)、醯基胺基(較佳為碳數2~30、更佳為碳數2~20、尤佳為碳數2~10，例如可列舉乙醯基胺基、苯甲醯基胺基等)、烷氧基羰基胺基(較佳為碳數2~30、更佳為碳數2~20、尤佳為碳數2~12，例如可列舉甲氧基羰基胺基等)、芳氧基羰基胺基(較佳為碳數7~30、更佳為碳數7~20、尤佳為碳數7~12，例如可列舉苯氧基羰基胺基等)、磺醯基胺基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉甲磺醯基胺基、苯磺醯基胺基等)、胺磺醯基(較佳為碳數0~30、更佳為碳數0~20、尤佳為碳數0~12，例如可列舉胺磺醯基、甲基胺磺醯基、二甲基胺磺醯基、苯基胺磺醯基等)、胺甲醯基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉胺甲醯基、甲基胺甲醯基、二乙基胺甲醯基、苯基胺甲醯基等)、烷硫基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉甲硫基、乙硫基等)、芳硫基(較佳為碳數6~30、更佳為碳數6~20、尤佳為碳數6~12，例如可列舉苯硫基等)、芳香族雜環硫基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉吡啶硫基、2-苯并咪唑硫基、2-苯并噁唑硫基、2-苯并 噻唑硫基等)、磺醯基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉甲磺醯基、甲苯磺醯基等)、亞磺醯基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉甲亞磺醯基、苯亞磺醯基等)、脲基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉脲基、甲基脲基、苯基脲基等)、磷醯胺基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~20、尤佳為碳數1~12，例如可列舉二乙基磷醯胺基、苯基磷醯胺基等)、羥基、巰基、鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、氰基、磺基、羧基、硝基、羥肟酸基、亞磺酸基、肼基、亞胺基、雜環基(較佳為碳數1~30、更佳為碳數1~12，雜原子例如可列舉氮原子、氧原子、硫原子，具體而言，例如可列舉咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、噻吩基、哌啶基、嗎啉基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、咔唑基、氮呯基等)、矽烷基(較佳為碳數3~40、更佳為碳數3~30、尤佳為碳數3~24，例如可列舉三甲基矽烷基、三苯基矽烷基等)、拉電子性基等。其中，較佳為拉電子性基。
拉電子性基例如較佳為哈米特(Hammett)的σp值(sigma-para值)為正的取代基。例如可列舉：氰基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺磺醯基、亞磺醯基、雜環基等。該些拉電子性基亦可進一步經取代。
對哈米特的取代基常數σ值加以說明。哈米特法則是為了定量地論述取代基對苯衍生物的反應或平衡的影響而於1935年由 L.P.哈米特(L.P.Hammett)所提出的經驗法則，如今已廣泛地確認了其妥當性。哈米特法則所需求的取代基常數中有σp值與σm值，該些值可於大量的普通成書中找出。例如於J.A.迪恩(J.A.Dean)編寫的「蘭氏化學手冊(Lange's Handbook of Chemistry)」(第12版，1979年，麥格勞-希爾出版社(Mc Graw-Hill))或「化學的領域」(增刊，122號，96頁~103頁，1979年(南光堂))、「化學研究(Chem.Rev.)」(1991年，91卷，165頁~195頁)等中有詳細記載。本發明中所謂哈米特的取代基常數σp值為0.2以上的取代基，表示拉電子性基。σp值較佳為0.25以上，更佳為0.3以上，尤佳為0.35以上。上限並無特別限制，較佳為0.80。
具體例可列舉：氰基(0.66)、羧基(-COOH：0.45)、烷氧基羰基(-COOMe：0.45)、芳氧基羰基(-COOPh：0.44)、胺甲醯基(-CONH2：0.36)、烷基羰基(-COMe：0.50)、芳基羰基(-COPh：0.43)、烷基磺醯基(-SO2Me：0.72)或芳基磺醯基(-SO2Ph：0.68)等。尤佳為氰基。
於本說明書中，Me表示甲基，Ph表示苯基。再者，括弧內的值為自「化學研究(Chem.Rev.)」(1991年，91卷，165頁~195頁)中摘錄具代表性的取代基的σp值所得的值。
X1及X2分別獨立地表示氫原子或取代基。
取代基可列舉：烷基、芳基、雜芳基、金屬原子、下述通式(2)所表示的基團等。
烷基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，尤佳為1~25。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為直鏈。
芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~12。
雜芳基可為單環亦可為多環，較佳為單環。構成雜芳基的雜原子的個數較佳為1~3。構成雜芳基的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。雜芳基的碳數較佳為3~30，更佳為3~18，進而佳為3~12，尤佳為3~5。雜芳基較佳為雜5員環或雜6員環。雜芳基的具體例例如可列舉：咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、噻吩基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、萘并噻唑基、間咔唑基、氮呯基等。
金屬原子較佳為鎂、鋁、鈣、鋇、鋅、錫、釩、鐵、鈷、鎳、銅、鈀、銥、鉑，尤佳為鋁、鋅、釩、鐵、銅、鈀、銥、鉑。
X1及X2較佳為氫原子或下述通式(2)所表示的基團。
通式(2)中，R21及R22分別獨立地表示取代基，R21與R22亦可相互鍵結而形成環，*表示結合鍵。
R21及R22所表示的取代基可列舉：上文所述的R9、R10所表 示的取代基、上文所述的-L100-X100所表示的基團。
較佳為鹵素原子、烷基、芳基、雜芳基及上文所述的-L100-X100所表示的基團。
鹵素原子較佳為氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，尤佳為氟原子。
烷基、芳基、雜芳基與X1及X2中說明的烷基、芳基、雜芳基為相同含意，較佳範圍亦相同。
R21及R22亦可相互鍵結而形成環。R21與R22鍵結而形成的環例如可列舉以下所示的結構等。
上文所述的通式(1)所表示的化合物較佳為下述通式(3)所表示的化合物。
[化9]
通式(3)中，X101及X102表示氫原子、下述通式(4)所表示的基團或(5)所表示的基團，R101~R108分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1~40的烷基、碳數1~40的烷氧基、碳數6~20的芳基、氰基及上文所述的-L100-X100所表示的基團，R101~R108的至少一個表示鹵素原子、碳數1~40的烷基、碳數1~40的烷氧基、碳數6~20的芳基、氰基或上文所述的-L100-X100所表示的基團，R109及R110表示氰基，A101及A102分別獨立地表示碳數6~20的芳基、碳數3~18的雜芳基；
通式(4)中，R121及R122分別獨立地表示鹵素原子、碳數1~10的烷基、碳數6~20的芳基、雜5員環、雜6員環或上文所述的-L100-X100所表示的基團，*表示結合鍵。
通式(3)中，X101及X102表示氫原子、所述通式(4)所表示的基團或所述通式(5)所表示的基團。
所述通式(4)的R121及R122所表示的鹵素原子較佳為氟原子。
所述通式(4)的R121及R122所表示的烷基的碳數為1~10，較佳為1~8。
所述通式(4)的R121及R122所表示的芳基的碳數為6~20，較佳為6~12。
構成所述通式(4)的R121及R122所表示的雜5員環或雜6員環的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。雜原子的個數較佳為1個~3個。
通式(3)中，R101~R108分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1~40的烷基、碳數1~40的烷氧基、碳數6~20的芳基、氰基及上文所述的-L100-X100所表示的基團，R101~R108的至少一個表示鹵素原子、碳數1~40的烷基、碳數1~40的烷氧基、碳數6~20的芳基、氰基或上文所述的-L100-X100所表示的基團。
鹵素原子較佳為氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，尤佳為氯原子。
烷基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，尤佳為1~25。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為 直鏈。
烷氧基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，尤佳為1~25。烷氧基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為直鏈。
芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~12。
R101~R1o8所表示的取代基較佳為鹵素原子及上文所述的-L100-X100所表示的基團，更佳為鹵素原子，尤佳為氯原子。
另外，較佳為R101~R104的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團，且R105~R108的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團。
通式(3)中，A101及A102分別獨立地表示碳數6~20的芳基、碳數3~18的雜芳基。
芳基較佳為碳數6~12的芳基，更佳為苯基或萘基。
雜芳基可為單環亦可為多環。構成雜芳基的雜原子的個數較佳為1~3。構成雜芳基的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。雜芳基的碳數較佳為3~12。
上文所述的芳基及雜芳基可具有取代基，亦可未經取代。就可提高於溶媒中的溶解性等理由而言，芳基及雜芳基較佳為具有取代基。取代基可列舉：烷基、烷氧基、上文所述的-L-Rx1所表示的基團、上文所述的-L100-X100所表示的基團等。
烷基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，尤佳為1~25。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為 分支。
烷氧基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，尤佳為1~25。烷氧基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，尤佳為分支。
通式(1)所表示的化合物例如可例示以下所示的化合物等。再者，以下的式中「-C19H39」及「-OC8H17」分別分支。另外，「-OC4H9」、「-C18H37」及「-OC18H37」為直鏈烷基或直鏈烷氧基。
另外，化合物37~化合物39中，R1及R2中一個為氫原子，另一個表示取代基R，R3及R4中一個為氫原子，另一個表示取代基R。
[化11]
[化12]
[化14]
[化15]
[化16]
[化17]
[化18]
本發明的近紅外線吸收組成物中，通式(1)所表示的化合物的含量可視需要而調節。例如於組成物中的總固體成分中，較佳為設定為0.01質量%~50質量%。下限較佳為0.1質量%以上，更佳為0.5質量%以上。上限較佳為30質量%以下，更佳為15質量%以下。藉由設定為該範圍內，可賦予良好的近紅外吸收能力。於本發明的近紅外線吸收組成物含有兩種以上的通式(1)所表示的化合物的情形時，較佳為其合計量為所述範圍內。
本發明的近紅外線吸收組成物例如可用於：(i)可吸收特定的近紅外線範圍的光的近紅外線吸收濾波器用途；(ii)相較於僅由通式(1)所表示的化合物可截止的波長範圍，可吸收更廣波長範圍的近紅外線範圍的光的近紅外線吸收濾波器等。
於用於所述(i)的近紅外線吸收濾波器用途的情形時，本發明的近紅外線吸收組成物較佳為含有通式(1)所表示的化合物，且實質上不含在與通式(1)所表示的化合物的最大吸收波長不同 的近紅外線範圍內具有最大吸收波長的紅外線吸收物質。此處，所謂實質上不含，是指通式(1)所表示的化合物的1質量%以下。進而，亦可含有硬化性化合物、硬化劑、界面活性劑、溶劑等。
於用於所述(ii)的近紅外線吸收濾波器用途的情形時，本發明的近紅外線吸收組成物較佳為除了通式(1)所表示的化合物以外，還含有在與通式(1)所表示的化合物所具有的最大吸收波長不同的近紅外線範圍內具有最大吸收波長的紅外線吸收物質。進而，亦可含有硬化性化合物、硬化劑、界面活性劑、溶劑等。
以下，對本發明的近紅外線吸收組成物可含有的其他成分加以說明。
<<硬化性化合物>>
本發明的近紅外線吸收組成物亦可含有硬化性化合物。硬化性化合物較佳為具有聚合性基的化合物(以下有時稱為「聚合性化合物」)。例如可列舉：含有乙烯性不飽和鍵、環狀醚(環氧、氧雜環丁烷)等的化合物。此種化合物組群已廣為人知，本發明中可無特別限定地使用該些化合物。該些化合物例如可為單體、寡聚物、預聚物、聚合物等化學形態的任一種。
聚合性化合物可為單官能亦可為多官能，較佳為多官能。藉由含有多官能化合物，可進一步提高近紅外線遮蔽性及耐熱性。官能基的個數並無特別限定，較佳為2官能~8官能，更佳為3官能~6官能。
於本發明的近紅外線吸收組成物中與所述通式(1)所 表示的化合物一併而含有硬化性化合物的情形時，硬化性化合物的較佳形態可列舉下述化合物。本發明不限定於以下的形態。
<<<含有乙烯性不飽和鍵的化合物>>>
含有乙烯性不飽和鍵的化合物的例子可參照日本專利特開2013-253224號公報的段落0033~段落0034的記載，將其內容併入至本說明書中。
含有乙烯性不飽和鍵的化合物較佳為伸乙氧基改質季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為NK酯(NK Ester)ATM-35E；新中村化學公司製造)、二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-330；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-320；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-310；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)DPHA；日本化藥股份有限公司製造，A-DPH-12E；新中村化學工業公司製造)，及該等的(甲基)丙烯醯基介隔乙二醇殘基、丙二醇殘基的結構。另外，亦可使用該等的寡聚物類型。
另外，可參照日本專利特開2013-253224號公報的段落0034~段落0038的聚合性化合物的記載，將其內容併入至本說明書中。
另外，可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0477(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0585])中記載的聚合性單體等，將該些內容併入至本申請案說明書中。
另外，較佳為二甘油環氧乙烷(Ethylene Oxide，EO)改質(甲基)丙烯酸酯(市售品為M-460；東亞合成製造)。季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學製造，A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(日本化藥公司製造，卡亞拉得(KAYARAD)HDDA)亦較佳。亦可使用該等的寡聚物類型。例如可列舉RP-1040(日本化藥股份有限公司製造)等。
含有乙烯性不飽和鍵的化合物亦可為多官能單體，且亦可具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。於含有乙烯性不飽和鍵的化合物具有未反應的羧基的情形時，視需要亦可使非芳香族羧酸酐反應而導入酸基。非芳香族羧酸酐的具體例可列舉：四氫鄰苯二甲酸酐、烷基化四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、烷基化六氫鄰苯二甲酸酐、琥珀酸酐、馬來酸酐。
具有酸基的含有乙烯性不飽和鍵的化合物可列舉脂肪族多羥基化合物與不飽和羧酸的酯。較佳為使非芳香族羧酸酐與脂肪族多羥基化合物的未反應的羥基反應而具有酸基的多官能單體，尤佳為脂肪族多羥基化合物為季戊四醇及/或二季戊四醇。市售品例如可列舉：東亞合成股份有限公司製造的作為多元酸改質丙烯酸系寡聚物的亞羅尼斯(Aronix)系列的M-305、M-510、M-520等。
具有酸基的多官能單體酸價較佳為0.1mgKOH/g~40mgKOH/g。下限較佳為5mgKOH/g以上。上限較佳為30mgKOH/g以下。於併用兩種以上的酸基不同的多官能單體的情形、或併用 不具有酸基的多官能單體的情形時，較佳為以多官能單體總體的酸價在所述範圍內的方式調整。
含有乙烯性不飽和鍵的化合物亦可為含有具有乙烯性不飽和鍵的基團作為重複單元的聚合物。具體可列舉含有下述重複單元的聚合物(共聚物)。
<<<具有環氧基或氧雜環丁基的化合物>>>
本發明的第二較佳態樣為含有具有環氧基或氧雜環丁基的化合物作為聚合性化合物的態樣。具有環氧基或氧雜環丁基的化合物具體可列舉：於側鏈上具有環氧基的聚合物、於分子內具有2個以上的環氧基的聚合性單體或寡聚物。具體例可列舉：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。另外，亦可列舉單 官能或多官能縮水甘油醚化合物，較佳為多官能脂肪族縮水甘油醚化合物。
該些化合物亦可使用市售品，亦可藉由對聚合物的側鏈導入環氧基或氧雜環丁基而獲得。
市售品例如可參照日本專利特開2012-155288號公報段落0191等的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。
另外，市售品可列舉：代那考爾(Denacol)EX-212L、代那考爾(Denacol)EX-214L、代那考爾(Denacol)EX-216L、代那考爾(Denacol)EX-321L、代那考爾(Denacol)EX-850L(以上為長瀨化成(Nagase Chemtex)(股)製造)等多官能脂肪族縮水甘油醚化合物。該些化合物為低氯品，亦可同樣地使用並非低氯品的EX-212、EX-214、EX-216、EX-321、EX-850等。
除此以外，亦可列舉：艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4000S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4003S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4010S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4011S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，JER1031S、賽羅西德(Celloxide)2021P、賽羅西德(Celloxide)2081、賽羅西德(Celloxide)2083、賽羅西德(Celloxide)2085、EHPE3150、艾波利得(EPOLEAD)PB 3600、艾波利得(EPOLEAD)PB 4700(以上為大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造)，賽克羅馬(Cyclomer)P ACA 200M、賽克 羅馬(Cyclomer)ACA 230AA、賽克羅馬(Cyclomer)ACA Z250、賽克羅馬(Cyclomer)ACA Z251、賽克羅馬(Cyclomer)ACA Z300、賽克羅馬(Cyclomer)ACA Z320(以上為大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造)等。
於側鏈上具有氧雜環丁基的聚合物、及所述於分子內具有2個以上的氧雜環丁基的聚合性單體或寡聚物的具體例可使用：亞龍氧雜環丁烷(Aron Oxetane)OXT-121、亞龍氧雜環丁烷(Aron Oxetane)OXT-221、亞龍氧雜環丁烷(Aron Oxetane)OX-SQ、亞龍氧雜環丁烷(Aron Oxetane)PNOX(以上為東亞合成(股)製造)。
分子量以重量平均計而較佳為500~5000000、更佳為1000~500000的範圍。
具有環氧基或氧雜環丁基的化合物亦可使用(甲基)丙烯酸縮水甘油酯或烯丙基縮水甘油醚等具有縮水甘油基作為環氧基的化合物，較佳為具有脂環式環氧基的不飽和化合物。此種化合物例如可參照日本專利特開2009-265518號公報的段落0045等的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。
含有環氧基或氧雜環丁基的化合物亦可為含有環氧基或氧雜環丁基作為重複單元的聚合物。具體可列舉含有下述重複單元的聚合物(共聚物)。
[化20]
<<<具有己內酯改質結構的多官能性單體>>>
另外，亦可含有具有己內酯改質結構的多官能性單體作為硬化性化合物。
具有己內酯改質結構的多官能性單體可參照日本專利特開2013-253224號公報的段落0042~段落0045的記載，將其內容併入至本說明書中。
市售品例如可列舉：沙多瑪(Sartomer)公司製造的具有4個伸乙氧基鏈的四官能丙烯酸酯SR-494、日本化藥股份有限公司製造的具有6個伸戊氧基鏈的六官能丙烯酸酯DPCA-60、具有3個伸異丁氧基鏈的三官能丙烯酸酯TPA-330等。
於本發明的近紅外線吸收組成物含有硬化性化合物的情形時，相對於除了溶劑以外的總固體成分，硬化性化合物的含量較佳為1質量%~90質量%。下限較佳為15質量%以上，更佳為40質量%以上。上限較佳為80質量%以下，更佳為75質量%以下。
另外，於使用含有具有聚合性基的重複單元的聚合物作為硬化性化合物的情形時，相對於除了溶劑以外的本發明的近紅外線吸收組成物的總固體成分，較佳為10質量%~75質量%。下限較佳為20質量%以上，更佳為25質量%以上。上限較佳為65質量%以下，更佳為60質量%以下。
硬化性化合物可僅為一種，亦可為兩種以上。於為兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。
<<光聚合起始劑>>
本發明的近紅外線吸收組成物亦可含有光聚合起始劑。
光聚合起始劑的含量較佳為0.01質量%~30質量%。下限較佳為0.1質量%以上，更佳為0.5質量%以上。上限較佳為20質量%以下，更佳為15質量%以下。
光聚合起始劑可僅為一種，亦可為兩種以上，於為兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。
光聚合起始劑只要具有藉由光來引發硬化性化合物的聚合的能力，則並無特別限制，可根據目的而適當選擇。於藉由光來引發聚合的情形時，較佳為對紫外線範圍至可見光線具有感光性的化合物。
光聚合起始劑較佳為至少具有芳香族基的化合物，例如可列舉：醯基膦化合物、苯乙酮系化合物、α-胺基酮化合物、二苯甲酮系化合物、安息香醚系化合物、縮酮衍生物化合物、噻噸酮化合物、肟化合物、六芳基聯咪唑化合物、三鹵甲基化合物、 偶氮化合物、有機過氧化物、重氮化合物、錪化合物、鋶化合物、吖嗪鎓化合物、茂金屬化合物等鎓鹽化合物、有機硼鹽化合物、二碸化合物、硫醇化合物等。
光聚合起始劑可參照日本專利特開2013-253224號公報的段落0217~段落0228的記載，將其內容併入至本說明書中。
肟化合物可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造)、豔佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)、TR-PBG-304(常州強力電子新材料有限公司製造)、艾迪科阿科爾斯(Adeka Arkls)NCI-831(艾迪科(ADEKA)公司製造)、艾迪科阿科爾斯(Adeka Arkls)NCI-930(艾迪科(ADEKA)公司製造)等。
苯乙酮系化合物可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-907、豔佳固(IRGACURE)-369及豔佳固(IRGACURE)-379(商品名；均為日本巴斯夫(BASF Japan)公司製造)。另外，醯基膦化合物可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-819或達羅固(DAROCUR)-TPO(商品名；均為日本巴斯夫(BASF Japan)公司製造)。
本發明亦可使用具有氟原子的肟化合物作為光聚合起始劑。具有氟原子的肟化合物的具體例可列舉：日本專利特開2010-262028號公報記載的化合物，日本專利特表2014-500852號公報記載的化合物24、化合物36~化合物40，日本專利特開2013-164471號公報記載的化合物(C-3)等。將其內容併入至本 說明書中。
<<溶劑>>
本發明的近紅外線吸收組成物亦可含有溶劑。溶劑並無特別限制，只要可將本發明的近紅外線吸收組成物的各成分均勻地溶解或分散，則可根據目的而適當選擇。例如可使用水、有機溶劑。
溶劑例如可較佳地列舉：醇類(例如甲醇)、酮類、酯類、芳香族烴類、鹵化烴類、及二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、二甲基亞碸、環丁碸等。該些溶劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。於併用兩種以上的溶劑的情形時，較佳為由選自3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚及丙二醇單甲醚乙酸酯中的兩種以上所構成的混合溶液。
醇類、芳香族烴類、鹵化烴類的具體例可列舉日本專利特開2012-194534號公報的段落0136等中記載的溶劑，將其內容併入至本申請案說明書中。另外，酯類、酮類、醚類的具體例可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0497(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0609])中記載的溶劑，進而可列舉：乙酸-正戊酯、丙酸乙酯、鄰苯二甲酸二甲酯、苯甲酸乙酯、硫酸甲酯、丙酮、甲基異丁基酮、二乙醚、乙二醇單丁醚乙酸酯等。
本發明的近紅外線吸收組成物中的溶劑的量較佳為通式(1)所表示的化合物的固體成分成為10質量%~90質量%的量。下限較佳為20質量%以上。上限較佳為80質量%以下。
另外，相對於通式(1)所表示的化合物，溶劑較佳為10質量%~90質量%。下限較佳為20質量%以上。上限較佳為80質量%以下。
溶劑可僅為一種，亦可為兩種以上，於為兩種以上的情形時，合計量成為所述範圍。
<<鹼可溶性樹脂>
本發明的近紅外線吸收組成物亦可含有鹼可溶性樹脂。
鹼可溶性樹脂可自以下鹼可溶性樹脂中適當選擇：其為線性有機高分子聚合物，且於分子(較佳為以丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物作為主鏈的分子)中具有至少一個促進鹼可溶性的基團。就耐熱性的觀點而言，較佳為多羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂，就控制顯影性的觀點而言，較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。
促進鹼可溶性的基團(以下亦稱為酸基)例如可列舉羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，較佳為可溶於有機溶劑中且可利用弱鹼性水溶液進行顯影，可列舉(甲基)丙烯酸基作為尤佳的基團。該些酸基可僅為一種，亦可為兩種以上。鹼可溶性樹脂可參照日本專利特開2012-208494號公報的段落0558~段落0571(對 應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0685]~[0700])以後的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。
鹼可溶性樹脂的酸價較佳為30mgKOH/g~200mgKOH/g。下限較佳為50mgKOH/g以上，更佳為70mgKOH/g以上。上限較佳為150mgKOH/g以下，更佳為120mgKOH/g以下。
鹼可溶性樹脂的重量平均分子量(Mw)較佳為2,000~50,000。下限較佳為5,000以上，更佳為7,000以上。上限較佳為30,000以下，更佳為20,000以下。
於本發明的近紅外線吸收組成物含有鹼可溶性樹脂的情形時，相對於近紅外線吸收組成物的總固體成分，鹼可溶性樹脂的含量較佳為1質量%~80質量%。下限較佳為5質量%以上，更佳為7質量%以上。上限較佳為50質量%以下，更佳為30質量%以下。
本發明的近紅外線吸收組成物可僅含有一種鹼可溶性樹脂，亦可含有兩種以上的鹼可溶性樹脂。於含有兩種以上的鹼可溶性樹脂的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。
<<界面活性劑>>
本發明的近紅外線吸收組成物亦可含有界面活性劑。界面活性劑可僅使用一種，亦可將兩種以上組合。相對於本發明的近紅外線吸收組成物的固體成分，界面活性劑的含量較佳為0.0001質量%~2質量%。下限較佳為0.005質量%以上，更佳為0.01質量%以上。上限較佳為1.0質量%以下，更佳為0.1質量%以下。
界面活性劑可使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。尤其本發明的近紅外線吸收組成物藉由含有氟系界面活性劑及矽酮系界面活性劑的至少任一種，於製備成塗佈液時的溶液特性(特別是流動性)進一步提高。藉此進一步改善塗佈厚度的均勻性或省液性。
即，於使用應用含有氟系界面活性劑及矽酮系界面活性劑的至少任一種的近紅外線吸收組成物的塗佈液來進行膜形成的情形時，藉由使被塗佈面與塗佈液的界面張力減小，對被塗佈面的濡濕性得到改善，對被塗佈面的塗佈性提高。因此，即便於以少量的液量來形成幾微米(μm)左右的薄膜的情形時，亦可更佳地進行厚度不均小的均勻厚度的膜形成，就此方面而言有效。
氟系界面活性劑的氟含有率較佳為3質量%~40質量%，更佳為5質量%~30質量%，尤佳為7質量%~25質量%。氟含有率為所述範圍內的氟系界面活性劑於塗佈膜的厚度的均勻性或省液性的方面有效果，於近紅外線吸收組成物中的溶解性亦良好。
氟系界面活性劑具體可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0552(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0678])等中記載的界面活性劑，將該些內容併入至本申請案說明書中。氟系界面活性劑的市售品例如可列舉：美佳法(Megafac)F-171、美佳法(Megafac)F-172、美佳法(Megafac) F-173、美佳法(Megafac)F-176、美佳法(Megafac)F-177、美佳法(Megafac)F-141、美佳法(Megafac)F-142、美佳法(Megafac)F-143、美佳法(Megafac)F-144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F-437、美佳法(Megafac)F-475、美佳法(Megafac)F-479、美佳法(Megafac)F-482、美佳法(Megafac)F-554、美佳法(Megafac)F-780、美佳法(Megafac)F-781F(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，弗拉德(Fluorad)FC430、弗拉德(Fluorad)FC431、弗拉德(Fluorad)FC171(以上為住友3M(股)製造)，沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上為旭硝子(股)製造)等。
非離子系界面活性劑可列舉：聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基烯丙基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、去水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧伸乙基去水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧伸乙基烷基胺、甘油脂肪酸酯、氧伸乙基氧伸丙基嵌段共聚物、乙炔乙二醇系界面活性劑、乙炔系聚氧伸乙基氧化物等。該些化合物可單獨使用或使用兩種以上。
具體的商品名可列舉：蘇菲諾(Surfinol)61、蘇菲諾(Surfinol)82、蘇菲諾(Surfinol)104、蘇菲諾(Surfinol)104E、蘇菲諾(Surfinol)104H、蘇菲諾(Surfinol)104A、蘇菲諾(Surfinol)104BC、蘇 菲諾(Surfinol)104DPM、蘇菲諾(Surfinol)104PA、蘇菲諾(Surfinol)104PG-50、蘇菲諾(Surfinol)104S、蘇菲諾(Surfinol)420、蘇菲諾(Surfinol)440、蘇菲諾(Surfinol)465、蘇菲諾(Surfinol)485、蘇菲諾(Surfinol)504、蘇菲諾(Surfinol)CT-111、蘇菲諾(Surfinol)CT-121、蘇菲諾(Surfinol)CT-131、蘇菲諾(Surfinol)CT-136、蘇菲諾(Surfinol)CT-141、蘇菲諾(Surfinol)CT-151、蘇菲諾(Surfinol)CT-171、蘇菲諾(Surfinol)CT-324、蘇菲諾(Surfinol)DF-37、蘇菲諾(Surfinol)DF-58、蘇菲諾(Surfinol)DF-75、蘇菲諾(Surfinol)DF-110D、蘇菲諾(Surfinol)DF-210、蘇菲諾(Surfinol)GA、蘇菲諾(Surfinol)OP-340、蘇菲諾(Surfinol)PSA-204、蘇菲諾(Surfinol)PSA-216、蘇菲諾(Surfinol)PSA-336、蘇菲諾(Surfinol)SE、蘇菲諾(Surfinol)SE-F、蘇菲諾(Surfinol)TG、蘇菲諾(Surfinol)GA、戴諾爾(Dainol)604(以上為日信化學(股)及空氣化工產品(Air Products & Chemicals)公司)，奧爾菲(Olfin)A、奧爾菲(Olfin)B、奧爾菲(Olfin)AK-02、奧爾菲(Olfin)CT-151W、奧爾菲(Olfin)E1004、奧爾菲(Olfin)E1010、奧爾菲(Olfin)P、奧爾菲(Olfin)SPC、奧爾菲(Olfin)STG、奧爾菲(Olfin)Y、奧爾菲(Olfin)32W、奧爾菲(Olfin)PD-001、奧爾菲(Olfin)PD-002W、奧爾菲(Olfin)PD-003、奧爾菲(Olfin)PD-004、奧爾菲(Olfin)EXP.4001、奧爾菲(Olfin)EXP.4036、奧爾菲(Olfin)EXP.4051、奧爾菲(Olfin)AF-103、奧爾菲(Olfin)AF-104、奧爾菲(Olfin)SK-14、奧爾菲(Olfin) AE-3(以上為日信化學(股))，阿塞迪諾(Acetylenol)E00、阿塞迪諾(Acetylenol)E13T、阿塞迪諾(Acetylenol)E40、阿塞迪諾(Acetylenol)E60、阿塞迪諾(Acetylenol)E81、阿塞迪諾(Acetylenol)E100、阿塞迪諾(Acetylenol)E200(以上全部為商品名，川研精化(股)公司製造)等。其中，較佳為奧爾菲(Olfin)E1010。
除此以外，非離子系界面活性劑具體可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0553(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0679])等中記載的非離子系界面活性劑，將該些內容併入至本申請案說明書中。
陽離子系界面活性劑具體可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0554(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0680])中記載的陽離子系界面活性劑，將該些內容併入至本申請案說明書中。
陰離子系界面活性劑具體可列舉W004、W005、W017(裕商(股)公司製造)等。
矽酮系界面活性劑例如可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0556(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0682])等中記載的矽酮系界面活性劑，將該些內容併入至本申請案說明書中。另外亦可例示：東麗道康寧(Toray-Dow corning)(股)製造的「東麗矽酮(Toray Silicone)SF8410」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SF8427」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH8400」、「ST80PA」、「ST83PA」、「ST86PA」，邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造的「-TSF-400」、「TSF-401」、「TSF-410」、「TSF-4446」，信越矽酮股份有限公司製造的「KP321」、「KP323」、「KP324」、「KP340」等。
<<聚合抑制劑>>
本發明的近紅外線吸收組成物為了於製造中或保存中阻止硬化性化合物的不需要的反應，亦可含有少量的聚合抑制劑。
聚合抑制劑可列舉：對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基對甲酚、聯苯三酚、第三丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺亞鈰鹽等，較佳為對甲氧基苯酚。
於本發明的近紅外線吸收組成物含有聚合抑制劑的情形時，相對於近紅外線吸收組成物的總固體成分，聚合抑制劑的含量較佳為0.01質量%~5質量%。
<<紫外線吸收劑>>
本發明的近紅外線吸收組成物亦可含有紫外線吸收劑。
紫外線吸收劑可使用公知的化合物。市售品例如可列舉UV503(大東化學股份有限公司)等。
本發明的近紅外線吸收組成物可含有紫外線吸收劑亦可不含紫外線吸收劑，於含有紫外線吸收劑的情形時，相對於近紅外線吸收組成物的總固體成分，紫外線吸收劑的含量較佳為0.01質量%~10質量%，更佳為0.01質量%~5質量%。
本發明中，紫外線吸收劑可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。
<<紅外線吸收物質>>
本發明的近紅外線吸收組成物亦可更含有在與通式(1)所表示的化合物的最大吸收波長不同的近紅外線範圍內具有最大吸收波長的紅外線吸收物質。根據該態樣，可獲得如下近紅外線吸收濾波器，該近紅外線吸收濾波器可吸收相較於僅可由通式(1)所表示的化合物所截止的波長範圍而波長範圍更廣的近紅外線範圍的光。
紅外線吸收物質例如可列舉：吡咯并吡咯色素化合物、銅化合物、花青系色素化合物、酞菁系化合物、亞銨系化合物、硫醇錯合物系化合物、過渡金屬氧化物系化合物、方酸內鎓系色素化合物、萘酞菁系色素化合物、誇特銳烯(quaterrylene)系色素化合物、二硫醇金屬錯合物系色素化合物、克酮鎓化合物等。
吡咯并吡咯色素化合物可為顏料亦可為染料，就容易獲得可形成耐熱性優異的膜的著色組成物等理由而言，較佳為顏料。
吡咯并吡咯色素化合物例如可列舉日本專利特開2009-263614號公報的段落編號0016~段落編號0058中記載的吡咯并吡咯化合物等。
酞菁系化合物、萘酞菁化合物、亞銨系化合物、花青系色素、方酸內鎓系色素及克酮鎓化合物亦可使用日本專利特開2010-111750號公報的段落0010~段落0081中記載的化合物，將 其內容併入至本說明書中。花青系色素例如可參照「功能性色素，大河原信/松岡賢/北尾悌次郎/平嶋恆亮．著，講談社科技」，將其內容併入至本申請案說明書中。
銅化合物亦可使用日本專利特開2014-41318號公報的段落編號0013~段落編號0056、日本專利特開2014-32380號公報的段落編號0012~段落編號0030中記載的銅化合物，將其內容併入至本說明書中。
另外，亦可使用日本專利特開平07-164729號公報的段落0004~段落0016中揭示的化合物、或日本專利特開2002-146254號公報的段落0027~段落0062中揭示的化合物、日本專利特開2011-164583號公報的段落0034~段落0067中揭示的包含含有Cu及/或P的氧化物的微晶且數量平均凝聚粒徑為5nm~200nm的近紅外線吸收粒子，將其內容併入至本說明書中。
另外，市售品亦可使用艾克斯頓(艾克森(Exiton))製造的「IRA842」、山田化學製造的「FD-25」等。
<<其他成分>>
關於本發明的近紅外線吸收組成物中可併用的其他成分，例如亦可併用分散劑、增感劑、交聯劑、硬化促進劑、填料、熱硬化促進劑、熱聚合抑制劑、塑化劑等，進而亦可併用對基材表面的密接促進劑及其他助劑類(例如導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、調平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調整劑、鏈轉移劑等)。
藉由適當含有該些成分，可調整目標近紅外線吸收濾波器的穩定性、膜物性等性質。
該些成分例如可參照：日本專利特開2012-003225號公報的段落編號0183~段落編號0228(對應的美國專利申請公開第2013/0034812號說明書的[0237]~[0309])、日本專利特開2008-250074號公報的段落編號0101~段落編號0102、段落編號0103~段落編號0104、段落編號0107~段落編號0109、日本專利特開2013-195480號公報的段落編號0159~段落編號0184等的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。
<近紅外線吸收組成物的製備及用途>
本發明的近紅外線吸收組成物可將所述各成分混合而製備。
關於本發明的近紅外線吸收組成物的黏度，例如於藉由塗佈來形成近紅外線吸收濾波器的情形時，較佳為在1mPa．s~3000mPa．s的範圍內。下限較佳為10mPa．s以上，更佳為100mPa．s以上。上限較佳為2000mPa．s以下，更佳為1500mPa．s以下。
本發明的近紅外線吸收組成物的用途並無特別限定，可用於近紅外線吸收濾波器等。例如，亦可形成藉由檢測波長900nm以上且1000nm以下的光來檢測物體的紅外線感測器的近紅外線吸收濾波器。另外，亦可用於固體攝像元件的受光側的近紅外線吸收濾波器(例如針對晶圓級透鏡的近紅外線吸收濾波器等)、固體攝像元件的背面側(與受光側為相反側)的近紅外線吸收濾波器等。
另外，亦可將本發明的近紅外線吸收組成物直接塗佈於影像感測器上形成塗膜而使用。
本發明的近紅外線吸收組成物能以可塗佈的狀態而供給，故可於固體攝像元件的所需構件或位置上容易地形成近紅外線吸收濾波器。
<近紅外線吸收濾波器>
繼而，對本發明的近紅外線吸收濾波器加以說明。
本發明的近紅外線吸收濾波器是使上文所述的本發明的近紅外線吸收組成物硬化而成。
本發明的近紅外線吸收濾波器較佳為光透射率滿足以下的(1)~(7)中的至少一個條件，進而佳為滿足(1)~(7)的所有條件。
(1)波長400nm下的光透射率較佳為80%以上，更佳為85%以上，尤佳為90%以上。
(2)波長500nm下的光透射率較佳為80%以上，更佳為85%以上，尤佳為90%以上。
(3)波長600nm下的光透射率較佳為80%以上，更佳為85%以上，尤佳為90%以上。
(4)波長700nm下的光透射率較佳為80%以上，更佳為85%以上，尤佳為90%以上。
(5)波長750nm下的光透射率較佳為80%以上，更佳為85%以上，尤佳為90%以上。
(6)波長800nm下的光透射率較佳為65%以上，更佳為75%以上，尤佳為80%以上。
(7)波長900nm下的光透射率較佳為70%以下，更佳為65%以下，尤佳為60%以下。
近紅外線吸收濾波器的膜厚可根據目的而適當選擇，較佳為20μm以下，更佳為10μm以下，進而佳為5μm以下。膜厚的下限例如較佳為0.1μm以上，更佳為0.2μm以上，進而佳為0.3μm以上。根據本發明，因具有高的近紅外線遮蔽性，故可使近紅外線吸收濾波器的膜厚變薄。
近紅外線吸收濾波器較佳為膜厚20μm以下時，在波長400nm~700nm的整個範圍內的可見光透射率為85%以上，更佳為90%以上。另外，較佳為波長900nm以上且1000nm以下的範圍的至少一點的光透射率為20%以下。根據本發明，可確保高透射率的可見光範圍廣，可提供一種具有高的近紅外線遮蔽性的近紅外線吸收濾波器。
<近紅外線吸收濾波器的製造方法>
近紅外線吸收濾波器可經由以下步驟而製造：藉由將本發明的近紅外線吸收組成物應用(較佳為滴加、塗佈或印刷)於支撐體上而形成膜的步驟、及將膜加以乾燥的步驟。關於膜厚、積層結構等，可根據目的而適當選擇。另外，亦可進一步進行形成圖案的步驟。
形成膜的步驟例如可藉由以下方式實施：於支撐體，對 本發明的近紅外線吸收組成物使用滴加法(滴鑄)、旋塗機、狹縫旋塗機、狹縫塗佈機、網版印刷、敷料器塗佈等。滴加法(滴鑄)的情況下，為了以既定的膜厚獲得均勻的膜，較佳為於支撐體上形成以光阻劑作為隔離壁的組成物的滴加區域。再者，關於膜厚，可調整組成物的滴加量及固體成分濃度、滴加區域的面積。
應用本發明的近紅外線吸收組成物的支撐體可為包含玻璃等的透明基板。另外，亦可為固體攝像元件。另外，亦可為設置於固體攝像元件的受光側的其他基板。另外，亦可為設置於固體攝像元件的受光側的平坦化層等層。平坦化層例如可列舉丙烯酸系樹脂等的透明平坦化層等。
於將膜加以乾燥的步驟中，乾燥條件亦視各成分、溶劑的種類、使用比例等而不同，為60℃~150℃的溫度且30秒鐘~15分鐘左右。
形成圖案的步驟例如可列舉包括以下步驟的方法等：將本發明的近紅外線吸收組成物應用於支撐體上而形成膜狀的組成物層的步驟；對組成物層以圖案狀進行曝光的步驟；以及將未曝光部顯影去除而形成圖案的步驟。關於形成圖案的步驟，可藉由光微影法來形成圖案，亦可藉由乾式蝕刻法來形成圖案。
於近紅外線濾波器的製造方法中，亦可包括其他步驟。其他步驟並無特別限制，可根據目的而適當選擇。例如可列舉：基材的表面處理步驟、前加熱步驟(預烘烤步驟)、硬化處理步驟、後加熱步驟(後烘烤步驟)等。
<<前加熱步驟．後加熱步驟>>
前加熱步驟及後加熱步驟中的加熱溫度通常為80℃~200℃，較佳為90℃~150℃。前加熱步驟及後加熱步驟中的加熱時間通常為30秒~240秒，較佳為60秒~180秒。
<<硬化處理步驟>>
硬化處理步驟為視需要對所形成的所述膜進行硬化處理的步驟，藉由進行該處理，近紅外線吸收濾波器的機械強度提高。
所述硬化處理步驟並無特別限制，可根據目的而適當選擇，例如可較佳地列舉全面曝光處理、全面加熱處理等。此處，本發明中所謂「曝光」是以如下含意使用：不僅包含各種波長的光的照射，亦包含電子束、X射線等放射線的照射。
曝光較佳為藉由照射放射線來進行，曝光時可使用的放射線尤其可較佳地使用電子束、KrF、ArF、g射線、h射線、i射線等紫外線或可見光。
曝光方式可列舉步進式曝光、或利用高壓水銀燈的曝光等。
曝光量較佳為5mJ/cm2~3000mJ/cm2，更佳為10mJ/cm2~2000mJ/cm2，尤佳為50mJ/cm2~1000mJ/cm2。
全面曝光處理的方法例如可列舉對所形成的所述膜的整個面進行曝光的方法。於本發明的組成物含有聚合性化合物的情形時，藉由全面曝光，膜中的聚合成分的硬化受到促進，所述膜的硬化進一步進行，機械強度、耐久性得到改良。
進行所述全面曝光的裝置並無特別限制，可根據目的而適當 選擇，例如可較佳地列舉超高壓水銀燈等紫外線(Ultraviolet，UV)曝光機。
另外，全面加熱處理的方法可列舉對所形成的所述膜的整個面進行加熱的方法。藉由進行全面加熱，可提高圖案的膜強度。
全面加熱的加熱溫度較佳為120℃~250℃，更佳為160℃~220℃。若加熱溫度為120℃以上，則藉由加熱處理而膜強度提高，若為250℃以下，則可抑制膜成分的分解。
全面加熱的加熱時間較佳為3分鐘~180分鐘，更佳為5分鐘~120分鐘。
進行全面加熱的裝置並無特別限制，可自公知的裝置中根據目的而適當選擇，例如可列舉乾燥烘箱、加熱板、紅外線(Infrared，IR)加熱器等。
<近紅外線吸收濾波器的用途>
本發明的近紅外線吸收濾波器可用於：具有吸收．截止近紅外線的功能的透鏡(數位照相機或行動電話或汽車照相機等的照相機用透鏡、f-θ透鏡、拾取透鏡等光學透鏡)及半導體受光元件用的光學濾波器、用於節能的阻斷熱線的近紅外線吸收膜或近紅外線吸收板、以選擇性地利用太陽光為目的之農業用塗劑、利用近紅外線的吸收熱的記錄媒體、電子設備用或照相用近紅外線濾波器、護眼鏡、太陽鏡、熱線阻斷膜、光學文字讀取記錄、機密文件防影印用、電子照相感光體、雷射焊接等。另外，亦作為CCD照相機用雜訊截止濾波器、CMOS影像感測器用濾波器而有用。
本發明的近紅外線吸收濾波器亦可與帶通濾波器組合而使用。帶通濾波器的分光特性可根據光源的波長、近紅外線吸收濾波器的分光特性等而適當選擇。藉由與帶通濾波器組合使用，亦可將廣泛區域的近紅外線遮光。
另外，藉由將本發明的近紅外線吸收濾波器與後述紅外線透射濾波器組合使用，可較佳地用於後述檢測特定波長的近紅外線的紅外線感測器的用途。亦可進一步組合帶通濾波器。例如藉由使用發光波長為950nm者作為光源、使用將可見光(波長400nm~700nm的光)遮光且透射波長900nm以上的光者作為紅外線透射濾波器、且使用將可見光(波長400nm~700nm的光)遮光且透射波長900nm以上的光者作為近紅外線吸收濾波器，可高精度地檢測波長900nm以上且1000nm以下的光。進而，藉由另組合透射可見光(波長400nm~700nm的光)且將波長970nm以上的光(較佳為波長1000nm以上的光)遮光者作為帶通濾波器，可更高精度地檢測波長900nm以上且1000nm以下的光。
帶通濾波器可列舉：具有第一區域(以下有時稱為「高折射區域」)及第二區域(以下有時稱為「低折射區域」)、且高折射區域與低折射區域交替積層而成的積層體。
圖4為表示帶通濾波器的構成的一例的剖面概略圖，且高折射區域(以斜線表示的層)與低折射區域(以白色表示的層)相互交替積層。藉由調整高折射區域及低折射區域的厚度，可調整光的光路差，控制所需波長的透射率。圖4中，高折射區域與 低折射區域的厚度大致相同，但亦可互不相同。高折射區域、低折射區域可分別獨立地僅包含一層高折射層或低折射層，亦可包含兩層以上的高折射層或低折射層。
圖5為表示帶通濾波器的構成的另一例的剖面概略圖，且表示各高折射區域(以白色表示的層)的厚度互不相同的構成。藉由如此般於多個高折射區域中設置厚度不同的區域，可進一步使僅特定波長的光透射。於高折射區域包含兩層以上的高折射層的情形時，構成一個高折射區域的高折射層數的上限例如亦可設定為8層以下、進而6層以下。另外，藉由調整塗佈膜的厚度，亦可調整高折射區域的厚度。圖5中，成為各高折射區域的厚度互不相同的構成，但當然亦可為各低折射區域的厚度互不相同的構成。該情形的低折射區域的詳細情況與所述高折射區域的詳細情況相同。進而，關於高折射區域及低折射區域兩者，亦可設定為互不相同的構成。
本發明中所謂交替積層，是指低折射區域與高折射區域於膜面上輪流積層的構成，但未必一定要為僅低折射區域及高折射區域的積層體。例如亦可於低折射區域與高折射區域之間，具有中折射區域等具有與第一區域及第二區域不同的折射率的第三區域。
帶通濾波器的低折射區域及高折射區域亦可設置於基板上。
基板可為玻璃等透明基板，亦可為固體攝像元件基板，亦可為設置於固體攝像元件基板的受光側的其他基板(例如玻璃基 板、塑膠基板)，亦可為設置於固體攝像元件基板的受光側的平坦化層等層。
高折射區域與低折射區域的折射率之差較佳為0.5以上，更佳為0.55以上，亦可設定為0.6以上，亦可設定為0.65以上。高折射區域與低折射區域的折射率之差的上限值例如可設定為0.8以下，亦可設定為0.75以下。
帶通濾波器的高折射區域與低折射區域亦可藉由蒸鍍而形成，較佳為利用塗佈法來形成。藉由利用塗佈法來形成，可簡便且以低成本來製造帶通濾波器。於利用塗佈法來形成高折射區域及/或低折射區域的情形時，可列舉使用含有樹脂的組成物來形成的方法。以下，對帶通濾波器加以說明。
<<第一區域(高折射區域)>
本發明的帶通濾波器的第一區域較佳為折射率較後述第二區域高0.5以上。高折射區域的折射率較佳為1.5~3.0，更佳為1.7~2.3。
第一區域較佳為含有樹脂的層。含有樹脂的層可為所謂含有高折射樹脂的層，亦可塗佈含有樹脂、粒子及溶劑的組成物(以下有時稱為「高折射組成物」)來形成。用於形成第一區域的樹脂較佳為包含來源於聚合性單體的重複單元的聚合物鏈、或具有包含來源於聚合性單體的重複單元的聚合物鏈作為部分結構的化合物。較佳為塗佈高折射組成物而成的層。
以下，對高折射組成物加以詳細描述。
<<<高折射組成物>>>
<<<樹脂>>>
高折射組成物所含的樹脂可列舉可將後述粒子分散的樹脂。具體可例示以下的實施形態的樹脂。
第一實施形態為含有選自酸基、含鹼性氮原子的基團、脲基、胺基甲酸酯基、含配位性氧原子的基團、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基中的基團的樹脂。
酸基的例子可列舉羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羥基等，較佳為選自羧酸基、磺酸基及磷酸基中的至少一種，尤佳為羧酸基。
酸價較佳為20mgKOH/g~300mgKOH/g，更佳為50mgKOH/g~250mgKOH/g，進而佳為50mgKOH/g~210mgKOH/g。
更佳為通式(1)所表示的樹脂。
通式(1)中，R1表示(m+n)價的連結基，R2表示單鍵或二 價連結基。A1表示具有至少一種選自由酸基、脲基、胺基甲酸酯基、含配位性氧原子的基團、含鹼性氮原子的基團、酚基、烷基、芳基、含伸烷氧基鏈的基團、醯亞胺基、雜環基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基所組成的組群中的基團的一價取代基。n個A1及R2可分別相同，亦可不同。m表示8以下的正數，n表示1~9，m+n滿足3~10。P1表示聚合物鏈。m個P1可相同亦可不同。
關於通式(1)所表示的樹脂的詳細情況，可參照日本專利特開2014-177613號公報的段落編號0022~段落編號0076、日本專利特開2014-62221號公報的段落編號0020~段落編號0074的記載，將其內容併入至本說明書中。
第二實施形態為含有接枝共聚物的樹脂。
接枝共聚物較佳為每1條接枝鏈的除了氫原子以外的原子數為40~10000，更佳為100~500，進而佳為150~260。
接枝鏈的聚合物結構可使用：聚(甲基)丙烯酸結構、聚酯結構、聚胺基甲酸酯結構、聚脲結構、聚醯胺結構、聚醚結構等。
含有接枝共聚物的樹脂例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0080~段落0126的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。
第三實施形態為於主鏈及側鏈的至少一者中含有氮原子的寡聚亞胺系樹脂。寡聚亞胺系樹脂較佳為具有含有部分結構X的重複單元、及包含原子數40~10,000的側鏈Y的側鏈，且於主 鏈及側鏈的至少一者中含有鹼性氮原子的樹脂，所述部分結構X具有pKa為14以下的官能基。
寡聚亞胺系樹脂例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0225~段落0267的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。
第四實施形態為矽氧烷樹脂，該矽氧烷樹脂是藉由將包含通式(2)~通式(4)的任一個所表示的矽烷化合物的矽烷化合物水解，並使其水解物進行縮合反應而獲得。
R0 2-nR1 nSi(OR9)2 通式(2)
通式(2)中，R0表示氫、烷基、烯基、苯基。R1表示一價的縮合多環式芳香族基。R9表示氫、甲基、乙基、丙基或丁基，可相同亦可不同。n為1或2。於n為2的情形時，多個R1可相同亦可不同。
R2Si(OR10)3 通式(3)
通式(3)中，R2表示一價的縮合多環式芳香族基。R10表示氫、甲基、乙基、丙基或丁基，可相同亦可不同。
(R11O)mR4 3-mSi-R3-Si(OR12)lR5 3-1 通式(4)
通式(4)中，R3表示二價的縮合多環式芳香族基。R4及R5表示氫、烷基、烯基、芳基，可分別相同亦可不同。R11及R12表示氫、甲基、乙基、丙基或丁基，可分別相同亦可不同。m及l分別獨立地為1~3的整數。
所述矽氧烷樹脂例如可參照日本專利特開2010-007057號公報的段落0017~段落0044的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。
高折射組成物亦較佳為含有環氧樹脂。環氧樹脂例如可列舉：EX211L(長瀨化成(Nagase Chemtex)(股)製造)、JER157S65(三菱化學(股)製造)等。
樹脂的分子量以重量平均分子量計而較佳為2,000~200,000，更佳為2,000~15,000，進而佳為2,500~10,000。
高折射組成物中的樹脂的量較佳為0.5質量%以上，更佳為1質量%以上，進而佳為2質量%以上。另外，上限較佳為30質量%以下，更佳為20質量%以下，進而佳為15質量%以下。
另外，高折射組成物中的樹脂的固體成分濃度較佳為5質量%以上，更佳為8質量%以上，進而佳為10質量%以上。另外，上限較佳為40質量%以下，更佳為35質量%以下，進而佳為30質量%以下。
樹脂可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。
<<<粒子>>>
高折射組成物所含的粒子較佳為包含金屬氧化物粒子。
金屬氧化物粒子較佳為折射率高而為無色、白色或透明的無機粒子，可列舉鈦(Ti)、鋯(Zr)、鋁(Al)、矽(Si)、鋅(Zn)或鎂(Mg)的氧化物粒子，較佳為二氧化鈦(TiO2)粒子、二氧化鋯(ZrO2)粒子，更佳為二氧化鈦粒子。
金屬氧化物粒子較佳為一次粒徑的下限為1nm以上，上限較佳為100nm以下，更佳為80nm以下，進而佳為50nm以下。亦可使用平均粒徑作為一次粒徑的指標。金屬氧化物粒子的平均粒徑是指藉由以下方式所得的值：利用丙二醇單甲醚乙酸酯將含有金屬氧化物粒子的混合液或分散液稀釋至80倍，使用動態光散射法對所得的稀釋液進行測定。該測定中，將所述平均粒徑設定為使用日機裝股份有限公司製造的麥克奇(Microtrac)UPA-EX150進行測定所得的數量平均粒徑。
金屬氧化物粒子例如可參照日本專利特開2014-062221號公報的段落0023~段落0027的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。
高折射組成物中的粒子的量較佳為10質量%以上，更佳為15質量%以上，進而佳為20質量%以上。上限並無特別限制，較佳為40質量%以下，更佳為30質量%以下。
另外，高折射組成物中的粒子的固體成分濃度較佳為60質量%以上，更佳為70質量%以上。上限並無特別限制，較佳為99質 量%以下，更佳為95質量%以下，進而佳為90質量%以下。
粒子可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。
<<<溶劑>>>
高折射組成物所含的溶劑可列舉上文所述的近紅外線吸收組成物中說明的溶劑。較佳為3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚、二丙二醇二甲醚、丙二醇單正丁醚、丙二醇單第三丁醚及丙二醇甲醚乙酸酯。
其他高折射組成物所含的溶劑例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0065~段落0067的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。
於組成物的總量中，高折射組成物中的溶劑的量較佳為50質量%以上，更佳為60質量%以上。另外，於組成物的總量中，上限較佳為99.9質量%以下，更佳為95質量%以下，進而佳為90質量%以下。
溶劑可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，合計量成為所述範圍。
<<<界面活性劑>>>
就進一步提高塗佈性的觀點而言，高折射組成物亦可含有界面活性劑。界面活性劑可列舉上文所述的近紅外線吸收組成物中 說明的界面活性劑。其中，較佳為氟系界面活性劑。於使用應用含有氟系界面活性劑的組成物的塗佈液來進行膜形成的情形時，被塗佈面與塗佈液的界面張力減小，對被塗佈面的濡濕性得到改善，對被塗佈面的塗佈性提高。因此，可更佳地進行厚度不均小的均勻厚度的膜形成。
界面活性劑可僅使用一種，亦可將兩種以上組合。
相對於組成物的總質量，界面活性劑的含量較佳為0.001質量%~2.0質量%，更佳為0.005質量%~1.0質量%。
<<聚合抑制劑>>
高折射組成物亦可含有聚合抑制劑。聚合抑制劑可列舉上文所述的近紅外線吸收組成物中說明的聚合抑制劑。相對於組成物的總質量，聚合抑制劑的含量較佳為0.001質量%~5質量%。
<<<其他添加劑>>>
高折射組成物亦可含有其他添加劑。具體可列舉：硬化劑、硬化性化合物、光聚合起始劑、所述樹脂以外的樹脂(例如鹼可溶性樹脂、黏合劑)、塑化劑、感脂劑、紫外線吸收劑等。其他添加劑例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0133~段落0224的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。
另外，硬化性化合物、光聚合起始劑、鹼可溶性樹脂可使用上文所述的近紅外線吸收組成物中說明者。
<<高折射組成物的具體例>>
高折射組成物的具體例可例示：日本專利特開2014-062221 號公報的申請專利範圍第1項所記載的分散組成物、日本專利特開2010-007057號公報的申請專利範圍第1項所記載的矽氧烷系樹脂組成物，將該些內容併入至本申請案說明書中。另外，該些組成物的較佳範圍可列舉作為本發明的高折射組成物的較佳範圍的例子。
<<膜厚>>
高折射區域的膜厚是以達成所需的光的光路差的方式而適當設定，例如為80nm以上，亦可設定為100nm以上，亦可設定為120nm以上。上限例如為600nm以下，亦可設定為500nm以下，亦可設定為300nm以下。
<第二區域(低折射層)>
本發明的第二區域較佳為折射率較第一區域低0.5以上的區域。低折射區域的折射率更佳為1.0~1.5，進而佳為1.1~1.5。
第二區域較佳為含有樹脂的層。含有樹脂的層可為所謂低折射樹脂、即包含折射率低於所述高折射樹脂的樹脂的層，亦可塗佈含有樹脂、粒子及溶劑的組成物(以下有時稱為「低折射組成物」)而形成。用於形成第二區域的樹脂較佳為包含來源於聚合性單體的重複單元的聚合物鏈，或具有包含來源於聚合性單體的重複單元的聚合物鏈作為部分結構的化合物。較佳為塗佈低折射組成物而成的層。
以下，對低折射組成物加以詳細描述。
<<低折射組成物>>
<<<樹脂>>>
低折射區域中所用的樹脂可例示包含矽氧烷樹脂及氟系樹脂的至少一種的樹脂。
<<<<矽氧烷樹脂>>>>
矽氧烷樹脂可使用烷氧基矽烷原料經由水解反應及縮合反應而獲得。具體而言，矽氧烷樹脂是烷基三烷氧基矽烷的一部分或全部的烷氧基水解而轉變成矽烷醇基，所生成的矽烷醇基的至少一部分縮合形成Si-O-Si鍵而成。矽氧烷樹脂較佳為具有下述通式(5)所表示的倍半矽氧烷結構。
-(R1SiO3/2)n- 通式(5)
通式(5)中，R1表示碳數1~3的烷基。n表示20~1000的整數。
<<<<氟系樹脂>>>>
氟系樹脂為於物質分子中含有氟的樹脂，具體可列舉：聚四氟乙烯、聚六氟丙烯、四氟乙烯/六氟丙烯共聚物、四氟乙烯/全氟烷基乙烯醚共聚物、四氟乙烯/乙烯共聚物、六氟丙烯/丙烯共聚物、聚偏二氟乙烯、偏二氟乙烯/乙烯共聚物等。
關於所述矽氧烷樹脂及氟系樹脂的詳細情況，例如可參照日本專利特開2014-063125號公報的段落0014~段落0060的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。
除此以外，本發明中，低折射組成物所含的樹脂可參照日本專利特開2013-253145號公報的段落編號0016~段落編號0024中記載的既定的矽化合物的水解物、日本專利特開2012-0214772號公報的段落編號0030~段落編號0043中記載的化合物，將該些內容併入至本申請案說明書中。
低折射組成物中的樹脂的含量較佳為0.5質量%以上，更佳為1質量%以上，進而佳為2質量%以上。另外，上限較佳為30質量%以下，更佳為20質量%以下，進而佳為15質量%以下。
另外，低折射組成物中的樹脂的固體成分濃度較佳為5質量%以上，更佳為8質量%以上，進而佳為10質量%以上。另外，上限較佳為40質量%以下，更佳為35質量%以下，進而佳為30質量%以下。
樹脂可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。
<<<粒子>>>
低折射區域中所用的粒子可列舉中空粒子或非中空粒子。中空粒子亦可使用中空結構或多孔質的微粒子。中空粒子為於內部具有空洞的結構，是指具有由外廓所包圍的空洞的粒子，多孔質粒子是指具有多個空洞的多孔質的粒子。以下，將中空粒子或多孔質粒子適當稱為「特定粒子」。特定粒子可為有機粒子，亦可為無機粒子。較佳為金屬氧化物粒子，更佳為二氧化矽粒子。
低折射區域中所用的粒子例如可參照日本專利特開 2014-063125號公報的段落0047~段落0055的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。
低折射組成物中的粒子的含量較佳為10質量%以上，更佳為15質量%以上，進而佳為20質量%以上。上限並無特別限制，較佳為40質量%以下，更佳為30質量%以下。
另外，低折射組成物中的粒子的固體成分濃度較佳為60質量%以上，更佳為70質量%以上。上限並無特別限制，較佳為99質量%以下，更佳為95質量%以下，進而佳為90質量%以下。
粒子可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。
<<<溶媒>>>
低折射組成物所含的溶劑與所述高折射組成物所含的溶劑相同，較佳範圍或調配量亦相同。
<<<其他添加劑>>>
本發明中所用的低折射組成物亦可含有其他添加劑。其他添加劑與所述高折射組成物中所述者相同，調配量等亦相同。
<<低折射組成物的具體例>>
低折射組成物的具體例可例示：日本專利特開2014-063125號公報的申請專利範圍第11項所記載的低折射膜形成用硬化性組成物、日本專利特開2013-253145號公報的申請專利範圍第1項、段落編號0016~段落編號0028中記載的組成物，將該些內容併入至本申請案說明書中。
<<膜厚>>
低折射區域的膜厚是以達成所需的光的光路差的方式而適當設定，例如為80nm以上，亦可設定為100nm以上，亦可設定為120nm以上。上限例如為600nm以下，亦可設定為500nm以下，亦可設定為300nm以下。
<帶通濾波器的製造方法>
可分別塗佈所述高折射組成物及所述低折射組成物，形成高折射區域及低折射區域而製造帶通濾波器。
關於塗佈高折射組成物而形成高折射區域的步驟，於高折射區域包含一層高折射層的情形時，塗佈次數通常為1次，但亦可同時或依序塗佈高折射層而形成兩層以上的高折射層。本發明中的塗佈方法並無特別限定，可應用適當的公知的塗佈方法。例如可應用噴霧法、輥塗法、旋轉塗佈法(旋塗法)、棒塗法等。例如旋塗塗佈的情況下，可將每一層高折射層設定為30秒鐘~3分鐘的塗佈時間，進而可設定為30秒鐘~2分鐘的塗佈時間。
關於塗佈量，較佳為以硬化後的膜厚成為所需條件的方式塗佈。
視需要，較佳為對所塗佈的塗膜實施加熱處理等，將塗膜中所含的溶媒去除。具體而言，較佳為於塗佈後進行後烘烤，使溶媒的一部分或全部揮發。關於後烘烤，對於高折射區域，較佳為於100℃~300℃下進行30秒鐘~8分鐘後烘烤，更佳為於150℃~250℃下進行1分鐘~5分鐘後烘烤。
高折射組成物為了去除異物或減少缺陷等，較佳為於塗佈前利用過濾器進行過濾。只要為一直以來用於過濾用途等的過濾器，則可無特別限定地使用。
形成高折射區域後，於其表面上藉由塗佈低折射組成物而形成低折射區域。關於低折射區域，除了於所述高折射區域的形成中將高折射組成物變更為低折射組成物以外，其餘相同，較佳範圍亦相同。其中，關於低折射區域的後烘烤，較佳為於80℃~240℃下進行30秒鐘~8分鐘後烘烤，更佳為於80℃~120℃下進行1分鐘~5分鐘後烘烤。
進而，藉由將高折射區域及低折射區域交替積層，可獲得積層體(帶通濾波器)。
<紅外線感測器>
本發明的紅外線感測器具有紅外線透射濾波器及近紅外線吸收濾波器，藉由檢測波長900nm以上且1000nm以下的光來檢測物體，近紅外線吸收濾波器含有在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質。
根據本發明的紅外線感測器，近紅外線吸收濾波器含有在波長900nm以上且1000nm具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質，故可利用近紅外線吸收濾波器將來源於可見光的光高效地遮光，可製成感測器感度良好，偵測性及畫質優異的紅外線感測器。
以下，使用圖1對本發明的紅外線感測器的一實施形態加以 說明。
圖1所示的紅外線感測器100中，圖中編號110為固體攝像元件。
設於固體攝像元件110上的攝像區域含有近紅外線吸收濾波器111及彩色濾光片112。
於紅外線透射濾波器113與固體攝像元件110之間設有區域114。區域114中，配置有透射紅外線透射濾波器113的波長的光可透射的樹脂層(例如透明樹脂層等)。於圖1所示的實施形態中，於區域114中配置有樹脂層，亦可於區域114中形成紅外線透射濾波器113。即，亦可於固體攝像元件110上形成紅外線透射濾波器113。
於彩色濾光片112及紅外線透射濾波器113的入射光hν側，配置有微透鏡115。以覆蓋微透鏡115的方式而形成有平坦化層116。
另外，於圖1所示的實施形態中，彩色濾光片112的膜厚與紅外線透射濾波器113的膜厚相同，但兩者的膜厚亦可不同。
另外，於圖1所示的實施形態中，將彩色濾光片112設置於較近紅外線吸收濾波器111更靠入射光hν側，但亦可替換近紅外線吸收濾波器111與彩色濾光片112的順序，將近紅外線吸收濾波器111設置於較彩色濾光片112更靠入射光hν側。
另外，於圖1所示的實施形態中，近紅外線吸收濾波器111與彩色濾光片112鄰接而積層，但兩濾波器未必一定要鄰接而設 置，亦可於其間設有其他層。
另外，於圖1所示的實施形態中，將近紅外線吸收濾波器111與彩色濾光片112設置成不同構件，但亦可使彩色濾光片112中含有近紅外線吸收物質，而使彩色濾光片112具有作為近紅外線吸收濾波器的功能。於該情形時，可省略近紅外線吸收濾波器111。
本發明的紅外線感測器於內部具備近紅外線吸收濾波器，故無需作為照相機模組的構件的近紅外線吸收濾波器，可減少照相機模組的零件個數，從而可實現照相機模組的小型化。
<<近紅外線吸收濾波器111>>
近紅外線吸收濾波器111含有在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質。近紅外線吸收物質的最大吸收波長較佳為與後述用作光源的紅外發光二極體(LED)的發光波長大致相同，較佳為兩者之差為20nm以內，更佳為10nm以內。所述近紅外線吸收物質較佳為吡咯并吡咯化合物，更佳為喹噁啉型吡咯并吡咯化合物，尤佳為所述通式(1)所表示的化合物。
近紅外線吸收濾波器111較佳為使上文所述的本發明的近紅外線吸收組成物硬化而成。近紅外線吸收濾波器111較佳為具有與上文所述的近紅外線吸收濾波器相同的光透射性。近紅外線吸收濾波器111可利用與上文所述的近紅外線吸收濾波器相同的方法製作。
<<彩色濾光片112>>
彩色濾光片112並無特別限定，可使用現有公知的畫素形成用的彩色濾光片，例如可參照日本專利特開2014-043556號公報的段落0214~段落0263的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。
<紅外線透射濾波器113>
紅外線透射濾波器113是根據用作光源的紅外LED的發光波長來選擇其特性。例如以紅外LED的發光波長為950nm為前提，進行以下說明。
紅外線透射濾波器113較佳為膜的厚度方向上的光的透射率的波長400nm~830nm的範圍的最大值為20%以下，更佳為10%以下，尤佳為5%以下。該透射率較佳為在波長400nm~830nm的整個範圍內滿足所述條件。
另外，膜的厚度方向上的光的透射率的波長1000nm~1300nm的範圍的最小值較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上。該透射率較佳為在波長1000nm~1300nm的一部分範圍內滿足所述條件，較佳為於與紅外LED的發光波長相對應的波長下滿足所述條件。
膜厚較佳為0.1μm~20μm。下限較佳為0.5μm以上。上限較佳為10μm以下。
膜的分光特性為使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的U-4100)的分光光度計(ref.玻璃基板)在波長300nm~1300nm的範圍內測定透射 率所得的值。
具有此種分光特性的紅外線透射濾波器例如可使用著色組成物而形成，所述著色組成物含有在波長800nm~900nm的範圍內具有最大吸收波長的化合物、及在波長400nm~700nm的範圍內具有最大吸收波長的化合物。
在波長800nm~900nm的範圍內具有最大吸收波長的化合物例如可使用上文所述的近紅外線吸收組成物中說明的紅外線吸收物質。其中，較佳為吡咯并吡咯色素化合物。藉由使用吡咯并吡咯色素化合物，容易將紅外線透射濾波器的分光特性調整至上文所述的範圍內。另外，可形成耐熱性優異的紅外線透射濾波器。
吡咯并吡咯色素化合物可列舉以下的化合物。
[化22]
在波長400nm~700nm的範圍內具有最大吸收波長的化合物(以下稱為「著色劑」)可為顏料，亦可為染料。例如亦可使用日本專利特開2013-064998號公報的段落編號0019~段落編號0028中記載的著色劑，將其內容併入至本說明書中。
著色劑的較佳態樣較佳為含有選自紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑中的兩種以上的著色劑，更佳為含有紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑。較佳的具體例較佳為含有作為紅色顏料的顏色索引(Color Index，C.I.)顏料紅(Pigment Red)254、作為黃色顏料的C.I.顏料黃(Pigment Yellow)139、作為藍色顏料的C.I.顏料藍(Pigment Blue)15：6、及作為紫色顏料的C.I.顏料紫(Pigment Violet)23。於著色劑是將紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑組合而成的情形時，較佳為紅色著色劑相對於著色劑總量之質量比為0.1~0.4，黃色著色劑相對於著色劑總量之質量比為0.1~0.4，藍色著色劑相對於著色劑總量之質量比為0.20~0.60，紫色著色劑相對於著色劑總量之質量比為0.01~0.30。更佳為紅色著色劑相對於著色劑總量之質量比為0.1~0.3，黃色著色劑相對於著色劑總量之質量比為0.3~0.5，藍色著色劑相對於著色劑總量之質量比為0.3~0.5，紫色著色劑相對於著色劑總量之質量比為0.05~0.25。
著色劑中，相對於著色劑的總量，顏料的含量較佳為95質量%以上，更佳為97質量%以上，進而佳為99質量%以上。
著色組成物中，相對於著色劑100質量份，紅外線吸收物質較佳為含有10質量份~200質量份，更佳為50質量份~150質量份。另外，紅外線吸收物質的含量較佳為著色組成物的總固體成分的0質量%~60質量%，更佳為10質量%~40質量%。另外，著色劑的含量較佳為著色組成物的總固體成分的10質量%~60質量%，更佳為30質量%~50質量%。相對於著色組成物的總固體成分，紅外線吸收物質與著色劑的合計量較佳為1質量%~80質量%，更佳為20質量%~70質量%，進而佳為30質量%~70質量%。
再者，所謂「在波長800nm~900nm的範圍內具有最大吸收 波長」，是指於吸收光譜中，在波長800nm~900nm的範圍內具有顯示出最大吸光度的波長。例如較佳為在波長350nm~1300nm的範圍的吸收光譜中，在波長800nm~900nm的範圍內具有顯示出最大吸光度的波長。
另外，所謂「在波長400nm~700nm的範圍內具有最大吸收波長」，是指於吸收光譜中，在波長400nm~700nm的範圍內具有顯示出最大吸光度的波長。例如較佳為在波長350nm~1300nm的範圍的吸收光譜中，在波長400nm~700nm的範圍內具有顯示出最大吸光度的波長。
用以形成紅外線透射濾波器113的著色組成物除了所述紅外線吸收物質及著色劑以外，亦可含有硬化性化合物、溶劑等。
使用圖2對本發明的紅外線感測器的其他實施形態加以說明。於該實施形態中，於更具有帶通濾波器120的方面與圖1所示的紅外線感測器100不同。
近紅外線吸收濾波器111、彩色濾光片112及紅外線透射濾波器113可使用與圖1中說明者相同者。
帶通濾波器120可較佳地使用透射可見光(波長400nm~700nm的光)、且將波長970nm以上的光(較佳為波長1000nm以上的光)遮光者。根據圖2所示的紅外線感測器100a，能以更佳的精度來檢測波長900nm以上且1000nm以下的光。
繼而，作為應用本發明的紅外線感測器的例子，對攝像裝置加以說明。攝像裝置可列舉照相機模組。
圖3為攝像裝置的功能區塊圖。攝像裝置具有透鏡光學系統1、固體攝像元件10、信號處理部20、信號切換部30、控制部40、信號蓄積部50、發光控制部60、發出紅外光的發光元件的紅外LED70、圖像輸出部80及圖像輸出部81。再者，固體攝像元件10可使用上文所述的紅外線感測器100。另外，關於固體攝像元件10及透鏡光學系統1以外的構成，亦可使其全部或其一部分形成於同一半導體基板上。關於攝像裝置的各構成，可參照日本專利特開2011-233983號公報的段落0032~段落0036，將其內容併入至本申請案說明書中。
關於紅外線感測器，存在運動感測器(motion sensor)、接近感測器、手勢感測器(gesture sensor)等。
<化合物>
繼而，對本發明的化合物加以說明。
本發明的化合物為本發明的近紅外線吸收組成物中說明的通式(1)所表示的化合物。
本發明的化合物較佳為在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長，更佳為在波長905nm以上且995nm以下具有最大吸收波長，尤佳為在波長910nm以上且990nm以下具有最大吸收波長。
化合物的最大吸收波長可使用公知的方法，例如較佳為利用分光光度計UV-1800PC[島津製作所(股)製造]使用氯仿溶媒進行測定。
本發明的化合物於長波長側具有最大吸收波長，具有優異的耐光性、耐熱性。
本發明的化合物可較佳地用於形成將波長900nm以上且1000nm以下的光遮光的近紅外線吸收濾波器等。另外，亦可用於油墨、隔熱用途、安全用途、太陽電池用途、元件用途等。
<感光性樹脂組成物>
繼而，對本發明的感光性樹脂組成物加以說明。
本發明的感光性樹脂組成物含有所述通式(1)所表示的化合物。通式(1)所表示的化合物與所述通式(1)所表示的化合物為相同含意，較佳範圍亦相同。
另外，本發明的感光性樹脂組成物亦可含有上文所述的近紅外線吸收性組成物中說明的通式(1)所表示的化合物以外的其他成分。
[實施例]
以下列舉實施例對本發明加以更具體說明。以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不偏離本發明的主旨，則可適當變更。因此，本發明的範圍不限定於以下所示的具體例。再者，只要無特別說明，則「%」及「份」為質量基準。
另外，以下將丙二醇單甲醚乙酸酯記作PGMEA。
另外，以下的化學式中，Me表示甲基，Ph表示苯基。
(合成例1)化合物1及化合物2的合成
參考「歐洲化學期刊(Chem.Eur.J.)」(2009，15，4857)依據下述合成流程進行合成。
將5.0g的4,5-二氯-1,2-苯二胺(28毫莫耳當量)、2.9g乙醛酸一水合物(31毫莫耳當量)及乙醇(120ml)放入至燒瓶中，於加熱回流條件下攪拌12小時。反應後，濾取析出物。對該結晶於50℃下進行送風乾燥，獲得5.5g中間體A。
將5.0g中間體A(23毫莫耳當量)及30ml氧氯化磷放入至燒瓶中，於加熱回流條件下攪拌2小時。反應後，將反應液注入至300ml的水中，濾取析出物。對該結晶進行送風乾燥，由此獲得5.0g中間體B。
將1.3g氫化鈉60%溶液(30毫莫耳當量)及10mL四氫呋喃放入至燒瓶中，於冰浴下滴加4.0g氰基乙酸第三丁酯(30毫莫耳當量)。於室溫下攪拌1小時後，添加5.0g中間體B(22毫莫耳當量)，攪拌12小時。將反應液注入至75ml的水中，添加3ml乙酸，濾取析出物。對其結晶於50℃下進行送風乾燥，由此獲得 4.6g中間體C。
將4.0g中間體C(12毫莫耳當量)、12ml三氟乙酸及24ml二氯甲烷放入至燒瓶中，於60℃下攪拌1小時。反應後，添加碳酸鈉水溶液，利用氯仿萃取有機層。將溶媒減壓去除，利用乙酸乙酯藉由再結晶將所得的結晶純化。對該結晶於50℃下進行送風乾燥，由此獲得2.0g中間體3-0。
將47g化合物a(120毫莫耳當量)、14g琥珀酸二異丙酯(67毫莫耳當量)、65ml第三戊醇、25g第三丁氧化鉀(220毫莫耳當量)放入至燒瓶中，於120℃下攪拌3小時。反應後，添加甲醇100ml，濾取析出物。對該結晶於50℃下進行送風乾燥，由此獲得5.5g化合物b。
將160mg化合物b(0.18毫莫耳當量)、110mg的2-(6,7-二氯喹噁啉-2-基)乙腈(0.43莫耳當量)於7mL甲苯中攪拌，繼而添加170mg氧氯化磷(8莫耳當量)並於100℃下攪拌2小時。冷卻至室溫為止，添加30ml甲醇，進而攪拌30分鐘。濾取所析 出的結晶，獲得150mg化合物2。
質量(Mass)：1319.7([M+1],100%)
λmax：758nm(CHCl3)
1H-NMR(CDCl3)：δ 0.9-1.6(m,78H),4.0(d,4H),7.3(d,4H),7.7(d,4H),7.9(s,2H),8.1(s,2H),9.1(s,2H),13.7(s,2H)
於含有530mg二苯基硼烷酸(borinic acid)2-胺基甲基酯(1.7毫莫耳當量)的6ml甲苯中，添加530mg氯化鈦(2.8毫莫耳當量)，於35℃下攪拌30分鐘。繼而，添加含有150mg化合物2的甲苯混合液(0.1mM)，進而於加熱回流條件下攪拌2小時。冷卻至室溫為止，添加甲醇30ml，進而攪拌30分鐘。濾取所析出的結晶，利用二氧化矽管柱層析儀(己烷/乙酸乙酯溶媒)進行純化，以38%的產率而獲得110mg化合物1(二步驟)。
Mass：1650.8([M+1],100%)
λmax：885nm(CHCl3)
ε：2.6×105 dm3/mol．cm
1H-NMR(CDCl3)：δ 0.9-1.6(m,78H),3.9(d,4H),6.2(d,4H),6.6(d,4H),7.2(m,5H),7.3(m,5H),7.8(s,2H),8.2(s,2H),9.0(s,2H)
(合成例2)化合物3的合成
於合成例1中，使用下述中間體3-1代替中間體3-0，除此以外，利用與合成例1相同的方法來合成化合物3。
(合成例3)化合物4的合成
於合成例1中，使用「四面體(Tetrahedron)」(2005，vol.61，#46，p.11010-11019)中記載的中間體4-1代替中間體3-0，除此以外，利用與合成例1相同的方法來合成化合物4。
[化27]
(合成例4)化合物15的合成
於合成例1中，將4,5-二氯-1,2-二胺變更為4,5-二-十八烷基苯-1,2-二胺(「有機化學期刊(Journal of Organic Chemistry)」(2001，vol.66，#2p.481-487)中記載的化合物)，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物15。
(合成例5)化合物16的合成
於合成例1中，將4,5-二氯-1,2-二胺變更為4,5-雙(十八烷氧基)苯-1,2-二胺(「有機化學期刊(Journal of Organic Chemistry)」(2008，vol.73，#7p.2548-2553)中記載的化合物)，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物16。
(合成例6)化合物17的合成
於合成例1中，將4,5-二氯-1,2-二胺變更為4-苯基苯-1,2-二胺(「有機化學期刊(Journal of Organic Chemistry)」(1995，vol.38，#18p.3638-3644)中記載的化合物)，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物17。
[化30]
(合成例7)化合物18的合成
於合成例1中，將4,5-二氯-1,2-二胺變更為4-(萘-2-基)苯-1,2-二胺(「有機化學期刊(Journal of Organic Chemistry)」(1997，vol.40，#18p.2818-2824)中記載的化合物)，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物18。
[化31]
(合成例8)化合物19的合成
於合成例1中，將化合物a變更為2-萘甲腈，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物19。
(合成例9)化合物20的合成
於合成例1中，將化合物a變更為2-氰基吡啶，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物20。
(合成例10)化合物21的合成
於合成例1中，將化合物a變更為2-苯并噻唑甲腈，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物21。
(合成例11)化合物22的合成
於合成例1中，將二苯基硼烷酸(borinic acid)2-胺基甲基酯及氯化鈦變更為氯二辛硼烷(「四面體通訊(Tetrahedron Letters)」(1970，p.1687-1688)中記載的化合物)，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物22。
(合成例12)化合物23的合成
於合成例1中，將二苯基硼烷酸(borinic acid)2-胺基甲基酯及氯化鈦變更為氯二(萘-1-基)硼烷(「前蘇聯科學院公報化學科技分會(Bull.Acad.Sci.USSR Div.Chem.Sci.)」(1956，p.359)中記載的化合物)，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物23。
[化36]
(合成例13)化合物24的合成
於合成例1中，將二苯基硼烷酸(borinic acid)2-胺基甲基酯及氯化鈦變更為氯雙(5-甲基噻吩-2-基)硼烷(WO2012/25760 A1中記載的化合物)，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物24。
(合成例14)化合物5的合成
於合成例1中，將二苯基硼烷酸(borinic acid)2-胺基甲基酯及氯化鈦變更為0.42mL三氟化硼二乙醚錯合物(3.4毫莫耳當量)、130mg二異丙基甲基胺(1.1毫莫耳當量)，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，獲得化合物5。
(合成例15)化合物36的合成
於合成例1中，將化合物a變更為中間體36-1，除此以外，與合成例1同樣地進行操作，合成化合物36。
[化39]
(合成例16)化合物37的合成
添加2質量份的化合物36、1.8質量份的硫代乙醇酸及20質量份的甲苯，於氮氣環境下升溫至82℃。繼而，於反應液中添加0.5質量份的二甲基2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)，加熱攪拌1.5小時。進而，於反應液中每隔1.5小時分2次各添加0.5質量份的二甲基2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)，加熱攪拌。反應結束後，回到室溫，添加甲醇，將析出的固體過濾，由此獲得1.8質量份的化合物 37。
再者，化合物37中，R1及R2中一個為氫原子，另一個表示取代基R，R3及R4中一個為氫原子，另一個表示取代基R。
(合成例17)化合物39的合成
添加1質量份的化合物37、0.3質量份的二甲基胺基吡啶、0.35質量份的1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二醯亞胺鹽酸鹽、20質量份的二氯甲烷，於室溫下攪拌。於該混合液中添加0.5質量份的甲基丙烯酸2-羥基乙酯，於室溫下進一步攪拌3小時。反應結束後，以1mol/l鹽酸進行分液純化後，於有機層中添加甲醇，將析出的固體過濾，由此獲得0.55質量份的化合物39。
再者，於化合物39中，R1及R2中一個為氫原子，另一個表示取代基R，R3及R4中一個為氫原子，另一個表示取代基R。
<實施例1>
將作為鹼可溶性樹脂的1.98質量份的以下所示的黏合劑A及1.69質量份的所述化合物1、作為聚合性化合物的0.19質量份的A-DPH-12E(新中村化學工業(股)公司製造)、作為光聚合起始劑的0.09質量份的豔佳固(IRGACURE)-OXE 01(1.2-辛二酮，1-[4-(苯硫基)-，2-(O-苯甲醯基肟)]，巴斯夫(BASF)公司製造)、作為聚合抑制劑的0.01質量份的對甲氧基苯酚、作為氟系界面活性劑的0.76質量份的美佳法(Megafac)F-781(迪愛生(DIC)(股)公司製造，含氟聚合物型界面活性劑)的1.0質量%PGMEA溶液、及作為溶劑的4.53質量份的PGMEA混合，加以攪拌後，利用孔徑0.5μm的尼龍製過濾器(日本頗爾(Pall)(股)公司製造)進行過濾，製備感光性樹脂組成物。
黏合劑A：下述化合物(Mw：14000，酸價30mgKOH/g)
<實施例2、實施例3>
使用所述化合物3、化合物4代替化合物1，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，製備感光性樹脂組成物。
<比較例1>
使用下述化合物A(日本專利特開2010-222557號公報中記載 的化合物D-158)來代替化合物1，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，製備感光性樹脂組成物。
<比較例2>
使用下述化合物B代替化合物1，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，製備感光性樹脂組成物。
<比較例3>
使用下述化合物C(日本專利特開2010-222557號公報中記載的化合物D-141)代替化合物1，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，製備感光性樹脂組成物。
<比較例4>
使用下述化合物D(日本專利特開2010-222557號公報中記載的化合物D-5)代替化合物1，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，製備感光性樹脂組成物。
[化46]
使用旋塗機(三笠(Mikasa)(股)公司製造)將所述製備的感光性樹脂組成物塗佈於玻璃基板上，形成塗膜。再者，塗膜的厚度是以著色膜的厚度(平均厚度)成為0.8μm的方式而調整。繼而，對塗膜使用100℃的加熱板進行120秒鐘加熱處理。
繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，以1000mJ/cm2進行365nm的波長光的曝光而製備近紅外線吸收濾波器。
<耐光性>
利用氙氣燈以5萬lux對所得的近紅外線吸收濾波器照射20小時(相當於100萬lux．h)後，測定耐光測試前後的色差的△Eab值。△Eab值小的情況下表示耐光性良好。
再者，△Eab值為根據國際照明委員會(International Commission on Illumination，CIE)1976(L*,a*,b*)空間表色系統的以下的色差公式所求出的值(日本色彩學會編，新編色彩科學手冊(1985年)p.266)。
△Eab={(△L*)2+(△a*)2+(△b*)2}1/2
<<判定基準>>
5：△Eab值<3
4：3≦△Eab值<5
3：5≦△Eab值<10
2：10≦△Eab值<20
1：20≦△Eab值
<耐熱性>
藉由加熱板將近紅外線吸收濾波器於260℃下加熱30分鐘後，利用色度計MCPD-1000(大塚電子製造)來測定耐熱測試前後的色差的△Eab值，依照下述基準進行評價。△Eab值小的情況下表示耐熱性良好。
<<判定基準>>
5：△Eab值<3
4：3≦△Eab值<5
3：5≦△Eab值<10
2：10≦△Eab值<20
1：20≦△Eab值
<最大吸收波長的測定>
使用分光光度計UV-1800PC[島津製作所(股)製造]來測定所得的近紅外線吸收濾波器(膜)的最大吸收波長。
如由所述結果所表明，使用含有式(1)所表示的化合物的感光性樹脂組成物的實施例1~實施例3的近紅外線吸收濾波器的耐光性及耐熱性優異。另外，實施例1~實施例3的近紅外線吸收濾波器在波長900nm~1000nm下具有最大吸收波長。
另一方面，使用與式(1)所表示的化合物不同的化合物的比較例1~比較例4的近紅外線吸收濾波器與實施例1~實施例3相比，耐光性及耐熱性更差。進而，於較實施例1~實施例3更靠短波長側具有最大吸收波長。
再者，所述實施例中，即便將界面活性劑變更為段落0053中記載的氟系界面活性劑，亦可獲得同樣的性能。
<實施例4>
於實施例1中，將聚合性化合物變更為同質量的萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)DCP-A、卡亞拉得(KAYARAD)D-330、卡亞拉得(KAYARAD)D-320、卡亞拉得(KAYARAD)D-310或卡亞拉得(KAYARAD)DPHA，除此以外，與實施例1同樣地進行 試驗，結果可獲得與實施例1相同的較佳結果。
<實施例5>
於實施例1中，將光聚合起始劑變更為豔佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)，除此以外，與實施例1同樣地進行試驗，結果可獲得與實施例1相同的較佳結果。
<實施例B1~實施例B9、比較例B1~比較例B4>
(感光性樹脂組成物的製備)
將下述組成混合、攪拌，使用日本頗爾(Pall)製造的DFA4201NXEY(0.45μm尼龍過濾器)進行過濾，製備感光性樹脂組成物B。感光性樹脂組成物的固體成分量為31質量%，近紅外線吸收物質相對於感光性樹脂組成物的總固體成分之含量為7.5質量%。
<組成>
近紅外線吸收物質(表2中所示的化合物)：2.3份
樹脂1(下述結構)：12.9份
聚合性化合物：二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製造，產品名：卡亞拉得(KAYARAD)DPHA)：12.9份
光聚合起始劑：豔佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造)：2.5份
紫外線吸收劑：UV503(大東化學股份有限公司)：0.5份
界面活性劑：美佳法(Megafac)F-781F(迪愛生(DIC)公司製造，含氟聚合物型界面活性劑)：0.04份
聚合抑制劑：對甲氧基苯酚：0.006份
環己酮：49.6份
丙二醇單甲醚乙酸酯，19.3份
樹脂1：下述結構(重複單元之比為莫耳比)、Mw=11500
依照日本專利特開2012-198408號公報的段落0247~段落0249中記載的方法進行合成。
<近紅外線吸收濾波器的製作>
使用旋塗機將各感光性樹脂組成物以乾燥後的膜厚成為1.0μm的方式塗佈於玻璃基板(康寧(Corning)公司製造1737)上，使用100℃的加熱板進行120秒鐘加熱處理(預烘烤)。
繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，以500mJ/cm2進行整體曝光。繼而，使用CD-2060(富士膠片電子材料(Fujifilm electronics materials)(股)製造)於23℃下進行60秒鐘覆液顯影，利用純水對形成有整體的著色層的玻璃基板進行淋洗處理，加以噴霧乾燥。進而，使用200℃的加熱板進行300秒鐘加熱處理(後烘烤)，獲得近紅外線吸收濾波器。 關於所得的近紅外線吸收濾波器，利用與實施例1相同的方法對耐光性、耐熱性、最大吸收波長進行評價。
如由所述結果所表明，使用含有式(1)所表示的化合物的感光性樹脂組成物的實施例B1~實施例B9的近紅外線吸收濾波器的耐光性及耐熱性優異。另外，在波長900nm~1000nm下具有最大吸收波長。
另一方面，使用與式(1)所表示的化合物不同的化合物的比較例B1~比較例B4的近紅外線吸收濾波器與實施例B1~實施例B9相比，耐光性及耐熱性更差。進而，於較實施例B1~實施例B9更靠短波長側具有最大吸收波長。
再者，所述實施例中，即便將界面活性劑變更為段落0053記載的氟系界面活性劑，亦可獲得同樣的性能。
<實施例100>(紅外線感測器的製造)
使用實施例1~實施例3的近紅外線濾波器來製造圖1所示的紅外線感測器。可使用該紅外線感測器來檢測物體。再者，彩色濾光片112是與日本專利特開2014-043556號公報的實施例同樣地製作。另外，紅外線透射濾波器113是利用以下的方法來製作。
<紅外線透射濾波器的製作>
[顏料分散液1-1~顏料分散液1-5的製備]
使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))，將下述組成的混合液混合、分散直至紅外線吸收物質成為表中所示的平均粒徑為止，製備顏料分散液。表中，示出相應成分的使用量(單位：質量份)。
顏料分散液中的顏料的平均粒徑是使用日機裝(股)製造的米庫洛特拉庫帕(MICROTRACUPA)150以體積基準測定。將測定結果示於表中。
[顏料分散液2-1~顏料分散液2-6的製備]
使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))，將下述組成的混合液混合、分散3小時，製備顏料分散液。表中，示出相應成分的使用量(單位：質量份)。
表中的各成分的簡稱如下。
[紅外線吸收物質](在波長800nm~900nm的範圍內具有最大吸收波長的化合物)
．吡咯并吡咯顏料1：下述結構(利用日本專利特開2009-263614號公報中記載的方法合成)
．吡咯并吡咯顏料2：下述結構(利用日本專利特開2009-263614號公報中記載的方法合成)
．IR著色劑1：商品名；IRA842(艾克森(Exiton))
．IR著色劑2：商品名；FD-25(山田化學)
[著色劑](在波長400nm~700nm的範圍內具有最大吸收波長的化合物)
．PR254：顏料紅(Pigment Red)254
．PB15：6：顏料藍(Pigment Blue)15：6
．PY139：顏料黃(Pigment Yellow)139
．PV23：顏料紫(Pigment Violet)23
．PG36：顏料綠(Pigment Green)36
．黑色材料：(豔佳佛(Irgaphoa)BK(巴斯夫(BASF)))
[樹脂]
．分散樹脂1：商品名；畢克(BYK)-111(畢克(BYK)公司製造)
．分散樹脂2：下述結構
．分散樹脂3：下述結構
．分散樹脂4：下述結構(Mw：24000)
．鹼可溶性樹脂1：下述結構(Mw：12000)
[有機溶劑]
．PGMEA：丙二醇甲醚乙酸酯
[著色組成物的製備]
以下述表中記載的比例將下述表的成分混合，製備著色組成物。表中，示出相應成分的使用量(單位：質量份)。
表中的各成分的簡稱如下。
．吡咯并吡咯染料1：下述結構(利用日本專利特開2009-263614號公報中記載的方法合成)(在波長800nm~900nm的範圍內具有最大吸收波長的化合物)
．吡咯并吡咯染料2：下述結構(利用日本專利特開2009-263614號公報中記載的方法合成)(在波長800nm~900nm的範圍內具有最大吸收波長的化合物)
[化55]
．聚合性化合物1：M-305(三丙烯酸酯為55質量%~63質量%)(東亞合成公司製造)，下述結構
．聚合性化合物2：二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化學公司製造，A-DPH)
．光聚合起始劑1：豔佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造，下述結構)
．光聚合起始劑2：豔佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)
．界面活性劑1：美佳法(Megafac)F-781F(迪愛生(DIC)公司製造，含氟聚合物型界面活性劑)
．聚合抑制劑1：對甲氧基苯酚
．有機溶劑1：丙二醇甲醚乙酸酯
．有機溶劑2：環己酮
使用旋塗機將製造例1~製造例13的著色組成物以乾燥後的膜厚成為1.0μm的方式塗佈於矽晶圓上，使用100℃的加熱板進行120秒鐘加熱處理(預烘烤)。
繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，使用形成有1.4μm見方的正方形畫素圖案的光罩，以50mJ/cm2為單位自50mJ/cm2上升至750mJ/cm2為止，確定解析所述正方形畫素圖案的最適曝光量，以該最適曝光量進行曝光。
其後，將形成有經曝光的塗佈膜的矽晶圓載置於旋轉．噴淋顯影機(DW-30型，化學電子(Chemitronics)(股)製造)的水平旋轉台上，使用CD-2060(富士膠片電子材料(Fujifilm electronics materials)(股)製造)於23℃下進行60秒鐘覆液顯影，於矽晶圓上形成著色圖案。
利用純水對形成有著色圖案的矽晶圓進行淋洗處理，其後進行噴霧乾燥。
繼而，使用200℃的加熱板進行300秒鐘加熱處理(後烘烤)，形成紅外線透射濾波器113。
<實施例200>(紅外線感測器的製造)
使用實施例1~實施例3的近紅外線濾波器來製造圖2所示的紅外線感測器。可使用該紅外線感測器來檢測物體。再者，彩色濾光片112是與日本專利特開2014-043556號公報的實施例同樣地製作。另外，平坦化層116是利用日本專利特開2014-191190號公報的段落編號0101~段落編號0103所示的方法來製作。另外，紅外線透射濾波器113是利用實施例100中所示的方法來製作。另外，帶通濾波器120是利用以下所示的方法來製造。
<低折射分散液B-1的製備>
依照日本專利特開2013-253145號公報的段落0032~段落0034、段落0042(實施例1-1)的記載而獲得低折射分散液。
再者，所得的低折射分散液中含有念珠狀膠體二氧化矽粒子。
<高折射分散液B-2的製備>
使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的混合液混合、分散3小時，製備高折射分散液B-2。
．二氧化鈦：28.9份
．分散樹脂1：下述結構：6.4份
．有機溶劑(丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA))：64.7份
<低折射組成物1的製備>
．低折射分散液B-1：75.3份
．界面活性劑(美佳法(Megafac)F-781F(含氟聚合物型界面活性劑，迪愛生(DIC)公司製造)的10質量%PGMEA溶液)0.1份
．有機溶劑(乳酸乙酯)：24.6份
<高折射組成物1的製備>
．高折射分散液B-2：84.7份
．下述鹼可溶性樹脂1的45質量%PGMEA溶液：0.9份
．環氧樹脂(EX211L，長瀨化成(Nagase Chemtex)公司製造)：2.9份
．環氧樹脂(JER157S65，三菱化學公司製造)：0.7份
．界面活性劑(美佳法(Megafac)F-781F(含氟聚合物型界面活性劑，迪愛生(DIC)公司製造)的10質量%PGMEA溶液：3.4份
．聚合抑制劑(對甲氧基苯酚)：0.002份
．有機溶劑(PGMEA)：7.4份
分散樹脂1：下述結構
鹼可溶性樹脂1：下述結構
<<組成物的折射率的測定>>
所述獲得的低折射組成物、高折射組成物的折射率是如以下般測定。
利用旋塗法將組成物塗佈於直徑200mm的玻璃晶圓上，其後利用加熱板於100℃下加熱2分鐘。進而，於200℃下利用加熱板加熱5分鐘，獲得硬化膜(膜厚：1.0μm)。
對所述獲得的帶有硬化膜的玻璃晶圓使用日本J.A.沃蘭(J.A.Woollam Japan)公司製造的橢圓儀，測定透明膜對波長635 nm的光的折射率。
低折射組成物1的折射率為1.2，高折射組成物1的折射率為1.9。
<<帶通濾波器的製作>>
使用低折射組成物1及高折射組成物1，以成為下述表所示的積層構成的方式，於平坦化層116上將低折射區域與高折射區域交替積層。低折射組成物1是藉由使用旋塗機進行塗佈並利用加熱板於100℃下乾燥120秒鐘而形成膜。高折射組成物1是藉由使用旋塗機進行塗佈並利用加熱板於200℃下乾燥3分鐘而形成膜。表中的左欄的數字為積層順序。1號為入射側，23號為感測器側。即，於平坦化層116上自23號起依序積層各層而製作帶通濾波器。
以各高折射區域及低折射區域的厚度成為下述表所示的所需厚度的方式，調整塗佈量及塗佈次數(積層數)。
於直徑200mm的玻璃晶圓上，以成為與所述帶通濾波器相同的層構成的方式積層高折射組成物1與低折射組成物1，製造積層體。對所得的積層體使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的U-4100)的分光光度計(ref.玻璃基板)在波長400nm~1100nm的範圍內測定透射率。將結果示於圖6中。圖中，縱軸表示透射率(單位：%)， 橫軸的Wave length表示波長(單位：nm)。

Claims (19)

  1. 一種紅外線感測器，具有紅外線透射濾波器及近紅外線吸收濾波器，且藉由檢測波長900nm以上且1000nm以下的光來檢測物體，並且所述近紅外線吸收濾波器含有在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質，所述近紅外線吸收物質為吡咯并吡咯化合物。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質為喹噁啉型吡咯并吡咯化合物。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質為下述通式(1)所表示的化合物；通式(1)中，X1及X2分別獨立地表示氫原子或取代基，A1及A2分別獨立地表示取代基，R1~R10分別獨立地表示氫原子或取代基，R1~R8的至少一個表示取代基。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的紅外線感測器，其中於所述通式(1)中，R1~R8的至少一個為鹵素原子、烷基、烷氧基、芳基、氰基或-L100-X100所表示的基團；L100表示單鍵或二價連結基，X100表示反應性基。
  5. 如申請專利範圍第3項所述的紅外線感測器，其中於所述通式(1)中，R1~R8的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團；L100表示單鍵或二價連結基，X100表示反應性基。
  6. 如申請專利範圍第3項所述的紅外線感測器，其中於所述通式(1)中，R1~R4的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團，R5~R8的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團；L100表示單鍵或二價連結基，X100表示反應性基。
  7. 如申請專利範圍第4項所述的紅外線感測器，其中所述鹵素原子為氯原子。
  8. 如申請專利範圍第3項所述的紅外線感測器，其中於所述通式(1)中，A1及A2分別獨立地為芳基或雜芳基，R9及R10分別獨立地為拉電子性基。
  9. 如申請專利範圍第3項所述的紅外線感測器，其中於所述通式(1)中，R9及R10為氰基。
  10. 如申請專利範圍第3項所述的紅外線感測器，其中於所述通式(1)中，X1及X2分別獨立地為氫原子或下述通式(2)所表示的基團；通式(2)中，R21及R22分別獨立地表示取代基，R21與R22亦可相互鍵結而形成環，*表示結合鍵。
  11. 一種近紅外線吸收組成物，其是用於形成藉由檢測波長900nm以上且1000nm以下的光來檢測物體的紅外線感測器的近紅外線吸收濾波器，並且所述近紅外線吸收組成物含有在波長900nm以上且1000nm以下具有最大吸收波長的近紅外線吸收物質，所述近紅外線吸收物質為吡咯并吡咯化合物。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的近紅外線吸收組成物，其中所述近紅外線吸收物質為喹噁啉型吡咯并吡咯化合物。
  13. 一種感光性樹脂組成物，含有下述通式(1)所表示的化合物；通式(1)中，X1及X2分別獨立地表示氫原子或取代基，A1及A2分別獨立地表示取代基，R1~R10分別獨立地表示氫原子或取代基，R1~R8的至少一個表示取代基。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的感光性樹脂組成物，更含有硬化性化合物。
  15. 一種由下述通式(1)所表示的化合物；通式(1)中，X1及X2分別獨立地表示氫原子或取代基，A1及A2分別獨立地表示取代基，R1~R10分別獨立地表示氫原子或取代基，R1~R8的至少一個表示取代基。
  16. 如申請專利範圍第15項所述的化合物，其中於所述通式(1)中，R1~R4的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團，R5~R8的至少一個為鹵素原子或-L100-X100所表示的基團；L100表示單鍵或二價連結基，X100表示反應性基。
  17. 如申請專利範圍第16項所述的化合物，其中所述R1~R8所表示的鹵素原子為氯原子。
  18. 一種近紅外線吸收濾波器，其是使如申請專利範圍第13項或第14項所述的感光性樹脂組成物硬化而成。
  19. 一種攝像裝置，具有如申請專利範圍第1項所述的紅外線感測器。
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