TWI653095B - Curved substrate holding tray - Google Patents

Abstract

一種藉由狹縫噴嘴而塗布塗布液之曲面基材之保持托盤，其特徵在於包含：一對之夾持構件，在狹縫噴嘴之噴嘴移動方向之曲面基材之兩端部，將曲面基材夾於其間而保持；1個以上之支持構件，於噴嘴移動方向是配置在一對之夾持構件之間，從下方支持曲面基材。

Description

曲面基材之保持托盤 發明領域

本發明是涉及曲面基材之保持托盤。

發明背景

近年來，在顯示面板之市場等，表面是凸狀曲面且背面是平面之片側凸玻璃之需求逐漸升高，該片側凸玻璃之製造是在凸狀曲面玻璃之背面(凹狀曲面)將接著劑平坦地塗布，而與平面玻璃貼合。

習知，要將如接著劑般之塗布液塗布在在平面玻璃的情況下，會使用如專利文獻1所示之平台塗布機(table coater)。另外，要將如接著劑般之塗布液塗布在凹狀曲面的情況下，有如專利文獻2所示之使用圓弧狀之噴嘴而塗布、或如專利文獻3所示之在凹狀曲面之最上位部分進行塗布且讓塗布液因為自身重量而在凹狀曲面上移動之方法。

先行技術文獻 專利文獻

[專利文獻1]日本特開2002-200450號公報

[專利文獻2]日本特開2004-167422號公報

[專利文獻3]日本特開2011-256060號公報

發明概要

然而，上述之方法皆難以在將塗布液塗布於凹狀曲面時以令所塗布之塗布液之上面成為平面的方式來塗布。另外，凹狀曲面之R形狀(曲率)是隨著曲面基材而各式各樣，沒有可對R形狀不同之各式各樣之曲面基材進行保持之適切之托盤。

於是，本發明之目的是提供當將塗布液以其上面成為平面的方式來對曲面基材塗布的情況下可保持R形狀不同之曲面基材之保持托盤。

本發明是藉由狹縫噴嘴而塗布塗布液之曲面基材之保持托盤，其特徵在於包含：一對之夾持構件，在前述狹縫噴嘴之噴嘴移動方向之前述曲面基材之兩端部，將前述曲面基材夾於其間而保持；及1個以上之支持構件，於前述噴嘴移動方向是配置在前述一對之夾持構件之間，從下方支持前述曲面基材。

根據前述構成，保持托盤是藉由一對之夾持構件夾曲面基材之兩端部而保持，藉由配置在一對之夾持構件之間之1個以上之支持構件而從下方支持曲面基材，故可保持R形狀不同之曲面基材。

本發明更宜具有如下之構成。

(1)前述一對之夾持構件及前述支持構件是在前述狹縫噴嘴之狹縫方向之前述曲面基材之兩端部設成一對。

(2)前述一對之夾持構件及前述支持構件是於前述狹縫噴嘴之狹縫方向延伸而遍及前述曲面基材之全長，或者，於前述狹縫噴嘴之狹縫方向具有預定間隔而設有複數個。

(3)前述支持構件之支持部可於上下方向昇降。

(4)前述一對之夾持構件之至少其中一者可沿著前述噴嘴移動方向而移動。

(5)前述支持構件具有於上下方向賦予勢能之賦予勢能構件。

(6)前述支持構件具有：第1支持構件，與前述一對之夾持構件之其中一側之第1夾持構件沿著前述噴嘴移動方向而一體地移動；及第2支持構件，與前述一對之夾持構件之另一側之第2夾持構件沿著前述噴嘴移動方向而一體地移動。

根據前述構成(1)，由於一對之夾持構件及支持構件是在狹縫方向之曲面基材之兩端部設成一對，故能以最小限度之夾持構件及支持構件來構成保持托盤。

根據前述構成(2)，由於一對之夾持構件及支持構件是於狹縫方向延伸而遍及曲面基材之全長，故可提升狹縫方向之曲面基材之保持性。另外，由於一對之夾持構件及支持構件是在狹縫方向隔著預定間隔而設有複數個，故能以合理數量之夾持構件及支持構件來構成保持托盤。

根據前述構成(3)，可配合曲面基材之R形狀而調 整支持構件之支持部之上下方向位置。

根據前述構成(4)，在保持曲面基材之際，可從夾持構件已張開到大於曲面基材之寬之狀態來進行夾曲面基材之兩端部，故易於保持曲面基材。另外，可配合噴嘴移動方向之曲面基材之長度而調整夾持構件間之距離。

根據前述構成(5)，可藉由其緩衝性而令曲面基材在承載於支持構件時不承受過分之力，防止曲面基材之損傷，並且，對應曲面基材之形狀之誤差，可提升支持構件之支持性。

根據前述構成(6)，可在維持著與第1夾持構件及第1支持構件之位置關係的情況下移動於噴嘴移動方向，另外，可在維持著與第2夾持構件及第2支持構件之位置關係的情況下移動於噴嘴移動方向。所以，可容易地進行用於保持曲面基材之夾持構件及支持構件之位置調整。

總而言之，根據本發明，可提供當將塗布液以其上面成為平面的方式來對曲面基材塗布的情況下可保持R形狀不同之曲面基材之保持托盤。

1‧‧‧貯留槽

2‧‧‧保持托盤

3‧‧‧狹縫噴嘴

3a‧‧‧狹縫前端部

3b‧‧‧吐出口

4‧‧‧供給部

10‧‧‧塗布裝置

11‧‧‧曲面基材

11a‧‧‧塗布面

12‧‧‧兩通閥

20‧‧‧臺

21‧‧‧夾持構件

21a‧‧‧鉛直部分

21b‧‧‧水平部分

21b1‧‧‧上端部

21b2‧‧‧下端部

22‧‧‧夾持構件

23‧‧‧支持構件

23a‧‧‧支持部

23b‧‧‧賦予勢能構件

23c‧‧‧管狀構件

23d‧‧‧底部

23e‧‧‧孔部

24‧‧‧支持構件

24a‧‧‧支持部

24b‧‧‧賦予勢能構件

24c‧‧‧管狀構件

24d‧‧‧底部

24e‧‧‧孔部

25‧‧‧夾持構件

26‧‧‧夾持構件

27‧‧‧支持構件

28‧‧‧支持構件

43‧‧‧馬達

44‧‧‧注射泵

45‧‧‧第1供給管路

48‧‧‧三通閥

49‧‧‧第2供給管路

201‧‧‧滾珠螺桿

202‧‧‧把手

203‧‧‧移動台

204‧‧‧移動台

209‧‧‧機械手

210‧‧‧夾持構件

220‧‧‧夾持構件

230‧‧‧支持構件

240‧‧‧支持構件

A‧‧‧長度

B‧‧‧長度

C‧‧‧長度

D‧‧‧從狹縫噴嘴之前端部至曲面 基材之塗布面為止的距離

L‧‧‧中間線

X‧‧‧方向

Y‧‧‧方向

[圖1]與本發明之實施形態相關之塗布裝置的概略圖。

[圖2]狹縫噴嘴部分之附近的概略立體圖。

[圖3]保持托盤的正面概略圖。

[圖4]夾持構件的擴大立體圖。

[圖5]說明對保持托盤安裝曲面基材之作業的圖。

[圖6]說明對保持托盤安裝曲面基材之作業的圖。

[圖7]說明對保持托盤安裝曲面基材之作業的圖。

[圖8]顯示不同實施形態之對保持托盤安裝曲面基材之作業的圖。

[圖9]顯示不同實施形態之對保持托盤安裝曲面基材之作業的圖。

[圖10]顯示不同實施形態之對保持托盤安裝曲面基材之作業的圖。

[圖11]夾持構件及支持構件於Y方向延伸而遍及曲面基材之全長之保持托盤的概略立體圖。

用以實施發明之形態

(整體構成)

圖1是與本發明之實施形態相關之塗布裝置10的概略圖。如圖1所示，塗布裝置10具有貯留塗布液之貯留槽1、將塗布液塗布在保持托盤2上之曲面基材11之狹縫噴嘴3、將塗布液從貯留槽1往狹縫噴嘴3供給之供給部4、控制塗布裝置10之控制部。狹縫噴嘴3是平台塗布機用之狹縫噴嘴，該平台塗布機是在噴嘴本身形成有用於吐出塗布液之預定寬度之狹縫、藉由令狹縫噴嘴3移動而將塗布液塗布在基材。

於貯留槽1有供給高壓空氣，藉由該高壓空氣之壓力而將塗布液從下方擠出去。附帶一提，亦可以不使用 高壓空氣而是藉由重力來讓貯留槽1內之塗布液擠出去。

貯留槽1是透過兩通閥12而與供給部4連接。供給部4具有藉由馬達43來驅動之注射泵44、及三通閥48。貯留槽1是透過兩通閥12而與第1供給管路45連接，第1供給管路45是透過三通閥48而與注射泵44連接。注射泵44是透過三通閥48而與第2供給管路49連接。第2供給管路49是與狹縫噴嘴3連接。狹縫噴嘴3可相對於保持托盤2而移動於水平方向，藉由從狹縫噴嘴3塗布之塗布液，而在保持托盤2上之曲面基材11形成塗膜。附帶一提，控制部是藉由控制供給部4(具體而言，控制藉由馬達43來驅動之注射泵44之運作及三通閥48之運作)，而控制從貯留槽1往狹縫噴嘴3之塗布液之供給壓力及/或供給量。

圖2是狹縫噴嘴3部分附近的概略立體圖。如圖2所示，在狹縫噴嘴3，身為塗布液之吐出口之狹縫是在狹縫噴嘴3之噴嘴移動方向(X方向)只形成預定寬，朝與X方向正交之狹縫方向Y延伸而形成。於是，可藉由令狹縫噴嘴3朝X方向移動，而在保持托盤2上之曲面基材11以預定寬來塗布塗布液。控制部可調整狹縫噴嘴3之X方向之移動速度。具體而言，控制部以令狹縫噴嘴3之X方向之移動速度是與從狹縫噴嘴3之狹縫前端部3a至曲面基材11之塗布面11a為止的距離D成反比例的方式而控制狹縫噴嘴3。

關於曲面基材11，從Y方向看起來是以朝下方突出的方式彎曲而在上面之塗布面11a具有凹狀曲面，並且，凹狀曲面具有一定之曲率。而且，曲面基材11具有令凹狀 曲面朝Y方向延伸之構成。

另外，於曲面基材11塗布之塗布液宜具有觸變性。觸變性是顯示出如凝膠般之塑性固體與如溶膠般之非牛頓液體的中間物質的性質，意指黏度會隨著時間經過而變化之性質。具體而言，若持續承受剪應力則黏度會逐漸降低而變成液狀，若靜止則黏度會逐漸上昇而最後變成固體狀。在本實施形態，塗布液是具有觸變性，藉此，塗布液在從狹縫噴嘴3吐出時是被賦予剪應力而液狀化，塗布在曲面基材11後是黏度逐漸上昇而最後變成固體狀。總而言之，具有觸變性之塗布液是平常高黏度但賦予壓力時黏度降低、流動性變佳之液體(較常見之例子是如油漆、番茄醬、美乃滋)，適合用在如本發明般之有塗料從塗膜厚的地方往塗膜薄的地方流出之虞的情況，在賦予壓力而流動性佳地進行吐出之後，當附著於塗布面時黏度上昇而不易流出。

(保持托盤)

圖3是保持托盤2的正面概略圖。如圖2及圖3所示，對曲面基材11進行保持之保持托盤2是在狹縫噴嘴3之狹縫方向(Y方向)之一端部具有一對之夾持構件21、22及支持構件23、24，前者是在狹縫噴嘴3之噴嘴移動方向(X方向)之曲面基材11之兩端部將曲面基材11夾於其間而保持，後者是在X方向上配置於一對之夾持構件21、22之間而從下方支持曲面基材11。並且，保持托盤2是在狹縫噴嘴3之狹縫方向(Y方向)之另一端部具有一對之夾持構件25、26及支持構件27、28，前者是在狹縫噴嘴3之噴嘴移動方向(X方向)之曲 面基材11之兩端部將曲面基材11夾於其間而保持，後者是在X方向上配置於一對之夾持構件25、26之間而從下方支持曲面基材11。而且，夾持構件21與支持構件23、及、夾持構件25與支持構件27是在狹縫噴嘴3之狹縫方向(Y方向)之曲面基材11之兩端部設成一對，夾持構件22與支持構件24、及、夾持構件26與支持構件28是在狹縫噴嘴3之狹縫方向(Y方向)之曲面基材11之兩端部設成一對。

夾持構件21具有朝上下方向延伸之鉛直部分21a、從鉛直部分21a之上端部朝水平方向延伸之水平部分21b。在此，在圖3，鉛直部分21a之長度A、狹縫噴嘴3與鉛直部分21a之鉛直方向長度B、狹縫噴嘴3(初期位置)與鉛直部分21a之X方向長度C是一定。所以，當以夾持構件21夾持曲面基材11時，即便曲面基材11之厚度或曲率發生變化，長度A、長度B及長度C仍為一定，因此，即便曲面基材11之曲率改變，亦可令塗布裝置10之運作之初期條件一定。附帶一提，夾持構件21、22、25、26是以令水平部分之下端之高度(亦即鉛直部分之長度A)相同的方式形成，而將曲面基材11之兩端部以相同高度來夾持。

圖4是夾持構件21的擴大立體圖。夾持構件22、25、26是與夾持構件21具有同樣之構造，以下，以夾持構件21來舉例說明。如圖4所示，夾持構件21之水平部分21b是以下端部21b2之水平截面會比上端部21b1小的方式而形成。

為了配合噴嘴移動方向(X方向)之曲面基材11的 長度來調整夾持構件21、22間之距離，夾持構件22可相對於夾持構件21而沿著X方向移動。具體而言，與夾持構件22卡合之滾珠螺桿201是從臺20之X方向端部朝X方向內側延伸而設，可藉由將滾珠螺桿201之前端部之把手202旋轉，而令與滾珠螺桿201卡合之夾持構件22在X方向移動。並且，由於夾持構件22及支持構件24是安裝在移動台203(其安裝在臺20之上部且可在X方向移動)，故當藉由滾珠螺桿201而令夾持構件22在X方向移動時，移動台203亦會在X方向移動，再者，支持構件24亦會在X方向移動。結果，夾持構件22與支持構件24會一體地在X方向移動。

與夾持構件22同樣，為了配合噴嘴移動方向(X方向)之曲面基材11的長度來調整夾持構件25、26間之距離，夾持構件26可相對於夾持構件25而沿著X方向移動。而且，支持構件28是與夾持構件26一體地在X方向移動。

支持構件23、24、27、28是具有同樣之構造。以下，以支持構件23來舉例說明。支持構件23是在上端部具有與曲面基材11接觸之支持部23a，支持部23a是藉由壓縮空氣、電磁力、或機械構造等而可在上下方向昇降。支持部23a之頂部具有球形狀，以樹脂而構成。再者，支持構件23具有在上下方向被賦予勢能之賦予勢能構件23b。賦予勢能構件23b舉例來說是彈簧，具有支持曲面基材11之情況下之緩衝機能。賦予勢能構件23b是收納在管狀構件23c，令支持部23a上下昇降。

(對保持托盤安裝曲面基材)

圖5~圖7是說明對保持托盤2安裝曲面基材11之作業的圖。首先，如圖5所示，使移動台203相對於臺20而移動，藉此，令夾持構件22及支持構件24移動到X方向上與夾持構件21及支持構件23相離最遠之位置。

接著，如圖6所示，藉由夾持構件21來將曲面基材11之一端部夾持，並一面以支持構件23之支持部23a於上下方向緩衝、一面藉由支持構件23從下方支持曲面基材11。

最後，如圖7所示，使移動台203相對於臺20而移動，藉此，令夾持構件22及支持構件24朝夾持構件21及支持構件23接近。然後，藉由夾持構件22來將曲面基材11之另一端部夾持，並一面以支持構件24之支持部23a於上下方向緩衝、一面藉由支持構件24從下方支持曲面基材11。附帶一提，在上述安裝，夾持構件25及支持構件27之運作是對應於夾持構件21及支持構件23之運作，夾持構件26及支持構件28之運作是對應於夾持構件22及支持構件24之運作。

塗布裝置10是如下般地運作。

首先，於貯留槽1供給高壓空氣而加壓，令兩通閥12開放。然後，以三通閥48作為吸引側，令馬達43朝吸引側旋轉，則貯留槽1內之塗布液會通過第1供給管路45、透過三通閥48而填充於注射泵44。

在往注射泵44之填充完成後，將三通閥48切換成吐出側。然後，令馬達43朝吐出側旋轉，則注射泵44內之 塗布液會從三通閥48通過第2供給管路49而供給至狹縫噴嘴3。控制部是將馬達43控制成當將注射泵44內之塗布液供給至狹縫噴嘴3之際，塗布液之供給壓力或供給量一定。然後，塗布液會從狹縫噴嘴3之吐出口3b以供給壓力或供給量一定的方式而吐出至保持托盤2上之曲面基材11，成為塗膜。

根據前述構成之塗布裝置10，可發揮如下之效果。

(1)保持托盤2是以夾持構件21、22及25、26來夾曲面基材11之X方向兩端部而保持，藉由配置在夾持構件21、22及25、26之間之支持構件23、24及27、28而從下方支持曲面基材11，故即便基材是曲面亦可保持，另外，可保持R形狀不同之曲面基材11。

(2)由於夾持構件21、25與支持構件23、27、以及、夾持構件22、26與支持構件24、28是在Y方向之曲面基材11之兩端部設成一對，故能以最小限度之夾持構件及支持構件來構成保持托盤。

(3)由於支持構件23、24、27、28之支持部可於上下方向昇降，故可配合曲面基材11之R形狀而調整支持構件23、24、27、28之支持部之上下方向位置。

(4)由於夾持構件22、26可沿著X方向而移動，故當要保持曲面基材11之際，可從夾持構件22、26已張開到大於曲面基材11之寬之狀態來進行夾曲面基材11之兩端部，故易於保持曲面基材11。另外，可配合X方向之曲面基材11 之長度而調整夾持構件21、22及25、26間之距離。

(5)由於夾持構件21、22、25、26之水平部分是以下端部之水平截面會比上端部小的方式而形成，故可減少曲面基材11與夾持構件21、22、25、26之接觸面積。結果，可減少因為夾持構件21、22、25、26之接觸所造成之令曲面基材11損傷之可能性。

(6)由於夾持構件21、22、25、26是將曲面基材11之兩端部在相同高度夾持，故在夾持位置，規定從狹縫前端部3a至曲面基材11之塗布面11a為止的距離D。結果，即便曲面基材11之R形狀改變亦可令狹縫噴嘴3之動作之初期位置相同，可令狹縫噴嘴3之動作控制變容易。

(7)由於支持構件23、24、27、28具有於上下方向賦予勢能之賦予勢能構件，故可藉由其緩衝性而令曲面基材11在承載於支持構件時不承受過分之力，防止曲面基材11之損傷，並且，對應曲面基材11之形狀之誤差，可提升支持構件23、24、27、28之支持性。

(8)由於支持構件24是與夾持構件22沿著X方向而一體地移動，支持構件28是與夾持構件26沿著X方向而一體地移動，故可在維持著與夾持構件22、支持構件24之位置關係的情況下移動於X方向，另外，可在維持著與夾持構件26、支持構件28之位置關係的情況下移動於X方向。所以，可容易地進行用於保持曲面基材11之夾持構件22及支持構件24、夾持構件26及支持構件28之位置調整。

(9)由於支持構件23、24、27、28之上端部是具 有球形狀，故可減少曲面基材11與支持構件23、24、27、28之接觸面積。結果，可減少因為支持構件23、24、27、28之接觸所造成之令曲面基材11損傷之可能性。另外，由於支持構件23、24、27、28之上端部是以樹脂構成，故可減少因為支持構件23、24、27、28之接觸所造成之令曲面基材11損傷之可能性。

(10)由於狹縫噴嘴3之初期位置側之夾持構件21、25是固定、令夾持構件22、26移動於X方向而將曲面基材11夾持，故狹縫噴嘴3之初期位置及由夾持構件21、25造成之曲面基材11之夾持位置是固定。結果，可令塗布裝置10之運作之初期條件一定，可令狹縫噴嘴3之動作控制變容易。

(11)可在往狹縫噴嘴3之塗布液之供給壓力一定之狀態下，以令狹縫噴嘴3之移動速度是與從狹縫前端部3a至曲面基材11之塗布面11a為止的距離D成反比例的方式而移動狹縫噴嘴3，藉此，以令塗布液之上面成為平面的方式對曲面基材11塗布塗布液。

(12)可在往狹縫噴嘴3之塗布液之供給量一定之狀態下，以令狹縫噴嘴3之移動速度是與從狹縫前端部3a至曲面基材11之塗布面11a為止的距離D成反比例的方式而移動狹縫噴嘴3，藉此，以令塗布液之上面成為平面的方式對曲面基材11塗布塗布液。

(13)可用接著劑來作為塗布液而塗布於曲面基材11之凹狀曲面，藉此，在凹狀曲面以接著劑之上面成為平面的方式塗布接著劑。結果，凸狀曲面玻璃與平面玻璃 之貼合變容易，可容易地形成片側凸玻璃。

(14)若塗布液具有觸變性，則可抑制塗布在曲面基材11之塗布液之移動，可將塗布液平坦地塗布在曲面基材11之預定領域內。另外，若塗布液具有觸變性，則吐出後之塗布液是黏度高，因此，即便是如在曲面基材11進行平面塗布的情況般之在塗布中有塗布厚度變化的情況，亦不易發生塗布液從厚度厚的地方往厚度薄的地方流出而使厚度變化之情形，可令塗布液之上面成為適切之平面。

雖然在上述實施形態中，支持構件是於噴嘴移動方向(X方向)設置2個，但亦可以是設置1個或3個以上。

雖然在上述實施形態中，夾持構件與支持構件是在狹縫噴嘴3之狹縫方向(Y方向)之曲面基材11之兩端部設成一對，但夾持構件與支持構件亦可以是在Y方向上具有預定間隔而設置3個以上。

根據本構成，由於夾持構件及支持構件是在狹縫方向隔著預定間隔而設有複數個，故能以合理數量之夾持構件及支持構件來構成保持托盤。

在上述實施形態，夾持構件22、26可相對於夾持構件21、25而沿著X方向移動。然而，亦可以是夾持構件21、25可相對於夾持構件22、26而沿著X方向移動。另外，亦可以令夾持構件21、22是以維持夾持構件21、22間之中間線之位置的方式而沿著X方向一體地移動，令夾持構件25、26是以維持夾持構件25、26間之中間線之位置的方式而沿著X方向一體地移動。要達成如此之夾持構件21、22，可以令 移動台203、204是以維持夾持構件21、22間之中間線之位置的方式而相對於臺20移動。藉此，即便曲面基材11之尺寸不同，亦可總是以保持托盤2之中央來保持曲面基材11。

圖8~圖10是說明令夾持構件21、22以維持夾持構件21、22間之中間線L之位置的方式而沿著X方向一體地移動、令夾持構件25、26以維持夾持構件25、26間之中間線L之位置的方式而沿著X方向一體地移動的情況下之與上述實施形態不同之對保持托盤2安裝曲面基材11之作業的圖。關於以維持夾持構件21、22間之中間線L之位置的方式而沿著X方向一體地移動，舉例來說是指當令夾持構件21朝遠離夾持構件22之方向移動，則夾持構件22朝遠離夾持構件21之方向亦移動相同之距離，當令夾持構件21朝接近夾持構件22之方向移動，則夾持構件22朝接近夾持構件21之方向亦移動相同之距離。關於以維持夾持構件25、26間之中間線L之位置的方式而沿著X方向一體地移動，所指意思亦與上述相同。附帶一提，管狀構件23c、24c是具有底部23d、24d，底部23d、24d可相對於孔部23e、24e而沿著上下方向移動。

在對保持托盤2安裝曲面基材11之作業，首先，如圖8所示，令移動台203、204相對於臺20而移動，藉此，令夾持構件21與支持構件23、以及、夾持構件22與支持構件24移動至互相於X方向離最遠之位置。

接著，如圖9所示，藉由機械手209等而令曲面基材11位於夾持構件21與夾持構件22之間。

最後，如圖10所示，令移動台203、204相對於臺20而移動，藉此，令夾持構件21與支持構件23、以及、夾持構件22與支持構件24互相於X方向接近。然後，藉由夾持構件21來夾持曲面基材11之一端部，並且，從底部23d之下方藉由壓縮空氣等而將管狀構件23c從孔部23e朝上方舉起，使支持構件23之支持部朝上方昇降，藉由支持構件23而從下方支持曲面基材11。同時，藉由夾持構件22來夾持曲面基材11之另一端部，並且，從底部24d之下方藉由壓縮空氣等而將管狀構件24c從孔部24e朝上方舉起，使支持構件24之支持部朝上方昇降，藉由支持構件24而從下方支持曲面基材11。附帶一提，在上述安裝，夾持構件25及支持構件27之運作是對應於夾持構件21及支持構件23之運作，夾持構件26及支持構件28之運作是對應於夾持構件22及支持構件24之運作。藉由該等一連串之動作，曲面基材11是下面離開機械手209之上面而傳遞至臺20。此時，亦可以是令機械手209朝下方移動而離開曲面基材11之下面。

根據本構成，由於夾持構件21、22及25、26是以維持中間線之位置的方式而一體地移動，故即便曲面基材11之尺寸不同，亦可將曲面基材11在保持托盤2之中央部予以保持，可配合X方向之曲面基材11之長度而容易地調整夾持構件21、22及25、26間之距離。另外，由於支持構件23是與夾持構件21沿著X方向而一體地移動、支持構件24是與夾持構件22沿著X方向而一體地移動，故可在維持著與夾持構件21、支持構件23之位置關係的情況下移動於X方向，另 外，可在維持著與夾持構件22、支持構件24之位置關係的情況下移動於X方向。再者，由於支持構件27是與夾持構件25沿著X方向而一體地移動、支持構件28是與夾持構件26沿著X方向而一體地移動，故可在維持著與夾持構件25、支持構件27之位置關係的情況下移動於X方向，另外，可在維持著與夾持構件26、支持構件28之位置關係的情況下移動於X方向。所以，可容易地進行用於保持曲面基材11之夾持構件21及支持構件23、夾持構件22及支持構件24、夾持構件25及支持構件27、夾持構件26及支持構件28之位置調整。

另外，在上述實施形態，夾持構件21與支持構件23、以及、夾持構件25與支持構件27是在狹縫噴嘴3之狹縫方向(Y方向)之曲面基材11之兩端部設成一對，夾持構件22與支持構件24、以及、夾持構件26與支持構件28是在狹縫噴嘴3之狹縫方向(Y方向)之曲面基材11之兩端部設成一對。然而，如圖11所示，亦可以令夾持構件210與支持構件230、以及、夾持構件220與支持構件240是以於Y方向延伸而遍及曲面基材11之全長的方式而設。這些構件可以是如圖11所示地以1整條來延伸於Y方向而遍及曲面基材11之全長，亦可以是適宜地在中途分割，具有預定間隔而設有複數個。

根據本構成，由於夾持構件21、22及支持構件23、24是於Y方向延伸而遍及曲面基材11之全長，故可提升Y方向之曲面基材之保持性。

在未超脫申請專利範圍所記載之本發明之精神 及範圍的情況下進行各種變形及變更是可能的。

[產業利用性]

本發明可提供當將塗布液以其上面成為平面的方式來對曲面基材塗布的情況下可保持R形狀不同之曲面基材之保持托盤，故產業上之利用價值高。

Claims (7)

1. 一種保持托盤，是藉由狹縫噴嘴而塗布塗布液之曲面基材之保持托盤，其特徵在於包含：一對之夾持構件，在前述狹縫噴嘴之噴嘴移動方向之前述曲面基材之兩端部，將前述曲面基材夾於其間而保持；及1個以上之支持構件，於前述噴嘴移動方向是配置在前述一對之夾持構件之間，從下方支持前述曲面基材。
2. 如請求項1之保持托盤，其中前述一對之夾持構件及前述支持構件是在前述狹縫噴嘴之狹縫方向之前述曲面基材之兩端部設成一對。
3. 如請求項1之保持托盤，其中前述一對之夾持構件及前述支持構件是於前述狹縫噴嘴之狹縫方向延伸而遍及前述曲面基材之全長，或者，於前述狹縫噴嘴之狹縫方向具有預定間隔而設有複數個。
4. 如請求項1之保持托盤，其中前述支持構件之支持部可於上下方向昇降。
5. 如請求項1之保持托盤，其中前述一對之夾持構件之至少其中一者可沿著前述噴嘴移動方向而移動。
6. 如請求項1之保持托盤，其中前述支持構件具有於上下方向賦予勢能之賦予勢能構件。
7. 如請求項1至6之任一項之保持托盤，其中前述支持構件 具有：第1支持構件，與前述一對之夾持構件之其中一側之第1夾持構件沿著前述噴嘴移動方向而一體地移動；及第2支持構件，與前述一對之夾持構件之另一側之第2夾持構件沿著前述噴嘴移動方向而一體地移動。