TWI649285B - 水平式玻璃蝕刻的方法 - Google Patents
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Abstract
一種水平式玻璃蝕刻的方法，包括： A010：提供一玻璃，以水平放置該玻璃，該玻璃包括一第一表面與一第二表面； A020：於該玻璃之該第二表面設置一薄膜； A030：在該玻璃之該第一表面噴塗一去氧化層活化劑； A040：在該玻璃之該第一表面噴塗一第一霧化劑，在該第一表面上形成多個第一霧化顆粒； A050：在該玻璃之該第一表面噴塗一第二霧化劑，使該第一霧化顆粒形成多個第二霧化顆粒； A060：在該玻璃之該第一表面噴塗一除晶劑； A070：在該玻璃之該第一表面噴塗一光化劑，使該第二霧化顆粒形成多個光化結構；及 A080：移除該薄膜。
Description
一種玻璃蝕刻的方法，特別是一種以水平放置玻璃的玻璃蝕刻方法。
隨科技進步，許多電子裝置陸續採用觸控裝置來取代傳統的機械式操作裝置，並且加大操作空間與顯示器的大小，提供較為直覺與方便的操作方式，例如智慧型手機或汽車的中控螢幕等裝置。在這樣的背景下，觸控裝置在不同領域的需求性大增，觸控裝置上的防眩玻璃（AG Glass，以下簡稱AG玻璃）需求量也隨之增加。 目前相關應用的市場競爭逐漸激烈，以及近年逐漸受到重視的車載面板市場，使得AG玻璃在需求與品質要求上大幅度的提高。目前市場主流應用的AG玻璃式採用鍍膜製程，是以藥劑噴塗在玻璃表面，再透過加熱的方式使藥劑在玻璃表面形成微結構，達到防眩的功能。 然而，鍍膜是的AG玻璃其耐磨性較差，長時間使用經常有微結構脫落的現象，導致面板的使用手感不佳。更進一步的，在車載面板中的AG玻璃，由於車內環境經常處於高溫狀態，AG玻璃的鍍膜微結構在高溫下非常容易剝落。因此鍍膜式AG玻璃並無法應用在車載面板上。而蝕刻式AG玻璃之微結構是由玻璃本身形成，耐磨性較佳，對溫度的敏感度也較低，勢必成為未來AG玻璃的主流產品。 而目前市場上常見的蝕刻玻璃，多是以浸泡式蝕刻技術製成。浸泡式蝕刻技術是將蝕刻液體放置於一製程槽中，再將玻璃垂直由上而下浸泡至蝕刻液體中，以形成玻璃表面的紋路。但是，浸泡式的玻璃蝕刻技術有以下缺點： 1. 玻璃在進出蝕刻液體時，其蝕刻液體會因重力向下流動，導致玻璃表面形成液體流動的痕跡。 2. 由於玻璃是垂直進入蝕刻液體，玻璃下端浸泡在蝕刻液體中的時間相對長，導致表面紋路形成不平均。 3. 若玻璃尺寸較大或厚度較薄，其站立時受力不均，玻璃容易彎曲或斷裂。 因此，有鑑於浸泡式玻璃蝕刻技術有著多種缺陷，現階段難以符合市場AG玻璃的要求。故如何提供一種更好玻璃蝕刻技術，便是本領域具通常知識者值得去思量地。
有鑑於上述原因，本發明提供一種水平式玻璃蝕刻方法，能夠更有效率的製作蝕刻玻璃，提高產能與良率。 本發明提供一種水平式玻璃蝕刻的方法，包括： A010：提供一玻璃，以水平放置該玻璃，該玻璃包括一第一表面與一第二表面； A020：於該玻璃之該第二表面設置一薄膜； A030：在該玻璃之該第一表面噴塗一去氧化層活化劑； A040：在該玻璃之該第一表面噴塗一第一霧化劑，在該第一表面上形成多個第一霧化顆粒； A050：在該玻璃之該第一表面噴塗一第二霧化劑，使該第一霧化顆粒形成多個第二霧化顆粒； A060：在該玻璃之該第一表面噴塗一除晶劑； A070：在該玻璃之該第一表面噴塗一光化劑，使該第二霧化顆粒形成多個光化結構；及 A080：移除該薄膜。 上述之水平式玻璃蝕刻的方法，其中其中在步驟A10與A20之間還包括： A011：清潔該玻璃；及 A012：乾燥該玻璃； 在步驟A80之後還包括： A081：清潔該玻璃；及 A082：乾燥該玻璃。 上述之水平式玻璃蝕刻的方法，其中，在步驟A011、A081中，是使用中性清潔劑清洗該玻璃。 上述之水平式玻璃蝕刻的方法，其中，在步驟A030中，該第一表面之去氧化深度是控制在300奈米以下。 上述之水平式玻璃蝕刻的方法，其中，在步驟A040中，該第一霧化顆粒尺寸是介於100~500奈米之間；在步驟A050中，該第二霧化顆粒尺寸是介於20~90奈米之間。 上述之水平式玻璃蝕刻的方法，其中，在步驟A060中，該除晶劑是一種酸性物質，適於除去該第一霧化顆粒或該第二霧化顆粒間的矽晶沙。 上述之水平式玻璃蝕刻的方法，其中，在步驟A070中，該光化結構的厚度是控制在100奈米以下。 上述之水平式玻璃蝕刻的方法，其中，在步驟A070中，該光化劑為一種無氫氟混酸鹽物質。 上述之水平式玻璃蝕刻的方法，其中，在步驟A012、A082中，是使用風刀使該玻璃乾燥。 上述之水平式玻璃蝕刻的方法，其中，在步驟A020中，該薄膜為一抗氟酸高分子薄膜。
請參閱圖1A、圖1B與圖2A至圖2P，圖1A與圖1B所繪示為本發明之水平式玻璃蝕刻的方法。圖2A至圖2P水平式玻璃蝕刻的示意圖。本發明提供一種以水平放置玻璃100，並透過蝕刻手段加工玻璃100的表面，在玻璃100的表面形成微結構，使玻璃100達到防眩的功效。以下配合圖1A、圖1B的流程圖與圖2A至圖2P之示意圖說明。 首先，提供一玻璃100，並將玻璃100以水平放置。玻璃100還包括了一第一表面110與一第二表面120（步驟S010、圖2A）、圖2A。第一表面110為玻璃110的加工製程面，因此放置時是朝上放置，以利後續的加工製程。第二表面120則是朝下放置。在某些實施例中，第一表面110稱作Tin面；第二表面120則稱作Air面。 接著，清潔玻璃100（步驟S011、圖2B），洗去玻璃100上的汙物、附著物、灰塵或其他雜質。避免在蝕刻的過程中影響玻璃100表面結構的形成。在本實施例中，步驟S011是使用中性清潔劑11清潔玻璃100，並且是針對第一表面110進行清潔。 接下來，乾燥玻璃100（步驟S012、圖2C），去除玻璃100上的液體或其他物質，使玻璃100保持乾燥。在本實施例中，是使用風刀裝置10進行乾燥。風刀裝置10能夠提供乾燥、乾淨的高壓空氣。以高壓空氣去除玻璃100第一表面110上殘餘的中性清潔劑11，並使玻璃100保持乾燥狀態。 再來，於玻璃100之第二表面120上設置一薄膜121（步驟S020、圖2D），薄膜121是貼附在玻璃100的第二表面120，並能夠保護第二表面120在接下來的製程中不受到影響。在本實施例中，薄膜121是一種抗氟酸高分子薄膜，能夠保護玻璃100之第二表面120不受汙染，以利後續製程進行。 薄膜121設置完成後，在玻璃100之第一表面110噴塗一去氧化層活化劑12（步驟S030、圖2E）。去氧化層活化劑12能夠去除第一表面110之氧化層，並使第一表面110活化。活化過的第一表面110可在後續的步驟中，更充分與蝕刻液體或藥劑進行反應。在本實施例中，去氧化層活化劑12是一種鹼性物質，並且在去氧化過程中，去氧化的深度將控制在300奈米以內。接下來，清潔玻璃100（步驟S031、圖2F），將玻璃100第一表面110上的去氧化層活化劑12去除。在本實施例中，步驟S031中是以超純水（DIW）清潔玻璃100與其第一表面110 之後，在玻璃100之第一表面110上噴塗一第一霧化劑14，並在第一表面110上形成多個第一霧化顆粒111（步驟S040、圖2G）。第一霧化劑14能夠在第一表面110上初步形成微結構（即第一霧化顆粒111），並初步使玻璃110表面形成霧化的效果。在本實施例中，第一霧化劑14是一種微米級霧化劑，而所形成第一霧化顆粒111之尺寸是在100奈米至500奈米之間。 再來，在玻璃100之第一表面110上噴塗一第二霧化劑15，使第一霧化顆粒111形成多個第二霧化顆粒112（步驟S050、圖2H）。第二霧化劑15能夠使第一霧化顆粒111進一步細化成第二霧化顆粒112。因此，在本實施例中，第二霧化劑15是一種奈米級的霧化劑，而所形成的第二霧化顆粒的尺寸是在20奈米至90奈米之間。進一步使玻璃100之第一表面110形成霧化的效果。接下來，清潔玻璃（步驟S051），去除第一表面110上殘餘的第一霧化劑14與第一霧化劑15，在步驟S061中，是使用超純水13清潔玻璃100。 再來，在玻璃100之第一表面110上噴塗除晶劑16（步驟S060、圖2J）。在前述步驟S040、S050中，第一霧化顆粒111與第二霧化顆粒112形成時，其第一霧化顆粒111或第二霧化顆粒112之間會產生細晶沙113，而除晶劑16能夠消除這些矽晶沙113。在本實施例中，除晶劑16是一種酸性物質，除晶劑16適於除去第一霧化顆粒111或第二霧化顆粒112間的矽晶沙113。之後，清潔玻璃100（步驟S061、圖2K），去除第一表面110上殘餘之除晶劑16。在步驟S061中，是使用超純水13清潔玻璃100。 接下來，在玻璃100之第一表面110上噴塗一光化劑17，使第二霧化顆粒112形成多個光化結構114。光化結構114形成於玻璃100之第一表面110後，便可使玻璃100具備防眩之功效。在本實施例中，光化劑17是一種無氫氟混酸鹽物質，且所形成的光化結構114的厚度將控制在100奈米以下。然後，清潔玻璃100（步驟S071、圖2M），去除玻璃100第一表面110上殘餘的光化劑17。在步驟S071中，是使用超純水13清潔玻璃100。 在一系列的表面處理後，便可將第二表面120上之薄膜121移除（步驟S080、圖2N）。接下來，在一次清潔玻璃100（步驟S081、圖2O），清除玻璃100第一表面110上的髒污。在步驟S081中，是使用中性清潔劑11清潔玻璃。再來，乾燥玻璃100（步驟S082、圖2P），使用風刀裝置10以高壓空氣除去玻璃100上殘餘的液體或藥劑，保持玻璃100的乾燥。 至此便完成水平式玻璃蝕刻的方法，而經過前述步驟S010~S082的玻璃100，其第一表面110形成了光化結構114。光化結構114便是玻璃100表面構成防眩功效的微結構。接下來玻璃100便可進入檢查程序，進一步檢查玻璃100表面之光化結構114是否具有瑕疵。在某些實施例中，玻璃100可放置於一輸送帶上，並配合每一步驟設計對應的設備，讓玻璃100水平依序通過對應的設備，已完成前述水平式玻璃蝕刻的方法。 本發明之水平式玻璃蝕刻的方法，是以水平的手段對玻璃100進行加工。相較於習知垂直浸泡的技術，前述垂直浸泡所產生的缺陷均可被克服，即玻璃100以水平放置，霧化劑與光化劑不會因重力流動而產生額外的痕跡；玻璃100以水平放置，玻璃100在接受霧化劑與光化劑噴塗時，玻璃100各部位可均勻接受霧化劑與光化劑噴塗；玻璃100以水平放置，玻璃100不會因受力不均而彎曲或斷裂。本發明之水平式玻璃蝕刻的方法能夠大大提高玻璃100的製作良率，生產效率與品質也能有顯著的提升，並且能夠製作出符合市場需求的高品質防眩玻璃產品。 本發明說明如上，然其並非用以限定本創作所主張之專利權利範圍。其專利保護範圍當視後附之申請專利範圍及其等同領域而定。凡本領域具有通常知識者，在不脫離本專利精神或範圍內，所作之更動或潤飾，均屬於本創作所揭示精神下所完成之等效改變或設計，且應包含在下述之申請專利範圍內。
10‧‧‧風刀裝置
11‧‧‧中性清潔劑
12‧‧‧去氧化層活化劑
13‧‧‧超純水
14‧‧‧第一霧化劑
15‧‧‧第二霧化劑
16‧‧‧除晶劑
17‧‧‧光化劑
100‧‧‧玻璃
110‧‧‧第一表面
111‧‧‧第一霧化顆粒
112‧‧‧第二霧化顆粒
113‧‧‧矽晶沙
114‧‧‧光化結構
120‧‧‧第二表面
121‧‧‧薄膜
S010~S082‧‧‧流程圖步驟
圖1A與圖1B所繪示為本發明之水平式玻璃蝕刻的方法。 圖2A至圖2P水平式玻璃蝕刻的示意圖。
Claims (10)
- 一種水平式玻璃蝕刻的方法，包括： A010：提供一玻璃，以水平放置該玻璃，該玻璃包括一第一表面與一第二表面； A020：於該玻璃之該第二表面設置一薄膜； A030：在該玻璃之該第一表面噴塗一去氧化層活化劑； A040：在該玻璃之該第一表面噴塗一第一霧化劑，在該第一表面上形成多個第一霧化顆粒； A050：在該玻璃之該第一表面噴塗一第二霧化劑，使該第一霧化顆粒形成多個第二霧化顆粒； A060：在該玻璃之該第一表面噴塗一除晶劑； A070：在該玻璃之該第一表面噴塗一光化劑，使該第二霧化顆粒形成多個光化結構；及 A080：移除該薄膜。
- 如申請專利範圍第1項之水平式玻璃蝕刻的方法，其中在步驟A10與A20之間還包括： A011：清潔該玻璃；及 A012：乾燥該玻璃； 在步驟A80之後還包括： A081：清潔該玻璃；及 A082：乾燥該玻璃。
- 如申請專利範圍第2項之水平式玻璃蝕刻的方法，其中，步驟A011、A081中，是使用中性清潔劑清洗該玻璃。
- 如申請專利範圍第1項之水平式玻璃蝕刻的方法，在步驟A030中，該第一表面之去氧化深度是控制在300奈米以下。
- 如申請專利範圍第1項之水平式玻璃蝕刻的方法，在步驟A040中，該第一霧化顆粒尺寸是介於100~500奈米之間；在步驟A050中，該第二霧化顆粒尺寸是介於20~90奈米之間。
- 如申請專利範圍第1項之水平式玻璃蝕刻的方法，在步驟A060中，該除晶劑是一種酸性物質，適於除去該第一霧化顆粒或該第二霧化顆粒間的矽晶沙。
- 如申請專利範圍第1項之水平式玻璃蝕刻的方法，在步驟A070中，該光化結構的厚度是控制在100奈米以下。
- 如申請專利範圍第1項之水平式玻璃蝕刻的方法，在步驟A070中，該光化劑為一種無氫氟混酸鹽物質。
- 如申請專利範圍第2項之水平式玻璃蝕刻的方法，在步驟A012、A082中，是使用風刀使該玻璃乾燥。
- 如申請專利範圍第1項之水平式玻璃蝕刻的方法，在步驟A020中，該薄膜為一抗氟酸高分子薄膜。
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