TWI518568B - 觸控基板及其製造方法 - Google Patents
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Description
本發明係有關於一種觸控基板及其製造方法，尤指兼具有達到減少(或簡化)製程工序及低電阻值的效果，進而還有效增加走線空間的效果之觸控基板及其製造方法。
觸控面板已經廣泛地應用於目前生活中，透過將觸控面板整合於顯示面板，人們可以透過觸控操作其顯示畫面來控制電子裝置執行對應的指令。目前觸控面板的導電薄膜如是氧化銦錫(Indium tin oxide，簡稱之為ITO)薄膜或奈米銀絲薄膜，且此導電薄膜(或稱為透明電極層)形成於透明基板上，例如玻璃板或聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，簡稱之為PET)板。其中所述奈米銀絲薄膜係由複數奈米金屬線所構成的。
而一般習知之導電薄膜(如氧化銦錫薄膜或奈米銀絲薄膜)形成在透明基板上的製造方法大致為：將於該透明基板之表面上的導電薄膜進行塗怖光阻後，接著對以塗佈該基板之表面上的導電薄膜進行烘烤，待烘烤完後則進行曝光及顯影製程，使該基板之表面上形成有電極圖案的透明電極層，其中如以奈米銀絲薄膜為例，於該基板之表面的透明電極層係由複數奈米金屬線所構成的；然後再依序對該基板之表面的透明電極層經清洗、蝕刻、清洗、烘烤等步驟後，接著對該基板之表面的透明電極層進行網版印刷，使該基板之表面周邊形成有一走線層電性連接相鄰透明電極層後，再次經烘烤而得一觸控基板。
雖習知透過上述製程步驟可達到製造出所述觸控面板的觸控基板，但其卻延伸出另一問題，就是必須經過上述多道繁雜步驟作業才能製造出所述觸控基板。另者，奈米銀絲薄膜的低面電阻值約在50ohm/□，而氧化銦錫薄膜(ITO Film)的低面電阻約在150ohms/□，且氧化銦錫薄膜面電阻較低的話，則導電性會較好，但會造成氧化銦錫薄膜的厚膜必須增大，以導致氧化銦錫薄膜的穿透度降低，故前述氧化銦錫薄膜的面阻值會影響到氧化銦錫薄膜厚度及穿透度，因此，使得面阻值越小成本會越高且技術門檻也越高，以致於面阻值居高不下。
此外，由於走線層係透過網版印刷方式形成的，使得於該基板表面上的走線空間會受到局限。以上所述，習知具有下列之缺點：1.製造工序複雜繁多；2.成本提高；3.走線空間受限。
是以，要如何解決上述習用之問題與缺失，即為本案之發明人與從事此行業之相關廠商所亟欲研究改善之方向所在者。
爰此，為有效解決上述之問題，本發明之主要目的在提供一種具有減少(或簡化)製造工序及低面阻值的觸控基板。
本發明之另一目的係提供一種具有達到增加走線空間的觸控基板。
本發明之另一目的係提供一種具有減少(或簡化)製造工序及低面阻值的觸控基板之製造方法。
本發明之另一目的係提供一種具有達到增加走線空間的觸控基板之製造方法。
為達上述目的，本發明係提供一種觸控基板，係應用於一觸控裝置上，且該觸控基板包括一基板、至少一不透明感應電極層及一不透明電極走線層，該基板具有一第一表面及一相反該第一表面之第二表面，該不透明感應電極層係形成在該基板的第一表面上，且其具有複數奈米銀粒及複數不透明感應區塊，該等不透明感應區塊係由該等奈米銀粒以網格狀排列所構成，且該不透明電極走線層係形成在該基板之第一表面的周邊上，且相鄰連接對應該不透明感應電極層；透過本發明此觸控基板的結構設計，得有效達到簡化製程工序及低面電阻的效果，進而還有效達到增加走線佈設空間之效果者。
本發明另提供一種觸控基板之製造方法，首先提供一基板，該基板之表面上形成有一感光性之奈米銀粒薄膜，並再提供一具有網格與電極走線圖案之光罩對該基板之表面上的奈米銀粒薄膜進行一曝光製程，以將在該光罩上的網格與電極走線圖案轉移到該奈米銀粒薄膜上，然後進行一顯影製程，以於該基板之表面上形成有呈網格狀的不透明感應電極層與不透明電極走線層，最後對於該基板之表面上的不透明感應電極層進行高導電化及安定處理作業；所以藉由本發明此方法的設計，得有效達到簡化製程工序及低面電阻的效果，進而還有效達到增加走線佈設空間之效果者。
1‧‧‧觸控裝置
10‧‧‧觸控基板
101‧‧‧基板
1011‧‧‧第一表面
1012‧‧‧第二表面
11‧‧‧不透明感應電極層
111‧‧‧奈米銀粒
113‧‧‧不透明感應區塊
115‧‧‧不透明無感應區塊
13‧‧‧不透明電極走線層
14‧‧‧觸控區
15‧‧‧周邊區
16‧‧‧網格
161‧‧‧小網格
17‧‧‧光學膠
d‧‧‧線寬
X‧‧‧第一方向
Y‧‧‧第二方向
第1A圖係本發明之第一較佳實施例之立體示意圖；第1B圖係本發明之第1A圖之局部放大示意圖；第1C圖係本發明之第1A圖之另一局部放大示意圖；第2圖係本發明之第一較佳實施例之另一立體示意圖；第3圖係本發明之第一較佳實施例之觸控裝置立體示意圖；第4圖係本發明之第一較佳實施例之觸控裝置剖面示意圖；
第5圖係本發明之第二較佳實施例之流程示意圖。
本發明之上述目的及其結構與功能上的特性，將依據所附圖式之較佳實施例予以說明。
本發明係提供一種觸控基板及其製造方法，請參閱第1A圖示係顯示本發明之第一較佳實施例之立體示意圖，並輔以參閱第1B、3、4圖示；該觸控基板10係應用於一觸控裝置1(或稱觸控面板)上，於具體實施時，本發明之觸控基板10可應用於各種疊層結構的觸控裝置1，如GFF(Glass-Film-Film)、G1F(Glass-Film)、GG(Glass-Glass)…等，也就是將本發明此觸控基板10取代觸控裝置1上形成有感應電極(如氧化銦錫薄膜或奈米銀絲薄膜)之基板101(如聚對苯二甲酸乙二酯或玻璃)。
另者，前述觸控基板10包括一基板101、至少一不透明(但可選擇可透光或不可透光其中任一)感應電極層11及一不透明(但可選擇可透光或不可透光其中任一)電極走線層13，該基板101係以可撓性材料所構成，於該較佳實施例之基板101係以聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethyleneterephthalate,PET)做說明，但並不侷限於此；且該基板101具有一第一表面1011、一相對該第一表面1011之第二表面1012、一觸控區14及一周邊區15，該觸控區14位於該第一表面1011的中央位置，該周邊區15則位於該觸控區14外側。
再者，所述不透明感應電極層11係形成在該基板101之第一表面1011上，且其具有複數奈米銀粒111及複數不透明(但可選擇可透光或不可透光其中任一)感應區塊113，該等不透明感應區塊113係由該等奈米銀粒111以網格狀排列所構成，亦即一感光性之奈米銀粒薄膜係透過化學燒結方式形成在該基板101之第一表面1011上，然後依序經曝光、顯影製程，使該
等不透明感應區塊113呈網格狀成形在第一表面1011的觸控區14上(如第1A或2圖示中標號113的虛框部份)；簡言而之，就是不透明感應電極層11係形成設置在該基板101之第一表面1011上。
此外，所述每一奈米銀粒111的直徑是介於數奈米至數十奈米之間，且前述不透明感應區塊113內網格16的線寬d係為1μm~10μm之間，於該較佳實施例係以較佳為7μm做說明。並該等不透明感應區塊113內網格16中的每一小網格161係以呈菱形狀做說明，但並不侷限於此，亦可選擇為矩形或其他形狀，藉以改變穿透率，亦即透過小網格161形狀來改變穿透率；所以於具體實施時，使用者可以事先根據所需面阻值及透光率的需求，調整設計所述不透明感應電極層11之網格16的線寬d粗細、改變網格16內小網格161的形狀大小，藉以達到低面阻值(約25ohms/□)及高透光率之效果者。
續參閱第1A、1B、2圖示，該等不透明感應區塊113彼此相鄰之間具有一不透明(但可選擇可透光或不可透光其中任一)無感應區塊115，該等不透明無感應區塊115係由複數奈米銀粒以網格狀排列所構成的，亦即該等不透明無感應區塊115呈網格狀形成在第一表面1011的觸控區14上(如第1A或2圖示中標號115的虛框部份)，且位於該等不透明感應區塊113彼此之間，並該等不透明無感應區塊115與相鄰的不透明感應區塊113是未有電性連接，換言之，就是該等不透明無感應區塊115未有電流通過，使其不會有感應電極之功效。而該等不透明無感應區塊115係用以避免不透明感應區塊113容易被觀察到，藉以有效達到平衡視覺的效果。其中於該較佳實施例之該等不透明無感應區塊115與相鄰的不透明感應區塊113之間係呈斷開7μm(如第1C圖示)而達到未有電性連接做說明，但於具體實施時上述斷開的距離不侷限於7μm，使用者可以事先根據視覺感官及感應靈敏度做
適當的調整，合先陳明。
另者複數不透明感應區塊113於該較佳實施例係以一第一方向X(即X軸方向)形成設置在該基板101之第一表面1011上(如第1A圖示中標號113的虛框部份)做說明，但於本發明實施時，亦可選擇設計如第2圖示將複數不透明感應區塊113以一第二方向Y(即Y軸方向)形成設置在該基板101之第一表面1011上(如第2圖示中標號113的虛框部份)，或是如第3、4圖示將觸控裝置1之兩基板101分別以第一方向X與第二方向Y形成有不透明感應區塊113，且兩基板之間具有一光學膠17(如OCR)。
再者前述不透明電極走線層13係形成在該第一表面1011的周邊上，且相鄰連接對應該不透明感應電極層11，亦即該不透明電極走線層13係形成在該第一表面1011的周邊區15上，且連接對應於所述觸控區14上的不透明感應電極層11。
所以透過本發明此觸控基板10的設計，使得有效達到簡化製程工序及低面電阻值的效果，進而還有效達到增加走線佈設空間之效果者。
請參閱第5圖，係顯示本發明之第二較佳實施例之流程示意圖，並輔以參閱第1A、1B圖示；該較佳實施例係為前述第一較佳實施例之觸控基板的製造方法，該方法包括下列步驟：
(S1)提供一基板，該基板的一表面上形成有一感光性之奈米銀粒薄膜；提供一基板101，該基板101之表面(即第一較佳實施例所述的第一表面1011)上形成有一感光性之奈米銀粒薄膜。其中該基板101係以可撓性材料所構成，於該較佳實施例之基板101係以聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethyleneterephthalate,PET)做說明；並該奈米銀粒薄膜係由複數奈米銀粒所構成的薄膜，且該每一奈米銀粒的直徑介於數奈米至數十奈米之間。
(S2)提供一具有網格與電極走線圖案之光罩對該基板之表面上的奈米銀粒薄膜進行一曝光製程，以將在該光罩上的網格與電極走線圖案轉移到該奈米銀粒薄膜上；提供一具有網格與電極走線圖案之光罩，並將光罩覆蓋在該基板101之表面(即第一表面1011)具有奈米銀粒薄膜上進行曝光製程，待曝光製程完後，使該光罩上的網格與電極走線圖案轉移到該基板101之表面(即第一表面1011)具有奈米銀粒薄膜上。
(S3)進行一顯影製程，以於該基板之表面上形成有呈網格狀的不透明感應電極層與不透明電極走線層；
進行顯影製程，以將該基板101之表面(即第一表面1011)的奈米銀粒薄膜上需要的網格圖案、走線圖案留下，不要的部份則顯影掉後，利用一溫水清洗該基板101之表面(即第一表面1011)上的不透明感應電極層11與不透明電極走線層13後，並進行黑化處理，令該基板101之表面(即第一表面1011)上的不透明感應電極層11與不透明電極走線層13更不明顯，並再次利用溫水將該基板101之表面(即第一表面1011)殘留的黑化液清洗掉後，使得該基板101之第一表面1011上形成有呈網格狀的不透明感應電極層11與電性連接該不透明感應電極層11之不透明電極走線層13；其中前述不透明感應電極層11內具有複數呈網格狀之不透明感應區塊113，該等不透明感應區塊113係形成在第一表面1011的觸控區14上，而不透明電極走線層13則是形成在該第一表面1011的周邊區15上。
(S4)對於該基板之表面上的不透明感應電極層進行高導電化及安定化處理作業；對於該基板101之第一表面1011上的不透明感應電極層11進行
高導電化處理作業，藉以使該第一表面1011上的不透明感應電極層11增加導電效果，然後利用溫水將表面(即第一表面1011)殘留的高導電處理液洗掉，接著再進行安定化處理作業，使該第一表面1011上的不透明感應電極層11之導電性達到穩定效果；然後，再次以溫水清洗表面(即第一表面1011)殘留的安定化溶劑。
(S5)對基板之表面上的不透明感應電極層與不透明電極走線層進行檢查作業；對基板101之表面(即第一表面1011)的不透明感應電極層11與不透明電極走線層13進行檢查作業，如電測與外觀檢查是否有斷線、短路，或是外觀不良的情況。
(S6)將檢查後的基板之表面與一保護膜相貼合，用以覆蓋該基板之表面上的不透明感應電極層與不透明電極走線層。
將檢查後的基板101之第一表面1011與保護膜(圖中未示)相貼合一起，用以覆蓋於基板101之第一表面1011上的不透明感應電極層11與不透明電極走線層13，藉以達到保護的效果者。
所以透過本發明此方法的設計，使得有效直接將不透明感應電極層11與不透明電極走線層13同時形成在該基板101之表面上，藉以有效達到減少(或簡化)製造工序的效果，進而還有效達到低面電阻值及增加走線佈設空間的效果。以上所述，本發明相較於習知具有下列之優點：1.具有達到減少(或簡化)製造工序及低面電阻值的效果；2.具有增加走線佈設空間的效果。
按，以上所述，僅為本發明的較佳具體實施例，惟本發明的特徵並不侷限於此，任何熟悉該項技藝者在本發明領域內，可輕易思及的變化或修
飾，皆應涵蓋在以下本發明的申請專利範圍中。
10‧‧‧觸控基板
101‧‧‧基板
1011‧‧‧第一表面
1012‧‧‧第二表面
11‧‧‧不透明感應電極層
113‧‧‧不透明感應區塊
115‧‧‧不透明無感應區塊
13‧‧‧不透明電極走線層
14‧‧‧觸控區
15‧‧‧周邊區
16‧‧‧網格
161‧‧‧小網格
X‧‧‧第一方向
Claims (10)
- 一種觸控基板，係包括：一基板，係具有一第一表面及一相反該第一表面之第二表面；至少一不透明感應電極層，係形成在該基板的第一表面上，且其具有複數奈米銀粒及複數不透明感應區塊，該等不透明感應區塊係由該等奈米銀粒以網格狀排列所構成，並該等不透明感應區塊彼此相鄰之間具有一不透明無感應區塊，該等不透明無感應區塊係由複數奈米銀粒以網格狀排列所構成，且該等不透明無感應區塊係與相鄰的不透明感應區塊未有電性連接；及一不透明電極走線層，係形成在該基板之第一表面的周邊上，且相鄰連接對應該不透明感應電極層。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控基板，其中該等不透明感應區塊係以一第一方向形成設在該基板之第一表面上。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控基板，其中該等不透明感應區塊係以一第二方向形成設在該基板之第一表面上。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控基板，其中該基板係為一聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethyleneterephthalate,PET)。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控基板，其中該基板係以可撓性材料所構成。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控基板，其中該每一奈米銀粒的直徑介於數奈米至數十奈米之間。
- 一種觸控基板之製造方法，係包括：提供一基板，該基板的一表面上形成有一感光性之奈米銀粒薄膜；提供一具有網格與電極走線圖案之光罩對該基板之表面上的奈米銀粒薄 膜進行一曝光製程，以將在該光罩上的網格與電極走線圖案轉移到該奈米銀粒薄膜上；進行一顯影製程，以於該基板之表面上形成有呈網格狀的不透明感應電極層與對應電性連接該不透明感應電極層的不透明電極走線層；及對於該基板之表面上的不透明感應電極層進行高導電化及安定化處理作業；其中前述顯影製程包含利用一溫水清洗該基板之表面上的不透明感應電極層與不透明電極走線層後，並進行黑化處理，令該基板之表面上的不透明感應電極層與不透明電極走線層更不明顯，再次利用溫水將該基板之表面殘留的黑化液清洗掉。
- 如申請專利範圍第7項所述之觸控基板之製造方法，其中對於該基板之表面上的不透明感應電極層進行高導電化及安定化處理作業之步驟後，更包含：對基板之表面上的不透明感應電極層與不透明電極走線層進行檢查作業；及將檢查後的基板之表面與一保護膜相貼合，用以覆蓋該基板之表面上的不透明感應電極層與不透明電極走線層。
- 如申請專利範圍第7項所述之觸控基板之製造方法，其中基板係以可撓性材料所構成。
- 如申請專利範圍第7項所述之觸控基板之製造方法，其中該奈米銀粒薄膜係由複數奈米銀粒所構成，且該每一奈米銀粒的直徑介於數奈米至數十奈米之間。
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