TWI518355B - The method of manufacturing the laminated body and the layered body - Google Patents

Description

積層體及積層體之製造方法

本發明係關於一種積層體及積層體之製造方法。更詳細而言，本發明係關於一種包含藉由貼附至偏光板等構成顯示裝置之最表面之構件上而可減少顯示裝置之表面反射的蛾眼膜之積層體、及積層體之製造方法。

較多地使用於液晶顯示裝置之偏光板有如下之偏光元件：可將自光源出射之自然光轉換成於固定之方向上振盪之偏光。作為偏光元件之材料，較多地使用使碘錯合物或二色性色素吸附於聚乙烯醇(PVA：Poly Vinyl Alcohol)系之膜者，藉由延伸此種膜而製作偏光元件。

然而，PVA系膜係使用親水性聚合物，故特別是於加濕條件下，非常易於發生變形及收縮，膜本身之機械性強度較弱，故通常於偏光元件之兩面或單面上，貼合作為對偏光元件進行保護之基材膜而發揮功能之TAC(Tri Acetyl Cellulose：三乙醯纖維素)等基材而使用。藉此，可對偏光板之強度進行補充，並且確保偏光元件之可靠性。

為了將偏光元件貼附至基材膜上，需要提高該等之界面之接著性之若干處理。又，亦需要不破壞偏光元件之特性而使偏光元件接著至基材膜上，且自先前完成有各種研究，可列舉如下之(1)~(8)之研究。

(1)可列舉如下方法：每當將偏光膜與作為其表面保護層之聚丙烯酸系樹脂膜接著時，於該等之間塗佈將對聚丙 烯酸系樹脂膜之表層部分進行溶解或膨潤而使黏著化之乙烯系單體及/或寡聚物作為主成分之液狀物，藉由加熱而使液狀物重疊，從而使偏光膜與樹脂膜接著(例如，參照專利文獻1)。

(2)可列舉如下方法：於使用接著劑將使二色性色素吸附定向於聚乙烯醇系膜上之偏光膜、與包含纖維素系膜之保護膜貼合時，對纖維素系膜之偏光板側之面，進行提高表面張力之電暈處理(例如，參照專利文獻2)。

(3)可列舉如下方法：為了提高與用作偏光元件之聚乙烯醇膜之接著性，對保護膜之表面進行電漿處理而親水化(例如，參照專利文獻3)。

(4)可列舉如下方法：為了提高偏光元件與保護膜之密接性，於偏光元件與包含(甲基)丙烯酸系樹脂之保護膜之間，包括包含含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇樹脂之接著劑層、與包含具有羧基之聚氨酯樹脂與交聯劑之易接著層(例如，參照專利文獻4)。

(5)可列舉如下方法：於在偏光元件之單面貼合將含有內酯環之聚合體作為主成分之熱塑性樹脂膜作為保護膜而成的偏光板中，在熱塑性樹脂膜之與偏光元件對向之面上，形成包含含有聚胺基甲酸酯樹脂及/或胺基之聚合物之易接著層(例如，參照專利文獻5)。

(6)可列舉如下方法：於包含熱塑性樹脂之保護膜、與包含吸附定向有碘或二色性染料之單軸延伸聚乙烯醇系樹脂膜之偏光膜之間，塗佈紫外線硬化型接著劑而形成接著 層，且於照射紫外線前，對該等進行加熱(例如，參照專利文獻6)。

(7)可列舉如下方法：作為偏光板之保護膜，使用降冰片烯樹脂來取代TAC，並且著眼於降冰片烯樹脂不具有吸收紫外線之性質之方面，對降冰片烯樹脂含有紫外線吸收劑而賦予紫外線吸收能力(例如，參照專利文獻7)。

(8)可列舉如下方法：作為對偏光元件之表面層進行保護之層(目測確認側保護層)，使用使具有固定以上之玻璃轉移溫度(Tg)之一對丙烯酸系樹脂、與包含形成於一對丙烯酸系樹脂間之紫外線吸收劑與熱塑性樹脂之中間層積層者，並且使用不包含溶劑之活性能量線硬化型樹脂，使目測確認側保護層與偏光元件接著(例如，參照專利文獻8)。

如上所述，為了使偏光元件與該基材膜貼合，需要各種研究。然而，通常偏光板配置於液晶顯示裝置之最前面，故亦進而對上述基材膜要求作為構成顯示裝置之最表面之構件之特性。具體而言，較佳為具有抗反射性、防眩性、硬塗性、防靜電性、防污性、阻氣性、UV(Ultraviolet，紫外線)削減性等功能，且可容易地賦予此種特性之材料較佳為構成液晶顯示裝置之偏光板之材料。

作為並不限定於液晶顯示裝置，而通常對顯示裝置之表面賦予抗反射特性之方法，已知有如下方法：於成為基材之透明塑膠膜上，將高折射率硬塗層及低折射率層按照該順序積層，減少透明塑膠膜之表面上之反射(例如，參照專利文獻9)。

作為減少顯示裝置之表面反射之技術，近年來逐漸關注可獲得優於光干擾膜(例如，LR(Low Reflection，低反射)膜、AR(Anti Reflection，抗反射)膜)之抗反射效果之蛾眼(Moth-eye：蛾之眼)構造。蛾眼構造係如下者：於進行抗反射處理之物品之表面，無間隙地排列較由防眩性(AG：Anti Glare)膜形成之凹凸圖案進一步微細之、可見光波長以下之間隔的凹凸圖案，藉此將外界(空氣)與物品表面之邊界之折射率之變化虛擬性地設為連續；且與折射率界面無關地使幾乎全部之光透過，從而可使該物品之表面之光反射幾乎消失(例如，參照專利文獻10、11)。

蛾眼構造係例如可藉由如下方式形成，即，將光硬化型樹脂塗佈於基材上，向該塗佈膜之表面轉印微細之凹凸構造，並且照射光而使樹脂硬化，但通常報告有如下情形：於基材為PMMA(Poly Methyl Methacrylate：聚甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯等塑膠之情形時，就光硬化型樹脂塗敷後之加熱獲得良好之密接性之方面而言有效(例如，參照非專利文獻1)。

作為著眼於除抗反射特性外之特性之例，可列舉如下等研究：著眼於為了更綿密地對偏光板之光之透過及阻斷進行控制，除偏光元件外，需要設置相位差膜之方面，對基材膜賦予相位差補償功能，即，使用附有相位差補償功能之基材膜(例如，參照非專利文獻2)。

如上所述，對保護偏光元件之基材膜中使用之材料之選定及積層構造，列舉有各種例，但未充分研究至考慮到進 而賦予抗反射特性(特別是蛾眼膜)等附加之特性之情形之材料的選定及適當之積層構造，而存在研究之餘地。

先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利特開昭62-23285號公報

專利文獻2：日本專利特開昭64-32203號公報

專利文獻3：日本專利特開2000-356714號公報

專利文獻4：日本專利特開2009-193061號公報

專利文獻5：日本專利特開2007-127893號公報

專利文獻6：日本專利特開2010-230806號公報

專利文獻7：日本專利特開2002-249600號公報

專利文獻8：日本專利特開2008-40277號公報

專利文獻9：日本專利特開平7-287102號公報

專利文獻10：國際公開第2007/040159號手冊

專利文獻11：日本專利特開2009-31764號公報

非專利文獻

非專利文獻1：「東亞合成集團年報研究TREND 2006」、日本、第9號、pp 19-24

非專利文獻2：「2010液晶相關市場之現狀與將來展望」、日本、Vol.2、pp 197-198

本發明者等人於將用以對偏光元件進行保護之基材膜用作於表面上具有以奈米級形成間隔之複數個凸部之抗反射 膜(以下，亦稱為蛾眼膜)之基材之情形時，進行了將TAC用作偏光板之基材膜之情形時之接著性、可靠性等方面的各種研究。

於將PVA膜貼附至TAC膜上之情形時，需要提高TAC膜表面之親水性之處理，作為此種處理，皂化較為有效。若為皂化處理，則能夠以短時間之處理對TAC膜之表面賦予親水基，因此就親水性賦予效果及步驟之效率性之觀點而言為優異之技術。

圖48係表示進行皂化處理之狀態之模式圖。又，圖49係表示進行皂化處理後之狀態之模式圖。此處，表示對在表面上形成有蛾眼膜111之TAC膜114進行皂化之情形。於進行皂化處理時，需要如圖48所示般將對象物之整體浸入皂化液118中。於TAC膜114與蛾眼膜111之間，設置有用以使蛾眼膜111向TAC膜114上之形成變得容易之硬塗樹脂層117。作為皂化液118，使用2當量、50℃之氫氧化鈉(NaOH)水溶液。

然而，本發明者等人經過研究，結果明確如下情形：於在TAC膜114上形成蛾眼膜111之情形時，藉由浸入皂化液118中而溶出之TAC膜溶出物114a、及蛾眼膜用之轉印用樹脂溶出物111a附著至蛾眼膜111之表面上，於皂化處理後進行水洗，在經過乾燥步驟後，該等溶出物111a、114a成為針狀之異物而析出於蛾眼膜111之表面。

若更具體地進行說明，則TAC膜溶出物114a及轉印用樹脂溶出物111a藉由皂化處理中之鹼而溶出顯現。此後，若 進行水洗處理，則鹼濃度下降，以自蛾眼膜111之溶出物111a為核心，自TAC膜114之溶出物114a結晶化而析出。附著於如蛾眼構造之奈米級之突起構造之表面上的異物無法藉由水等容易地沖洗，因此如圖49所示，於乾燥後，在蛾眼膜111之表面上殘留結晶化物119。蛾眼膜111係藉由虛擬性地消除空氣界面之折射率之變化而使光透過，從而防止反射者，故此種異物使蛾眼膜111之抗反射特性下降。

又，本發明者等人進一步進行研究，結果發現如下情形：於將具有蛾眼膜之TAC膜作為基材而製作偏光板之情形時，若以異物附著於TAC膜表面上之狀態，捲取TAC膜，則存在對TAC膜造成損傷，從而對偏光板產生不良之情形。圖50係表示捲取TAC膜之情形之模式圖。

TAC係於進行基於JIS(Japanese Industrial Standard，日本工業標準)K5600-5-4之鉛筆硬度試驗時，該硬度為2B至B之間之非常柔軟之材料。如圖50，於捲取TAC膜121時，通常一面藉由黏著滾筒對TAC膜121之表面進行清潔，一面進行捲取，但於在表面上具有蛾眼膜之情形時，若使用黏著力較強之糨糊，則相對於奈米構造，易於產生糨糊殘餘，故無法使用具有較強之黏著力之黏著滾筒。因此，若無異物附著於蛾眼膜之表面時之除去步驟，而以異物嵌入於TAC膜121之狀態進行捲取，則除於附著有異物之部位產生不良外，進而於旋轉一周而來時，亦產生相同之不良，因此每當於與嵌入有異物之部位重疊之部位發生捲繞時產生不良，從而於整體上可成為較大之不良之原因。

另一方面，本發明者等人與至上述為止之研究區分地，亦著眼於蛾眼膜之表面之鉛筆硬度及耐擦傷性。圖51係以蛾眼膜之樹脂硬度、鉛筆硬度及耐擦傷性之關係，將蛾眼膜分類之模式圖。蛾眼膜131係排列有奈米級之突起之構造物，故若賦予藉由鉛筆描繪、藉由鋼絲絨擦拭等機械性刺激，則應力集中至各個突起。其中，若使蛾眼膜131之轉印用樹脂本身變硬，則相對於向鉛筆135推壓方向之壓力之耐性、即鉛筆硬度提高，但於藉由鋼絲絨施加摩擦時，突起物之前端折斷等變脆，故鋼絲絨耐性變得不充分。另一方面，於設為如使蛾眼膜131之轉印用樹脂變柔軟，且即便產生摩擦亦柔和地復位之構成之情形時，表面變得易於滑動，故鋼絲絨耐性提高，但另一方面，於施加有向鉛筆135推壓方向之壓力時，發生突起物之變形，且不會復位而直接以變形狀態固定。

作為對此種課題之解決方法，可列舉於基材132與蛾眼膜131之間，設置一層硬塗層之方法。若於基材上，設置硬塗層作為下層，設置蛾眼膜轉印用樹脂作為上層，而對該等層之硬度之平衡進行調節，則可於硬塗層上顯現硬度，於蛾眼膜轉印用樹脂上顯現柔和度，因此可獲得鉛筆硬度及耐擦傷性之兩方優異之特性。

又，就TAC膜與蛾眼膜之間之密接性之方面而言，設置硬塗層之方法亦有效。例如，於使用捲對捲法於TAC膜上形成蛾眼膜之情形時，蛾眼膜相對於成為蛾眼膜之基底之轉印用樹脂之TAC膜的密接性較低。特別是，於藉由基於 JIS K5600-5-6之柵格剝離試驗進行評估時，具有容易地剝離之課題。圖52係表示進行柵格試驗時之情形之模式圖。所謂柵格試驗係指如下之試驗：將成為評估對象之膜141貼附至基材142，藉由切割器切入10×10塊之切口，於猛烈地剝離時，藉由網眼之剩餘對密接性進行評估。

作為產生此種課題之原因，可列舉如下方面：即便基材與對蛾眼構造進行轉印之樹脂例如分別為丙烯酸等相同種類之材料，由於初始之狀態不同，故於各者之間亦形成界面。於基底之基材與轉印用樹脂之接觸面積較廣之情形時，可獲得某種程度之密接性，但於接觸面積較窄之情形時，密接性下降。

與此相對，亦可藉由應用硬塗層而解決。設為於基材上，設置硬塗層作為下層，設置蛾眼膜轉印用樹脂作為上層，且於將硬塗層塗佈至基材上時，使用溶劑將基材溶解，製作自基材溶出之成分與溶劑彼此混合之區域，從而使基材與硬塗界面之接觸面積增大，進而，於將轉印用樹脂塗佈至硬塗層上時，不使硬塗層完全硬化，而使具有硬塗層成分與轉印用樹脂成分之一部分彼此混合之區域，藉此使硬塗層與轉印用樹脂界面之接觸面積增大。

然而，本發明者等人進一步進行銳意研究，結果發現於使用此種硬塗層之情形時，產生如下之課題。

圖53係表示如下情形之模式圖：相對於積層有基材、硬塗層、及蛾眼膜轉印用樹脂之膜之表面，旋轉於表面上具有奈米級之突起物之模具，從而對蛾眼膜轉印用樹脂賦予 蛾眼構造。

圖53中之右側之長箭頭表示轉印方向，隔以模具而上側之區域為已轉印區域，下側之區域為未轉印區域。模具154具有圓筒構造，且具有可旋轉之機構。作為各膜之尺寸之一例，於向作為現行規格之1340 mm寬度之基材152之轉印的情形時，對內側之膜需要單側為20 mm之塗敷範圍，故硬塗層153之寬度成為1300 mm。又，若考慮對進而內側之膜亦需要單側為20 mm之塗敷範圍，則轉印用樹脂151之寬度需要設為1260 mm。即，每當增大積層之膜時，能夠以一次製作蛾眼膜之寬度變窄。

又，於藉由如圖53所示之方法製作蛾眼膜之情形時，進而具有產生模具154之阻塞之可能性。於如上所述之方法中，存在如下情形：於產生硬塗層153顯現於最表面之部位時，由於硬塗層153為較硬之樹脂，且脫模性較差，故模具154因藉由硬塗層阻塞而無法動作、或藉由與其他構件之應力平衡之混亂而膜撕裂。

於轉印步驟中，若模具154按照時間順序追隨相接之膜，則最先與基材152接觸，繼而與硬塗層153接觸，繼而與轉印用樹脂151接觸。再者，於與轉印用樹脂151接觸時，進而亦與作為範圍而確保之硬塗層153及基材152接觸。繼而，於結束時，與轉印用樹脂151接觸，與硬塗層153接觸，最後與基材152接觸。因此，模具154分別於硬塗層153中之設置作塗敷範圍之兩邊側之區域、以及轉印開始區域及轉印結束區域內接觸。對於硬塗層153之兩邊 側之區域，可藉由去除模具154之凹凸之方法實現處理，但除為此需要多餘之步驟外，於轉印開始區域及轉印結束區域內，無法避免接觸。如上所述，於製造步驟上，難以避免硬塗層153與模具154之接觸。

又，若具有硬塗層，則可產生鋼絲絨耐性(耐擦傷性)與捲曲(捲繞)之問題。若使硬塗層完全硬化，則無法獲得與轉印樹脂層之密接，故硬塗層於塗佈後需要使溶媒揮發，但轉印樹脂層需要以未完全推進重疊之狀態塗佈。若不使轉印樹脂層完全硬化，則低分子成分彼此擴散，從而若如硬塗層般較硬且脆弱之成分擴散至轉印樹脂層，則鋼絲絨耐性劣化。因此，需要以低分子成分不會擴散之程度較厚地塗佈硬塗層。然而，若將硬塗層及轉印樹脂層結合之膜厚相對於基材膜變得過大，則產生整體捲曲之嶄新之課題。

本發明係鑒於上述現狀而完成者，其目的在於提供一種即便不進行皂化處理，與偏光元件之接著亦較為容易，且即便不設置硬塗層，亦可確保鉛筆硬度及耐擦傷性之包含基材及蛾眼膜之組合之積層體。

本發明者等人對上述課題進行了詳細研究，結果達成使用丙烯酸作為形成蛾眼膜之基材之結論。丙烯酸硬於TAC，因此於進行捲取時，即便嵌入有異物，亦不會產生不良。又，對丙烯酸包含UV吸收劑之情形較為容易，因此就抑制偏光元件之UV劣化之方面而言亦有效。又，若 使用如丙烯酸之較硬之基材，則即便柔軟地形成轉印用樹脂亦無問題，且對硬度係可使用基材而顯現，對柔和度係藉由轉印用樹脂之柔軟度之調節而顯現，因此可同時確保鉛筆硬度及耐擦傷性之兩方。

即，藉由使用丙烯酸作為基材之材料，無需硬塗層之形成。藉由不形成硬塗層，可消除鋼絲絨耐性(耐擦傷性)與捲曲(捲繞)之課題、及模具之阻塞之課題。進而，藉由硬塗層一層變無，蛾眼膜之轉印範圍變廣，從而提高製造效率。再者，為了獲得充分之密接性，亦可考慮不使硬塗層完全硬化而對轉印用樹脂進行塗敷，但硬塗層係顯現硬度之樹脂，故與顯現柔和度之轉印用樹脂相比，易於在模具上阻塞。

又，就丙烯酸與PVA之接著性之觀點而言，即便不進行皂化，藉由使用用以確保密接之固形成分與溶劑之混合液等，亦可對丙烯酸基材之表面賦予親水性。

再者，亦對使用COP(Cyclo Olefin Polymer：環烯聚合物)作為基材之情形進行了研究，但因以下之原因而放棄。作為使用有COP之基材之代表例，可列舉ZEONOR(日本端翁公司製造)、ARTON(大倉工業公司(Okura Industrial Co.,Ltd.)製造)。於將基材應用於偏光板之情形時，需要PVA膜之乾燥步驟，故基材之透濕度較高者有利，但就該方面而言，COP優於丙烯酸及TAC。根據本發明者等人使用基於JIS K7129之透濕度之測定方法而進行研究之結果，COP為1.0(g/m²/24 hr)，丙烯酸為50(g/m²/24 hr)，TAC 為200(g/m²/24 hr)。然而，根據COP，可與丙烯酸相同地使用溶劑，因此無需皂化處理，但COP較TAC柔軟。因此，為了確保鉛筆硬度，需要於COP膜之兩側製作硬塗層。又，於將基材應用於偏光板之情形時，基材需要具有UV吸收性，對丙烯酸添加UV吸收劑之情形較為容易，另一方面，難以對COP添加UV吸收劑。於使用COP之情形時，需要另外對UV吸收層進行塗敷。

以此方式，本發明者等人可徹底解決上述課題而達成本發明。

即，本發明之一形態係一種積層體，其包括：抗反射膜，其具有鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部；及丙烯酸基材，其載置上述抗反射膜；且上述抗反射膜與上述丙烯酸基材係彼此直接貼附。

作為本發明之積層體之構成，只要為將此種構成要素作為必需要素而形成者，則不會藉由其他構成要素而特別限定。

本發明之積層體包含抗反射膜、及載置上述抗反射膜之丙烯酸基材。上述抗反射膜可藉由貼附至基材上，減少於基材面上產生之反射，例如，藉由將本發明之積層體應用作構成顯示裝置之最前面之構件，可獲得因外光反射引起之周圍(例如，室內之螢光燈)之映入較少之進行良好的顯示之顯示裝置。

丙烯酸硬於TAC及COP，因此可不重新設置硬塗層，而與蛾眼膜轉印用樹脂之間，對鉛筆硬度及耐擦傷性之平衡 進行調節。又，丙烯酸係透光性優異之材料。

上述抗反射膜具有鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部。於本說明書中，所謂「可見光波長以下」係指，普通之可見光波長區域之下限即380 nm以下，更佳為300 nm以下，進而較佳為可見光波長之約1/2即200 nm以下。若凸部之頂點間之寬度超過400 nm，則存在藉由藍波長成分而帶色之情形，但藉由將寬度設為300 nm以下，而該影響充分地得到抑制，藉由將寬度設為200 nm以下，而幾乎完全不會受到影響。

上述抗反射膜與上述丙烯酸基材係彼此直接貼附。如上所述，根據本發明，通常無需為了提高抗反射膜與基材膜之間之接著性而設置之硬塗層，因此鋼絲絨耐性(耐擦傷性)及捲曲(捲繞)之課題、製造步驟中之模具之阻塞、及膜之撕裂等之擔憂得以消除。

對本發明之積層體之較佳之形態進形說明。

較佳為，於上述丙烯酸基材之與抗反射膜為相反側配置有偏光元件。藉由貼附偏光元件，可製作表面之低反射性非常優異之偏光板。又，藉由本發明之特徵，抗反射膜具有硬度與柔和度之兩方之特性，因此可獲得耐外壓或擦傷之偏光板，從而可獲得應用於顯示裝置之最表面之情形較佳之偏光板。

較佳為，於上述丙烯酸基材與上述偏光元件之間，形成有水系接著劑層，於上述丙烯酸基材與上述水系接著劑層之間，形成有親水性膜。通常使用於偏光板之膜材料於與 丙烯酸基材之接著性上存在改善點，但藉由水系接著劑層與親水性膜之組合，可不污染偏光元件而獲得充分之密接性。

本發明者等人發現對於製作此種積層體之方法，可具體根據如下之方法而實現。

本發明之另一形態係一種積層體之製造方法(以下，亦稱為本發明之第一製造方法)，該積層體係包括：抗反射膜，其具有鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部；及丙烯酸基材，其載置上述抗反射膜；且上述製造方法包含如下步驟：塗佈步驟，其係於丙烯酸基材上塗佈樹脂組成物；加熱步驟，其係於上述塗佈步驟後，將模具按壓至樹脂組成物，並且對上述樹脂組成物進行60。C以上且30秒以上之加熱；及轉印步驟，其係於上述加熱步驟後，以將上述模具按壓至該樹脂組成物之狀態，對上述樹脂組成物照射光而使上述樹脂組成物硬化。

本發明之第一製造方法中使用之上述樹脂組成物係藉由某種固定量之光的照射而推進硬化之光硬化性樹脂。上述模具只要為可實現凹凸形狀向樹脂組成物之轉印者即可，無需一定由金屬材料構成。作為上述模具，使用具有鄰接之凹部之底點間之寬度為可見光波長以下之複數個凹部之模具，藉此可相對於樹脂組成物，設置複數個如上所述之凸部。

於本發明之第一製造方法中，在使轉印凹凸形狀之樹脂組成物硬化前，對樹脂組成物進行60℃以上且30秒以上之 加熱。藉此，丙烯酸基材與樹脂組成物之接著性提高。若加熱條件為小於60℃且小於30秒，則存在無法獲得充分之接著之情形。較佳為，上述加熱步驟係對上述樹脂組成物進行100℃以下且3分鐘以下之加熱之步驟。若以高於100℃且長於3分鐘之時間進行加熱，則存在基材過度溶解，而基材白濁之虞。

於本發明之第一製造方法中，上述樹脂組成物較佳為由抗反射膜之原液構成。根據上述加熱步驟，即便不使用溶劑作為塗佈至丙烯酸基材上之樹脂組成物，亦可獲得充分之接著效果，因此蛾眼膜之製作得以簡化。

本發明之另一形態係一種積層體之製造方法(以下，亦稱為本發明之第二製造方法)，該積層體係包括：抗反射膜，其具有鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部；及丙烯酸基材，其載置上述抗反射膜；且上述製造方法包含如下步驟：塗佈步驟，其係於丙烯酸基材上塗佈樹脂材料；及轉印步驟，其係於上述塗佈步驟後，將模具按壓至樹脂組成物，並且使上述樹脂組成物硬化；且上述樹脂組成物包含抗反射膜之構成成分及溶劑。

本發明之第二製造方法中使用之上述樹脂組成物只要為可藉由模具製作具有鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部者作為抗反射膜，即無特別限定。例如，可列舉代表光硬化性樹脂組成物、電子線硬化性樹脂組成物等之活性能量線硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物等。作為上述模具，可使用與本發明之第一製造 方法相同者。

於本發明之第二製造方法中，作為樹脂組成物，使用抗反射膜之構成成分及溶劑。本製造方法中使用之抗反射膜之構成成分於常溫下為固體或液體均可。又，作為溶劑，較佳為有機溶劑。根據於有機溶劑中溶解有固形成分之混合液，雖因種類而有程度之偏差，但至少藉由長時間浸漬於丙烯酸中，而使丙烯酸基材之表面溶解，故可提高接著性。

作為於本製造方法中較佳地使用之溶劑，可列舉選自包含酮系(例如，丙酮、甲基乙基酮(MEK，Methyl Ethyl Ketone)、及甲基異丁基酮(MIBK，Methyl Isobutyl Ketone))、芳香族系(例如，苯、甲苯、二甲苯、及苯酚)、氯化物系(例如，氯仿、二氯乙烷、三氯乙烯、及二氯乙烷)、及乙酸系(例如，乙酸乙酯、及冰醋酸)之群(以下，亦稱為第一群)中之任一溶劑。該等溶劑係溶解力特別強者，於應優先密接性之情形時，可特佳地使用。

又，作為於本製造方法中較佳地使用之溶劑之其他例，可列舉選自包含甲醇、乙醇、丁醇、環己烷、環己酮、及乙酸丁酯之群(以下，亦稱為第二群)中之任一溶劑。該等係溶解力稍差，但難以產生基材之白濁化，故於應優先透明性之情形時，可特佳地使用。再者，該等溶劑亦可分別組合使用。

根據上述第一群中所包含之溶劑，若於滴下後，至乾燥為止需要約10秒，則基材表面溶解至密接性提高之程度。 又，根據上述第二群中所包含之溶劑，若於滴下後，至乾燥為止需要約2分鐘，則基材表面溶解至密接性提高之程度。

於本發明之第二製造方法中，並非一定需要如本發明之第一製造方法之加熱步驟，但藉由一併進行上述加熱步驟，可更提高密接性。即，於本發明之第二製造方法中，較佳為於凹凸形狀之轉印後且使樹脂組成物硬化前，對樹脂組成物進行60℃以上且30秒以上之加熱，上述加熱步驟較佳為對上述樹脂組成物進行100℃以下且3分鐘以下之加熱之步驟。又，於該情形時，上述樹脂組成物較佳為活性能量線硬化性樹脂組成物。

本發明之第一及第二製造方法進而較佳為包含接著步驟，其係於丙烯酸基材之與抗反射膜為相反側之面上，貼附偏光元件。藉此，可獲得耐外壓或擦傷之偏光板，從而可於顯示裝置之最表面上應用偏光板。

上述接著步驟較佳為包含親水處理步驟，其係於丙烯酸基材上，形成親水性膜。作為親水處理之方法，可列舉BELL-CLEAN塗佈、氧化鈦塗層劑塗佈、防靜電防污塗劑塗佈、電暈處理、電漿處理、紫外線照射處理等，但特佳為BELL-CLEAN(日油(NOF CORPORATION)公司製造)之塗佈。藉此，可容易地獲得40°以下之接觸角，並且亦獲得防污性。再者，作為接近BELL-CLEAN之成分，可列舉混成塗料，相同地，可賦予親水性及防污性之特性。作為上述混成塗料之例，可列舉如下之塗料：作為具有親水性 之固形成分，設為使矽土之奈米粒子與接合矽土之樹脂(黏合劑)混合者，從而藉由溶劑對上述固形成分進行溶解調製。根據此種混成塗料，可僅稍微對基材之表層進行溶解，從而可不產生白濁而獲得良好之接著性。

上述親水處理步驟後之丙烯酸基材表面之接觸角較佳為於25℃時為30°以下。又，較佳為，上述製造方法於親水處理步驟後，包含使親水性膜之水分揮發之乾燥步驟。藉此，即便使用有水系之接著劑，亦可幾乎完全防止對偏光元件之污染，並且可獲得相對於丙烯酸基材之較高之接著性。

根據本發明之積層體，即便不設置硬塗層，丙烯酸基材亦可顯現硬度，且蛾眼膜亦可顯現柔和度，因此可獲得除優異之抗反射特性外，鉛筆硬度及耐擦傷性之兩方之特性優異之物品。

以下，揭示實施形態，且參照圖式，進一步詳細地對本發明進行說明，但本發明並僅不限定於該等實施形態。

本發明之積層體、及藉由本發明之製造方法而製作之積層體係例如可相對於顯示裝置之構成構件(自發光型顯示元件、非自發光型顯示元件、光源、光擴散片、稜鏡片、偏光反射片、相位差板、偏光板、前面板、殼體等)、透鏡、窗玻璃、邊框玻璃、展示窗、水槽、印刷物、相片、塗裝物品、照明機器等使用。

實施形態1

於實施形態1中，對將本發明之積層體用作作為液晶顯示裝置內之構件之一之偏光板的例進行說明。圖1係實施形態1之液晶顯示裝置之剖面模式圖。如圖1所示，實施形態1之液晶顯示裝置包含液晶顯示面板2及偏光板1，且將液晶顯示面板2及偏光板1朝向外界側(表側)而按照該順序積層，液晶顯示面板2與偏光板1係介隔黏著劑3而接著。再者，於液晶顯示面板2上，在背面側(背側)亦接著有偏光板(未圖示)。偏光板1係TAC(三乙醯纖維素)基材(第一基材)14、接著劑15、偏光膜13、接著劑15、親水性膜16、丙烯酸基材(第二基材)12、及蛾眼膜(抗反射膜)11朝向顯示面側並按照該順序積層而構成，可減少偏光板1之表面上產生之反射。於偏光膜13與TAC基材14之間、及偏光膜13與丙烯酸基材12之間，分別配置有接著劑15，從而貼合有各構件。於丙烯酸基材12與蛾眼膜11之間，未配置有其他構件。再者，於偏光膜13與丙烯酸基材12之間，進而實施用以提高接著性之親水性處理，從而形成有親水性膜16。

液晶顯示面板2包括一對玻璃基板、及密封於上述一對玻璃基板間之液晶層。藉由對相對於液晶層之電壓施加進行控制，可對液晶層中包含之液晶分子之定向進行控制，對雙折射性相對於透過液晶層之光之賦予進行調節，因此藉由進而組合使用偏光板，可對光之透過及阻斷(顯示之打開及關閉)進行控制。

於實施形態1中，在丙烯酸基材12之外界側，形成有蛾眼膜11。入射至蛾眼膜11之表面之光幾乎全部透過空氣與蛾眼膜11之界面、及蛾眼膜11與丙烯酸基材12之界面，因此與先前之光干擾型之抗反射膜相比，可獲得非常優異之抗反射效果，從而可獲得發揮優異之顯示品質之液晶顯示裝置。

圖2係表示如下情形之模式圖：相對於積層有基材與蛾眼膜轉印用樹脂之膜之表面，旋轉於表面上具有奈米級之突起物之模具，從而對蛾眼膜轉印用樹脂賦予蛾眼構造。於轉印用樹脂51之下方，未形成有硬塗層，而轉印用樹脂51與丙烯酸基材52直接接觸。模具54具有圓筒構造，且具有可旋轉之機構。再者，作為模具54，並不限定於圓筒狀者，亦可使用平板狀者。模具54於表面上具有奈米級之凹凸，藉由向蛾眼膜轉印用樹脂51上擠壓上述模具54，奈米級之凹凸轉印至轉印用樹脂51之表面上。又，藉由與此同時進行光照射等轉印用樹脂硬化步驟，可形成蛾眼構造。

於實施形態1中，第一基材為TAC基材14。對TAC基材14之單面進行皂化處理，從而提高與接著劑之親和性。於本發明中，第一基材之材質並不限定於TAC，作為可使用之其他例，可列舉丙烯酸、COP、PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)、COC(Cyclic Olefin Copolymer，環烯烴聚合物)等。於本發明中，第一基材之形狀並無特別限定，例如可列舉膜、片、射出成形品、壓製成形品等之熔融成形品等。作為TAC基材14之厚度，較 佳為40~80 μm。

於實施形態1中，第二基材為丙烯酸基材12。更具體而言，可列舉Acryviewa(日本觸媒(NIPPON shokubai)公司製造)、Technoloy(住友化學(SUMITOMO CHEMICAL)公司製造)等。丙烯酸基材12之形狀並無特別限定，例如可列舉膜、片、射出成形品、壓製成形品等之熔融成形品等。作為丙烯酸基材12之厚度，較佳為40~80 μm。

於實施形態1中，偏光膜13之材質係使碘錯合物或二色性色素吸附於PVA(聚乙烯醇)系之膜者，具有將自然光轉換成於固定之方向上振盪之偏光之特性。偏光膜13係由TAC基材14及丙烯酸基材12而挾持。作為偏光膜13之厚度，較佳為20 μm。

作為形成親水性膜16之方法之一例，可列舉如下方法：將主劑設為聚矽氧樹脂成分，將混合MEK(甲基乙基酮)等酮系溶劑、或甲苯等芳香族系溶劑、及丁醇等乙醇系溶劑而調製之混合液塗佈至丙烯酸基材12之單面，於乾燥後，在同一面上塗佈水系之接著劑15。酮系溶劑與乙醇系溶劑之莫耳比最佳為1：1，若處於1：10~10：1之範圍內，則獲得充分之效果。作為接著劑15之厚度，較佳為1.0~2.0 μm。根據該方法，於使親水性膜16完全乾燥後，與偏光膜13進行貼合，故上述溶劑不會如先前般使偏光膜13之表層部分溶解及膨潤至在目測下白濁之程度，而不會浸漬偏光膜13。又，無需使用特殊之接著劑，故生產上之不便較少。作為上述主劑，可較佳地使用三聚氰胺交聯型聚矽氧變性 丙烯酸聚合物(商品名：BELL-CLEAN，日油公司製造)，除此之外，可使用塗料用聚矽氧清漆、聚矽氧變性清漆等。又，亦可使用上述混成塗料。對親水性膜16中所包含之成分，可使用紅外線光譜分析法(IR，Infrared)或能量分散型X射線分光法(EDX，Energy Dispersive X-ray Analysis)進行檢測。

圖3係表示重疊TAC基材、偏光膜、及將蛾眼膜包括於表面上之丙烯酸基材而製作偏光板之捲對捲法之情形的模式圖。於圖3所示之例中，準備有3種輥，第一個係捲繞有於表面上包括蛾眼膜之丙烯酸基材(第二基材)之第一輥21，第二個係捲繞有偏光膜之第二輥22，第三個係捲繞有TAC膜(第一基材)之第三輥23。自第三輥23抽出之膜、自第二輥22抽出之膜、及自第一輥21抽出之膜分別介隔接著劑而自下方按照順序貼合。接著劑自狹縫擠壓式塗佈機24噴出，從而分別塗佈至自第一輥21抽出之膜之背側、及自第一輥21抽出之膜之表側。自最下方位置之第三輥23抽出之膜直接滑動，但第二輥22及第一輥21係預先配置於較第三輥23更靠上部，從而經過夾送輥25而引導至適當之位置。

自3種輥抽出之各膜彼此重疊，從而引入至一對圓筒狀之構件26之間。而且，經過用以使PVA膜及接著劑中所包含之成分蒸發之乾燥步驟(例如，80℃、60分鐘)，完成於表面上具有蛾眼構造之偏光板。

於實施形態1中，蛾眼膜係不於中間介隔其他構件而直 接貼附於丙烯酸基材上。藉此，藉由製作硬塗層，可避免如下情形：需要確保範圍，故製造步驟非效率化；及無法實現利用捲對捲法之蛾眼膜之製造。

以下，對蛾眼膜11進行詳述。如圖1所示，蛾眼膜(抗反射膜)11之表面具有如下之構造：存在複數個鄰接之凸部之頂點之間隔(非週期構造之情形時之鄰接之凸部的寬度)或間距(週期構造之情形時之鄰接之凸部之寬度)為可見光波長以下的凸部11。鄰接之凸部之頂點間之寬度為380 nm以下(可見光波長以下)，換言之，於蛾眼膜11之表面上，複數個凸部保持380 nm以下之間隔或間距而並列配置。再者，實施形態1之凸部於在其排列中不具有規則性之情形時(非週期性排列)，具有不會產生不必要之繞射光之優點，從而更佳。

圖4及圖5係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖。圖4係表示凸部之單位構造為圓錐狀之情形，圖5係表示凸部之單位構造為四角錐狀之情形。如圖4及圖5所示，凸部11a之脊部為頂點t，各凸部11a間相接之點為底點b。如圖4及圖5所示，鄰接之凸部11a之頂點間之寬度w係以將垂線分別自凸部11a之頂點t下落至同一平面上為止時之二點間之距離表示。又，凸部11a之頂點至底點為止之高度h係以將垂線自凸部11a之頂點t下落至定位有底點b之平面為止時之距離表示。

於實施形態1之蛾眼膜中，鄰接之凸部11a之頂點間之寬度w為380 nm以下，較佳為300 nm以下，更佳為200 nm以 下。再者，於圖4及圖5中，作為凸部11a之單位構造，例示了圓錐及四角錐，但實施形態1之蛾眼膜之表面只要具有形成有頂點及底點，且凸部之間隔或間距控制在可見光波長以下之構造，則其單位構造並無特別限定。例如，亦可為如下形狀：如圖6及圖7所示之自底點越接近頂點，傾斜越平緩之形狀(吊鐘型、鈴鐺型或圓頂型)；如圖8所示之於底點與頂點之間之區域內，傾斜變得更陡峭之形狀(正弦型)；及如圖9所示之自底點越接近頂點，傾斜越陡峭之形狀(針型或帳篷型)。又，亦可於斜面上形成有階梯狀之台階。

又，於實施形態1中，凸部可具有複數個排列性，進而亦可不具有排列性。即，並不限定於凸部11a間相接之點即底點於鄰接之凸部間成為相同之高度的形態。例如，如圖10~圖12所示，亦可為各凸部11a間相接之表面上之點(接點)之高度根據位置而不同的形態。此時，於該等形態中，不存在鞍部。所謂鞍部係指山之稜線塌陷之部位(廣辭苑第五版)。此處，於將具有一個頂點t之凸部視為基準時，位於低於該頂點t之位置上之接點存在複數個而形成鞍部，於本說明書中，將位於處於任意之凸部之周圍之最低位置上的接點設為底點b，將位於較頂點t更靠下，且較底點b更靠上而成為鞍部之平衡點之點亦稱為鞍點s。於該情形時，凸部11a之頂點間之寬度w相當於鄰接之頂點間的距離，高度h相當於自頂點至底點為止之垂直方向之距離。

以下，更詳細地進行說明。特別是，使用如下之例表示：於將具有一個頂點之凸部視為基準時，鄰接之凸部之接點存在複數個，且位於低於頂點t之位置而形成鞍部(鞍點)之情形。圖13及圖14係詳細地表示蛾眼膜之凸部之立體模式圖。圖13係為吊鐘型且具有鞍部及鞍點之情形時之放大圖，圖14係為針型且具有鞍部及鞍點之情形時之放大圖。如圖13及圖14所示，相對於凸部11a之一個頂點t，位於低於該頂點t之位置上之鄰接之凸部的接點存在複數個，即具有鞍部。如對圖13及圖14進行比較可知，於吊鐘型與針型中，鞍部之高度係易於在吊鐘型中更高地形成。

圖15係將蛾眼構造之凸部及凹部更放大之平面模式圖。圖15所示之白色圓圈(○)之點表示頂點，黑色圓圈(●)之點表示底點，白色四邊形(□)表示鞍部之鞍點。如圖15所示，以一個頂點為中心，於同心圓上形成有底點與鞍點。於圖15中，模式性地表示於一個圓上形成有6個底點與6個鞍點者，但實際上並不限定於此，亦包含更不規則者。

圖16係表示沿圖15中之A-A'線之剖面、及沿圖15中之B-B'線之剖面之模式圖。頂點以a2、b3、a6、b5表示，鞍部以b1、b2、a4、b4、b6表示，底點以a1、a3、a5、a7表示。此時，a2與b3之關係、及b3與b5之關係成為鄰接之頂點間之關係，a2與b3之間之距離、及b3與b5之間之距離相當於鄰接之頂點間之距離w。又，a2與a1或a3之間之高度、a6與a5或a7之間之高度相當於凸部之高度h。

此處，對實施形態1之蛾眼膜可實現低反射之原理進行 說明。圖17及圖18係表示實施形態1之蛾眼膜實現低反射之原理之模式圖。圖17係表示蛾眼膜之剖面構造，圖18係表示感受入射至蛾眼膜之光之折射率(有效折射率)的變化。光於自某種介質向不同之介質行進時，在該等介質界面上折射、透過及反射。折射等之程度係根據光行進之介質之折射率而決定，例如，若為空氣，則約為1.0之折射率，若為樹脂，則約為1.5之折射率。於實施形態1中，形成於蛾眼膜11之表面上之凹凸構造之單位構造大致為錐狀，即具有朝向前端方向寬度逐漸變小之形狀。因此，如圖17及圖18所示，可認為於位於空氣層與蛾眼膜11之界面上之凸部(X-Y間)中，折射率自空氣之折射率即約1.0連續且逐漸地變大至膜構成材料之折射率(若為樹脂，則約為1.5)為止。光反射之量依存於介質間之折射率差，故如上所述般藉由將光之折射界面虛擬地設為幾乎不存在者，幾乎全部之光穿過蛾眼膜11中，從而膜表面上之反射率大幅減少。於圖17中，將大致錘狀之凹凸構造記載為一例，但當然並不限定於此，只要為產生因上述原理產生之蛾眼之抗反射效果之凹凸構造即可。

作為構成蛾眼膜11之表面之複數個凸部之較佳的分佈之一例，可列舉彼此鄰接之凸部間之寬度(間隔或間距)為50 nm以上200 nm以下，凸部之高度為50 nm以上400 nm以下之形態。於圖4~圖17中，表示複數個凸部11a於整體上具有可見光波長以下之週期之重複單位而並列配置之形態，但可具有不具有週期性之部分，亦可於整體上不具有週期 性。又，複數個凸部中之任一個凸部、與其鄰接之複數個凸部之間之各個寬度亦可彼此不同。於不具有週期性之形態中，具有難以產生因規則排列引起之透過及反射之繞射散射之性能上的優點、及易於製造圖案之製造上之優點。進而，如圖10~圖16所示，於蛾眼膜11中，亦可相對於一個凸部，於其周圍形成有複數個高度不同之底點。再者，蛾眼膜11之表面亦可具有大於奈米級之凹凸之微米級以上之凹凸，即亦可具有雙重之凹凸構造。

作為蛾眼膜用之轉印用樹脂之材料，可列舉代表光硬化性樹脂組成物、電子線硬化性樹脂組成物等之活性能量線硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物等。

其中，較佳為(甲基)丙烯酸聚合性組成物，特佳為於分子中具有聚氨酯鍵之聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、於分子中具有酯鍵之酯(甲基)丙烯酸酯、及於分子中具有環氧基之環氧(甲基)丙烯酸酯。

於轉印用樹脂為光硬化性樹脂組成物之情形時，較佳為含有光聚合起始劑，於為熱硬化性樹脂組成物之情形時，較佳為含有熱聚合起始劑。作為光聚合起始劑，可為於紫外線區域內具有吸收波長之紫外線聚合起始劑，亦可為於可見光域內具有吸收波長之可見光聚合起始劑，但若考慮紫外線照射對偏光元件之不良影響，則較佳為可見光聚合起始劑。藉此，不對基材賦予UV吸收特性。

作為使用模具而於基材上形成(複製)微細凹凸之具體之方法，除連同凹凸之轉印一併照射光而使樹脂硬化之2P法 (Photo-polymerization(光聚合)法，)外，例如只要根據抗反射物品之用途及基材之材料等而適當選擇熱壓製法(壓紋法)、射出成形法、溶膠凝膠法等複製法、或微細凹凸賦形片之層壓法、微細凹凸層之轉印法等各種方法即可。

模具之凹部之深度、及蛾眼膜之凸部之高度可使用SEM(Scanning Electron Microscope：掃描式電子顯微鏡)而進行測定。再者，實際上嚴格而言模具之凹部之深度、與蛾眼膜之凸部之高度不同，通常模具之凹部之深度更大，且亦將蛾眼膜之凸部之高度相對於模具之凹部的深度之比率稱為填充率。

實施例1

使用實際上製作之例(實施例1)，詳細地對實施形態1之偏光板中之包含蛾眼膜與丙烯酸基材之積層體的製造方法進行說明。又，亦表示實施例1之特性評估試驗之結果。

圖19~圖24係表示實施例1之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。於實施例1中，將轉印用樹脂之原液滴下至模具上，以按壓模具之狀態，進行某一定以上之加熱步驟，藉此進行轉印用樹脂之成膜。

首先，如圖19所示，向於表面上具有鋁陽極氧化層之玻璃之模具滴下成為蛾眼膜之轉印用樹脂31的原液(無溶劑)之液滴。繼而，如圖20所示，使丙烯酸基材32(住友化學Technoloy公司製造)重疊於轉印用樹脂31之液滴，從而如圖21所示，使用手壓滾筒37，於模具33上拉伸上述液滴，形成具有約10 μm之均勻之膜厚之層。

又，於其他步驟中，製作用以對轉印用樹脂形成奈米級之凹凸之模具。首先，準備40 mm×40 mm之玻璃基板，並使用濺鍍，將鋁(Al)膜以1.0 μm之膜厚成膜於玻璃基板上。繼而，重複使鋁膜陽極氧化，並立即進行蝕刻之步驟，藉此於表面上形成鄰接之孔(凹部)之底點間之距離為可見光波長以下的多個微小之孔。具體而言，藉由依次進行陽極氧化、蝕刻、陽極氧化、蝕刻、陽極氧化、蝕刻、陽極氧化、蝕刻及陽極氧化之流程(陽極氧化為5次、蝕刻為4次)而製作上述孔。藉由不停歇而連續地進行此種陽極氧化與蝕刻重複步驟，形成異常成長粒子，從而獲得具有朝向鋁膜之內部而前端變細之形狀(錐形狀)之微小的孔。陽極氧化之條件設為草酸0.6 wt%，液溫5℃，80 V之施加電壓。藉由對陽極氧化時間進行調節，對形成之孔之大小(深度)產生差異。無論於哪種例中，蝕刻之條件均分別設為磷酸1 mol/l，液溫30℃，25分鐘。

繼而，如圖22所示，將丙烯酸基材32側作為下表面，將包含丙烯酸基材32及轉印用樹脂31之積層體搭載至加熱板34上，從而進行乾燥步驟。此後，如圖23所示，將丙烯酸基材32側作為下表面，於石英基座35上載置積層體，藉由壓製機36自模具33側向積層體施加負重(200 kg、30秒)，將模具33之表面形狀轉印至上述轉印用樹脂31，並且藉由高壓水銀燈自石英基座35側照射30秒之紫外線(30 mW/cm²)，此後放置20秒而使轉印用樹脂31硬化。繼而，如圖24所示，將丙烯酸基材32及蛾眼膜11自模具33脫模， 從而完成於丙烯酸基材32與蛾眼膜11之間不介隔構件之積層體之樣品。

於使用光硬化性樹脂作為轉印用樹脂材料之情形時，較佳為添加光聚合起始劑，且較佳為由下述化學式(1)； 表示之可見光聚合起始劑A(商品名：IRGACURE819，BASF(巴斯夫)公司製造)、或以化合物a：化合物b=1：3之重量比混合由下述化學式(2)； 表示之化合物a、與由下述化學式(3)； 表示之化合物b之可見光聚合起始劑B(商品名：IRGACURE1800，BASF公司製造)。

上述可見光聚合起始劑A之吸收特性由圖25之圖表表 示。上述可見光聚合起始劑B之吸收特性由圖26之圖表表示。

如圖25所示，可見光聚合起始劑A至少於相對於轉印用樹脂(無溶劑)之重量比率為0.01 wt%以上時，在可見光波長區域內，略微地表現吸收特性。又，於重量比率為0.1 wt%以上時，表現較高之吸收特性。另一方面，至少於相對於轉印用樹脂(無溶劑)之重量比率為0.001 wt%以下時，在可見光波長區域內，不會表現吸收特性。

又，如圖26所示，於可見光聚合起始劑B中，至少在相對於轉印用樹脂(無溶劑)之重量比率為0.01 wt%以上時，於可見光波長區域內，亦表現吸收特性。又，於重量比率為0.1 wt%以上時，表現較高之吸收特性。另一方面，至少於相對於轉印用樹脂(無溶劑)之重量比率為0.001 wt%以下時，在可見光波長區域內，不會表現吸收特性。

使用可見光聚合起始劑A或可見光聚合起始劑B，且將重量比率設為固定以上，藉此不僅可使用紫外線，而且可使用可見光促進轉印用樹脂之硬化。

於實施例1中，使用(甲基)丙烯酸聚合性組成物作為轉印用樹脂，使用可見光聚合起始劑B作為光聚合起始劑。

對以此方式製作之樣品(包含蛾眼膜及丙烯酸基材之積層體)，使用基於JIS K5600-5-6之柵格剝離試驗，進行丙烯酸基材與蛾眼膜之間之密接性之確認。將其結果示於表1。

如表1所示，於60℃、80℃及100℃中之任一加熱時間中，均藉由至少進行30秒以上之加熱，而確保良好之密接性。另一方面，於進行10秒以下之加熱之情形時，無法確保充分之密接性。

又，於設為最高溫即100℃、最長時間即3分鐘之情形時，亦不會對紫外線硬化性造成不良影響。進而，無論於哪種樣品中，均未對丙烯酸基材之耐熱性(具體而言，收縮等)發現問題。

繼而，對蛾眼膜之特性評估進行試驗。作為具體之評估方法，對(1)膜厚測定、(2)利用SEM之形狀觀察、(3)反射率之測定、(4)鉛筆硬度試驗、(5)SW(Steel Wool，鋼絲絨)試驗、及(6)指紋擦拭性進行驗證。

圖27係表示對蛾眼膜之凸部之高度進行驗證之結果的相片，圖28係表示對蛾眼膜之膜厚進行驗證之結果之相片，圖29係自表示蛾眼膜之表面構造之立體方向進行拍攝之相片。如圖27~圖29所示，每個凸部之高度大致統一成280~320 nm。又，蛾眼膜之膜厚為4~5 μm。進而，於剛剛轉印後，蛾眼膜之表面上之各凸部分別獨立，未形成凸部之前端彎折且凸部間連接而成為捆束之(成為交聯狀)所謂 之黏附構造。

對所製作之樣品，以加熱溫度為60度，加熱時間為30秒之樣品為例，進行反射率之測定。於反射率之測定中，使用柯尼卡美能達(Konica Minolta)公司製造分光光譜儀CM-2600d(SCI模式)。於圖30中，表示反射率之測定結果。圖30之上側之圖表表示重疊有先前之TAC基材、硬塗層、及蛾眼膜的積層體之反射率，圖30之下側之圖表表示重疊有實施例1中所製作之丙烯酸基材及蛾眼膜的積層體之反射率。自圖30可知，即便使用丙烯酸基材作為基材，且去除硬塗層，亦可獲得反射率未大幅改變，而具有充分之反射率特性之蛾眼膜。

再者，進行其他特性試驗，結果獲得如下之結果。填充率為75%，且作為利用光干擾減少反射者，與普通之AR(Anti Reflection)膜相比，獲得較高之值。又，為了對脫模性進行確認，以剝離時之手之感觸進行比較，結果獲得與AR膜大致相同之感觸。

選擇所製作之樣品中之將加熱溫度設為80℃，將加熱時間設為30秒之樣品，從而進行鉛筆硬度試驗。具體而言，拉引5根線，對其劃痕進行驗證，結果於HB中，5根均未發現劃痕，而於H中，5根均殘留有劃痕。因此，可知上述樣品具有HB耐性。

選擇所製作之樣品中之將加熱溫度設為80℃，將加熱時間設為30秒之樣品，從而進行鋼絲絨(SW)(400 g)耐性試驗。具體而言，對1往復花費1秒而進行合計10往復，以擦 傷是否在5根以內為基準而藉由目測進行評估。SW耐性係以於黑色壓克力板上貼附有樣品之狀態進行評估。

選擇所製作之樣品中之將加熱溫度設為80℃，將加熱時間設為30秒之樣品，從而對指紋擦拭性進行驗證。作為試驗方法，對附著有指紋(水及脂)之狀態下之上述樣品，進行乾式擦拭、水擦拭及洗滌劑擦拭之3種擦拭，對各個試驗方法，藉由目測調查指紋殘餘。再者，作為洗滌劑，使用將中性洗滌劑稀釋成1%者。又，於洗滌劑擦拭中，在使用有洗滌劑之擦拭後，進行水擦拭。其結果，於乾式擦拭中，指紋未得到充分擦拭，但藉由水擦拭或洗滌劑擦拭，而可擦拭指紋。

實施例2

以下，使用實際製作之例(實施例2)，詳細地對實施形態1之偏光板中之包含蛾眼膜與丙烯酸基材之積層體的製造方法進行說明。又，亦表示實施例2之樣品之特性評估試驗之結果。

圖31~圖35係實施例2之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。於實施例2中，將使溶劑混合於轉印用樹脂之固形成分中者塗佈至丙烯酸基材上，於塗佈步驟後，進行某種固定以上之加熱步驟，藉此進行轉印用樹脂之成膜。

對將蛾眼膜形成於丙烯酸基材上之方法進行說明。首先，如圖31所示，於丙烯酸基材(住友化學Technoloy公司製造)42上，以膜厚成為10 μm之方式，塗佈轉印用樹脂41，該轉印用樹脂41係相對於固形成分，作為溶劑以莫耳 比1：1之比率混合MEK(甲基乙基酮)而形成。

又，於其他步驟中，製作用以對轉印用樹脂形成奈米級之凹凸之模具。首先，準備40 mm×40 mm之玻璃基板，並使用濺鍍，將鋁(Al)膜以1.0 μm之膜厚成膜於玻璃基板上。繼而，重複使鋁膜陽極氧化，且立即進行蝕刻之步驟，藉此於表面上形成鄰接之孔(凹部)之底點間之距離為可見光波長以下的多個微小之孔。具體而言，藉由依次進行陽極氧化、蝕刻、陽極氧化、蝕刻、陽極氧化、蝕刻、陽極氧化、蝕刻及陽極氧化之流程(陽極氧化為5次、蝕刻為4次)而製作上述孔。藉由不空開間隔而連續地進行此種陽極氧化與蝕刻之重複步驟，形成異常成長粒子，從而獲得具有朝向鋁膜之內部而前端變細之形狀(錐形狀)之微小的孔。陽極氧化之條件設為草酸0.6 wt%，液溫5℃，80 V之施加電壓。藉由對陽極氧化時間進行調節，形成之孔之大小(深度)產生差異。無論於哪種例中，蝕刻之條件均分別設為磷酸1 mol/l，液溫30℃，25分鐘。

繼而，如圖32所示，使用手壓滾筒47而於模具43上拉伸上述液滴，從而形成具有均勻之膜厚之層。繼而，如圖33所示，將丙烯酸基材42側作為下表面，使模具43、包含轉印用樹脂41及丙烯酸基材42之積層體搭載至加熱板44上，從而進行乾燥步驟。此後，如圖34所示，將丙烯酸基材42側作為下表面，將模具43、包含轉印用樹脂41及丙烯酸基材42之積層體載置於石英基座45上，從而藉由壓製機46自模具43側向積層體施加負重(200 kg、30秒)，將模具43之 表面形狀轉印至轉印用樹脂41，並且自石英基座45側照射紫外線，此後放置20秒而使轉印用樹脂41硬化。而且，如圖35所示，將包含丙烯酸基材42及蛾眼膜11之積層體自模具43脫模，從而完成於丙烯酸基材42與蛾眼膜11之間不介隔構件之積層體之樣品。

於實施例1及實施例2中，蛾眼膜11之厚度成為4~5 μm，但根據如實施例2般使用溶劑提高與丙烯酸基材之接著性之方法，可將蛾眼膜之厚度最小降至1 μm。另一方面，丙烯酸基材之厚度較佳為20~100 μm。現在，丙烯酸基材之厚度較佳為40 μm，於現在之技術中，若成為20 μm以下，則作為基材之黏度消失，從而操作變難，因此易於產生因蛾眼膜之厚度大於丙烯酸基材引起之捲曲(捲繞)。與此相對，根據實施例2之方法，可薄於先前地形成蛾眼膜及丙烯酸基材之膜厚，因此獲得操作之提高、捲曲(捲繞)之防止之優點，從而於製造上有利。再者，若使蛾眼膜11之厚度小於1 μm，則無法獲得與轉印之構造之深度之差，從而變得難以脫模，故需要1 μm以上。

於實施例2中，使用(甲基)丙烯酸聚合性組成物作為轉印用樹脂，使用可見光聚合起始劑B作為光聚合起始劑。

於實施例2中，根據丙烯酸基材之特性、溶劑之濃度等，進行樣品之條件之分配，對各樣品，進行外觀、密接性及SW耐性之驗證試驗。下述表2表示其驗證結果。

作為丙烯酸基材42，準備表面具有親水性者、與具有疎水性者之2種。又，準備丙烯酸基材之厚度為75 μm者、與125 μm者之2種。表2中之樹脂濃度(%)係藉由固形成分/(固形成分+溶劑)而算出之質量比之百分率。作為溶劑，使用MEK(甲基乙基酮)。紫外線(UV)照射係將超高壓水銀燈設為光源，將累計光量設為1 J/cm²。拾取上述表2所示之各樣品中之上述A~H之樣品，進行各種特性評估試驗。以 下，使用表3表示其結果。

表3中之膜外觀之數值係以5(良好)~1(較差)之5階段進行評估。具體而言，如下所述。

5：無可明顯觀察到之擦傷

4：可明顯地觀察到之擦傷為5根以下

3：可明顯地觀察到之擦傷為10根以下

2：可明顯地觀察到之擦傷為30根以下

1：可明顯地觀察到之擦傷無法數清

如自表3可知，對樹脂濃度與膜之外觀之相關關係，樹脂濃度較高者可獲得良好之外觀。又，對乾燥溫度與膜之外觀之相關關係，可知乾燥溫度較低者可獲得良好之外觀。

圖36係對由親水性丙烯酸系樹脂構成之樣品A~D，表示密接性之評估試驗之結果之相片圖。自樣品A與樣品B之比較、及樣品C與樣品D之比較可知，若為相同之種類之樹脂，且為相同之乾燥溫度，則樹脂濃度越高，殘留於黑 色壓克力板上之樹脂越多，從而可獲得較高之密接性。又，自樣品A與樣品C之比較、及樣品B與樣品D之比較可知，若為相同之樹脂之種類，且為相同之樹脂濃度，則乾燥溫度越高，殘留於黑色壓克力板上之樹脂越多，從而可獲得較高之密接性。

圖37係對由疎水性丙烯酸系樹脂構成之樣品E~H，表示密接性之評估試驗之結果之相片圖。自樣品E與樣品F之比較、及樣品G與樣品H之比較可知，若為相同之樹脂之種類，且為相同之乾燥溫度，則樹脂濃度越低，殘留於黑色壓克力板上之樹脂越多，從而可獲得較高之密接性。又，自樣品E與樣品G之比較、及樣品F與樣品H之比較可知，若為相同之樹脂之種類，且為相同之乾燥溫度，則樹脂濃度越低，殘留於黑色壓克力板上之樹脂越多，從而可獲得較高之密接性。

如上所述，可知即便設為使用表面為親水性者與疎水性者中之任一材料作為丙烯酸基材，亦成為如下傾向：樹脂濃度越低，越可獲得較高之密接性，乾燥溫度越高，越可獲得較高之密接性。

對於SW耐性，由於膜缺陷部分破壞SW面，故評估較為困難，但至少可知於親水性樹脂與疎水性樹脂中，親水性樹脂者可獲得較高之耐性。

圖38~圖41係樣品A~D之表面之放大相片圖。自圖38~圖41可知，無論於哪個樣品中，均形成有蛾眼構造。

實施例3

實施例3之積層體係於將使溶劑混合於轉印用樹脂之固形成分中者塗佈至丙烯酸基材上，並在塗佈步驟後，進行轉印用樹脂之成膜之方面，與實施例2相同，但於在使用手壓滾筒而於模具上拉伸液滴，形成具有均勻之膜厚之層後，搭載至加熱板上而不進行乾燥步驟之方面，與實施例2存在差異。於此種不進行乾燥步驟之情形時，藉由上述混合液確保固定以上之接著性，故亦可直接於丙烯酸基材上貼附蛾眼膜。對於去除利用加熱板之乾燥步驟之具體之條件，與實施例2相同。

實施例4

以下，詳細地對如下之例(實施例4)進行說明：相對於實施形態1之偏光板中之實施例2之包含蛾眼膜與丙烯酸基材的積層體，實際上貼附偏光膜而製作偏光板。又，為了對實施例4之偏光板之特性進行評估，亦製作用於參考例1及比較例1之偏光板，且使用該等而進行特性之比較研究。

繼而，對實際上將以此方式製作之包含蛾眼膜及丙烯酸基材之積層體(實施例2)貼附至偏光膜上，製作偏光板之例(實施例4)進行說明。

每當製作偏光板時，使用圖3所示之捲對捲法。此處，分別製作具有各自不同之材質之基材膜之實施例4的偏光板、參考例1之偏光板、及比較例1之偏光板。

實施例4之偏光板之製作方法係使用已於至上述為止之實施形態1中敍述之方法。具體而言，藉由凹版印刷塗 敷，將分別混合作為主劑之BELL-CLEAN(固形成分濃度50%；日油公司製造)，作為溶劑之使環己酮與甲苯以莫耳比1：1混合者而形成之親水性膜成膜於鹼基材上。此後，於加熱板上，進行80℃、5分鐘之乾燥步驟，從而使親水性膜乾燥。繼而，使用水系之接著劑，使丙烯酸基材與偏光膜貼合，從而使彼此接著。又，使未對表面進行皂化處理之N-TAC膜(富士膠片(Fujifilm)公司製造)貼合至偏光膜之另一面上，從而使用水系之接著劑，使彼此接著。

參考例1

於參考例1中，除不進行如實施例4之用以提高親水性之溶劑處理，而進行電暈處理外，設為與實施例4之偏光板之例相同。電暈處理係以200 W．分/m²之條件進行。

比較例1

比較例1係於蛾眼膜與TAC基材之間形成有硬塗層之偏光板之例。作為基材膜，使用對表面進行了皂化處理之UV吸收-TAC膜(富士膠片公司製造)。皂化處理係以鹼處理、水洗、酸處理及水洗之順序進行。於鹼處理中，以50℃、1分鐘之條件對2當量之氫氧化鈉(NAOH)水溶液進行處理，於酸處理中，以25℃、1分鐘之條件對1 mol/l之硫酸水溶液進行處理。

作為普通之硬塗層之材料，可列舉於基於JIS K5400之鉛筆硬度試驗中，具有H以上之硬度之熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等。

於比較例1中，作為硬塗層之材料，使用電離放射線硬 化型樹脂(DNP精細化工(DNP Fine Chemicals)公司製造，HC-C(CS-530))。

以下，表示實施例4、參考例1及比較例1之偏光板之特性評估試驗之結果。

首先，進行密接力之試驗。具體而言，對所製作之各偏光板，進行10 cm見方之打孔試驗，從而進行是否產生自4個角之剝離之試驗。產生剝離者表示偏光膜與丙烯酸基材之間之密接力較低。其結果，藉由實施例4及比較例1，獲得良好之結果，但於參考例1中，未獲得良好之密接性。

繼而，於各偏光板中，使用接觸角計，進行與偏光膜貼合前之、相對於丙烯酸基材表面上之水之接觸角的測定。其結果，獲得於實施例4中為30°，於參考例1中為60°，於比較例1中為25°之結果。

因此，根據參考例1，可確保蛾眼膜與丙烯酸基材之間之密接性，但對偏光膜與丙烯酸基材之間之密接性殘留課題。

另一方面，對於比較例1，對偏光膜與丙烯酸基材之間之密接性獲得良好之結果，但產生如下之課題。

以下，表示比較例1之偏光板之特性評估之結果。圖42係為了製作比較例1之樣品而使用之模具之表面附近的剖面相片圖，圖43係為了製作比較例1之樣品而使用之模具之上表面相片圖。圖42中之○記號之部分係於與硬塗層重疊時，具有硬塗層之樹脂阻塞之可能性之部位，圖43所示之黑色部分表示阻塞於模具上之樹脂。具有樹脂阻塞之可 能性之部位係孔大幅深於周圍。於所成膜之鋁膜不緻密而具有垂簾之情形時，特別是易於在異常成長粒子之周圍產生垂簾，從而具有孔大幅深於周圍之傾向。

此種樹脂之阻塞現象產生於形成有硬塗層之區域內，但未於形成有蛾眼膜之轉印用樹脂之區域內發現。因此，如上述實施例1，可知於如無硬塗層而蛾眼膜與丙烯酸基材直接接著之情形時，例如即便於模具之一部分形成有較深之孔，亦難以產生樹脂阻塞於模具之凹凸之現象。

再者，僅供參考，使用表示製作圖44~圖46所示之模具之過程中之模具表面的相片，對形成較深之孔之現象進行說明。圖44係以低倍表示鋁剛剛成膜後之異常成長粒子之情形之相片，圖45係以高倍表示鋁剛剛成膜後之異常成長粒子之情形之相片。又，圖46係表示重複陽極氧化及蝕刻後之模具表面之相片圖。自圖44~圖46可知，異常成長粒子之周圍之孔變得特別深。圖42所示之○記號之部分可考慮為於陽極氧化及蝕刻之步驟之間，異常成長粒子之部分脫離之部分。

又，僅供參考，對與蛾眼膜與丙烯酸基材之密接性相關之驗證結果進行說明。圖47係表示對蛾眼膜與丙烯酸基材之密接性進行驗證之試驗之情形的剖面模式圖。

與圖23及圖34相同地，於2 cm見方之石英基座55上，將丙烯酸基材52作為下表面，載置包含轉印用樹脂51及丙烯酸基材52之積層體，並於將具有凹凸面之模具53重疊於轉印用樹脂後，施加200 kg之負重，並且自石英基座55側照 射紫外線，藉此製作蛾眼膜。於硬化完成後，進行考驗蛾眼膜與丙烯酸基材之密接力之剝離試驗，從而對密接性進行評估。作為樣品，使用自Technoloy公司市售之2種丙烯酸基材(樣品a及樣品b)。又，設為各自分配膜厚，且作為樣品a，準備膜厚為50 μm者(樣品a-1)膜厚為75 μm者(樣品a-2)、及膜厚為125 μm者(樣品a-3)，作為樣品b，準備膜厚為75 μm者(樣品b-1)、及膜厚為125 μm者(樣品b-2)。再者，為了提高密接力，向上述2種丙烯酸基材之各者添加橡膠粒子。而且，於上述丙烯酸基材之一面上，橡膠粒子突出於表面上，於另一面上，無橡膠粒子之突出。

然而，於進行了上述試驗之任一樣品中，均未能獲得充分之密接力。因此，對該等各樣品之水接觸角、十六烷接觸角、及表面自由能量進行調查，結果如下述表4，各樣品中無特別數值之差，又，與實際將獲得密接性之PET(聚對苯二甲酸乙二酯)作為基材而製作蛾眼膜之例相比，對水接觸角，與上述各樣品亦不存在差。

根據以上內容，可知如下情形：如對蛾眼膜與丙烯酸基材之轉印之可否，即對密接性，藉由上述之偏光膜與丙烯酸基材之密接力之關係而發現之、未發現與水接觸角之相關性。

換言之，可知蛾眼膜與丙烯酸基材之間之密接力、與偏光膜與丙烯酸基材之間之密接力並非係以相同之思想解決課題者。

再者，本申請案係以2011年2月1日申請之日本國專利申請2011-020096號為基礎，主張基於巴黎條約或申請國之法律法規之優先權者。該申請之內容之整體作為參照併入本申請案中。

1‧‧‧偏光板

2‧‧‧液晶顯示面板

3‧‧‧黏著劑

11‧‧‧蛾眼膜

11a‧‧‧凸部

12‧‧‧丙烯酸基材(第二基材)

13‧‧‧偏光膜(偏光元件)

14‧‧‧TAC基材(第一基材)

15‧‧‧接著劑

16‧‧‧親水性膜

21‧‧‧第一輥

22‧‧‧第二輥

23‧‧‧第三輥

24‧‧‧狹縫擠壓式塗佈機

25‧‧‧夾送輥

26‧‧‧圓筒狀之構件

31‧‧‧轉印用樹脂

32‧‧‧丙烯酸基材(第二基材)

33‧‧‧模具

34‧‧‧加熱板

35‧‧‧石英基座

36‧‧‧壓製機

37‧‧‧手壓滾筒

41‧‧‧轉印用樹脂

42‧‧‧丙烯酸基材(第二基材)

43‧‧‧模具

44‧‧‧加熱板

45‧‧‧石英基座

46‧‧‧壓製機

47‧‧‧手壓滾筒

51‧‧‧轉印用樹脂

52‧‧‧丙烯酸基材(第二基材)

53‧‧‧模具

54‧‧‧模具

55‧‧‧石英基座

56‧‧‧壓製機

111‧‧‧蛾眼膜

111a‧‧‧轉印用樹脂溶出物

114‧‧‧TAC膜

114a‧‧‧TAC膜溶出物

117‧‧‧硬塗層

118‧‧‧皂化液

119‧‧‧結晶化物(針狀異物)

121‧‧‧(附蛾眼膜之)TAC膜

131‧‧‧蛾眼膜

132‧‧‧基材

135‧‧‧鉛筆

141‧‧‧成為評估對象之膜

142‧‧‧基材

151‧‧‧轉印用樹脂

152‧‧‧基材

153‧‧‧硬塗層

154‧‧‧模具

圖1係實施形態1之液晶顯示裝置之剖面模式圖。

圖2係表示如下情形之模式圖：相對於積層有基材與蛾眼膜轉印用樹脂之膜之表面，旋轉於表面上具有奈米級之突起物之模具，從而對蛾眼膜轉印用樹脂，賦予蛾眼構造。

圖3係表示重疊TAC基材、偏光膜、及於表面上包括蛾眼膜之丙烯酸基材而製作偏光板之捲對捲法之情形的模式圖。

圖4係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖，表示有凸部之 單位構造為圓錐狀之情形。

圖5係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖，表示有凸部之單位構造為四角錐狀之情形。

圖6係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖，表示有自底點越接近頂點，傾斜越平緩之形狀。

圖7係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖，表示有自底點越接近頂點，傾斜越平緩之形狀。

圖8係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖，表示有於底點與頂點之間之區域內，傾斜變得更陡峭之形狀。

圖9係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖，表示有自底點越接近頂點，傾斜越陡峭之形狀。

圖10係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖，表示有各凸部間相接之表面上之點(接點)之高度根據位置而不同的形態。

圖11係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖，表示有各凸部間相接之表面上之點(接點)之高度根據位置而不同的形態。

圖12係實施形態1之蛾眼膜之立體模式圖，表示有各凸部間相接之表面上之點(接點)之高度根據位置而不同的形態。

圖13係詳細地表示蛾眼膜之凸部之立體模式圖，且係為吊鐘型且具有鞍部及鞍點之情形時之放大圖。

圖14係詳細地表示蛾眼膜之凸部之立體模式圖，且係為針型且具有鞍部及鞍點之情形時之放大圖。

圖15係更放大蛾眼構造之凸部及凹部之平面模式圖。

圖16係表示沿圖15之A-A'線之剖面、及沿圖15之B-B'線之剖面之模式圖。

圖17係表示實施形態1之蛾眼膜實現低反射之原理之模式圖，表示有蛾眼膜之剖面構造。

圖18係表示感受入射至蛾眼膜之光之折射率(有效折射率)之變化。

圖19係表示實施例1之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖20係表示實施例1之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖21係表示實施例1之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖22係表示實施例1之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖23係表示實施例1之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖24係表示實施例1之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖25係表示可見光聚合起始劑A之吸收特性之圖表。

圖26係表示可見光聚合起始劑B之吸收特性之圖表。

圖27係表示對蛾眼膜之凸部之高度進行驗證之結果的相片。

圖28係表示對蛾眼膜之膜厚進行驗證之結果之相片。

圖29係自表示蛾眼膜之表面構造之立體方向進行拍攝之相片。

圖30係表示所製作之樣品之反射率之測定結果。

圖31係表示實施例2之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖32係表示實施例2之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖33係表示實施例2之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖34係表示實施例2之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖35係表示實施例2之偏光板之製造步驟之各階段的模式圖。

圖36係對由親水性丙烯酸系樹脂構成之樣品A~D，表示密接性之評估試驗之結果之相片圖。

圖37係對由疎水性丙烯酸系樹脂構成之樣品E~H，表示密接性之評估試驗之結果之相片圖。

圖38係樣品A之表面之放大相片圖。

圖39係樣品B之表面之放大相片圖。

圖40係樣品C之表面之放大相片圖。

圖41係樣品D之表面之放大相片圖。

圖42係為了製作比較例1之樣品而使用之模具之表面附近的剖面相片圖。

圖43係為了製作比較例1之樣品而使用之模具之上表面 相片圖。

圖44係以低倍表示鋁剛剛成膜後之異常成長粒子之情形之相片。

圖45係以高倍表示鋁剛剛成膜後之異常成長粒子之情形之相片。

圖46係表示對陽極氧化及蝕刻進行重複後之模具表面之相片圖。

圖47係表示對蛾眼膜與丙烯酸基材之密接性進行驗證之試驗之情形的剖面模式圖。

圖48係表示進行皂化處理之狀態之模式圖。

圖49係表示進行皂化處理後之狀態之模式圖。

圖50係表示捲取TAC膜之情形之模式圖。

圖51係以蛾眼膜之樹脂硬度與鉛筆硬度及耐擦傷性之關係，對蛾眼膜進行分類之模式圖。

圖52係表示進行柵格試驗時之情形之模式圖。

圖53係表示如下情形之模式圖：相對於積層有基材、硬塗層、及蛾眼膜轉印用樹脂之膜之表面，旋轉於表面上具有奈米級之突起物之模具，從而對蛾眼膜轉印用樹脂賦予蛾眼構造。

1‧‧‧偏光板

2‧‧‧液晶顯示面板

3‧‧‧黏著劑

11‧‧‧蛾眼膜

12‧‧‧丙烯酸基材(第二基材)

13‧‧‧偏光膜(偏光元件)

14‧‧‧TAC基材(第一基材)

15‧‧‧接著劑

16‧‧‧親水性膜

Claims (14)

1. 一種積層體，其特徵在於包括：抗反射膜，其具有鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部；及丙烯酸基材，其載置該抗反射膜；該抗反射膜與該丙烯酸基材係彼此直接貼附；且於上述丙烯酸基材之與抗反射膜為相反側配置有偏光元件。
2. 一種積層體，其特徵在於包括：抗反射膜，其具有鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部；及丙烯酸基材，其載置該抗反射膜；該抗反射膜與該丙烯酸基材係彼此直接貼附；且於上述丙烯酸基材與上述偏光元件之間，形成有水系接著劑層，於上述丙烯酸基材與該水系接著劑層之間，形成有親水性膜。
3. 如請求項1之積層體，其中於上述丙烯酸基材與上述偏光元件之間，形成有水系接著劑層，於上述丙烯酸基材與該水系接著劑層之間，形成有親水性膜。
4. 一種積層體之製造方法，其特徵在於該積層體包括：抗反射膜，其具有鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部；及丙烯酸基材，其載置該抗反射膜；且該製造方法包括：塗佈步驟，其係於丙烯酸基材上塗佈樹脂組成物；加熱步驟，其係於該塗佈步驟後，將模具按壓至樹脂組成物，並且對該樹脂組成物進行60℃以上且30秒以上 之加熱；及轉印步驟，其係於該加熱步驟後，以將該模具按壓至該樹脂組成物之狀態，對該樹脂組成物照射光而使該樹脂組成物硬化。
5. 如請求項4之積層體之製造方法，其中上述加熱步驟係對上述樹脂組成物進行100℃以下且3分鐘以下之加熱之步驟。
6. 如請求項4或5之積層體之製造方法，其中上述樹脂組成物係由抗反射膜之原液構成。
7. 一種積層體之製造方法，其特徵在於該積層體包括：抗反射膜，其包含鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部；及丙烯酸基材，其載置該抗反射膜；該製造方法包括：塗佈步驟，其係於丙烯酸基材上塗佈樹脂材料；及轉印步驟，其係於該塗佈步驟後，將模具按壓至樹脂組成物，並且使該樹脂組成物硬化；且該樹脂組成物包含抗反射膜之構成成分及溶劑，上述溶劑係選自由丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、苯、甲苯、二甲苯、苯酚、氯仿、二氯乙烷、三氯乙烯、二氯乙烷、乙酸乙酯、及冰醋酸組成之群中之任一溶劑。
8. 一種積層體之製造方法，其特徵在於該積層體包括：抗反射膜，其包含鄰接之凸部之頂點間之寬度為可見光波長以下的複數個凸部；及丙烯酸基材，其載置該抗反射 膜；該製造方法包括：塗佈步驟，其係於丙烯酸基材上塗佈樹脂材料；及轉印步驟，其係於該塗佈步驟後，將模具按壓至樹脂組成物，並且使該樹脂組成物硬化；且該樹脂組成物包含抗反射膜之構成成分及溶劑，上述溶劑係選自由甲醇、乙醇、丁醇、環己烷、環己酮、及乙酸丁酯組成之群中之任一溶劑。
9. 如請求項7或8之積層體之製造方法，其中上述製造方法包含於上述塗佈步驟後，將模具按壓至樹脂組成物，並且對該樹脂組成物進行60℃以上且30秒以上之加熱的加熱步驟。
10. 如請求項9之積層體之製造方法，其中上述加熱步驟係對上述樹脂組成物進行100℃以下且3分鐘以下之加熱之步驟。
11. 如請求項4、5、7及8中之任一項之積層體之製造方法，其中上述製造方法更包含接著步驟，該接著步驟係於丙烯酸基材之與抗反射膜為相反側之面上，貼附偏光元件。
12. 如請求項11之積層體之製造方法，其中上述接著步驟包含於丙烯酸基材上形成親水性膜之親水處理步驟。
13. 如請求項12之積層體之製造方法，其中上述親水處理步驟後之丙烯酸基材表面之接觸角於25℃時為30°以下。
14. 如請求項12之積層體之製造方法，其中上述製造方法包含於親水處理步驟後，使親水性膜之水分揮發之乾燥步驟。