TWI577521B - 膨脹發泡物件之拋光 - Google Patents

Description

膨脹發泡物件之拋光 【對相關申請案的交叉參考】

本申請案的標的物係關於代理人案號為NIKE.183324的標題為「膨脹發泡物件之拋光(BUFFING EXPANDED FOAM ITEMS)」的同時申請的申請案。

諸態樣係關於發泡物件之處理。更特定而言，本發明係關於已形成為膨脹發泡結構的由諸如乙烯醋酸乙烯酯之材料製成的發泡物件之拋光。本發明係關於處理此發泡物件之表面以自發泡物件之外部移除外部層(諸如，堅固且緻密的表層)之全部或部分，從而准許藉由施加熱量及/或壓力將物件較有效地模製為後續形式。

可藉由發泡鞋底部分建構鞋類物品。發泡部分之形成可涉及將發泡部分形成為具有並不意欲用於最終組裝成鞋類物品之大小、形狀或表面的預成型發泡部分。預成型發泡部分之形成可導致較高密度之表面部分(諸如，表皮)形成於預成型發泡部分上。預成型件上之表皮可促進進一步處理預成型發泡部分，以產生意欲組裝成鞋類物品的所要後續或最終發泡體形式。

本發明係關於發泡物件之處理。更特定而言，本發明係關於已形成為一膨脹發泡結構的由諸如乙烯醋酸乙烯酯之一材料製成的發泡物件之拋光。本發明係關於處理此發泡物件之表面之至少一部分，以自該發泡物件之外部移除一外部層(諸如，一堅固且緻密的表層)之全部或部分，從而准許藉由施加熱量及/或壓力將該物件較有效地模製為其最終形式。

根據本發明之系統及方法利用粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)以移除一發泡物件之全部或至少一部分。根據本發明，可以一預定壓力、角度、速率及/或持續時間施加具有一特定大小或大小範圍、具有一特定化學組成及/或具有一特定硬度或硬度範圍之粒子，以在該發泡物件(諸如，一膨脹EVA發泡物件)之一最終模製之前移除該物件之至少一部分。粒子至該發泡物件之該施加的參數可基於彼發泡物件所要求之模製能力程度及/或該發泡物件之表層的厚度而變化。若需要，可在最終模製之前自該物件移除該膨脹發泡物件上剩餘之粒子。舉例而言，可藉由使用一鼓風系統、一毛刷系統、施加水之一沖洗系統、一振動系統或任何其他機構自一發泡物件移除過量粒子。在一些實例中，可回收根據本發明所使用之粒子以准許再用於自額外發泡物件對表層進行移除。

100‧‧‧用於拋光發泡物件之系統

110‧‧‧拋光腔室

111‧‧‧入口

112‧‧‧清洗腔室

114‧‧‧腔室出口

120‧‧‧傳送機構

122‧‧‧方向

124‧‧‧路徑

130‧‧‧第一物件/發泡物件

132‧‧‧第二物件/發泡物件

134‧‧‧第三物件/發泡物件

140‧‧‧第一施配器

142‧‧‧第二施配器

150‧‧‧粒子

152‧‧‧粒子

160‧‧‧清洗機構/清洗系統

200‧‧‧用於拋光發泡物件之系統

220‧‧‧傳送機構

224‧‧‧行進路徑

230‧‧‧發泡物件

232‧‧‧距離

234‧‧‧距離

240‧‧‧第一施配器

242‧‧‧粒狀碳酸氫鈉

246‧‧‧距離

248‧‧‧第一角度

250‧‧‧第二施配器

252‧‧‧粒狀碳酸氫鈉

256‧‧‧距離

258‧‧‧第二角度

260‧‧‧第三施配器

262‧‧‧粒狀碳酸氫鈉

266‧‧‧第一距離

268‧‧‧第三角度

280‧‧‧第四施配器

282‧‧‧粒狀碳酸氫鈉

286‧‧‧第四距離

288‧‧‧第四角度

290‧‧‧距離

292‧‧‧距離

300‧‧‧系統

320‧‧‧傳送機構

330‧‧‧發泡物件

340‧‧‧第一側向施配器

341‧‧‧第一噴嘴

342‧‧‧粒狀碳酸氫鈉

343‧‧‧第二噴嘴

344‧‧‧距離

346‧‧‧角度

350‧‧‧第二側向施配器

351‧‧‧第一噴嘴

352‧‧‧粒狀碳酸氫鈉

353‧‧‧第二噴嘴

354‧‧‧距離

356‧‧‧角度

360‧‧‧第一垂直施配器

361‧‧‧第一噴嘴

362‧‧‧粒狀碳酸氫鈉

363‧‧‧第二噴嘴

364‧‧‧距離

366‧‧‧角度

400‧‧‧用於拋光發泡物件之系統

410‧‧‧腔室

411‧‧‧頂部

412‧‧‧入口

413‧‧‧底部

414‧‧‧出口

415‧‧‧壁

416‧‧‧槽盆

417‧‧‧第二槽盆

420‧‧‧傳送機構

422‧‧‧方向

430‧‧‧物件

440‧‧‧第一施配器

441‧‧‧第一噴嘴

443‧‧‧第二噴嘴

450‧‧‧第二施配器

451‧‧‧第一噴嘴

453‧‧‧第二噴嘴

460‧‧‧噴水噴嘴

462‧‧‧水

470‧‧‧先前所施配粒狀碳酸氫鈉

471‧‧‧過量粒狀碳酸氫鈉

480‧‧‧吸入機構

490‧‧‧粒狀碳酸氫鈉遞送系統

491‧‧‧內壁

493‧‧‧拋光腔室

494‧‧‧連接件

495‧‧‧清洗腔室/連接件

500‧‧‧用於處理發泡物件之系統

510‧‧‧腔室

520‧‧‧傳送機構

522‧‧‧箭頭

530‧‧‧膨脹EVA發泡物件

540‧‧‧拋光區

541‧‧‧粒狀碳酸氫鈉施配器

550‧‧‧儲集器

552‧‧‧連接件

554‧‧‧投射機構

560‧‧‧清洗區

561‧‧‧清洗器

580‧‧‧製備系統

590‧‧‧精整系統

600‧‧‧清洗系統

620‧‧‧傳送機構

630‧‧‧膨脹EVA發泡物件

640‧‧‧毛刷

642‧‧‧箭頭

650‧‧‧噴水噴嘴/吹風機

652‧‧‧水

700‧‧‧系統

710‧‧‧腔室

712‧‧‧入口

714‧‧‧出口

720‧‧‧傳送機構

722‧‧‧第一高度

724‧‧‧第二高度

726‧‧‧第三高度

728‧‧‧第四高度

730‧‧‧發泡物件

740‧‧‧拋光區

742‧‧‧第一部分

750‧‧‧內部隔板

752‧‧‧開口

760‧‧‧清洗區

762‧‧‧第二部分

780‧‧‧移除機構

790‧‧‧收集台

800‧‧‧系統

810‧‧‧腔室

812‧‧‧入口

820‧‧‧傳送機構

822‧‧‧第一高度

824‧‧‧第二高度

826‧‧‧第三高度

830‧‧‧發泡物件

840‧‧‧拋光區

852‧‧‧出口

860‧‧‧清洗區

862‧‧‧儲水器

880‧‧‧移除機構

910‧‧‧持留機構

912‧‧‧第一叉尖

914‧‧‧第二叉尖

915‧‧‧接頭

916‧‧‧第三叉尖

918‧‧‧第四叉尖

920‧‧‧傳送機構

930‧‧‧發泡物件

931‧‧‧箭頭

1010‧‧‧持留機構/持留器件

1011‧‧‧箭頭

1012‧‧‧第一叉尖

1013‧‧‧距離

1015‧‧‧接頭

1016‧‧‧第三叉尖

1017‧‧‧距離

1030‧‧‧發泡物件

1052‧‧‧第一滾輪

1053‧‧‧第二滾輪

1080‧‧‧第一構件

1082‧‧‧第二構件

1110‧‧‧持留機構

1120‧‧‧傳送機構

1130‧‧‧發泡物件

1152‧‧‧第一滾輪

1153‧‧‧第二滾輪

1180‧‧‧第一構件

1182‧‧‧第二構件

1210‧‧‧持留機構

1212‧‧‧第一叉尖

1214‧‧‧第三叉尖

1216‧‧‧第二叉尖

1230‧‧‧發泡物件

1252‧‧‧第一滾輪

1253‧‧‧第二滾輪

1280‧‧‧第一構件

1282‧‧‧第二構件

1290‧‧‧距離

1291‧‧‧距離

1292‧‧‧長度

1293‧‧‧長度

1300‧‧‧用於處理發泡物件之方法

1400‧‧‧用於拋光發泡物件之方法

1500‧‧‧用於拋光發泡物件之方法

1600‧‧‧用於拋光發泡物件之方法

1700‧‧‧用於拋光發泡物件之方法

1801‧‧‧清洗系統

1812‧‧‧吹風馬達

1814‧‧‧泵馬達

1816‧‧‧傳動機構

1820‧‧‧第一傳送機構

1821‧‧‧第二傳送機構

1830‧‧‧發泡物件

1831‧‧‧高度

1832‧‧‧距離

1840‧‧‧洗滌噴嘴總成

1842‧‧‧洗滌噴口

1844‧‧‧洗滌噴口

1846‧‧‧洗滌噴口

1848‧‧‧洗滌噴口

1850‧‧‧噴射噴嘴總成

1851‧‧‧噴射噴嘴排出口

1852‧‧‧噴射噴嘴排出口

1860‧‧‧吹風機

1861‧‧‧吹風排出口

1862‧‧‧吹風排出口

1863‧‧‧吹風排出口

1864‧‧‧吹風排出口

1870‧‧‧第一滾筒

1871‧‧‧第二滾筒

1872‧‧‧第一滾筒

1873‧‧‧第二滾筒

1874‧‧‧第一傳送帶

1875‧‧‧傳回部分

1876‧‧‧材料接觸部分

1877‧‧‧第二傳送帶

1878‧‧‧材料接觸部分

1879‧‧‧傳回部分

1880‧‧‧移除機構

1890‧‧‧滴盤/排放盤

1892‧‧‧距離

1893‧‧‧距離

1896‧‧‧距離

1897‧‧‧距離

1898‧‧‧距離

1900‧‧‧發泡物件

1902‧‧‧發泡物件

1904‧‧‧底表面

1906‧‧‧外側

1907‧‧‧側壁

1908‧‧‧跟端

1910‧‧‧趾端/特徵

1912‧‧‧特徵

本文中所描述之圖式僅為達成選定實例之說明目的，其中：圖1說明根據本發明之實例拋光系統的示意圖；圖2說明根據本發明之實例拋光系統的另一示意圖；圖3說明根據本發明之實例拋光系統的另一示意圖；圖4說明根據本發明之實例拋光系統的另一示意圖； 圖5說明根據本發明之實例拋光系統的另一示意圖；圖6說明用以自根據本發明拋光的膨脹發泡物件移除過量粒子之實例清洗系統的示意圖；圖7示意性地說明根據本發明之另一系統的實例；圖8示意性地說明根據本發明之另一系統的實例；圖9A至圖9B說明根據本發明的可用於將發泡物件持留至傳送機構的持留機構之實例；圖10說明可根據本發明使用以自持留機構移除發泡物件之實例移除機構；圖11A至圖11D說明可根據本發明使用以自持留機構移除發泡物件之移除機構的實例；圖12A說明根據本發明之持留機構及移除機構的實例；圖12B說明根據本發明之持留機構及發泡物件的實例；圖13說明根據本發明的用於處理發泡物件之方法；圖14說明根據本發明的用於拋光發泡物件之方法；圖15說明根據本發明的用於處理發泡物件之方法；圖16說明根據本發明的用於處理發泡物件之方法；圖17說明根據本發明的用於拋光發泡物件之方法；圖18說明根據本發明的用於清洗發泡物件之清洗系統；圖19A說明根據本發明之態樣的具有中間大小及形狀的發泡物件之側視立體圖；及圖19B說明根據本發明之態樣的在拋光操作及模製操作之後具有最終 大小及形狀的發泡物件之側視立體圖。

本發明係關於發泡物件之處理。本發明之態樣係關於拋光膨脹發泡物件以移除發泡物件之至少一部分來準備用於進一步處理膨脹發泡物件。通常利用發泡體之一個特定實例產品為鞋類物品。鞋類物品可包括鞋子、靴子、涼鞋及其類似者。為方便起見，術語「鞋子」在本文中用作鞋類物品之表示。鞋子常常利用乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)、聚胺基甲酸酯或其他類型之發泡體以為鞋子構造中的中底或別處提供緩衝(例如，減少衝擊)。雖然在一些實例中特定參考用於鞋子中的發泡體(諸如，EVA發泡體)描述本發明，但本發明可供其他類型之膨脹發泡材料利用及/或用於除了鞋子外的產品中。

根據本發明之態樣，提供用於處理發泡物件之方法。該方法可包含形成具有中間大小及中間形狀的發泡物件，其中發泡物件可最終形成為鞋底之一部分。該方法可包括在發泡物件處投射粒子直至移除發泡物件之至少一部分為止，其中粒子可具有介於1.0莫氏硬度與5.0莫氏硬度之間的硬度。該方法可進一步包括將發泡物件形成為最終形狀及最終大小。

本發明之額外態樣可係關於用於拋光發泡物件之方法。該方法可包含使用產生具有第一密度之第一部分及具有第二密度之表面層的製程形成具有中間大小及中間形狀的發泡物件，其中第二密度可大於第一密度。換言之，在例示性態樣中，表面層比發泡物件之內部部分緻密。該方法可包括在發泡物件處投射粒子直至自發泡物件移除表面層之至少一部分為止，粒子具有介於20網目與140網目之間的粒徑。另外，該方法可包括 在於發泡物件處投射粒子之後，將發泡物件形成為最終形狀及最終大小。

本發明之其他態樣可係關於用於拋光預成型發泡物件之方法。該方法可包括形成具有中間大小及中間形狀的預成型發泡物件，其中發泡物件可為鞋底之一部分。該方法可包括在預成型發泡物件處投射粒子直至自預成型發泡體移除發泡體之至少一部分為止。粒子可具有介於1.0莫氏硬度與5.0莫氏硬度之間的硬度及不超過20網目且不低於140網目之粒徑。該方法可進一步包括在於發泡物件處投射粒子之後，將預成型發泡物件形成為最終形狀及最終大小。

可使用根據本發明之系統及方法處理的發泡體之一個實例為EVA發泡體。可藉由將熱量及/或壓力施加至EVA材料以活化導致材料膨脹而形成膨脹發泡體之發泡泡孔結構的發泡劑而形成膨脹EVA發泡物件。在活化EVA發泡體之發泡劑時施加熱量及/或壓力常常導致在發泡物件(諸如，EVA材料)上形成外部層(常常被稱作發泡物件之表層)。表層可為密度大於發泡物件之其他部分的密度的發泡體層。表層可為可已直接接觸用於形成膨脹發泡物件之模具的層。在一些態樣中，相比於發泡物件之其他部分，表層可較耐受形狀及形式改變。特定言之，相比於發泡物件之具有較小密度的其他部分，發泡物件之具有較大密度的部分可較耐受形狀及形式改變。

在一些態樣中，由將熱量及/或壓力最初施加至發泡體材料且在最終施加熱量及/或壓力之前形成的所得發泡物件可被稱作發泡物件之中間組態或「預成型件」。「預成型件」可進一步處理成最終形狀及最終大小。根據本發明所處理之發泡物件可為EVA發泡預成型件，但無需為該物 件。在一些態樣中，預成型件上之表層對於一些應用可具有益處(例如，在經改良耐久性方面)。然而，在其他態樣中，若待進一步處理或模製預成型件以產生成品零件，則表層之存在可干擾預成型件至最終形式的進一步形成及塑形。在進一步處理之前自發泡物件移除發泡體之至少一部分(諸如，表層之一部分)可為有利的。

將粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)施加至根據本發明之發泡物件可被稱作「拋光」發泡物件。可利用拋光以自發泡物件移除發泡體之至少一部分(諸如，較緻密表層)。可藉由研磨劑之手動施加而執行拋光。然而，在本發明之態樣中，可使用本文中所描述之系統及方法有利地執行拋光，以自發泡物件移除足量發泡體而不降級發泡物件之總體完整性。人工地移除發泡物件之一部分在自物件所移除的表層之量方面係勞力密集且不一致的。實務上，根據本發明之系統及方法可避免自發泡物件移除比所必要量多的發泡體，以允許將發泡物件充分形成並塑形為其最終形狀。

舉例而言，可藉由首先在非膨脹EVA材料中活化發泡劑以產生預成型發泡物件而產生用於運動鞋之中底。非膨脹EVA材料可呈EVA「餅坯」、EVA集結粒、液態EVA形式或其他形式或形狀。預成型發泡物件可大致為最終發泡零件之所要體積及形狀。預成型發泡物件可不具有成品鞋子中底或其他物件所要之結構性質及/或美觀屬性。另外，預成型發泡物件可具有密度可大於預成型件之其他部分的密度的表層。表層可耐受進一步形成及塑形。在本發明之態樣中，系統及方法可自預成型發泡物件移除發泡體之至少一部分(諸如，表層之一部分)。已移除表層之至少一部分的預成型發泡物件可經進一步處理成其最終形狀及大小。

可將用於根據本發明拋光發泡物件之粒子選擇為充分硬以有效移除發泡物件之至少一部分(諸如，表層之一部分)。粒子亦可充分軟以避免損害發泡物件。以莫氏硬度計量測，粒子之可接受硬度可(例如)自約1.0莫氏硬度至約5.0莫氏硬度或自約1.5莫氏硬度至約2.5莫氏硬度。在較佳態樣中，粒子可具有介於1.0莫氏硬度與3.0莫氏硬度之間的硬度。可經選擇以用於根據本發明拋光發泡物件之材料的一些實例為具有大約2.4莫氏硬度之硬度的碳酸氫鈉(有時被稱作小蘇打)；具有大約2.0莫氏硬度之硬度的乾冰；及在一些溫度下可具有低至約1.5莫氏硬度之硬度的由水形成之冰。冰及乾冰兩者潛在為用於拋光發泡物件之粒子的有利類型，此係因為若准許粒子蒸發，則可能並不需要清洗經拋光物件。使用碳酸氫鈉以用於移除發泡物件上之表層可係有利的，此係因為可回收碳酸氫鈉。另外，碳酸氫鈉可係有利的，此係因為通常在最終模製發泡物件時施加的熱量及/或壓力將自發泡物件有效地移除任何剩餘的粒狀碳酸氫鈉，從而避免對物件產生任何褪色或持續損害，且准許自物件清洗粒狀碳酸氫鈉為可選步驟或至少為要求受限資源之步驟。

根據本發明之拋光系統可包含封圍用於拋光發泡物件之移動粒子的腔室。可利用循環系統移動該等移動粒子。可由傳送機構(諸如，傳送帶)將發泡物件移動通過腔室。根據本發明之拋光系統的其他實例可提供將粒子引入至腔室中的一或多個施配器。在一些實例中，複數個施配器可直接或間接將粒子投射至待拋光之發泡物件上。此施配器可包含(例如)使用氣壓來將粒子以所要速率及/或力自所要位置投射至一或多個發泡物件的噴嘴。可同時引導使用氣壓投射粒子之多個施配器，來以實質上垂 直於待拋光之膨脹發泡物件之表面的角度推進粒子。多個施配器及/或具有所投射碳酸氫鈉粒子之腔室區域可在腔室內包含拋光區。

若需要，諸如鼓風機、毛刷、沖洗系統、振動系統或任何其他機構或機構組合之清洗機構可用於在發泡物件離開腔室之前自發泡物件移除過量粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)。清洗機構可設置於與投射有粒子之拋光腔室分離的清洗腔室中。替代地，單一腔室可具有用於拋光之區，及由可在單一腔室內包含清洗區之清洗機構所佔用或近接的腔室之一部分。作為進一步實例，根據本發明之系統及方法可提供用於將粒子施加至發泡物件及自發泡物件清洗過量粒子之實體相異腔室。根據本發明之系統及方法亦可提供可搜集由施配器所使用的先前所施配粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)以准許重新使用該等粒子之回收機構。

現參看圖1，說明用於拋光諸如膨脹發泡EVA物件之發泡物件的例示性系統100。如圖1之實例中所展示，系統100可包含具有入口111及/或出口114之腔室110，但可根據本發明使用至腔室的單一組合式入口及出口及/或多個入口及/或出口。傳送機構120可大體上在自腔室入口111行進至腔室出口114之方向122上沿著路徑124將一系列發泡物件(諸如，膨脹EVA物件)載運通過腔室110。雖然圖1之實例描繪實質上線性的運動路徑124，但在不同實例中，傳送機構(諸如，傳送機構120)可以不規則、非線性、曲線、Z字形或其他類型之路徑將發泡物件輸送通過諸如腔室110之腔室。傳送機構120可包含在叉尖、夾片、托架上、籃筐中等輸送物件之一或多個傳送帶、鏈條或其他系統或任何其他類型之系統。在一些實例中，發泡物件可持留於穿透發泡物件以可拆卸地持留用於輸送之發泡物 件的複數個叉尖上。

可由傳送機構120將複數個發泡物件輸送通過腔室110。在圖1之本發明中，說明第一物件130、第二物件132及第三物件134。如圖1中可看出，在本發明實例中，發泡物件130、132、134中之每一者的縱向軸線實質上與物件之路徑124對準。然而，對於根據本發明之發泡物件，可使用其他定向或完全不使用特定定向。

仍參看圖1，在拋光腔室110內，一或多個施配器可在由傳送機構120將發泡物件130、132、134輸送通過腔室110時將粒子投射至該等發泡物件上。舉例而言，第一施配器140可自發泡物件130之一個縱向側投射粒子150之流體流，而第二施配器142可自發泡物件130之對置縱向側投射粒子152之第二流體流。如本文中所使用，術語「流體」可係指液體、氣體及/或空氣。雖然圖1之實例中所說明之實例僅利用配置於傳送機構120之對置側上的兩個施配器140、142，但可根據本發明使用其他數目、組態及定向之施配器，下文描述替代或額外配置之一些實例。用於將粒子施加至發泡物件之至少一個施配器的組態、數目及性質可係基於待拋光物件之大小及/或組態、待拋光物件之部分、所要之拋光程度等。舉例而言，施配器可經定位以便將粒子施加至發泡物件之將經受進一步成形的部分，而不將粒狀碳酸氫鈉施加至發泡物件之將不經受進一步成形的部分。在此實例中，施配器可將粒子施加至(比如)發泡物件之側面及頂部而非發泡物件之底部。然而，根據本發明，施配器可經組態以將粒子施加於發泡物件之整個表面上。

由施配器140、142所施加的粒子150、152之類型可基於拋 光發泡物件130、132、134時所要之硬度、大小、可回收性或其他性質而變化。舉例而言，粒子可包含冰(硬度低至約1.5莫氏硬度)、乾冰(硬度約為2.0莫氏硬度)及/或碳酸氫鈉(硬度約為2.4莫氏硬度)，或具有介於約1.0莫氏硬度至約3.0莫氏硬度之間或約1.5莫氏硬度至約2.5莫氏硬度之間的硬度的任何其他材料。若所要的為可容易地再用之粒子類型，則可使用及再用具有相對較大大小(諸如，20網目大小)之粒狀碳酸氫鈉，直至粒子之大小下降為低於最小大小(諸如，140網目)為止。另一方面，可藉由蒸發移除發泡物件之表面上剩餘的冰或乾冰，而粒狀碳酸氫鈉可要求清洗機構在拋光之後自物件移除粒子。關於粒狀碳酸氫鈉之使用而描述根據本發明之系統及方法的其他實例，但可使用其他類型之粒狀材料。

在例示性態樣中，粒子之大小由數個因素約束。舉例而言，基於數個因素判定較小大小約束(諸如，140網目)。舉例而言，在給定壓力及流動速率下小於140網目之粒子可叢集於一或多個噴嘴中，從而導致噴嘴低效地散佈粒子或甚至阻塞噴嘴而不能夠投射粒子。另外，已在例示性情境中判定，隨著粒子之大小減小至(比如)140網目，需要較大總體積之粒子材料以具有由較大粒子所達成的相同拋光結果。在例示性態樣中，在徑譜之另一末端處，預期隨著粒子之大小超過給定值，拋光製程導致較不均勻之拋光成品。

仍參看圖1，清洗機構160可設置於清洗腔室112內，但清洗機構160可替代地位於用於拋光及清洗之單一腔室110內。在施配器140、142已將粒子施加至物件130、132、134之後，清洗機構160可自發泡物件130、132、134移除過量粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)。清洗系統160可包含 將水噴射或傾注至物件130、132、134上之噴水系統，但其他清洗機構可用於清洗系統160。舉例而言，風扇或其他鼓風器件使用移動空氣以自發泡物件130、132、134移除過量粒子。在其他實例中，允許將發泡物件浸沒於水下之浸水機構可用於清洗系統160。在額外實例中，清洗系統160可包含移除過量粒子之移動或旋轉毛刷，但清洗系統160可進一步包含其他類型之器件，諸如沖洗系統、振動系統及/或器件組合。下文描述清洗系統160之一些非限制性其他實例。

有效地，圖1中所描繪之例示性系統100准許發泡物件130、132、134(諸如，仍擁有過度厚之表皮的膨脹EVA發泡物件)經由傳送機構120上之入口111進入腔室110。傳送機構120可接著在方向122上沿著路徑124傳送物件130、132、134，以便將物件130、132、134引入至用以允許施配器140、142在物件130、132、134處施配粒子150、152之一位置或一系列位置中，從而部分或完全移除先前形成於彼等物件130、132、134上之表皮(例如，在活化發泡劑以形成物件之所要泡孔結構時所形成的表皮)。在投射粒子150、152之後，傳送機構120可將物件130、132、134進一步移動至可自物件130、132、134移除至少一些過量粒子的清洗系統160。此後，傳送機構120可經由出口114將物件130、132、134移出腔室110以用於任何額外處理，諸如將發泡物件130、132、134模製成其最終形式或對物件130、132、134進行其他處理。

現參看圖2，說明用於拋光發泡物件230之系統200的另一實例。圖2特定說明可用於判定自發泡物件230所移除之表皮的量的拋光參數中之一些。如圖2中所展示，第一施配器240可相對於由傳送機構220 所產生的行進路徑224以第一角度248在第一方向上投射粒子流(諸如，粒狀碳酸氫鈉242)。亦可藉由預定力及/或預定速率投射粒狀碳酸氫鈉242之第一流。第一施配器240之位置可進一步判定自施配器240至傳送機構220之中心的距離246及自施配器240至發泡物件230之表面的距離234。類似地，第二施配器250可相對於行進路徑224以第二角度258投射第二粒子流(諸如，粒狀碳酸氫鈉252)，其中第二施配器250與傳送機構220之中心相隔距離256，且在此情況下，與發泡物件230相隔距離234。第一角度248及第二角度258可在30度與120度之間的範圍內變化。第一施配器240及第二施配器250可由可介於發泡物件230之一部分長度至發泡物件230之若干倍長度之範圍內的距離290分離。在傳送機構220之與第一施配器240及第二施配器250對置的側上，第三施配器260及第四施配器280可在傳送機構220移動發泡物件230時替代地/另外投射粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)。第三施配器260可在與傳送機構220之中心相隔第一距離266處且以第三角度268投射粒狀碳酸氫鈉262之第三流。第四施配器280可在與傳送機構220之中心相隔第四距離286處且以第四角度288投射粒狀碳酸氫鈉282之第四流。第三施配器260及第四施配器280可由可介於發泡物件230之一部分長度至發泡物件230之若干倍長度之範圍內的距離292分離。在圖2中所說明之實例中，在傳送機構220將發泡物件230輸送經過第三施配器260及第四施配器280時，第三施配器260及第四施配器280兩者皆位於與發泡物件230之表面相隔距離232處。

雖然圖2之實例說明四個施配器240、250、260、280之對稱配置，但本發明可利用粒狀碳酸氫鈉之施配器的非對稱配置。舉例而言， 施配器可位於與傳送機構(諸如，傳送機構220)之中心相隔變化距離處、可經定位以相對於發泡物件230之行進路徑224形成不同角度、可位於與發泡物件230之表面相隔不同距離處，及/或可圍繞諸如220之輸送機構及/或諸如物件230之發泡物件不均勻地散佈，以便在一發泡物件或一系列發泡物件之給定側、區、位置等上聚集較多或較少之粒狀碳酸氫鈉。另外，即使存在，但並非所有所存在的施配器需要同時有效地投射粒狀碳酸氫鈉。

現參看圖3，展示根據本發明之系統300的另一實例之橫截面示意性說明。在圖3之實例中，由傳送機構320輸送發泡物件330，使得物件330在自第一噴嘴341及第二噴嘴343投射諸如粒狀碳酸氫鈉之粒子的第一側向施配器340、自第一噴嘴351及第二噴嘴353投射諸如粒狀碳酸氫鈉之粒子的第二側向施配器350之間且在自第一噴嘴361及第二噴嘴363投射諸如粒狀碳酸氫鈉之粒子的第一垂直施配器360下方傳遞。基本上，系統300在傳送機構320將發泡物件330輸送通過拋光區時施配粒狀碳酸氫鈉以拋光發泡物件330，(例如)從而自左側、右側及自上方自膨脹發泡物件移除表皮，其中粒狀碳酸氫鈉可接觸物件。如圖3之實例中所展示，施配器340可以距離344及角度346自噴嘴341、343朝向物件330施配粒狀碳酸氫鈉342之流。施配器350可以距離354及角度356自噴嘴351、353朝向物件330施配粒狀碳酸氫鈉352之流。自物件330上方操作，施配器360可相對於物件330以距離364及角度366自噴嘴361、363施配粒狀碳酸氫鈉362之流。各種施配器340、350、360在物件330處投射粒狀碳酸氫鈉所用之角度346、356、366以及距離344、354、364對於所有施配器可相同、對於不同施配器可不同，或可在諸如物件330之物件的拋光期間變化，該 變化(例如)藉由在拋光期間移動施配器340、350、360中之任一者及/或在拋光期間移動物件330及/或傳送機構320來達成。

現參看圖4，說明用於拋光諸如物件430之發泡物件的系統400之另一實例。在圖4之實例中，傳送機構420可在方向422上將物件430移動通過具有頂部411、底部413及壁415之腔室410。腔室410可提供將腔室410劃分成分離拋光腔室493及清洗腔室495之內壁491。傳送機構420可經由入口412將物件430引入至腔室410中，且最終經由出口414自腔室410移除物件430。在腔室410內，可藉由第一施配器440及第二施配器450朝向物件430投射粒狀碳酸氫鈉，但可利用比本發明實例中所說明之施配器多或少的施配器。粒狀碳酸氫鈉遞送系統490可經由連接件494提供用於自第一施配器440施配之粒狀碳酸氫鈉，且可經由連接件495提供用於自第二施配器450施配之粒狀碳酸氫鈉。第一施配器440可具有施配粒狀碳酸氫鈉所自的第一噴嘴441及第二噴嘴443。第二施配器450可具有施配粒狀碳酸氫鈉所自的第一噴嘴451及第二噴嘴453。雖然可根據本發明使用將粒狀碳酸氫鈉遞送至施配器440、450之任何部件，但諸如可利用壓縮空氣及/或吹風機達到的氣壓可用於輸送及投射粒子。

視情況具有如圖4之實例中所說明的傾斜或漏斗形側面之槽盆416可在腔室410中位於施配器440、450下方，以搜集先前所施配粒狀碳酸氫鈉470。可(例如)藉由使用吸入機構480(諸如，真空管道)以將先前所施配粒狀碳酸氫鈉470回送至遞送系統490而將先前所施配粒狀碳酸氫鈉470再用於進一步拋光發泡物件。槽盆416可具有足夠大小以為由系統400用於拋光中的粒狀碳酸氫鈉470提供足夠大之儲集器，但可在本發明 之範疇內提供粒狀碳酸氫鈉之額外/替代儲集器。在一實例中，粒狀碳酸氫鈉之再用可併入依賴於旋轉效應以將低於臨限大小的粒子與高於臨限大小的粒子分離的過濾器系統及/或旋風分離器。舉例而言，可丟棄具有小於140網目(0.105mm)或60網目(0.250mm)之粒徑的粒子。碳酸氫鈉粒子之初始大小可為(例如)20網目(0.841mm)或40網目(0.420mm)之粒徑，因此准許粒狀碳酸氫鈉在被丟棄之前數次再用。粒子之另外涵蓋範圍包括20網目至140網目、20網目至80網目或40網目至80網目。因此，預期遞送系統490可由使用旋風分離以揀選待再用於後續(或當前)拋光操作中的具有足夠大小之粒子的旋風器裝置組成。

清洗系統可包含噴射水462以在物件由施配器440、450拋光之後最終移除物件430上剩餘之任何粒狀碳酸氫鈉的噴水噴嘴460。過量粒狀碳酸氫鈉471可最終降落至第二槽盆417之底板，該槽盆亦可具有傾斜側面以促進對所使用粒狀碳酸氫鈉471之收集以用於可選再用。回收吸入機構(未展示)可將過量粒狀碳酸氫鈉471再引入至粒狀碳酸氫鈉遞送系統490中以由施配器440、450後續再用。回收機構可包含真空吸入軟管、刮除機構等。在其他實例中，可藉由人工地抑或以自動方式週期性地搜集已由清洗系統所移除或先前簡單地尚未嚙合發泡物件(諸如，物件430)之過量粒狀碳酸氫鈉而實現對先前所投射粒狀碳酸氫鈉之回收。在圖4中所展示之實例中，回收機構可自一個或兩個槽盆416、417搜集先前所施配粒狀碳酸氫鈉。

現參看圖5，說明根據本發明的用於處理諸如膨脹EVA發泡物件之發泡物件的系統500之另一示意圖。製備系統580可產生如結合本 發明實例所描述之膨脹EVA發泡物件或其他類型之發泡物件。可藉由活化發泡劑使諸如物件530之膨脹EVA發泡物件膨脹，且接著由製備系統580將其穩定至所要大小及形狀。用於提供膨脹EVA發泡物件之系統580可利用熱壓裝置、EVA集結粒施配系統、穩定系統、烘箱、冷卻台等。由製備系統580所形成之物件530可具有防止物件容易地由精整系統590形成之表皮。

傳送機構520可自製備系統580接收膨脹EVA發泡物件530以在由箭頭522所指示之方向上將物件530輸送通過腔室510。腔室510可包含具有複數個粒子施配器(諸如，例示性粒狀碳酸氫鈉施配器541)之拋光區540。可在可提供清洗器561之清洗區560中移除物件530上剩餘之任何過量粒狀碳酸氫鈉。拋光區540及清洗區560可包含離散腔室或可包含單一腔室之不同區域。清洗器561可包含自物件530移除過量粒狀碳酸氫鈉之(例如)水洗滌系統、吹風機、毛刷、振動系統等。系統500可進一步包含可經由連接件552將粒狀碳酸氫鈉提供至拋光區540之儲集器550。儲集器550可包含新鮮且未使用粒狀碳酸氫鈉、所收集以用於再用之先前所施配粒狀碳酸氫鈉或兩者之組合。連接件552可包含(例如)管道或軟管。連接件552可在由投射機構554所施加之力下載運來自儲集器550之粒狀碳酸氫鈉，該投射機構可(例如)使用壓縮空氣、鼓風空氣或其他部件以將粒狀碳酸氫鈉自儲集器550輸送至拋光區540之施配器541，且在粒狀碳酸氫鈉自施配器541投射時將所要量之力賦予粒狀碳酸氫鈉。在由清洗區560內之清洗器561清洗之後，物件530可離開腔室510以由精整系統590進一步處理。由精整系統590所執行之進一步處理可包含(例如)使用熱量及/或壓 力之施加將經拋光膨脹EVA發泡物件最終模製成最終形狀及/或組態。由系統500移除物件530上之表皮中的一些或全部可促進由精整系統590形成膨脹EVA發泡物件之最終組態。

現參看圖6，說明可用於根據本發明之系統及方法中的實例清洗系統600。圖6之實例中的清洗系統600可視情況利用在如由箭頭642所指示之一或多個方向上旋轉以自正由傳送機構620移動之發泡物件630的表面移除過量粒狀碳酸氫鈉的毛刷640。雖然圖6之實例中未說明，但可已使用複數個施配器之拋光區可已拋光物件630之外部以(例如)自膨脹EVA發泡物件之外部完全或部分移除表皮。除旋轉毛刷640之外或代替該毛刷，噴水噴嘴650可使用水652以自發泡物件630之表面移除過量粒狀碳酸氫鈉。雖然本發明實例中說明毛刷640及噴水噴嘴650兩者，但可省略其中之一者或兩者，或甚至藉由其他清洗機構(諸如，鼓風機、水浴、噴水器、振動機構等)進行替換以自物件630之表面移去過量粒狀碳酸氫鈉。可在根據本發明實例之清洗系統600中使用一個以上毛刷640及/或噴水噴嘴650，且由傳送機構620所輸送之物件630的行進方向可變化，使得在圖6之實例中可由膨脹EVA發泡物件630首先遇到毛刷640抑或吹風機650。

現參看圖7，說明根據本發明之例示性系統700的又一示意性表示。在圖7之實例中，具有頂部、底部及側面之腔室710可准許傳送機構720經由入口712將發泡物件730輸送至腔室710中、輸送通過第一部分742與第二部分762之間的開口752，且經由出口714輸送出腔室710。腔室710可具有在腔室710之第一部分742內的拋光區740。第一部分742可藉由內部隔板750與腔室710之第二部分762分離。第一部分742內之拋光區 740可提供諸如本文中所描述的粒狀碳酸氫鈉之一或多個施配器。腔室710可進一步視情況在腔室710之第二部分762內提供清洗區760。清洗區760可利用移動空氣、毛刷、水、振動機構或其他製程以自物件730移除過量粒狀碳酸氫鈉。如圖7之實例中所展示，可相對於腔室710之定位有拋光區740及清洗區760的部分升高腔室710之入口712及出口714。舉例而言，傳送機構720可經由處於第一高度722的入口712將物件730輸送至腔室710中，且可經由處於第二高度724的出口714將物件730輸送出腔室710。第一高度722及第二高度724可相同或不同。同時，傳送機構720可將物件730輸送通過處於第三高度726之拋光區740，且可將物件730進一步輸送通過處於第四高度728之可選清洗區760，此第三高度726及第四高度728小於第一高度722及第二高度724。藉由相對於拋光區740及可選清洗區760升高腔室710之入口712及出口714，可減少由於逸出入口712及/或出口714的粒狀碳酸氫鈉的浪費。

仍參看圖7，傳送機構720可將物件730輸送通過處於第二高度724之出口714且在離開出口714之後視情況向下行進。在脫離腔室714之後，移除機構780可自傳送機構720移除物件，且收集台790可收集所移除物件730。

圖8描繪根據本發明之例示性系統800的示意性表示，該系統利用移除機構880以在發泡物件830穿過拋光區840之後但在進入清洗區860之前自傳送機構820移除該發泡物件。在圖8之實例中，具有頂部、底部及側面之腔室810可准許傳送機構820經由入口812將發泡物件830輸送至腔室810中。腔室810可具有拋光區840。腔室810內之拋光區840可提 供諸如本文中所描述的粒狀碳酸氫鈉之一或多個施配器。系統800可進一步視情況在腔室810外部提供清洗區860。清洗區860可利用儲水器862，但可利用移動空氣、毛刷、噴水器、振動機構或其他製程以自物件830移除過量粒狀碳酸氫鈉。移除機構880可自傳送機構820移除發泡物件830以准許發泡物件830進入清洗區860。如圖8之實例中所展示，可相對於腔室810之定位有拋光區840的部分升高腔室810之入口812及出口852。舉例而言，傳送機構820可經由處於第一高度822的入口812將物件830輸送至腔室810中，且可經由處於第二高度824的出口852將物件830輸送出腔室810。第一高度822及第二高度824可相同或不同。同時，傳送機構820可將物件830輸送通過處於第三高度826之拋光區840。此第三高度826小於第一高度822及第二高度824。藉由相對於拋光區840升高腔室810之入口812及出口852，可減少由於逸出入口812及/或出口852的粒狀碳酸氫鈉之浪費。

現參看圖9A及圖9B，說明展示根據本發明的可用於將發泡物件930持留至傳送機構920之持留機構910。持留機構910僅為可結合本發明使用的合適持留機構之一個實例。在本發明實例中，可藉由接頭915將持留機構910貼附至傳送機構920。在本發明實例中，傳送機構920可包含經由接頭915傳送持留機構910以將發泡物件930輸送通過諸如本文中所描述之例示性系統的系統的鏈條傳動系統。持留機構910可提供至少一個叉尖，諸如第一叉尖912、第二叉尖914、第三叉尖916及第四叉尖918。可藉由如由箭頭931所指示地移動發泡物件930以將叉尖912、914、916、918臨時嚙合至發泡物件930中而將發泡物件930貼附至持留機構910。因此， 發泡物件930可在不由所投射粒子自持留機構910移去之情況下移動通過系統。然而，可根據本發明使用其他類型之持留機構(諸如，夾鉗、夾片、黏著劑及其類似者)。另外，本發明之一些實例可借助於重力及/或摩擦力將發泡物件持留於傳送機構(諸如，傳送帶)上，且藉由選定拋光參數在發泡物件處以經選擇以避免自此傳送帶移去發泡物件之不必要風險的方式投射拋光粒子。雖然圖9A及圖9B中所說明之實例說明在持留機構910中使用四個叉尖，但(若需要叉尖式持留器件)可根據本發明利用其他數目個叉尖(比所展示叉尖多與少兩種情況)。

現參看圖10，說明可載運發泡物件1030的至少具有第一叉尖1012、第二叉尖(未展示)、第三叉尖1016及第四叉尖(未展示)之持留機構1010的另一實例。圖10進一步說明用於自持留機構1010自動移除發泡物件1030之第一構件1080及第二構件1082。第一構件1080在持留機構1010之第一側面上延伸且第二構件1082沿著持留機構1010之第二側面延伸。第一構件1080及第二構件1082可包含(例如)貼附於腔室之出口或其他拋光區(諸如，本文中圖8處所描述之拋光區840)處或靠近腔室之出口或其他拋光區而貼附的棒或類似結構。傳送機構(未展示)可經由接頭1015如由箭頭1011所指示地向下移動持留器件1010，使得第一構件1080及第二構件1082接觸叉尖1012、1016及/或其他未描繪元件上所持留之發泡物件1030，且可在將持留器件1010向下傳送遠離第一構件1080及第二構件1082時將發泡物件1030臨時固持在適當位置。

在一些態樣中，第一構件1080及第二構件1082可各自具有靠近每一構件之末端而定位的滾輪、腳輪及/或滾筒。在一些態樣中，第一 構件1080可具有第一滾輪1052且第二構件1082可具有第二滾輪1053。第一滾輪1052可位於第一構件1080之靠近發泡物件1030的末端處。第二滾輪1053可位於第二構件1082之靠近發泡物件1030的末端處。在一些態樣中，第一構件1080及/或第二構件1082可係固定的。在一些態樣中，滾輪(諸如，滾輪1052及滾輪1053)可獨立於構件(諸如，第一構件1080及第二構件1082)而滾動。每一滾輪之滾動運動可藉由接觸發泡物件並維持接觸從而允許發泡物件滾落並遠離持留機構而促進自持留機構移除發泡物件。舉例而言，在一些態樣中，第一滾輪1052及第二滾輪1053可接觸發泡物件1030，且可利用滾動運動維持接觸發泡物件1030，此係因為發泡物件1030將滾落並遠離持留機構1010。在一些態樣中，第一構件1080及第二構件1082可不具有第一滾輪1052及/或第二滾輪1053。另外，在一些態樣中，可代替如上文所描述之滾輪使用腳輪及/或滾筒。

諸如叉尖1012及1016之叉尖可插入發泡物件1030內達一定距離。舉例而言，叉尖1012可插入發泡物件1030內達距離1013，且叉尖1016可插入發泡物件1030內達距離1017。每一叉尖可具有唯一長度，使得距離1013可大於、等於或小於距離1017。在一些態樣中，距離1013及/或距離1017可等於發泡物件1030之一半深度。在其他態樣中，每一距離1013及/或距離1017可大於或小於發泡物件1030之一半深度。

圖11A至圖11D說明可利用可各自由滾輪組成之第一構件1180及第二構件1182自持留機構1110移除發泡物件1130之例示性序列，如下文中所描述。圖11A說明持留機構1110持留發泡物件1130，同時利用傳送機構1120接近第一構件1180及第二構件1182。圖11B說明發泡物件 1130最初接觸第一構件1180及/或第二構件1182。在一些態樣中，發泡物件1130可在持留機構1110到達第一構件1180及/或第二構件1182之前接觸第一構件1180及/或第二構件1182。在其他態樣中，發泡物件1130可在持留機構1110到達第一構件1180及/或第二構件1182的同時接觸該兩個構件。圖11C說明利用第一構件1180及/或第二構件1182自持留機構1110移除發泡物件1130。圖11D說明自持留機構1110所移除之發泡物件1130。圖11D亦說明持留機構1110沿著傳送機構1120移動，而發泡物件1130可獨立於傳送機構1120移動。

在一些態樣中，第一構件1180及第二構件1182可具有靠近每一構件之末端而定位的滾輪、腳輪及/或滾筒。在一些態樣中，第一構件1180可具有第一滾輪1152且第二構件1182可具有第二滾輪1153。第一滾輪1152可位於第一構件1180之靠近發泡物件1130的末端處。第二滾輪1153可位於第二構件1182之靠近發泡物件1130的末端處。在一些態樣中，滾輪可獨立於每一構件而滾動。每一滾輪之滾動運動可藉由接觸發泡物件並維持接觸從而允許發泡物件滾落並遠離持留機構而促進自持留機構移除發泡物件。舉例而言，如圖11B、圖11C及圖11D中所展示，滾輪1152及1153可在順時針方向上及/或在相同於發泡物件1130之方向上旋轉。在一些態樣中，第一滾輪1152及第二滾輪1153可藉由接觸發泡物件1130並維持接觸而促進自持留機構1110移除發泡物件1130，此係因為發泡物件1130可滾落並遠離持留機構1110。在其他態樣中，第一構件1180及第二構件1182可不具有第一滾輪1152及/或第二滾輪1153。在一些態樣中，可代替如上文所描述之滾輪使用腳輪及/或滾筒。

圖12A說明持留機構1210、第一構件1280及第二構件1282。持留機構1210可至少具有第一叉尖1212及第二叉尖1216。持留機構可在第一叉尖1212與第二叉尖1216之間具有距離1290。第一構件1280及第二構件1282彼此之間可具有距離1291。在一些態樣中，距離1290可小於距離1291。允許距離1290小於距離1291可防止叉尖(諸如，第一叉尖1212及第二叉尖1216)接觸第一構件1280及/或第二構件1282。在一些態樣中，第一構件1280及第二構件1282可各自具有靠近每一構件之末端而定位的滾輪、腳輪及/或滾筒。在一些態樣中，第一構件1280可具有第一滾輪1252且第二構件1282可具有第二滾輪1253。第一滾輪1252可位於第一構件1280之靠近發泡物件1230的末端處。第二滾輪1253可位於第二構件1282之靠近發泡物件1230的末端處。在一些態樣中，滾輪可獨立於每一構件而滾動。每一滾輪之滾動運動可藉由接觸發泡物件並維持接觸從而允許發泡物件滾落並遠離持留機構而促進自持留機構移除發泡物件。在一些態樣中，第一滾輪1252及第二滾輪1253可藉由接觸發泡物件1230並維持接觸而促進自持留機構1210移除發泡物件1230，此係因為發泡物件1230可滾落並遠離持留機構1210。在其他態樣中，第一構件1280及第二構件1282可不具有第一滾輪1252、第二滾輪1253及/或任何滾輪。在一些態樣中，可代替如上文所描述之滾輪使用腳輪及/或滾筒。

圖12B說明具有長度1292之持留機構1210及具有長度1293之發泡物件1230。持留機構1210可至少具有第一叉尖1212及第三叉尖1214。在一些態樣中，長度1292小於長度1293。使長度1292小於長度1293可藉由在持留機構1210接觸第一構件1280及/或第二構件1282之前，允許 發泡物件1230接觸第一構件(諸如，第一構件1280)及/或第二構件(諸如，第二構件1282)而促進自持留機構1210有效移除發泡物件1230。在一些態樣中，發泡物件1230可在持留機構1210到達第一構件1280及/或第二構件1282之位置處之前接觸第一構件1280及/或第二構件1282，從而允許將發泡物件1230平緩地牽拉遠離持留機構1210，以防止發泡物件1230發生損害。

現參看圖18，說明例示性清洗系統1801。在一些態樣中，如所描述之清洗系統1801可與任何其他系統(諸如，拋光系統)完全分離且模組化。在其他態樣中，清洗系統1801可並置至具有另一系統(諸如，拋光系統)之腔室及/或並置於該腔室內。在額外態樣中，清洗系統1801可連接至傳送系統以提供用於自發泡物件移除粒子及/或其他碎屑的環境。在一些態樣中，清洗系統1801接收已在離開處理區(諸如，如圖8中所展示之拋光區840)之後使用移除機構1880自傳送機構移除之發泡物件1830。清洗系統1801可與類似拋光區840之處理區完全分離。清洗系統1801可具有第一傳送機構1820、第二傳送機構1821、各自具有一或多個洗滌噴口1842、1844、1846及1848之一或多個洗滌噴嘴總成1840、各自具有一或多個噴射噴嘴排出口1851及1852之一或多個噴射噴嘴總成1850、各自具有一或多個吹風排出口1861、1862、1863及1864之一或多個吹風機1860，及/或滴盤1890。在一些態樣中，清洗系統1801僅具有一個傳送機構。在其他態樣中，清洗系統1801具有兩個以上傳送機構。第一傳送機構1820及第二傳送機構1821中之每一者可為(例如)傳送帶。在一些態樣中，傳送帶可經組態以允許流體到達發泡物件同時仍將發泡物件固持至傳送帶上。舉例而言，傳送帶可具有足夠開口以允許來自洗滌噴嘴總成、噴射噴嘴總成及 吹風機之流體接觸發泡物件之表面的至少一部分及/或大部分。傳送帶亦可具有足夠材料以充分嚙合發泡物件之上表面及下表面的至少一部分，以在發泡物件經受所投射流體、氣體及/或空氣之力時將發泡物件固持於適當位置。在一些態樣中，傳送帶可為格狀帶、網狀帶或具有合適開口之廣泛鏈狀帶。

第一傳送機構1820可具有至少兩個滾筒(第一滾筒1870及第二滾筒1871)且可耦接至傳動機構(drive train)1816。傳動機構1816可用於操作及/或旋轉第一傳送機構1820之部分。第一傳送機構1820可具有傳送帶1874。第一傳送帶1874可具有傳回部分1875及材料接觸部分1876。傳回部分1875可為第一傳送帶1874之可位於第一滾筒1870之第一側及第二滾筒1871之第一側上的一部分。傳回部分1875亦可為第一傳送帶1874之不接觸發泡物件(諸如，發泡物件1830)的一部分。另外，傳回部分1875可為第一傳送帶1874之背對第二傳送機構1821的一部分。材料接觸部分1876可為第一傳送帶1874之位於第一滾筒1870之第二側及第二滾筒1871之第二側上的一部分。材料接觸部分1876亦可為第一傳送帶1874之接觸發泡物件(諸如，發泡物件1830)的一部分。另外，材料接觸部分1876亦可為第一傳送帶1874之面向第二傳送機構1821的一部分。

第二傳送機構1821可具有至少兩個滾筒(第一滾筒1872及第二滾筒1873)，且可耦接至傳動機構1816。傳動機構1816可用於操作及/或旋轉第二傳送機構1821之部分。第二傳送機構1821可具有第二傳送帶1877。第二傳送帶1877可具有傳回部分1879及材料接觸部分1878。傳回部分1879可為第二傳送帶1877之可位於第一滾筒1872之第一側及第二滾筒 1873之第一側上的一部分。傳回部分1879亦可為第二傳送帶1877之不接觸發泡物件(諸如，發泡物件1830)的一部分。另外，傳回部分1879可為第二傳送帶1877之背對第一傳送機構1820的一部分。材料接觸部分1878可為第二傳送帶1877之位於第一滾筒1872之第二側及第二滾筒1873之第二側上的一部分。材料接觸部分1878亦可為第二傳送帶1877之接觸發泡物件(諸如，發泡物件1830)的一部分。另外，材料接觸部分1878亦可為第二傳送帶1877之面向第一傳送機構1820的一部分。在第一傳送帶1874及第二傳送帶1877旋轉時，每一帶之區段可替代地相關於傳回部分1875、材料接觸部分1876、材料接觸部分1878及傳回部分1879。舉例而言，在第一傳送帶1874旋轉時，傳回部分1875之區段可旋轉，因此變成材料接觸部分1876之區段。類似地，材料接觸部分1876之區段可旋轉且變為傳回部分1875之區段。

第一傳送機構1820可定位於第二傳送機構1821下方，從而允許發泡物件1830在第一傳送機構1820與第二傳送機構1821之間傳遞。第一傳送機構1820及第二傳送機構1821可朝向彼此張緊，使得發泡物件1830以可張緊方式壓縮於第一傳送機構1820與第二傳送機構1821之間。在一些態樣中，發泡物件1830可經以可張緊方式壓縮，使得發泡物件1830之頂表面觸碰第二傳送機構1821及/或由其壓縮，且發泡物件1830之底表面觸碰第一傳送機構1820及/或由其壓縮。特定言之，在一些態樣中，發泡物件1830之底表面(或頂表面)可接觸第二傳送帶1877之材料接觸部分1878，且發泡物件1830之頂表面(或底表面)可接觸第一傳送帶1874之材料接觸部分1876。在一些態樣中，諸如彈簧之張緊機構(未展示)可用於 將第一傳送機構1820及第二傳送機構1821朝向彼此加彈簧負載。在一些態樣中，發泡物件1830可定位於第一傳送機構1820與第二傳送機構1821之間，而無需朝向第二傳送機構1821張緊第一傳送機構1820或朝向第一傳送機構1820張緊第二傳送機構1821。在某些態樣中，第一傳送機構1820可與第二傳送機構1821相隔距離1832。特定言之，距離1832可表示第一傳送帶1874之材料接觸部分1876的表面與第二傳送帶1877之材料接觸部分1878的表面之間的距離。發泡物件1830可具有高度1831。在一些態樣中，距離1832可等於高度1831。在其他態樣中，第一傳送機構1820可以可張緊方式耦接至第二傳送機構1821使得距離1832可變化。舉例而言，在一些態樣中，在發泡物件1830接觸第一傳送機構1820及/或第二傳送機構1821之前，距離1832可略微小於高度1831。在發泡物件1830接觸第一傳送機構1820及/或第二傳送機構1821之後，距離1832可等於或大於高度1831。

在額外態樣中，第一傳送機構1820可自第二傳送機構1821偏移距離1896，使得發泡物件1830在到達第二傳送機構1821之前到達第一傳送機構1820。在第一傳送機構1820與第二傳送機構1821之間提供偏移可允許發泡物件1830平穩地進入清洗系統1801。舉例而言，發泡物件1820可最初接觸第一傳送機構1820且持留於第一傳送機構1820的頂部上。一旦發泡物件1820穩定及/或持留於第一傳送機構1820之頂部上，便可接著由第二傳送機構1821接觸發泡物件1830。由於發泡物件1830已穩定於第一傳送機構1830上，因此第二傳送機構1821進行之接觸可並不迫使發泡物件1830離開第一傳送機構1820。更確切而言，第二傳送機構1821進行之接觸允許發泡物件1830包夾於第一傳送機構1820與第二傳送機構1821之間。 距離1896可等於或大於發泡物件1830之長度。在一些態樣中，距離1896等於發泡物件1830之長度的2倍、3倍、4倍或5倍。在其他態樣中，距離1896小於發泡物件1830之長度。

洗滌噴嘴總成1840可連接至一或多個泵馬達1814，且用於朝向發泡物件1830投射流體(諸如，水)以便自發泡物件1830移除粒子。泵馬達1814可用於將流體泵送通過洗滌噴嘴總成1840。如本文中所使用，流體可為液體、空氣或氣體。每一洗滌噴嘴總成1840可具有一或多個洗滌噴口，諸如向外彼此遠離地延伸之洗滌噴口1842、1844、1846及1848。在一些態樣中，第一洗滌噴嘴總成可具有比第二洗滌噴嘴多或少的洗滌噴口。在其他態樣中，第一洗滌噴嘴總成可具有數目相等於第二洗滌噴嘴之洗滌噴口。可由每一洗滌噴口以指定速率、壓力、容積、角度及溫度朝向發泡物件1830投射流體。洗滌噴口1842及1844可靠近第二傳送機構1821而定位，而洗滌噴口1846及1848可靠近第一傳送機構1820而定位。在一些態樣中，第一組洗滌噴口可靠近第一傳送機構而定位及/或定位於發泡物件之第一側上，而第二組洗滌噴口可靠近第二傳送機構而定位及/或定位於發泡物件之第二側上。在一些態樣中，洗滌噴口可插入於第一傳送機構1820及/或第二傳送機構1821之每一迴路之間，如圖18中所展示。可插入洗滌噴口，使得每一洗滌噴口僅通過第一傳送機構1820及/或第二傳送機構1821之一半迴路。藉由將洗滌噴口定位於傳送機構之每一迴路之間，每一洗滌噴口可僅將流體投射通過傳送帶之一個部分(諸如，材料接觸部分1876)而非通過傳送帶之兩個部分(諸如，傳回部分1875及材料接觸部分1876)。藉由允許洗滌噴口僅將流體投射通過傳送帶之一個部分，提供與發泡物件 之較好流體接觸。洗滌噴口可經定位以將流體經由傳送帶之一部分投射至發泡物件之頂表面及/或底表面上。另外，洗滌噴口亦可定位於傳送帶外部以便將流體投射至發泡物件之側表面上。定位於傳送帶外部及/或傳送帶之間的洗滌噴口可以各種角度旋轉，以便將流體投射至發泡物件之各種表面上。

噴射噴嘴總成1850可具有一或多個噴射噴嘴排出口，諸如可朝向發泡物件1830投射流體(諸如，水)之噴射噴嘴排出口1851及1852。噴射噴嘴總成1850可以指定速率、壓力、容積、角度及溫度朝向發泡物件1830投射流體。在一些態樣中，自每一噴射噴嘴排出口(諸如，噴射噴嘴排出口1852)所投射的流體之指定速率、壓力、容積、角度、溫度及類型可不同於自每一洗滌噴口(諸如，洗滌噴口1842)所投射的流體之指定速率、壓力、容積、角度、溫度及類型。在其他態樣中，自每一噴射噴嘴排出口(諸如，噴射噴嘴排出口1852)所投射的流體之指定速率、壓力、容積、角度、溫度及類型可相同於自每一洗滌噴口(諸如，洗滌噴口1842)所投射的流體之指定速率、壓力、容積、角度、溫度及類型。第一洗滌噴嘴總成可與第二洗滌噴嘴相隔距離1898而定位。另外，洗滌噴嘴總成可與噴射噴嘴相隔距離1897而定位。在一些態樣中，距離1898相同於距離1897。在其他態樣中，距離1898大於或小於距離1897。

吹風機1860可連接至一或多個吹風馬達1812，且具有允許將氣體或空氣吹向發泡物件1830之吹風排出口1861、1862、1863及1864。吹風馬達1812可用於經由吹風機1860提供氣體或空氣。由吹風機1860所提供之氣體或空氣可具有指定溫度、壓力、速率及容積。吹風機1860可與 噴射噴嘴(諸如，噴射噴嘴總成1850)相隔距離1893而定位。另外，吹風機1860可與洗滌噴嘴(諸如，洗滌噴嘴總成1840)相隔距離1892而定位。在一些態樣中，距離1893大於或等於距離1892。在其他態樣中，距離1893小於距離1982。排放盤1890可捕獲及/或收集自發泡物件1830所移除之粒子及朝向該發泡物件所投射之流體。

在一些態樣中，可由移除機構1880自傳送機構移除發泡物件1830，且該發泡物件可進入清洗系統1801。在進入清洗系統1801後，發泡物件1830便可接觸第一傳送機構1820及第二傳送機構1821。在一些態樣中，發泡物件1830在接觸第二傳送機構1821之前接觸第一傳送機構1820。在其他態樣中，發泡物件1830同時接觸第一傳送機構1820及第二傳送機構1821。在額外態樣中，將發泡物件1830壓縮於第一傳送機構1820與第二傳送機構1821之間，以便在朝向發泡物件1830投射流體時將發泡物件1830固持於第一傳送機構1820與第二傳送機構1821之間。可由一或多個洗滌噴嘴總成1840及一或多個噴射噴嘴總成1850朝向發泡物件1830投射流體。另外，在一些態樣中，可由吹風機1860朝向發泡物件1830投射氣體或空氣。可由排放盤1890捕獲及/或收集朝向發泡物件1830所投射之流體。排放盤1890可具有可在各種方向上成角度之一或多個區段，使得可將粒子及/或流體排放遠離清洗系統1801。

現參看圖13，說明根據本發明的用於處理發泡物件之方法1300。在步驟1310中，可將可為鞋底之一部分的發泡物件形成為具有中間大小及中間形狀。步驟1310可包含(例如)利用熱量及/或壓力以在EVA材料中活化發泡劑及(視情況)使膨脹EVA發泡物件穩定。在步驟1320 中，可在發泡物件處投射粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)直至移除發泡物件之至少一部分為止。步驟1320可利用以特定速率、角度、力、距離、持續時間等在發泡物件處投射粒子之複數個離散施配器。替代地，步驟1320可(例如)在腔室內利用大體上循環粒子以接觸及嚙合發泡物件之表面。另外，在發泡物件處所投射之粒子可具有介於1.0莫氏硬度與5.0莫氏硬度之間的硬度。在步驟1330中，可將發泡物件加熱及模製成最終形狀及最終大小。步驟1330可賦予最終發泡物件所要之最終紋理、組態、構造及功能/美觀特性。

現參看圖14，說明根據本發明的用於拋光發泡物件之方法1400。在步驟1410中，可將發泡物件形成為具有中間大小及中間形狀。步驟1410可包含(例如)利用熱量及/或壓力以在EVA材料中活化發泡劑及(視情況)使膨脹EVA發泡物件穩定。在將發泡物件形成為中間大小及中間形狀時，發泡物件可具有具第一密度之第一部分及具第二密度之表層。第二密度可大於第一密度。在步驟1420中，可在發泡物件處投射粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)直至自發泡物件移除表層之至少一部分為止。步驟1420可利用以特定速率、角度、力、距離、持續時間等在發泡物件處投射粒子之複數個離散施配器。替代地，步驟1420可(例如)在腔室內利用大體上循環粒子以接觸及嚙合發泡物件之表面。另外，在發泡物件處所投射之粒子可具有大於140網目之粒徑。在步驟1430中，可將已在步驟1420中拋光之發泡物件加熱及模製成最終形狀及最終大小。步驟1430可賦予最終發泡物件所要之最終紋理、組態、構造及功能/美觀特性。

現參看圖15，說明根據本發明的用於拋光發泡物件之方法 1500。在步驟1510中，可將可最終形成為鞋底之一部分的預成型發泡物件形成為具有中間大小及中間形狀。步驟1510可包含(例如)利用熱量及/或壓力以在EVA材料中活化發泡劑及(視情況)使膨脹EVA發泡物件穩定。在步驟1520中，可在發泡物件處投射粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)直至移除發泡物件之至少一部分為止。步驟1520可利用以特定速率、角度、力、距離、持續時間等在預成型發泡物件處投射粒子之複數個離散施配器。替代地，步驟1520可(例如)在腔室內利用大體上循環粒子以接觸及嚙合發泡物件之表面。另外，發泡物件處所投射之粒子可具有介於1.0莫氏硬度與5.0莫氏硬度之間的硬度及大於140網目之粒徑。在步驟1530中，可將預成型發泡物件加熱及模製成最終形狀及最終大小。步驟1530可賦予最終發泡物件所要之最終紋理、組態、構造及功能/美觀特性。

現參看圖16，說明根據本發明的拋光發泡物件之另一方法1600。在步驟1610中，可將諸如膨脹EVA發泡物件之發泡物件預形成為具有中間大小及形狀。步驟1610可包含(例如)使用熱量及/或壓力以活化發泡劑及(視情況)此後使所得膨脹EVA發泡物件穩定為中間大小及形狀。步驟1610可在發泡物件之表面上形成表層。在步驟1620中，可將發泡物件傳送通過腔室。步驟1620可利用傳送機構(諸如，鏈條傳動裝置或傳送帶)且可利用入口以准許進入腔室。在步驟1630中，可在將發泡物件傳送通過腔室時在發泡物件處投射諸如粒狀碳酸氫鈉之粒子。步驟1630可滿足要求粒子藉以接觸發泡物件之速率、力、衝擊角度等的所要拋光參數。舉例而言，步驟1630可以選定速率藉由選定力投射具有特定大小之碳酸氫鈉粒子，且以便以選定角度接觸發泡物件。步驟1630可利用一或多個施配器， 該一或多個施配器利用諸如壓縮空氣或吹風機之機構來以已知速率、力、角度等投射粒子。

在步驟1630之後，可在例示性態樣中執行可選步驟1635。然而，預期可在替代例示性態樣中完全省略可選步驟1635。步驟1635提供對粒子之收回以用於在製程中再用。舉例而言，可在製程中回收高於大小臨限值(例如，140網目)之粒子以用於後續拋光應用。可在例示性態樣中收集低於臨限值之粒子，但在其較不有效於實現本發明之態樣時自系統移除該等粒子。

在步驟1630或可選步驟1635之後，步驟1640藉由清洗自經拋光發泡物件移除過量粒子。預期步驟1640在方法1600中亦可係可選的。步驟1640可利用任何機構或製程，諸如鼓風機、毛刷、振動系統等。在步驟1650中，可(例如)藉由經由傳送機構經出口離開腔室而將經拋光發泡物件傳送出腔室。方法1600可以藉由加熱及模製而將經拋光發泡物件形成為其所要最終形式的步驟1660結束。

可至少部分取決於步驟1610中形成於物件上之表層的厚度、硬度或其他性質及/或步驟1660中形成最終發泡物件所要之模製能力的程度而選擇步驟1630中之粒子(諸如，粒狀碳酸氫鈉)的投射參數。舉例而言，若步驟1660所要的為高程度之模製能力，及/或若步驟1610中預期在發泡物件上形成尤其厚之表層，則步驟1630可包含相對較高速率之粒子投射、尤其較高之投射力、相對較長之投射持續時間等以移除步驟1610中形成於發泡物件上之表層中的較大量或甚至全部，從而確保步驟1660中所要量之模製能力。另一方面，根據本發明之系統及方法的其他應用可要求 自發泡物件之外部移除較少表層，從而准許相應地調整步驟1630之粒子投射參數。

現參看圖17，說明用於拋光發泡物件的根據本發明之另一例示性方法1700。在步驟1710中，可將發泡物件預形成為具有中間大小及形狀。步驟1710可包含使用熱量及壓力以在EVA材料中活化發泡劑且形成EVA發泡物件，但可根據本發明在步驟1710中預形成其他類型之發泡物件。步驟1710可導致發泡物件上形成有可干擾發泡物件至最終大小及最終形狀之形成的表層。在步驟1720中，發泡物件可持留於傳送機構上。步驟1720可使用諸如上文所描述之實例持留機構的持留機構。在步驟1730中，可將發泡物件傳送至拋光腔室中。上文描述合適拋光腔室之一些實例。雖然論述分離之拋光腔室及清洗腔室，但預期常見腔室可容納拋光機構及清洗機構兩者，如本文中所預期。步驟1730可利用步驟1720中發泡物件所持留至之傳送機構。

在步驟1740中，可在拋光腔室內於發泡物件處投射大於第一大小且小於第二大小之粒子(諸如，碳酸氫鈉)。在一些態樣中，第一大小可為140網目且第二大小可為20網目。然而，預期施加至粒子選擇之唯一約束可為第一大小或用於拋光之最小可接受粒子大小。步驟1740可利用多個施配器且可藉由所要之拋光參數(諸如，以所要角度、力、距離等)投射粒子。可在拋光腔室內之多個位置處重複步驟1740。步驟1740之每一重複可利用不同大小之粒子及/或不同拋光參數。在步驟1750中，可回收大於第一大小(例如，140網目)之粒子以用於額外拋光應用且可丟棄小於第一大小之粒子。步驟1750之效果可為將粒子再用於拋光額外發泡物件直至 粒子已變得過小而不能有效地進行拋光為止，諸如上文在一些實例中所描述。在步驟1760中，可將發泡物件傳送出拋光腔室。步驟1760可利用步驟1720中發泡物件所持留至之傳送機構。在步驟1765中，可自傳送機構移除發泡物件。可由移除機構、人工地或經由任何其他部件執行步驟1765。

在步驟1770中，可將發泡物件傳送至清洗區中。步驟1770可利用步驟1720中發泡物件所持留至之傳送機構。另外，(例如)若拋光腔室及清洗區在系統內為緊鄰的，則可將步驟1760及步驟1770組合為方法1700之單一步驟。在步驟1780中，可在清洗區內自發泡物件移除剩餘粒子中之一些或全部。步驟1780可在清洗區內利用移動空氣、毛刷、水或其他溶劑、振動系統或任何其他部件以自發泡物件移除碳酸氫鈉粒子中之一些或全部。方法1700可以將發泡物件形成為最終大小及形狀之步驟1790結束。步驟1790可產生最終產品或可提供用於後續組裝最終產品之組件。

圖19A說明根據本發明之態樣的具有中間大小及形狀的發泡物件1900之側視立體圖。發泡物件1900具有底表面1904、側壁1907及頂表面。側壁可圍繞發泡物件延伸，諸如在例示性態樣中為沿著趾端1910、內側、外側1906及跟端1908。預期可根據本發明之態樣拋光一或多個特定或一般部分。舉例而言，預期側壁1907(或側壁1907之部分)可為經有效拋光之區域，而底表面1904(或底表面1904之部分)可保持為實質上未經拋光狀態。另外，如上文所提到，在例示性態樣中，預期可拋光側壁1907之部分，諸如可拋光內側、外側1906及跟端1908，而趾端1910保持為實質上未經拋光狀態。用以拋光之一或多個部分的選擇可取決於重新模製意欲發生於發泡物件上之何處。舉例而言，若側壁1907為接收由後續模製操作 進行之大小及/或形狀改變的主要部分，則拋光操作可集中於彼等特定區域。換言之，預期意欲形成有經後拋光模製特徵之位置可判定待由拋光操作拋光發泡物件之何部分。使得拋光操作移除可抑制後拋光模製製程的發泡物件之外表面的一部分。

圖19B說明根據本發明之態樣的具有最終大小及形狀之發泡物件1902的側視立體圖。在例示性態樣中，發泡物件1902為圖19A之發泡物件1900的經重新模製版本。在此實例中，經由拋光製程及後續模製製程調整發泡物件1900之大小及形狀。後續模製製程可經實施以改進發泡物件之大小及形狀，諸如添加維度特性(諸如，特徵1910、1912)。可藉由後拋光模製操作形成特徵1910、1912以實現發泡物件1902之所要最終大小及/或形狀。僅僅為達成說明之目的而提供特徵1910、1912，且預期可形成任何特徵，諸如突起、凹痕、紋理及其類似者可形成於後拋光模製操作中。移除發泡體(諸如，比內部部分緻密的接近側壁1907之表面的部分)可增強實質上由拋光操作所影響的彼等區域中之後拋光模製效果。換言之，預期拋光操作增加後拋光模製操作之效果，此係因為已藉由拋光製程移除相對較緻密材料之一部分。

雖然本文中已關於特定實例描述根據本發明之系統及方法，但預期對此等實例作出之變化屬於本發明之範疇。舉例而言，任何數目或定向之施配機構可用於將粒子提供至用於拋光之物件。所使用粒子之回收可涉及諸如旋風分離之機構及技術，以自物件上之表層移除任何經移位粒子，或以其他方式評估所搜集粒子(諸如，碳酸氫鈉)用於進一步使用之持續適合性。可利用用於拋光之多個區，且不同區可利用不同拋光參 數或甚至不同類型之粒子。可根據本發明使用超出本文中之實例中所描述之彼等的各種類型之傳送機構。可在不脫離本發明之範疇的情況下重新配置或省略根據本發明之系統的組件之各種實例。類似地，可藉由次序不同於本文中所說明之次序的步驟執行根據本發明之方法，且另外可在不脫離本發明之範疇的情況下添加或省略一些步驟。

100‧‧‧用於拋光發泡物件之系統

110‧‧‧拋光腔室

111‧‧‧入口

112‧‧‧清洗腔室

114‧‧‧腔室出口

120‧‧‧傳送機構

122‧‧‧方向

124‧‧‧路徑

130‧‧‧第一物件/發泡物件

132‧‧‧第二物件/發泡物件

134‧‧‧第三物件/發泡物件

140‧‧‧第一施配器

142‧‧‧第二施配器

150‧‧‧粒子

152‧‧‧粒子

160‧‧‧清洗機構/清洗系統

Claims (20)

1. 一種用於處理發泡物件之方法，該方法包含：形成具有一中間大小及一中間形狀之一發泡物件；在該發泡物件處投射粒子直至移除該發泡物件之至少一部分為止，該等粒子具有介於1.0莫氏硬度與5.0莫氏硬度之間的一硬度；及將該發泡物件形成為適合為一鞋底之一部分的一最終形狀及一最終大小。
2. 如申請專利範圍第1項之用於處理發泡物件之方法，其中在該發泡物件處投射該等粒子進一步包含藉由一預定力、相對於該發泡物件以一預定角度且歷時一預定持續時間投射該等粒子。
3. 如申請專利範圍第2項之用於處理發泡物件之方法，其中將該發泡物件形成為該中間大小及該中間形狀包含將熱量及壓力施加至一模具內之一材料以將該材料形成為具有由該模具所決定之一大小及形狀的該發泡物件。
4. 如申請專利範圍第3項之用於處理發泡物件之方法，其中形成為該發泡物件之該材料包含一乙烯醋酸乙烯酯混合物。
5. 如申請專利範圍第4項之用於處理發泡物件之方法，其中在該發泡物件處投射該等粒子進一步包含在該發泡物件處投射乾冰粒子。
6. 如申請專利範圍第4項之用於處理發泡物件之方法，其中在該發泡物件處投射該等粒子進一步包含在該發泡物件處投射冰粒。
7. 如申請專利範圍第4項之用於處理發泡物件之方法，其中在該發泡物件處投射該等粒子進一步包含在該發泡物件處投射粒狀碳酸氫鈉。
8. 如申請專利範圍第7項之用於處理發泡物件之方法，其中該粒狀碳酸氫鈉具有至少140網目之一粒徑。
9. 如申請專利範圍第1項之用於處理發泡物件之方法，其進一步包含：提供用於在該發泡物件處投射之一批粒子，所提供的該批粒子具有大於140網目之一粒徑；及在於該發泡物件處投射該等粒子之後，回收該等粒子之一第一子集，該等粒子之該第一子集具有大於140網目之一粒徑。
10. 如申請專利範圍第9項之用於處理發泡物件之方法，其進一步包含在於該發泡物件處投射該等粒子之後，丟棄該等粒子之一第二子集，該第二子集具有小於140網目之一粒徑。
11. 如申請專利範圍第1項之用於處理發泡物件之方法，其進一步包含在於該發泡物件處投射粒子之後自該發泡物件移除該等粒子中之至少一些。
12. 如申請專利範圍第1項之用於處理發泡物件之方法，其中將該發泡物件形成為該最終形狀及該最終大小包含利用一經加熱模具以形成該發泡物件。
13. 如申請專利範圍第12項之用於處理發泡物件之方法，其中利用該經加熱模具以形成該發泡物件包含將維度特性添加至由該等粒子衝擊之該發泡物件的一部分。
14. 一種用於拋光一發泡物件之方法，該方法包含：使用產生具有一第一密度之一第一部分及具有一第二密度之一表面層的一製程形成具有一中間大小及一中間形狀的一發泡物件，其中該第 二密度比該第一密度緻密；在該發泡物件處投射粒子直至自該發泡物件移除該表面層之至少一部分為止，該等粒子具有大於140網目之一大小；及在於該發泡物件處投射該等粒子之後，將該發泡物件形成為一最終形狀及一最終大小。
15. 如申請專利範圍第14項之用於拋光一發泡物件之方法，其進一步包含：在投射該等粒子之後，回收具有大於140網目之一粒徑的該等粒子之一第一子集。
16. 如申請專利範圍第15項之用於拋光一發泡物件之方法，其進一步包含：在投射該等粒子之後，丟棄具有小於140網目之一粒徑的該等粒子之一第二子集。
17. 如申請專利範圍第14項之用於拋光一發泡物件之方法，其中形成為該發泡物件之材料包含一乙烯醋酸乙烯酯混合物。
18. 如申請專利範圍第14項之用於拋光一發泡物件之方法，其中該在該發泡物件處投射該等粒子進一步包含在該發泡物件處投射粒狀碳酸氫鈉。
19. 一種用於拋光一預成型發泡物件之方法，該方法包含：形成具有一中間大小及一中間形狀之一預成型發泡物件，該預成型發泡物件為一鞋底之一部分；在該預成型發泡物件處投射粒子直至自該預成型發泡體移除發泡體之至少一部分為止，該等粒子具有介於1.0莫氏硬度與5.0莫氏硬度之間的一硬度及大於140網目之一粒徑；及 在該發泡物件處投射該等粒子之後，將該預成型發泡物件形成為一最終形狀及一最終大小。
20. 如申請專利範圍第19項之用於拋光一預成型發泡物件之方法，其中該預成型發泡物件包含一乙烯醋酸乙烯酯混合物。