TWI424201B - 反射膜 - Google Patents

Description

反射膜

本發明係關於液晶顯示裝置、照明器具、照明廣告牌等之反射板等中所使用之反射膜。

近年來，以液晶顯示裝置為代表，在投影用螢幕或面狀光源之構件、照明器具、照明廣告牌等較多領域中使用有反射板。其中，於液晶顯示裝置領域中，裝置之大型化及顯示性能之高度化正在進展，為將僅可能多之光供給至液晶而提高背光單元之性能，對於反射板、特別是構成反射板之反射膜，要求更優良之反射性能。

作為此種反射膜，例如已知有於芳香族聚酯系樹脂中添加氧化鈦而形成之白色片材(參照專利文獻1)，但難以實現液晶顯示裝置所要求的如上所述之高反射性能。

又，雖揭示有以如下方式構成之反射膜，即，藉由將於芳香族聚酯系樹脂中添加填充劑而形成之片材延伸，而於片材內形成微細之空隙，從而產生光散射反射(參照專利文獻2)，但仍然存在如下問題，即：難以實現液晶顯示裝置所要求之高反射性能，尤其是由於形成該等之芳香族聚酯系樹脂之分子鏈中所含有之芳香環會吸收紫外線，故因自液晶顯示裝置等之光源所發出之紫外線而導致薄膜劣化、變黃，從而使反射膜之光反射性逐漸下降。

又，作為厚度較薄之反射膜，例如已知有於含有白色顏料之聚對苯二甲酸乙二酯(以下有時亦簡稱為「PET」)膜上，蒸鍍有銀等金屬薄膜之反射膜(例如參照專利文獻3)，然而該反射膜亦存在如下問題，即，因自液晶顯示裝置等之光源所發出之紫外線而導致薄膜劣化、變黃，從而使反射膜之反射率逐漸下降。

鑒於如此之問題，為提高薄膜之耐光性，而提出有於混入有紫外線吸收劑之薄膜或設有紫外線穩定性樹脂層之薄膜上，蒸鍍有銀等金屬薄膜之薄膜(參照專利文獻4)。然而，除了存在反射性能低，液晶畫面之亮度並不充分的問題以外，對於耐光性亦無法獲得充分之評估。

又，作為具備積層構造之反射膜，例如於專利文獻5中揭示有，交替層積有包含聚酯樹脂及硫酸鋇之A層與B層之反射膜，且A層中所含有之粒子量為10%以下。然而，若直接利用此處所揭示之結構，則存在反射性能低、液晶畫面之亮度不充分的問題。

另外，已知有於聚烯烴系樹脂中添加微粉狀填充劑而形成之白色片材(例如參照專利文獻6、7)。然而，對於如此之白色片材而言，為獲得光反射性，必須確保空隙率(開孔率)至少在40%以上，但若提高空隙率(開孔率)，則會導致機械強度不足，故有可能會於製膜時或使用時產生破裂。

專利文獻1：日本專利特開2002－138150號公報專利文獻2：日本專利特開平4－239540號公報專利文獻3：日本專利特開平10－193494號公報專利文獻4：日本專利特開2002－122717號公報專利文獻5：日本專利特開2004－330727號公報專利文獻6：日本專利第3617535號公報專利文獻7：日本專利第3755905號公報

本發明之目的在於提供如下之優良的反射膜，其具有優良之反射性能，並且於裝入液晶顯示裝置等中時可顯現優良之亮度。

本發明之反射膜，其特徵在於：具備A層，該A層包含含有脂肪族聚酯系樹脂或聚烯烴系樹脂、及微粉狀填充劑而成之樹脂組成物A，且樹脂組成物A中之該微粉狀填充劑之含有比率為10~80質量%；並且該反射膜具備B層作為反射使用面側之最外層，該B層包含含有脂肪族聚酯系樹脂或聚烯烴系樹脂、及微粉狀填充劑而成之樹脂組成物B，且樹脂組成物B中之該微粉狀填充劑之含有比率大於0.1質量%且未達5質量%，反射使用面側之60°下之光澤度為50~90。

本發明之反射膜，其具有優良之光反射性能，並且於裝入液晶顯示裝置等中時可顯現優良之亮度，且因紫外線吸收所導致之反射率下降較少，防變黃性亦優良。故而，將本發明之反射膜貼附於例如金屬板或樹脂板上等，形成液晶顯示裝置、照明器具、照明廣告牌等所使用之反射板，藉此可提供可獲得光反射性等特性之平衡的反射板。

再者，一般所謂「薄膜」，係指與長度及寬度相比厚度極小，且最大厚度任意限定之較薄且平坦之製品，通常，係稱以輥之形狀所供給者(日本工業規格JISK6900)。另一方面，一般所謂「片材」，於JIS之定義上，係稱較薄、且一般與長度及寬度相比厚度較小且平坦之製品。然而，片材與薄膜之界限並未限定，於本發明中沒有必要在措詞上區分兩者，於本發明中，稱為「薄膜」之情況亦包含「片材」，而稱為「片材」之情況亦包含「薄膜」。

又，於本發明中，於表示「主成分」之情況下，只要未特別揭示，則包含允許於不妨礙上述主成分之功能之範圍內含有其他成分的含義。此時，並不特別限定上述主成分之含有比率，通常，主成分(兩種成分以上為主成分之情況下，為該等之合計量)占組成物中之50質量%以上，較佳為70質量%以上，尤佳為90質量%以上(包括100%)。

又，於本說明書中，揭示為「X~Y」(X、Y為任意數字)之情況下，只要未特別限定，則包括「X以上Y以下」的含義以及「較佳為大於X小於Y」的含義。

以下，就本發明之實施形態之一例加以詳細說明。

本實施形態之反射膜(以下稱為「本反射膜」)，具備A層，該A層包含含有脂肪族聚酯系樹脂或聚烯烴系樹脂、及微粉狀填充劑而成之樹脂組成物A，且樹脂組成物A中之該微粉狀填充劑之含有比率為10~80質量%；並且其具備B層，該B層包含含有脂肪族聚酯系樹脂或聚烯烴系樹脂、及微粉狀填充劑而成之樹脂組成物B，且樹脂組成物B中之該微粉狀填充劑之含有比率大於0.1質量%且未達5質量%。

本反射膜重要的是，於反射使用面側進行光照射，其於使入射角及受光角合計為60°而測定時之光澤度為50~90，尤佳為60~80。

此處，所謂「光澤度」，係表示光照射至反射膜之表面時的反射程度之量，係將JIS Z 8741中所規定之特定玻璃表面作為基準面，將該基準面之光澤度規定為100，而以相對於此之相對值所表示的值。一般而言，若光澤度高，則正反射性變大，可看到表面有光澤，相反，若光澤度低，則正反射性降低，可看到表面粗糙。反射膜中亦存在如下傾向，即，若正反射性高則正面亮度亦變高，從而具有良好之光反射特性。

若本反射膜之反射使用面側的60℃下之光澤度在50~90之範圍內，則可獲得良好之光反射特性，特別是良好之亮度。如此之效果，於液晶電視之內部結構中，於自液晶側依序積層有亮度提高片材、擴散片材、擴散板、冷陰極管及反射膜之結構的情況下，表現尤為顯著。相反，若光澤度低於50，則擴散反射性變高，而正面亮度下降，故無法獲得良好之光反射特性。又，若光澤度高於90，則裝入背光中時，容易看見冷陰極管之線(亮線)，故而不佳。

再者，於本反射膜中，為將上述光澤度設定於特定範圍內，如下所述位於反射使用面側之最外層之B層中的微粉狀填充劑之含量為重要條件之一。

<A層>

A層係包含樹脂組成物A之層，該樹脂組成物A含有脂肪族聚酯系樹脂或聚烯烴系樹脂、或者該等之混合樹脂(將該等合稱為「A層之基礎樹脂」)及微粉狀填充劑作為主成分。

(A層之脂肪族聚酯系樹脂)脂肪族聚酯系樹脂於分子鏈中並不含有芳香環，故紫外線吸收量極少，即使曝露於紫外線中，或者曝露於液晶顯示裝置等之光源中，薄膜亦不會因紫外線而產生劣化或變黃，可抑制薄膜之光反射性之經時性下降。

作為脂肪族聚酯系樹脂，可使用化學合成者、由微生物醱酵合成者、或者該等之混合物。

作為化學合成之脂肪族聚酯系樹脂，可列舉使內酯開環聚合而獲得之聚ε－己內醯胺等，或者，使二元酸與二醇聚合而獲得之聚己二酸乙二酯、聚壬二酸乙二酯、聚丁二酸丁二酯、環己烷二羧酸/環己烷二甲醇縮聚物等，或者，使羥基羧酸聚合而獲得之乳酸系聚合物或聚乙二醇等，或者，將前述之脂肪族聚酯之酯鍵的一部分，例如酯鍵之50%以下，取代為醯胺鍵、醚鍵、胺基甲酸乙酯鍵等之脂肪族聚酯等。

作為由微生物醱酵合成之脂肪族聚酯系樹脂，可列舉聚羥基丁酸酯、羥基丁酸酯與羥基戊酸酯之共聚物等。

如上所述之脂肪族聚酯系樹脂中，作為A層之基礎樹脂，較佳為使用折射率(n)未達1.52之脂肪族聚酯系樹脂。若具備含有折射率(n)未達1.52之脂肪族聚酯系樹脂與微粉狀填充劑而成之A層，則可藉由脂肪族聚酯系樹脂與微粉狀填充劑之界面之折射散射而實現高光反射性。該折射散射效果，會隨著脂肪族聚酯系樹脂與微粉狀填充劑之折射率變大而變大，故而，作為脂肪族聚酯系樹脂，較佳為折射率較小者，就該觀點而言，折射率未達1.46(一般為1.45左右)之非常低的乳酸系聚合物為最佳之一例。並且，芳香族聚酯之折射率約為1.55以上。

作為乳酸系聚合物，例如可列舉D－乳酸或L－乳酸之均聚物或該等之共聚物。具體而言，可列舉構造單位為D－乳酸之聚(D－乳酸)、構造單位為L－乳酸之聚(L－乳酸)、進而作為L－乳酸與D－乳酸之共聚物的聚(DL－乳酸)、或者該等之混合體。

乳酸中有如上所述兩種光學異構體，即L－乳酸及D－乳酸，結晶性根據該等兩種構造單位之比率而不同。例如，若係L－乳酸與D－乳酸之比率約為80：20~20：80之無規共聚物，則結晶性低，成為於玻璃轉移點60℃左右即軟化之透明非結晶性聚合物。另一方面，L－乳酸與D－乳酸之比率約為100：0~80：20、或約為20：80~0：100之無規共聚物，其玻璃轉移點與上述共聚物同樣為60℃左右，但結晶性高。

本反射膜，較佳為乳酸系聚合物中之DL比，即D－乳酸與L－乳酸之含有比率為D－乳酸：L－乳酸＝100：0~85：15、或者D－乳酸：L－乳酸＝0：100~15：85者，其中尤佳為D－乳酸：L－乳酸＝99.5：0.5~95：5、或者D－乳酸：L－乳酸＝0.5：99.5~5：95者。

D－乳酸與L－乳酸之含有比率為100：0或0：100之乳酸系聚合物存在如下傾向，即，顯現非常高之結晶性，熔點高，且耐熱性以及機械物性優良。即，對薄膜進行延伸或熱處理時，樹脂會結晶化而耐熱性及機械物性提高，故於該方面而言較佳。另一方面，由D－乳酸與L－乳酸所構成之乳酸系聚合物可賦予柔軟性，薄膜之成形穩定性及延伸穩定性提高，故於該方面而言較佳。

鑒於所獲得之反射膜之耐熱性與成形穩定性及延伸穩定性之平衡，D－乳酸與L－乳酸與之構成比更佳為D－乳酸：L－乳酸＝99.5：0.5~95：5、或者D－乳酸：L－乳酵＝0.5：99.5~5：95。

乳酸系聚合物可利用縮聚法、開環聚合法等眾所周知之方法進行製造。例如，縮聚法，可直接脫水縮聚合D－乳酸、L－乳酸、或該等之混合物而獲得具有任意組成之乳酸系聚合物。又，開環聚合法，一面視需要使用聚合調整劑等，一面於特定觸媒之存在下，使作為乳酸之環狀二聚體的丙交酯開環聚合，藉此獲得具有任意組成之乳酸系聚合物。

上述丙交酯中有作為L－乳酸之二聚體的L－丙交酯、作為D－乳酸之二聚體的D－丙交酯、作為D－乳酸與L－乳酸之二聚體的DL－丙交酯，視需要混合該等進行聚合，藉此可獲得具有任意組成、結晶性之乳酸系聚合物。

亦可摻合D－乳酸與L－乳酸之共聚合比不同之乳酸系聚合物。於此情況下，較佳為調整將數種乳酸系聚合物之D－乳酸與L－乳酸之共聚合比平均的值，使之處於上述DL比之範圍內。

又，乳酸系聚合物亦可使用乳酸與其他羥基羧酸之共聚物。此時，作為進行共聚合之「其他羥基羧酸單位」，可列舉乙醇酸、3－羥基丁酸、4－羥基丁酸、2－羥基－正丁酸、2－羥基－3,3－二甲基丁酸、2－羥基－3－甲基丁酸、2－甲基乳酸、2－羥基己酸等2官能脂肪族羥基羧酸或己內酯、丁內酯、戊內酯等內酯類。

另外，乳酸系聚合物，亦可視需要含有如對苯二甲酸之非脂肪族羧酸及/或如雙酚A之環氧乙烷加成物之非脂肪族二醇或、乳酸及/或乳酸以外之羥基羧酸，作為少量共聚合成分。

乳酸系聚合物較佳為高分子量，例如，較佳為重量平均分子量為5萬以上者，更佳為6萬~40萬者，其中尤佳為10萬~30萬者。若乳酸系聚合物之重量平均分子量未達5萬，則有可能所獲得之薄膜之機械物性較差。

(A層之聚烯烴系樹脂)作為聚烯烴系樹脂，可列舉聚乙烯、聚丙烯等單烯烴聚合物，或者將共聚物作為主成分者等。

作為聚烯烴系樹脂之具體例，可列舉低密度聚乙烯、線形低密度聚乙烯(乙烯－α－烯烴共聚物)、中密度聚乙烯、高密度聚乙烯等聚乙烯系樹脂，聚丙烯、乙烯－丙烯共聚物等聚丙烯系樹脂，聚4－甲基戊烯、聚丁烯、乙烯－醋酸乙烯酯共聚物等。

聚烯烴系樹脂，例如亦可為使用如齊格勒觸媒之多中心觸媒而製造者、使用如二茂金屬觸媒之單中心觸媒而製造者。

又，該等聚烯烴系樹脂中亦可使用使乙烯．丙烯橡膠等分散複合化之聚烯烴系熱可塑性彈性體。

該等樹脂，可單獨使用，亦可混合兩種以上進行使用。

考慮到成形為片材狀時之成形性、以及成形為片材狀時之耐熱性等，上述聚烯烴系樹脂中，較佳為乙烯－α－烯烴共聚物等線形低密度聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、乙烯－丙烯共聚物、丙烯－丁烯共聚物、乙烯－丙烯－丁烯三元共聚物、及乙烯－丙烯－二烯三元共聚物等，其中，尤佳為聚丙烯、乙烯－丙烯共聚物之任一者或者該等之混合樹脂。

作為上述乙烯－丙烯共聚物，尤佳為乙烯－丙烯無規共聚物。

就A層之基礎樹脂之折射率之觀點而言，上述聚烯烴系樹脂中，較佳為使用折射率(n)未達1.52之聚烯烴系樹脂。

於A層中，利用基礎樹脂與微粉狀填充劑等之界面上之折射散射而顯現光反射性。該折射散射效果隨著基礎樹脂與微粉狀填充劑等之折射率之差變大而變大。故而，作為A層之基礎樹脂，較佳為使用折射率小之樹脂，以使基礎樹脂與微粉狀填充劑等之折射率差變大，較佳為使用折射率未達1.52之聚烯烴系樹脂。

(A層之微粉狀填充劑)作為A層中之微粉狀填充劑，可列舉有機質微粉體、無機質微粉體等。

作為有機質微粉體，較佳為使用自木粉、紙漿粉等纖維素系粉末、或者聚合物微球、聚合物中空粒子等所選擇之至少一種。

作為無機質微粉體，較佳為使用自碳酸鈣、碳酸鎂、碳酸鋇、硫酸鎂、硫酸鋇、硫酸鈣、氧化鋅、氧化鎂、氧化鈣、氧化鈦、氧化鋁、氫氧化鋁、羥磷灰石、二氧化矽、雲母、滑石、高嶺土、黏土、玻璃粉、石棉粉、沸石、矽酸白土等所選擇之至少一種。

其中，就與A層之基礎樹脂之折射率差較大而可獲得優良之反射性能之觀點而言，較佳為折射率為1.6以上之無機質微粉體，例如碳酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦或氧化鋅，其中尤佳為氧化鈦。

氧化鈦與其他無機質微粉體相比，折射率明顯高，可使其與A層之基礎樹脂之折射率之差顯著增大，故可利用少於使用其他填充劑時之調配量而獲得優良之反射性能。又，藉由使用氧化鈦，可獲得即使薄膜厚度薄亦具有高反射性能之反射膜。

氧化鈦之中，作為A層中之微粉狀填充劑，較佳為如銳鈦礦型或金紅石型之結晶型氧化鈦，其中就增大與基礎樹脂之折射率之差之觀點而言，較佳為折射率為2.7以上之氧化鈦。於此方面，較佳為使用金紅石型之結晶型氧化鈦。折射率差越大，基礎樹脂與氧化鈦之境界面上之光的折射散射作用越大，可越容易賦予薄膜光反射性。

又，為賦予薄膜高光反射性，較佳為對可見光之光吸收能較小之氧化鈦。為減小氧化鈦之光吸收能，較佳為氧化鈦中所含有之著色元素之量較少，就該觀點而言，較佳為鈮含量為500 ppm以下之氧化鈦。同時，若釩含量為5 ppm以下則更佳。

以氯法製程所製造之氧化鈦純度高，故藉由該製造法可獲得鈮含量為500 ppm以下之氧化鈦(稱為「高純度氧化鈦」)。

氯法製程中，使以氧化鈦為主成分之金紅石礦於1000℃左右之高溫爐中與氯氣反應，首先生成四氯化鈦，接著利用氧使該四氯化鈦燃燒，藉此可獲得該高純度氧化鈦。

微粉狀填充劑較佳為在分散狀態下存在於A層之基礎樹脂中。因此，作為用作A層之微粉狀填充劑的氧化鈦，較佳為其表面以非活性無機氧化物進行覆蓋處理者。

藉由以非活性無機氧化物對氧化鈦之表面進行覆蓋處理，可抑制氧化鈦之光觸媒活性，從而提高薄膜之耐光性(接受光之照射時之耐久性)。

作為對氧化鈦之表面進行覆蓋處理之非活性無機氧化物，較佳為自氧化鋁、二氧化矽及氧化鋯所組成之群組中選擇之至少一種。若利用該等非活性無機氧化物進行覆蓋處理，則可在不損害藉由氧化鈦所獲得之高反射性能的情況下提高薄膜之耐光性。又，更佳為組合並用前文所列舉之非活性無機氧化物中之兩種以上，其中尤佳為組合並用二氧化矽與其他非活性無機氧化物(例如氧化鋁及氧化鋯)而進行覆蓋。

前述之非活性無機氧化物之表面處理量，較佳為表面處理後之氧化鈦之總質量的1~7質量%。若表面處理量為1質量%以上，則容易維持高光反射性，故而較佳。又，若表面處理量為7質量%以下，則向A層之基礎樹脂之分散性良好，可獲得均質之薄膜，故而較佳。

為提高向基礎樹脂之分散性，較佳為利用自鈦偶合劑、以及矽烷偶合劑等所組成之群組中選擇之至少一種有機化合物對氧化鈦之表面進行表面處理，其中尤佳為矽烷偶合劑。

作為矽烷偶合劑，例如可列舉具有烷基、烯基、胺基、芳基、環氧基等之烷氧基矽烷類，除此以外亦可列舉氯矽烷類、聚烷氧基烷基矽氧烷類等。具體而言，例如可列舉正β(胺基乙基)γ－胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、正β(胺基乙基)γ－胺基丙基甲基三甲氧基矽烷、正β(胺基乙基)γ－胺基丙基甲基三乙氧基矽烷、γ－胺基丙基三乙氧基矽烷、γ－胺基丙基三甲氧基矽烷、正苯基－γ－胺基丙基三甲氧基矽烷等胺基矽烷偶合劑，二甲基二甲氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、正丁基三甲氧基矽烷、正丁基三乙氧基矽烷、正丁基甲基二甲氧基矽烷、正丁基甲基二乙氧基矽烷、異丁基三甲氧基矽烷、異丁基三乙氧基矽烷、異丁基甲基二甲氧基矽烷、第三丁基三甲氧基矽烷、第三丁基三乙氧基矽烷、第三丁基甲基二甲氧基矽烷、第三丁基甲基二乙氧基矽烷等烷基矽烷偶合劑。

該等矽烷偶合劑可分別單獨使用或者組合兩種以上進行使用。

以上者中，作為用於本反射膜之矽烷偶合劑，較佳為胺基矽烷偶合劑。

又，為提高向基礎樹脂質之分散性，亦可利用矽氧烷化合物或多元醇對氧化鈦之表面進行處理。

作為此時所使用之矽氧烷化合物，例如可列舉二甲基聚矽氧、甲基氫聚矽氧、烷基改質聚矽氧等。

又，作為多元醇，例如可列舉三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、三丙醇乙烷、季戊四醇、以及季戊四醇等，其中尤佳為三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷。

該等矽氧烷化合物或多元醇化合物，可分別單獨使用或組合兩種以上進行使用。

利用上述鈦偶合劑、矽烷偶合劑、矽氧烷化合物、或多元醇等之表面處理量，相對於表面處理後之氧化鈦之總質量，較佳為0.05~3質量%。若表面處理量為0.05質量%以上，則可防止氧化鈦吸附水分，可防止氧化鈦粒子凝集而提高分散性。若氧化鈦之分散性提高，則可抑制顆粒之產生，而不會損害薄膜製品表面之外觀或者於延伸製膜時引起破裂。又，充分確保基礎樹脂與氧化鈦之界面之面積，可賦予薄膜高光反射性，另外，若表面處理量為3質量%以下，則氧化鈦粒子之滑性較為合適，可更穩定地擠出、製膜，故而較佳。

再者，所謂上述「表面處理量」，係指表面處理中所使用之處理劑(例如非活性無機氧化物或有機化合物等)占表面處理後的氧化鈦之總質量的質量比率。

使用氧化鈦以外之微粉狀填充劑之情況下，為提高向A層之基礎樹脂之分散性，較佳為與氧化鈦同樣亦進行表面處理。例如較佳為利用如上所述之矽氧烷化合物、多元醇系化合物、胺系化合物、脂肪酸、脂肪酸酯等進行表面處理。

作為A層之微粉狀填充劑之氧化鈦之平均粒徑，較佳為0.1 μ m~1 μ m，更佳為0.2 μ m~0.5 μ m。

若氧化鈦之粒徑為0.1 μ m以上，則向A層之基礎樹脂之分散性良好，可獲得均質之薄膜。又，若粒徑為1 μ m以下，則會更緻密地形成A層之基礎樹脂與氧化鈦之界面，故可賦予反射膜更優良之光反射性。

關於氧化鈦以外之微粉狀填充劑，其大小較佳為平均粒徑為0.05 μ m~15 μ m，更佳為0.1 μ m~10 μ m。若微粉狀填充劑之平均粒徑為0.05 μ m以上，則隨著薄膜之粗表面化而產生光散射反射，可提高光澤度。又，若微粉狀填充劑之平均粒徑為15 μ m以下，則可更緻密地形成A層之基礎樹脂與微粉狀填充劑之界面，故可賦予反射膜更優良之光反射性。

考慮到薄膜之光反射性、機械物性、生產性等，重要的是，A層中之微粉狀填充劑(尤其是氧化鈦)之含量，相對於構成A層之樹脂組成物A為10~80質量%之比率，較佳為10~70質量%，尤佳為10~60質量%，其中特佳為20~45質量%。

於A層中，若微粉狀填充劑之含量相對於樹脂組成物A為10質量%以上，則可充分確保基礎樹脂與微粉狀填充劑之界面之面積，故可賦予薄膜更高之光反射性。又，若微粉狀填充劑之含量為80質量%以下，則可確保薄膜必要之機械性質。

就本反射膜之反射性能方面而言，A層之空隙率(空隙於薄膜中所占之比率)較佳為35%以下，其中更佳為3~35%之範圍，尤佳為5%以上，進而更佳為7%以上。

若A層之空隙率超過35%，則存在如下情況，即，薄膜之機械強度下降，於薄膜製造中會導致薄膜破裂或者於使用時會導致耐熱性等耐久性不足。

<B層>

B層係包含樹脂組成物B之層，該樹脂組成物B係含有脂肪族聚酯系樹脂或聚烯烴系樹脂、或者該等之混合樹脂(將該等總稱為「B層之基礎樹脂」)及微粉狀填充劑作為主成分而成，於用作反射膜時，B層係構成反射使用面側之最外層之層。

反射膜中亦可具有2層以上之B層，但必須至少其中1層為反射使用面側之最外層。

(B層之基礎樹脂)B層之基礎樹脂可使用與作為A層之基礎樹脂而加以説明的樹脂相同之樹脂，其中尤佳為與A層同樣使用相同之乳酸系聚合物。

(B層之微粉狀填充劑)重要的是，B層中之微粉狀填充劑之含量相對於構成B層之樹脂組成物B，大於0.1質量%且未達5質量%，較佳為大於0.1質量%且未達3質量%，其中尤佳為大於0.1質量%且未達1質量%。

將反射膜裝入液晶顯示裝置等中之情況下，一般認為存在如下傾向，即，若B層中之微粉狀填充劑之含有比率大於5質量%，則亮度會顯著下降，另一方面，完全不含有微粉狀填充劑之情況下(0質量%)亮度不會提高。已知在微粉狀填充劑為某程度的量，具體而言大於0.1質量%且未達5質量%，特別是大於0.1質量%且未達3質量%，其中尤其是大於0.1質量%且未達1質量%之範圍之情形下，亮度會提高。可推測其理由為，與垂直入射相比，光以某程度之入射角入射至亮度提高片材上時，亮度提高片材之光透射率變高而損失減少，亮度提高，故較佳為藉由B層中之微粉狀填充劑而使光擴散，另一方面，若B層中之微粉狀填充劑之含量過多，則光澤度下降，隨之亮度亦下降，故於B層中含有某程度之量、即大於0.1質量%且未達5質量%之微粉狀填充劑之情況下，亮度會提高。

又，若於作為反射膜之最外層的B層中不含有微粉狀填充劑，則薄膜表面會過於平滑，於製造時或搬運時等薄膜會彼此摩擦，因所謂之滑動而容易造成傷痕，就該方面而言，較佳為B層中含有大於0.1質量%且未達5質量%之比率的微粉狀填充劑。

另外，若作為反射膜之最外層的B層中不含有微粉狀填充劑，則A層、B層間易於剝離，故就該方面而言，較佳亦為B層中含有大於0.1質量%且未達5質量%之比率的微粉狀填充劑。

作為B層中之微粉狀填充劑，可使用與A層中之微粉狀填充劑相同者。

其中，B層中之微粉狀填充劑，較佳為其平均粒徑為0.3 μ m~15 μ m者，更佳為0.5 μ m~10 μ m者。

若微粉狀填充劑之粒徑為0.3 μ m以上，則隨著薄膜之粗表面化而會產生光散射反射，故可減小薄膜之反射指向性。又，若微粉狀填充劑之粒徑為15 μ m以下，則會更緻密地形成B層之基礎樹脂與微粉狀填充劑之界面，故可賦予反射膜更優良之光反射性。

(其他成分)樹脂組成物A及樹脂組成物B，於不妨礙基礎樹脂及微粉狀填充劑之功能之範圍內，亦可含有其他樹脂或其他添加物。例如，可添加抗水解劑、抗氧化劑、光穩定劑、熱穩定劑、潤滑劑、分散劑、紫外線吸收劑、白色顏料、螢光增白劑、以及其他添加劑。

其中，為賦予耐久性，較佳為添加抗水解劑，以下進行詳細敍述。

近年來，液晶顯示裝置除使用於電腦用顯示器以外，亦使用於汽車用汽車導航系統或車載用小型電視等，故需要耐高溫度、高濕度者。因此，為賦予耐久性，較佳為於含有脂肪族聚酯系樹脂之反射膜中添加抗水解劑。

作為抗水解劑之較佳一例，可列舉碳化二醯亞胺化合物。作為碳化二醯亞胺化合物，例如可列舉具有下述通式之基本構造者作為較佳者。

－(N＝C＝N－R－)n－

式中，n表示1以上之整數，R表示有機系結合單位。例如，R為脂肪族、脂環族、芳香族之任一者。又，n通常係自1~50之間選擇適當之整數。

作為碳化二醯亞胺化合物之具體例，可列舉雙(二丙基苯基)碳化二醯亞胺、聚(4,4’－二苯基甲烷碳化二醯亞胺)、聚(對伸苯基碳化二醯亞胺)、聚(間伸苯基碳化二醯亞胺)、聚(甲苯基碳化二醯亞胺)、聚(二異丙基伸苯基碳化二醯亞胺)、聚(甲基－二異丙基伸苯基碳化二醯亞胺)、聚(三異丙基伸苯基碳化二醯亞胺)等，以及該等之單量體可列舉碳化二醯亞胺化合物。該等碳化二醯亞胺化合物，可單獨使用或者亦可組合兩種以上進行使用。

碳化二醯亞胺化合物較佳為，相對於100質量份之構成樹脂組成物A或B之脂肪族聚酯系樹脂，而以0.1~3.0質量份之比率進行添加。

若碳化二醯亞胺化合物之添加量為0.1質量份以上，則可使所獲得之薄膜充分顯現耐水解性之改良效果。又，若碳化二醯亞胺化合物之添加量為3.0質量份以下，則所獲得之薄膜之著色較少，可獲得高光反射性。

再者，於本反射膜中，A層亦可於不妨礙樹脂組成物A之功能之範圍內含有樹脂組成物A以外之成分。又，B層亦可於不妨礙樹脂組成物B之功能之範圍內含有樹脂組成物B以外之成分。

(積層結構)本反射膜係可以如下方式構成，其具備包含樹脂組成物A之A層及包含樹脂組成物B之B層，該B層至少位於A層之一側，且用作反射膜時成為反射使用面側之最外層。故而，亦可為自反射使用面側，包含B層/A層之2層結構、B層/A層/B層之3層結構、或者B層/A層/‥之4層或4層以上之積層結構者(上述「‥」表示任意之層)。

A層與B層之各層之厚度比率較佳為20：1~1：1。若B層之厚度比率小於A層與B層之厚度比率20：1，則光澤度會降低，而難以獲得良好之光反射特性。相反，若B層之厚度比率大於20：1，則會引起反射率下降。

本反射膜之背面側之面、即與反射使用面相反側之面，亦可依序積層金屬薄膜層及保護層。

該金屬薄膜層可藉由蒸鍍金屬而形成。例如可藉由真空蒸鍍法、離子化蒸鍍法、濺鍍法、離子電鍍法等而形成。

作為蒸鍍之金屬，只要是反射率高之材料，則可無特別限制地加以使用，一般而言，較佳為銀、鋁等，其中尤佳為銀。

金屬薄膜層，亦可於合成樹脂膜(亦稱為「中間層」)上形成金屬薄膜層而預先製作金屬薄膜層薄膜，並使該金屬薄膜層薄膜積層於本反射膜上。

此時，可將金屬薄膜層薄膜之金屬薄膜層與本反射膜重疊，又，亦可將金屬薄膜層薄膜之中間層與本反射膜重疊，只要以使重疊面部分或整個地黏著之方式進行積層即可。

作為黏著方法，可列舉使用各種黏著劑之眾所周知之黏著方法、不使用黏著劑之眾所周知之熱黏著方法。其中，不施加熱之黏著方法或以210℃以下之溫度進行熱黏著之方法可保持本反射膜內之空隙，維持高反射率，於此方面而言較佳。

金屬薄膜層可為金屬之單層品或積層品、或者金屬氧化物之單層品或積層品，亦可為金屬之單層品與金屬氧化物之單層品的2層以上之積層體。

金屬薄膜層之厚度較佳為根據形成層之材料或層形成法等而進行調整，通常較佳為設置在10 nm~300 nm之範圍內，其中更佳為設置為20 nm~200 nm之範圍內。若金屬薄膜層之厚度為10 nm以上，則可獲得充分之反射率。另一方面，若金屬薄膜層之厚度為300 nm以下，則生產效率較高，故而較佳。

若例示積層金屬薄膜層時之層結構，則可列舉本反射膜/(視需要有增黏塗層)/金屬薄膜層/保護層、或者本反射膜/中間層/(視需要有增黏塗層)/金屬薄膜層/保護層之層結構等。

再者，必須將本反射膜配置於照射有光之一側，如此，於上述各層之間可具有其他層，又，本反射膜、金屬薄膜層等各層亦可由多層構成。

(薄膜之厚度)本反射膜之厚度並無特別限定，通常為30 μ m~500 μ m，考慮到實用面之操作性，較佳為50 μ m~500 μ m左右之範圍內。尤其是作為小型、薄型反射板用途之反射膜，較佳為厚度為30 μ m以上且未達100 μ m。若使用該厚度之反射膜，則亦可使用於例如筆記型電腦或行動電話等之小型、薄型液晶顯示器等中。

(反射率)本反射膜較佳為表面對於波長為550 nm之光的反射率為95%以上，更佳為97%以上。若該反射率為95%以上，則可顯現良好之反射特性，從而可賦予液晶顯示器等之畫面充分之亮度。再者，此處之反射率表示照射有光之一側(反射使用面側)之表面的反射率。

本反射膜即使暴露於紫外線後，亦可保持如上所述之優良反射率。如上所述，本反射膜可使用分子鏈中不含有芳香環之脂肪族聚酯系樹脂作為基礎樹脂，故不會因紫外線而導致薄膜劣化，可保持優良之反射性。

(生物降解性)使用脂肪族聚酯系樹脂作為各層之基礎樹脂時，本反射膜具備如下特徵，即，於填埋處理時可由微生物等分解，不會產生廢棄所帶來之各種問題。脂肪族聚酯系樹脂，其酯鍵部於土壤中水解而分子量下降至1000左右，其後由土壤中之微生物等進行生物降解。

另一方面，芳香族聚酯系樹脂分子內之結合穩定性高，難以引起酯鍵部之水解。故而，即使填埋處理芳香族聚酯系樹脂及聚丙烯系樹脂，分子量亦不會下降，不會由微生物等進行生物降解。其結果，會引起以下問題，即，長期殘存於土壤中，會加快廢棄物填埋處理用地之短命化，或者損害自然景觀或野生動植物之生活環境。

(製造方法)以下，就本反射膜之製造方法之一例加以説明，對於下述製造法並無任何限定。於下述中，尤其就使用脂肪族聚酯系樹脂作為A層及B層之基礎樹脂時之製造方法加以説明，但使用聚烯烴系樹脂、或脂肪族聚酯系樹脂與聚烯烴系樹脂之混合樹脂作為A層及B層之基礎樹脂時，亦可同樣進行製造。

首先，於脂肪族聚酯系樹脂中分別調配特定量之微粉狀填充劑，視需要調配抗水解劑、其他添加劑等，分別製作樹脂組成物A、B。

具體而言，於脂肪族聚酯系樹脂中添加微粉狀填充劑，視需要添加抗水解劑、其他添加劑等，以帶型攪拌器、滾筒或亨舍爾混合機等進行混合後，使用班伯裏混煉機、單軸或雙軸擠出機等，在脂肪族聚酯系樹脂之熔點以上之溫度(例如乳酸系聚合物之情況時為170℃~230℃)下進行混練，藉此分別製作樹脂組成物A、B。

此時，亦可藉由各個給料器等添加特定量之脂肪族聚酯系樹脂、微粉狀填充劑、抗水解劑等，藉此分別製作樹脂組成物A、B，又，亦可預先於脂肪族聚酯系樹脂中調配高濃度之微粉狀填充劑、抗水解劑等，製作所謂之母料，將該母料與脂肪族聚酯系樹脂混合而分別製作具有所期望之濃度的樹脂組成物A、B。

其次，利用各擠出機，將如上所述獲得之樹脂組成物A、B進行熔融，並擠出為片材狀而進行積層。

例如，分別使樹脂組成物A及樹脂組成物B乾燥後，分別供給至擠出機，加熱至樹脂之熔點以上之溫度而進行熔融。此時，亦可不使樹脂組成物A及樹脂組成物B乾燥而分別供給至擠出機，但於並不乾燥之情況下，進行熔融擠出時較佳為使用真空通風口。

擠出溫度等條件較佳為考慮到因分解而導致分子量下降之情況等而加以設定，例如，若為乳酸系聚合物之情況下，則較佳為將擠出溫度設定在170℃~230℃之範圍內。

擠出後，例如，可將熔融之樹脂組成物A及樹脂組成物B分別自T模頭之狹縫狀之吐出口擠出並使之積層，由冷卻輥使該積層體密接固化而形成澆鑄片材。

本反射膜，較佳為如上所述將樹脂組成物A及樹脂組成物B熔融製膜並積層後，使該積層體至少於單軸方向上延伸1.1倍以上。

就於薄膜內部形成空隙而提高反射率之觀點而言，延伸亦較為重要。即，若在適合脂肪族聚酯系樹脂之延伸溫度下進行延伸，則作為基質之脂肪族聚酯系樹脂得到延伸，而微粉狀填充劑停留在原本之狀態下，如此延伸時之脂肪族聚酯系樹脂與微粉狀填充劑之延伸舉動不同，故脂肪族聚酯系樹脂與微粉狀填充劑之界面產生剝離而形成空隙，可進一步提高反射率。

於薄膜內形成空隙之情況下，較佳為使所獲得之澆鑄片材延伸5倍以上之面積倍率，更佳為延伸7倍以上。藉由延伸5倍以上之面積倍率，可實現5%以上之空隙率，藉由延伸7倍以上，可實現20%以上之空隙率，藉由延伸7.5倍以上，亦可實現30%以上之空隙率。

另外，本反射膜較佳為於雙軸方向上進行延伸。藉由進行雙軸延伸，可獲得更高空隙率，可進一步提高薄膜之反射率。又，若僅對薄膜進行單軸延伸，則僅成為所形成之空隙於一個方向上延伸之纖維狀形態，而藉由進行雙軸延伸，可成為該空隙於縱橫兩個力向上延伸之圓盤狀形態。即，藉由進行雙軸延伸，可增大樹脂與微粉狀填充劑之界面之剝離面積，從而促進薄膜之白化，其結果，可進一步提高薄膜之光反射性。並且，若進行雙軸延伸，則於薄膜之收縮方向上異向性會消失，故可提高反射膜之耐熱性，另外亦可增加機械強度。

再者，雙軸延伸之延伸順序並無特別限定，例如，可為同時雙軸延伸亦可為逐次延伸。使用延伸設備，進行熔融製膜之後，藉由輥延伸而於MD(薄膜之拉伸方向)上進行延伸後，亦可藉由拉幅延伸而於TD(垂直於上述MD之方向)上進行延伸，亦可藉由管狀延伸等而進行雙軸延伸。

使澆鑄片材延伸時之延伸溫度，例如於A層之基礎樹脂為脂肪族聚酯之情況下，較佳設為玻璃轉移溫度(Tg)左右以上至該Tg＋50℃以下之範圍內，於乳酸系聚合物之情況下，較佳設為50~90℃。若延伸溫度為50℃以上，則延伸時薄膜不會破裂，若為90℃以下則延伸配向變高，其結果，空隙率變大，故可獲得高反射率。

又，為賦予薄膜耐熱性以及尺寸穩定性，本反射膜較佳為於延伸後進行熱固定。

用以將薄膜熱固定之處理溫度較佳為90~160℃，更佳為110~140℃。熱固定所需要之處理時間較佳為1秒~5分鐘。又，對於延伸設備等並無特別限定，較佳為進行可於延伸後進行熱固定處理之拉幅延伸。

(用途)本反射膜具備光反射性高、反射使用面側之光澤度及亮度高之特徵。故而，不僅可較佳作為電腦或電視等之顯示器、照明器具、照明廣告牌等之反射板等中所使用之反射膜而使用，而且尤其適合作為要求薄型化之用途之反射膜。

近年來，輕量、小型筆記型電腦、車載用小型電視等之需求增加，而要求對應於此之薄型液晶面板。因此，反射膜亦要求薄型化，本反射膜亦可對應於該需要，可實現總厚度未達100 μ m之反射膜。

具體而言，可使用本反射膜形成液晶顯示器等中所使用之反射板。例如，可將本反射膜積層於金屬板或樹脂板上而形成反射板，該反射板作為液晶顯示裝置、照明器具、照明廣告牌等中所使用之反射板而較為有用。

以下，就如此之反射板之製造方法之一例加以説明。

作為將本反射膜覆蓋於金屬板或樹脂板上之方法，有使用黏著劑之方法、不使用黏著劑而進行熱融著之方法、經由黏著性片材而進行黏著之方法、擠出塗佈之方法等，並無特別限定。

例如，於金屬板或樹脂板之貼合有反射膜之一側的面上塗佈聚酯系、聚胺基甲酸酯系、環氧系等之黏著劑，可貼合本反射膜。於該方法中，使用逆輥塗佈機、接觸輥塗佈機等一般使用之塗佈設備，於貼合反射膜之金屬板等之表面上塗佈黏著劑，以使乾燥後之黏著劑膜厚為2 μ m~4 μ m左右。其次，一面藉由紅外線加熱器及熱風加熱爐進行塗佈面之乾燥及加熱，將板之表面保持為特定溫度，一面使用輥層壓機將反射膜直接覆蓋於其上並進行冷卻，藉此可獲得反射板。

於該情況下，若將金屬板等之表面維持在210℃以下，則可較高地維持反射板之光反射性，故而較佳。

金屬板等之表面溫度較佳為160℃以上。

[實施例]

以下揭示實施例，進一步具體說明本發明，但本發明並非限定於該等實施例，於不脫離本發明之技術性思想之範圍內可進行各種應用。

再者，如下所示進行實施例所示之測定值以及評估。此處，將薄膜之拉伸(流動)方向表示為MD，將其正交方向表示為TD。

(測定以及評估方法)(1)平均粒徑使用島津製作所(股)製造之型號為「SS－100」之粉體比表面測定器(透過法)。於剖面積為2 cm² 、高度為1 cm之試料筒內填充3 g試料，在500 mm水柱之壓力下測定20 cc之空氣透過之時間，藉此計算出平均粒徑。

(2)反射率(%)於分光光度計(「U－4000」、日立製作所(股)製造)上安裝積分球，測定對波長為550 nm之光的反射率。此時，自反射使用面側、即反射膜面側照射光。再者，於測定前設定光度計，以使氧化鋁白板之反射率為100%。

(3)光澤度根據JIS Z－8741，使入射角、受光角合計為60°，測定薄膜之光澤度。其中，對反射使用面側(即，反射膜之B層側)照射光而測定光澤度。

光澤度之測定係使用DIGITAL變角光澤計UGV－5DP型(SUGA測試機公司製造)。

(4)亮度於26吋之液晶背光單元(SAMSUNG公司製造：LTA260W－02)之中裝入所製作之反射膜，依序重疊CCFL、擴散板、擴散片材及DBEF－D，使用亮度計(Topcon Engineering(股)製造：BM－7)進行中心亮度之測定。

(5)氧化鈦中之鈮濃度(ppm)根據JIS M－8321「鈦礦石－鈮定量方法」測定鈮含量。即，稱取0.5 g試料(氧化鈦)，將該試料轉移至放入有5 g熔解合劑[氫氧化鈉：過氧化鈉＝1：2(質量比)]之鎳製坩鍋中，進行攪拌後，利用約2 g無水碳酸鈉覆蓋該試料之表面，於坩鍋內使試料加熱熔解而形成熔成物。使該熔成物在一直放置於坩鍋內之狀態下冷卻後，於熔成物中逐漸少量地加入100 ml溫水及50 ml鹽酸使之溶解，進一步添加水而使之定量為250 ml。以ICP發光分光裝置測定該溶液，求得鈮含量。其中，測定波長設為309.42 nm。

(6)氧化鈦中之釩含量(ppm)稱取0.6 g試料(氧化鈦)，加入10 ml硝酸，於微波試料分解裝置內使之溶解，將所獲得之溶液定量至25 ml，使用ICP發光分光裝置進行定量分析。

微波試料分解裝置使用ASTECH公司製造之MDS－2000型，分解操作按照下述表1之步驟進行。又，測定波長設為311.07 nm。

[表1]

(7)折射率樹脂之折射率係根據JIS K－7142之A法進行測定。

(8)A層內部之空隙率(%)測定延伸前之薄膜之密度(記做「未延伸薄膜密度」)、及延伸後之薄膜之密度(記做「延伸薄膜密度」)，代入下式而求得薄膜之空隙率。

空隙率(%)＝{(未延伸薄膜密度－延伸薄膜密度)/未延伸薄膜密度}×100

[實施例1]

(A層用樹脂組成物A之製作)以50：50之質量比率將重量平均分子量20萬之乳酸系聚合物(Cargill Dow Polymer公司製NW4032D，D體：L體＝1.5：98.5，玻璃轉移溫度65℃)之顆粒物與平均粒徑0.21 μ m之氧化鈦(鈮濃度150 ppm；有利用氧化鋁、二氧化矽之表面處理)混合，獲得混合物。相對於100質量份該混合物，加入2.5質量份碳化二醯亞胺改質異氰酸酯(日清紡績(股)製造之CarbodiliteLA－1)作為抗水解劑，進行混合後，使用雙軸擠出機進行顆粒物化，製作所謂之母料。並且，以60：40之質量比率將該母料與上述乳酸系聚合物混合而製作樹脂組成物A。

(B層用之樹脂組成物B之製作)於重量平均分子量20萬之乳酸系聚合物(Cargill Dow Polymer公司製NW4032D，D體：L體＝1.5：98.5，玻璃轉移溫度65℃)之顆粒物中，添加平均粒徑2 μ m之二氧化矽，另外添加2.5質量份抗水解劑(雙(二丙基苯基)碳化二醯亞胺)進行混合後，使用雙軸擠出機進行顆粒物化，製作所謂之母料。並且，以60：40之質量比率將該母料與上述乳酸系聚合物混合而製作樹脂組成物B。

再者，樹脂組成物B中之上述二氧化矽之量為0.2質量%。

(薄膜之製作)將樹脂組成物A、B分別供給至加熱至220℃之擠出機A以及B，分別使用T模頭，以成為B層/A層/B層之3層結構之方式，在220℃之溫度下將熔融狀態之樹脂組成物A以及B自擠出機A以及B中擠出成片材狀，並冷卻固化而形成薄膜。將所獲得之薄膜於65℃之溫度下，以於MD上為2.5倍、於TD上為2.8倍之方式進行同時雙軸延伸後，於140℃之溫度下進行熱處理，獲得厚度為250 μ m(A層：210 μ m、B層：20 μ m)之反射膜。

對所獲得之反射膜進行光澤度、反射率以及亮度之測定。其結果示於表2。

[實施例2]

如表2所示，於B層用之樹脂組成物B之製作中，以成為樹脂組成物B之2質量%之方式添加二氧化矽，除此以外以與實施例1同樣之方式，獲得厚度為250 μ m(A層：210 μ m、B層：20 μ m)之反射膜。對所獲得之反射膜進行光澤度、反射率以及亮度之測定，其結果示於表2。

[實施例3]

如表2所示，於實施例1中，關於B層用樹脂組成物B，以0.2質量%之比率添加平均粒徑0.25 μ m之氧化鈦(鈮濃度430 ppm；有利用氧化鋁、二氧化矽以及氧化鋯之表面處理)以代替二氧化矽而製作母料，除此以外以與實施例1同樣之方式，獲得厚度為250 μ m(A層：210 μ m、B層：20 μ m)之反射膜。對所獲得之反射膜進行光澤度、反射率以及亮度之測定，其結果示於表2。

[比較例1]

如表2所示，於B層用樹脂組成物B之製作中，以成為樹脂組成物B之0.1質量%之方式添加二氧化矽，除此以外以與實施例1同樣之方式，獲得厚度為250 μ m(A層：210 μ m、B層：20 μ m)之反射膜。對所獲得之反射膜進行光澤度、反射率以及亮度之測定，其結果示於表2。

[比較例2]

如表2所示，於B層用之樹脂組成物B之製作中，以成為樹脂組成物B之20質量%之方式添加二氧化矽，除此以外以與實施例1同樣之方式，獲得厚度為250 μ m(A層：210 μ m、B層：20 μ m)之反射膜。對所獲得之反射膜進行光澤度、反射率以及亮度之測定，其結果示於表2。

[表2]

因實施例1、2及比較例1、2僅B層中之微粉狀填充劑之含量不同，故研究該等之微粉狀填充劑含量與光澤度以及亮度之關係。

根據表2之結果而認為：對於光澤度而言，其隨著B層中之微粉狀填充劑之含量增多而下降，對於亮度而言，與0.1質量%相比，0.2質量%者較高，若達到2質量%，則會稍微下降，但仍維持在較佳範圍，若進一步達到大於5質量%之20質量%則會顯著下降，較佳範圍為大於0.1質量%且未達5質量%，特別是大於0.1質量%且未達3質量%，其中尤其是大於0.1質量%且未達1質量%之範圍。

[實施例4]

(氧化鈦之製作)於藉由為使鹵化鈦氣相氧化而進行之所謂之氯法製程而獲得的金紅石型氧化鈦(平均粒徑：0.28 μ m，鈮含量：390 ppm，釩含量：4 ppm)之表面上，以相對於處理後之全部氧化鈦分別含有1質量%、0.5質量%、0.5質量%之氧化鋁、二氧化矽、氧化鋯之方式形成非活性無機氧化物層，另外，以相對於處理後之全部氧化鈦含有0.3質量%之三羥甲基乙烷之方式形成有機化合物層。

(A層用樹脂組成物A之製作)以30：70之質量比率將乙烯－丙烯無規共聚物(折射率：1.50)之顆粒物與上述氧化鈦混合而獲得混合物。使用雙軸擠出機將該混合物顆粒物化，製作所謂之母料。

以90：10之質量比率將該母料與上述乙烯－丙烯無規共聚物之顆粒物混合，製作樹脂組成物A。

(B層用樹脂組成物B之製作)以30：70之質量比率將乙烯－丙烯無規共聚物(折射率：1.50)之顆粒物與上述氧化鈦混合而獲得混合物。使用雙軸擠出機將該混合物顆粒物化，製作所謂之母料。

以1：99之質量比率將該母料與上述乙烯－丙烯無規共聚物之顆粒物混合，製作樹脂組成物B。

(薄膜之製作)將樹脂組成物A、B分別供給至加熱至200℃之擠出機A以及B，分別使用T模頭，以成為B層/A層之2層結構之方式，將熔融狀態之樹脂組成物A以及B自擠出機A以及B擠出成片材狀，並冷卻固化而形成薄膜。

在135℃之溫度下，將所獲得之薄膜以於MD上為5倍、於TD上為5倍之方式進行同時雙軸延伸，獲得厚度為75 μ m(A層：70 μ m、B層：5 μ m)之反射膜。對所獲得之反射膜進行光澤度、反射率以及亮度之測定。其結果示於表3。

再者，關於A層內部之空隙率，將樹脂組成物A供給至擠出機A，按照上述操作獲得僅A層之單層薄膜(厚度為70 μ m)，對單層薄膜進行測定。其結果示於表3。

[實施例5]

除了以如下方式製作B層用樹脂組成物B之處以外，與實施例4同樣獲得反射膜。對所獲得之反射膜進行與實施例4同樣之評估。其結果示於表3。

(B層用樹脂組成物B之製作)以99.7：0.3之質量比率將乙烯－丙烯無規共聚物(折射率：1.50)之顆粒物與二氧化矽(平均粒徑：2 μ m)混合而獲得混合物，使用雙軸擠出機將該混合物顆粒物化。

[實施例6]

除了於實施例4之氧化鈦之製作中，使用異丁基三乙氧基矽烷代替三羥甲基乙烷以外，與實施例4同樣獲得反射膜。對所獲得之反射膜進行與實施例4同樣之評估。其結果示於表3。

[比較例3]

除了以如下方式製作B層用樹脂組成物B之處以外，與實施例4同樣獲得反射膜。對所獲得之反射膜進行與實施例4同樣之評估。其結果示於表3。

(B層用樹脂組成物B之製作)以90：10之質量比率將乙烯－丙烯無規共聚物(折射率：1.50)之顆粒物與二氧化矽(平均粒徑：2 μ m)混合而獲得混合物，使用雙軸擠出機將該混合物顆粒物化。

[比較例4]

除了直接使用乙烯－丙烯無規共聚物(折射率：1.50)之顆粒物作為B層用樹脂組成物B之方面以外，與實施例4同樣獲得反射膜。對所獲得之反射膜進行與實施例4同樣之評估。其結果示於表3。

由表3明確可知，實施例4~6之反射膜，光澤度為50以上、反射率為97%以上，對於亦包含亮度之光反射性而言，其具有優良之光反射性。

另一方面，可知，比較例3之反射膜，光澤度未達50，反射率亦未達97%，於亦包含亮度之光反射性方面，差於實施例4~6之反射膜。

又，比較例4之反射膜，光澤度為70以上，但反射率未達97%，於亦包含亮度之光反射性方面，差於實施例4~6之反射膜。

Claims (8)

1. 一種反射膜，係具備於內部具有空隙之A層，該A層包含含有乳酸系聚合物或折射率(n)未達1.52之聚烯烴系樹脂、及氧化鈦而成之樹脂組成物A，樹脂組成物A中之該氧化鈦之含有比率為10~80質量%，並且，具備B層作為反射使用面側之最外層，該B層包含含有乳酸系聚合物或折射率(n)未達1.52之聚烯烴系樹脂、及鈮含量500ppm以下且釩含量5ppm以下之氧化鈦而成之樹脂組成物B，樹脂組成物B中之該氧化鈦之含有比率大於0.1質量%且未滿5質量%，反射膜表面對於波長為550nm之光的反射率在97%以上，且反射使用面側之60°下之光澤度為60~80。
2. 如申請專利範圍第1項之反射膜，其中，樹脂組成物A係含有乳酸系聚合物及氧化鈦而成，樹脂組成物A中之該氧化鈦之含有比率為10~60質量%。
3. 如申請專利範圍第1項之反射膜，其中，樹脂組成物A之聚烯烴系樹脂係聚丙烯及乙烯-丙烯共聚物之任一者或者該等之混合樹脂。
4. 如申請專利範圍第1項之反射膜，其中，A層與B層之各層之厚度比率為20：1~1：1。
5. 如申請專利範圍第1項之反射膜，其中，作為A層所含有之微粉狀填充劑之氧化鈦，係鈮含量為500ppm以下之氧化鈦。
6. 如申請專利範圍第1項之反射膜，其中，作為A層所 含有之微粉狀填充劑之氧化鈦，係其表面以自二氧化矽、氧化鋁及氧化鋯所組成之群組中選擇之至少一種非活性無機氧化物加以覆蓋之氧化鈦。
7. 如申請專利範圍第1項之反射膜，其中，作為A層所含有之微粉狀填充劑之氧化鈦，係其表面組合併用二氧化矽與二氧化矽以外之非活性無機氧化物而加以覆蓋之氧化鈦。
8. 一種反射板，其具備申請專利範圍第1至7項中任一項之反射膜。