TWI481971B

TWI481971B - 曝光方法及曝光裝置

Info

Publication number: TWI481971B
Application number: TW095120320A
Authority: TW
Inventors: Jin Iino
Original assignee: V Technology Co Ltd
Priority date: 2005-04-08
Filing date: 2006-06-08
Publication date: 2015-04-21
Also published as: JP2006292919A; TW200801861A; JP4304165B2

Description

曝光方法及曝光裝置

本發明係有關一種曝光方法及曝光裝置，係用於液晶面板用濾色器等的製造時。

以往，於液晶面板用濾色器的製造中，已知有一種用以在形成有黑矩陣(black matrix)的基板上形成紅(R)、綠(G)、藍(B)之著色層的曝光方法和曝光裝置(參照例如日本專利文獻1、日本專利文獻2)。該曝光方法係將載置有基板的基板台(stage)搬運至曝光部並予以定位，於該曝光部中，使來自光源部的曝光光線通過比基板面積小的光罩並照射於基板上的預定區域，以進行第1次的曝光。接著，將前述基板台僅步進(step)移動預定距離，並將基板再度定位於曝光部後，對第1次時無法曝光的區域進行第2次曝光。反覆前述的曝光而對大型的基板上整面轉印光罩的圖案。

而且，其他習知的曝光方法或曝光裝置係記載於例如日本專利文獻3及專利文獻4。該曝光方法係將捲繞成滾輪的片狀基材(基板)拉出於曝光部並予以定位，且於該曝光部使來自光源部的曝光光線通過與單位基板大小相當的光罩，且照射於片狀基材上的預定區域，以進行光罩的圖案的轉印。接著，藉由將前述片狀基材拉出單位基板的相當份至前述曝光部並予以定位，反覆進行同樣的曝光操作，依序朝片狀基材的長邊方向將光罩的圖案予以轉印。

[日本專利文獻1]：特開平9－127702號公報[日本專利文獻2]：特開2000－347020號公報[日本專利文獻3]：特開2004－341280號公報[日本專利文獻4]：特開2001－264999號公報

然而，就前述的以往之曝光方法和曝光裝置而言，必須間歇性反覆進行以下操作：當對前述基板(基材)之預定區域的曝光結束時，暫時結束曝光操作並使光罩相對基板(基材)相對地步進移動，且再度將基板(基材)與光罩予以對位。因此，會有在曝光操作上耗費長時間，而無法有效率地進行曝光作業的問題。而且，若為了防止因光罩本身重量而引起的彎曲而將光罩的大小予以縮小，則對大型基板反覆進行曝光操作的次數便會變多，曝光時間也隨之增長，使前述問題更加顯著。

再者，為了減少前述曝光操作的重複次數，而使用比較大的光罩時，曝光光線便需要大能量。因此，會有受限於光源部之功率(power)極限而必須延長曝光光線之照射時間，結果仍然無法縮短曝光時間的問題。

而且，為了於前述曝光部進行前述基板(基材)與光罩的對位，而必須預先在前述基板(基材)及光罩雙方另外形成有別於圖案的對位標記(alignment mark)，而有使前述基板(基材)和光罩的製造步驟繁雜的問題。

本發明係鑑於前述問題點而研創者，其目的為提供一種曝光方法及曝光裝置，其可以使用小遮罩將具有廣曝光區域的基板有效率地曝光。

本發明為了解決前述問題，有以下數點特徵。

換言之，本發明之曝光方法係具有：藉由基板搬運部以一定速度朝一定方向搬運基板的步驟；以攝像部預先形成於前述基板的基準圖案之圖案邊緣進行攝像，並檢測出位於基板上之搬運方向及與該搬運方向成直角之方向的基準位置的步驟；當前述攝像部所攝像的基準圖案藉由前述基板搬運部從攝像位置移動至曝光位置時，調整前述光罩位置，俾使前述遮罩的位置與前述基板上的前述基準位置一致的步驟；於前述曝光位置使來自連續光源的曝光光線通過設置於曝光光學系統之光路上的前述遮罩並予以照射，將前述遮罩之開口部的像轉印於前述基板上的步驟；且將沿著前述基板搬運方向的曝光區域予以連續曝光。

本發明之曝光裝置，係具有：基板搬運部，以一定速度將基板往一定方向搬運；曝光光學系統，對由前述基板搬運部搬運之狀態的基板，使來自連續光源的曝光光線通過遮罩之開口部並予以照射，而使前述開口部的像轉印到前述基板上；攝像部，於前述基板的移動中對預先形成於前述基板的基準圖案之圖案邊緣進行攝像；控制裝置，根據前述攝像部所攝像的前述圖案邊緣影像檢測出位於前述基板上之搬運方向及與前述搬運方向成直角之方向的基準位置，且當前述攝像部所攝像的基準圖案從攝像位置移動至曝光位置時，將前述遮罩之位置予以調整，以使該遮罩的位置與前述基板上的前述基準位置一致；且前述控制裝置係在前述基板從前述基板上的曝光開始端至曝光終端為止移動於前述曝光位置之期間，使來自前述連續光源的前述曝光光線對前述基板持續照射。

在本發明之曝光裝置中，前述控制裝置係根據與基板搬運方向成直角之方向的基準位置，而於與前述遮罩的搬運方向成直角的方向進行位置調整為佳。

而且，在本發明之曝光裝置中，前述控制裝置係根據由前述各基準裝置之檢測所求得的相對基板之搬運方向的傾斜，而進行前述遮罩之旋轉角的位置調整為佳。

另外，在本發明之曝光裝置中，前述基板搬運部亦可將片狀的基板從收納滾輪捲繞於捲繞輪，而使前述曝光光線沿著垂直於前述曝光光學系統之光路的平面移動。

藉由本發明之曝光方法及曝光裝置，可以一邊藉由基板搬運部搬運基板一邊將遮罩開口部的形狀連續地轉印並進行曝光。因此，即使在使用小遮罩時，也沒有因基板之間歇性步進移動而進行曝光的必要，而可以對具有廣曝光區域的基板進行有效率的曝光。

而且，也可以利用預先形成於基板的基準圖案檢測出基板的基準位置，並根據該基準位置調整前述遮罩的位置。因此，在可以正確地對前述基板之預定區域進行曝光的同時，無須為了進行前述遮罩之位置調整而於基板和遮罩形成對位標記(alignment mark)，而使其製造變得容易。

藉由在與遮罩的搬運方向成直角的方向進行位置調整的實施形態之曝光裝置，可以與位於與基板之搬運方向成直角之方向的基準位置對位，並確實地進行遮罩於前述直角方向的位置調整。因此，可以正確地進行沿基板搬運方向的曝光區域之曝光。

藉由進行遮罩的旋轉角之位置調節的實施形態之曝光裝置，可以與相對基板搬運方向的傾斜角對位，並確實地進行遮罩之旋轉角的位置調整。因此，可以對應被搬運之基板的位置變化而更加正確地進行遮罩的位置調整，使預定曝光區域的曝光更加正確地進行。

藉由將片狀基板從收納滾輪捲繞至捲繞滾輪並使曝光部沿著與曝光光學系統之光路垂直的平面移動的實施形態之曝光裝置，則無須使連接多數相當於單位基板的曝光區域的片狀基板，在相當於各單位基板的每個曝光區域步進移動，間歇性反覆進行曝光操作。因此，可以極有效率地將多數基板曝光，並提高生產性。

以下，參照第1圖、第2A圖及第2B圖對本發明第一實施形態的曝光裝置進行說明。

於第1圖中，曝光裝置1係具有：曝光光學系統3，設置於曝光站(曝光部)2；基板搬運部5，搬運位於該曝光光學系統3下方且為曝光對象的基板4；攝像部6，將前述基板4上的特定部位予以攝像；影像識別用光源7，於前述曝光站2將前述基板4從下方加以照明；控制裝置8，與前述各裝置部連接並將該等裝置予以控制。來自前述曝光光學系統3的曝光光線係通過設置於曝光光學系統3的遮罩11之開口部而照射於前述基板4，使根據前述開口部之形狀的圖案轉印到前述基板4上。

前述曝光光學系統3係具備有：燈(連續光源)9，由超高壓水銀燈等組成；照明用透鏡10，設置於該燈9的下方，並將來自燈9的曝光光線向下方投光；以及遮罩11，設置於該照明用透鏡10的下方。該曝光光學系統3之光軸(光路徑)S係設定於垂直方向，前述遮罩11係位在垂直於光軸S的水平面內。前述燈9係一旦點亮則在被指示熄滅之前連續地照射曝光光線。另外，前述遮罩11係由在第1圖垂直於紙面的Y軸方向(在第2A圖及第2B圖中為上下方向)y具有長邊的矩形狀平板所構成。位於與Y軸方向y成直角的X軸方向(在第1圖、第2A、2B圖為左右方向)x的短邊之中央部，於Y軸方向y隔著預定間隔貫穿設置具有於X軸方向x有長邊的矩形狀開口部11a、11a複數個(圖示之例為2個)。前述開口部11a之X軸方向的長度係設定為例如與基板4的像素(pixel)18(後述)之X軸方向的長度相同。遮罩11的大小係只要有設置前述開口部11a、11a所需要且充分的面積即可。因此，遮罩11係於基板4之X軸方向X的寬，遠小於單位基板(將相當於液晶面板等之1片的大小的基板稱為「單位基板」)於X軸方向x的長度(參照第2A圖及第2B圖)。

前述遮罩11係被支撐於與前述曝光光學系統3之光軸S垂直設置的遮罩台12之上面，連結前述開口部11a、11a之中的線係位於前述曝光光學系統3之光軸S上。前述遮罩台12係於水平面內，可藉由含有伺服馬達、線性馬達等的驅動部13來調整前述遮罩11之Y軸方向y的位置與以遮罩11之中央為中心的繞軸之旋轉角。前述遮罩驅動部13係檢測前述遮罩台12之往Y軸方向y的移動位置與旋轉角度，並設有用以將該等檢測值回授至前述控制裝置8的編碼器、線性感測器等位置感測器與角度感測器(皆未圖示)。

前述基板搬運部5係具備收納滾輪14、捲繞輪15以及基板驅動部16。收納滾輪14係配置於前述曝光站2的一側端(第1圖為右側)，將膜(film)狀(片狀)的基板4予以捲繞並收納。捲繞滾輪15係配置於曝光站2之另一側端(第1圖為左側)，捲繞從前述收納滾輪14拉出的基板4。基板驅動部16係由輔助馬達等所構成，將前述捲繞滾輪迴轉使基板4沿著X軸方向x連續地往行進方向(一定方向)M搬運，並被捲繞於捲繞滾輪15。於前述基板驅動部16，設有用以檢測出前述基板4往X軸方向的移動位置，並將該檢測值回授至前述控制裝置8的編碼器、線性感測器等位置感測器。而且，於前述基板搬運部5，設置有位置於前述曝光站2的前後(第1圖為左右)並從上下夾住基板4而自轉的2對引導滾輪17a及17b。藉由該引導滾輪17a及17b，前述基板4係於遮罩台12下方保持水平狀態並移動。

前述基板4係例如濾色器基板，如第2A圖所示，黑矩陣BM中含有配置成矩陣狀且有矩形狀開口的像素(基準圖案)18。該像素18係於基板4的搬運方向(X軸方向x)以直線狀配置為各著色層(紅R、綠G、青B)用的像素行(column)，於與前述搬運方向成直角的基板4之寬方向(Y軸方向y)配置該像素行。該基板4係於前述曝光站2中，表面係沿著與前述光學系統3之光軸S垂直的水平面移動。

又，前述基準圖案係除了本實施形態所示者外，於半導體零件中，則為配線圖案或各種電極圖案等。

前述攝像部6係具有：半反射鏡(half mirror)19，與前述影像識別用照明7相對向，並於前述曝光光學系統3之內部配置於前述照明用透鏡10與前述遮罩11之間；線性電荷耦合元件(下文亦稱線性CCD)20，將由該半反射鏡19反射的影像予以攝像。

前述線性CCD20係例如，將受光元件於Y軸方向y一直線狀地以比前述基板4的寬度(Y軸方向y的尺寸)更大的長度排列而成者。前述反射鏡19之光軸S1之位置(攝像位置)F係從前述曝光光學系統3之光軸S的位置(曝光位置)E對基板4的進行方向M向後側(在第1圖、第2A圖及2B圖中為右側)預先離開預定距離L。因此，以前述線性CCD20透過前述影像識別用照明7的照明光對前述基板4之像素18的前方邊緣(圖案邊緣)18e1(於基板4之行進方向M的前方之緣部)進行攝像，並經過預定時間後，像素18便會到達於前述遮罩11之開口部11a的X軸方向x的中央位置(曝光位置)E。前述線性CCD20係再對前述基板4之像素18之Y軸方向y的側方邊緣(圖案邊緣)18e2進行攝像。

前述控制裝置8係用以控制裝置整體之動作者，且連接於影像處理部21、記憶部22、演算部23、燈電源部24、基板控制器25、以及遮罩台控制器26，並具備有將該等之動作統合控制的主控制部27。影像處理部21係根據以前述線性CCD20對前述基板4之像素18之前方邊緣18e1與側方邊線18e2進行攝像所得的影像資料，檢測出位於基板4之X軸方向x與Y軸方向y的基準位置。記憶部22係將基板4之黑矩陣BM的設計資料和關於前述基準位置的資料等資料、以及裝置整體之動作程式等予以記憶。演算部23係由前述攝像位置F與曝光位置E之間的距離L與基板4的搬運速度，來演算像素18的前方邊緣18e1之位置從攝像位置F移動至曝光位置E的時間。且演算部23係演算：根據前述影像處理部21所檢測的前述側方邊緣18e2之基板4位於Y軸方向y的基準位置(Y軸基準位置)、與前述遮罩11(開口部11a)位於Y軸方向y之位置間的位置偏移；及相對含有XY軸的平面內的基板4之搬運方向(X軸方向x)的偏移角(傾斜角)θ等。燈電源部24係依照根據前方邊緣18e1位於基板4之X軸方向的基準位置(X軸基準位置)，從最前端的像素18a到達前述曝光位置E至最後端的像素18b到達曝光位置E為止之間，由前述燈9使曝光光線持續照射於前述曝光位置E。基板控制器25係使前述基板驅動部16動作並將前述基板4搬運至行進方向M。遮罩台控制器26係使前述遮罩驅動部13動作，並調整前述遮罩台12位於Y軸方向y的位置，或調整遮罩台12位於水平面內的旋轉角。

接著，參照第3圖針對以前述方式構成的曝光裝置1的作用、及本發明一實施形態的曝光方法進行說明。

首先，若令前述控制裝置8為動作狀態而使曝光裝置1動作時，因前述主控制部27的指令而使前述影像識別用照明7點亮。同時，藉由前述基板控制器25，前述基板搬運部5之基板驅動部16被驅動，而使前述基板4從收納滾輪14被拉出且被捲繞滾輪15捲繞，而在將曝光站2保持水平的狀態下往行進方向M搬運(步驟S1)。其間，基板4由前述影像認識用照明7從下側照射，前述線性CCD20經因前述半反射鏡接受通過形成於前述基板4之像素18的照明光的光，而取得前述像素18的影像資料(步驟S2)。

由前述線性CCD20所得的影像資料係送至前述影像處理部21進行處理。影像處理部21係檢測出沿著前述Y軸方向y排列的各像素18之前方邊緣18e1的位置(X軸基準位置)、及沿著X軸方向x排列的一行(column)各像素18之側方邊緣18e2的位置(Y軸基準位置)(步驟S3)。一旦檢測出位於前述基板4之行進方向M的最前行之像素18a的X軸基準位置與Y軸基準位置時，前述演算部23即根據於前述曝光站2的曝光位置E與前述攝像位置F之間的距離L、以及預先設定的基板4之搬運速度，演算出前述最前行的像素18a到達前述曝光位置E的時間。同時，演算部23係演算位於Y軸方向y的前述遮罩11之開口部11a的位置與前述Y軸基準位置間的位置偏移(位於基板4之Y軸方向y的位置偏移(Y軸位置偏移))。另外，如第2B圖所示，演算部23係根據於Y軸方向y分開排列的一對像素18、18之X軸基準位置之變位量t與一對的像素18、18間的距離u，對位於包含基板4之XY軸的平面內從X、Y軸算起的偏移角(相對基板4之搬運方向的傾斜角)θ進行演算(步驟S4)。

前述主控制部27係於檢測出最前行的像素單位18a之X軸基準位置時，以內建的計時器將其到達時間進行計時。一旦該記時結束，主控制部27即透過前述遮罩台控制器26使前述遮罩驅動部13動作，以對應前述演算部23所演算的基板4之Y軸位置偏移與相對基板4之搬運方向的傾斜角θ進行遮罩台12的位置調整。前述遮罩驅動部13被驅動，並調整前述遮罩台12於Y軸方向y的位置、與於水平面內(繞著曝光光學系統3之光軸S)的旋轉角，而使遮罩11之開口部11a、11a的位置正確地對位於前述基板4之曝光區域28、28(步驟S5)。同時前述主控制部27係對前述燈電源部24發出指令而使燈9點亮。從前述燈9發出的曝光光線係於前述照明用透鏡10成為平行光，通過前述遮罩11之開口部11a、11a照射於前述基板4。藉此，進行使開口部18a、18a之形狀轉印於基板4之預定位置的曝光(步驟S6)。

前述曝光中，前述基板4係朝行進方向M持續地以一定速度被搬運，且前述線性CCD20對各像素18a的前方邊緣18e1與側方邊緣18e2進行攝像。藉此，檢出基板4之X軸基準位置與Y軸基準位置，對應基板4的Y軸位置偏移與搬運方向的傾斜角θ，調整於前述遮罩11之Y軸方向y的位置與旋轉角。因此，進行前述遮罩11之開口部11a、11a的位置調整，可於基板4之預定曝光區域28、28正確地曝光。

當進行前述曝光，且檢測出基板4之行進方向M之最後行之像素18b的X軸基準位置時，於該X軸基準位置到達前述曝光位置E的時間後因來自主控制部27的指令而使燈電源部動作，並使燈9熄滅而結束對基板4的曝光操作(步驟S7)。

由上所述，結束對薄膜狀(片狀)之基材4的相當於1個單位基板的區域的曝光操作。接著一邊將前述基材4往行進方向M搬運，一邊對鄰接的曝光區域進行與前述相同的曝光操作，藉由重複該曝光操作，可以沿著前述基材的長邊方向連續地對相當於多數單位基板4的區域進行曝光(代理(proxy)曝光)。

前述預定的曝光區域28、28係具有符合前述遮罩11之開口部11a、11a之短邊方向的寬度的寬度D，且於基板4之Y軸方向隔著間隔P而配置的複數行(圖示之例為2行)之帶狀區域。該曝光區域28、28係圍著於X軸方向x一直線狀排列的濾色器之紅R之著色層的像素18且沿著X軸方向x的帶狀區域。

又，對於前述基板4之黑矩陣BM的其他著色層(綠G、藍B)之區域進行的曝光操作，係由個別設置的其他相同的曝光站進行。另外，因在前述曝光操作之前於前述基板4之黑矩陣BM上塗佈有著色顏料，故藉由前述曝光而曝光之區域的著色顏料會硬化。因此以洗淨液洗淨曝光後的基板時，即可去除未曝光區域的著色顏料，並藉由前述已硬化的著色顏料將各著色層R、G、B的像素18形成在前述曝光區域28、28。

如前所述，上述實施形態之曝光方法，係對於藉由基板搬運部5以一定速度往一定方向搬運的狀態之基板4，於曝光站2使從燈9而來且為連續光的曝光光線通過設於曝光光學系統3之光軸S上的遮罩11之開口部11a、11a並予以照射，以將開口部11a、11a的像轉印於前述基板4上。於該方法中，預先形成於前述基板4的像素18之前方邊緣18e1及側方邊緣18e2，係由攝像部6進行攝像，並檢測出於基板4上之搬運方向(X軸方向x)和與該搬運方向成直角的Y軸方向y的X、Y基準位置。當由前述攝像部6進行攝像的像素18移動至曝光站2時，調整遮罩11的位置以使遮罩11之位置與基板4上的前述基準位置一致，且使沿著基板4的搬運方向的曝光區域28、28連續進行曝光。

另外，第1實施形態之曝光裝置1係包含：基板搬運部5，藉由以基板驅動部16將收納於收納滾輪14的基板4捲繞於捲繞滾輪15，而以一定速度將前述基板4朝一定方向搬運；以及曝光光學系統3，對於由基板搬運部5搬運之狀態的基板4，使從燈9而來且為連續光的曝光光線通過遮罩11之開口部11a、11a並予以照射，以將開口部11a、11a的像轉印於前述基板4上。該曝光裝置1係具備：攝像部6，將預先形成於前述基板4的像素18之前方邊緣18e1與側方邊緣18e2於基板4之移動中進行攝像；控制裝置8，根據該攝像部6所攝像的前方邊緣18e1與側方邊緣18e2之影像檢測出於基板上之搬運方向及與該搬送方向成直角的Y軸方向y的基準位置，當前述攝像部6所攝像的像素18從攝像位置移動至曝光位置時調整遮罩11之位置，以使該遮罩11之位置與基板4上之前述基準位置一致。該控制裝置8係從基板4上的曝光開始端至曝光終端為止基板4於前述曝光位置進行移動之期間，透過燈光源部24使來自前述燈9的曝光光線對基板4持續照射。

因此，藉由前述實施形態的曝光方法及曝光裝置1，可以一邊以基板搬運部5搬運基板4一邊將遮罩11之開口部11a的形狀連續地轉印並進行曝光。因此，即使在使用小遮罩時，亦無須藉由基板4之間歇性步移動進行曝光，可以有效率地對含有廣曝光區域的基板4進行曝光。

而且，利用預先形成於基板4的像素(基準圖案)18檢測出基板4之基準位置，並可以根據該基準位置調整前述遮罩11之位置。因此，可以正確地對前述基板4之預定的曝光區域28、28進行曝光，而且無須為了前述遮罩11之位置調整而於基板4或遮罩11形成對位標記，使該等之製造變為容易。

另外，於該曝光裝置1中，無須使連接有多數相當於單位基板的曝光區域28、28的片狀基板4，在相當於各單位基板的每個曝光區域步進移動並間斷性反覆進行曝光操作。因此，可以極有效率地將多數基板4曝光，並提高生產性。

於前述曝光裝置1中，前述控制裝置8係根據位於基板之搬運方向及與搬運方向成直角的Y軸方向y的各基準位置，進行與前述遮罩11之搬運方向成直角的Y軸方向y的位置調整，並且根據由前述各基準位置的檢測所求得之相對基板4之搬運方向的傾斜θ進行前述遮罩11之旋轉角的位置調整。因此，使與基板4之搬運方向成直角的Y軸基準位置、與相對基板4之搬運方向的傾斜角θ對位，而可同時進行遮罩11於前述Y軸方向y的位置調整與遮罩11之旋轉角θ的位置調整。因此，可以對應所搬運之基板4之位置變化而更正確地進行遮罩11之位置調整，並且更正確地進行預定曝光區域28、28之曝光。

接著，參照第4圖針對本發明之第2實施形態的曝光裝置1A進行說明。

該曝光裝置1A係將平板狀的單位基板(基板)4a載置於基板台30上，並將該基板4a沿者於前述曝光站2的X軸方向x往行進方向M搬運者。因其他的構成係與前述實施形態的曝光裝置1相同，故相同的構成部分，賦予同一符號並省略其說明。

於該曝光裝置1A中，前述基板台30係於遮罩台12的下方沿著垂直於前述曝光光學系統3之光軸S的水平面配置。該基板台30係藉由以基板搬運部5a的伺服馬達、線性馬達等所組成的基板驅動部16a因前述基板控制器25的指令而驅動，於X軸方向x進行來回移動。於該基板驅動部16a，設有用以檢測出前述基板4a往X軸方向x的移動位置，並將該檢測值回授至前述控制裝置8的編碼器(encoder)、線性感測器等位置感測器(未圖示)。前述基板台30係以不會從其下方遮住前述影像識別用照明7之照明光之方式作成框型構造，以其周邊部支撐前述基板4。

於該曝光裝置1A中，以基板控制器25的指令驅動基板驅動部16a，而前述基板台30朝方向M而移動。基板台30上的基板4a，一邊於曝光站2朝行進方向M搬運，一邊藉由前述曝光光學系統3從行進方向M的前端部(曝光開始端)連續地把預定的曝光區域28、28曝光，直到進行方向M的後端部(曝光終端)停止曝光。然後，一旦1個基板4a的曝光結束後，前述基板台30便回到原來的位置載置新的基板4a並進入下一個曝光操作。重複該動作以進行曝光操作。於曝光操作中，係與第1實施形態之曝光裝置1的情形同樣地，進行對應於前述基板4a之Y軸方向y的Y軸位置偏移與相對搬運方向的傾斜角θ的前述遮罩11之位置調整。

藉由本實施形態的曝光裝置1A，可以與前述實施形態的曝光裝置1同樣地，一邊搬運基板4a一邊連續地進行曝光操作。因此，在可以有效率地進行單位基板4a之預定曝光區域28、28之曝光(近接(proximity)曝光)的同時，也可將第1實施形態的曝光方法確實地實施。

接著，參照第5圖針對本發明之第3實施形態的曝光裝置1B進行說明。該曝光裝置1B的曝光光學系統3b係將前述第2實施形態之曝光裝置1A的曝光光學系統3之照明用透鏡10以投影用透鏡10a代替，並將該投影用透鏡10a配置於接近基板台30(基板4a)的位置。另外，將前述遮罩台12配置於投影用透鏡10a與燈9之間。又，半反射鏡19b係配置於投影透鏡10a與遮罩台12之間。其他的構成則與前述實施形態之曝光裝置1A相同，相同的構成部分係賦予同一的符號並省略其說明。

於該曝光裝置1B中，曝光操作時，來自前述燈9且為連續光之曝光光線通過前述遮罩11之開口部11a，且藉由前述投影透鏡10a照射於基板4a，使前述開口部11a之形狀轉印於基板4a上。因此，若和前述曝光裝置1A時同樣地以前述基板台30將基板4a於曝光站2往進行方向M搬運，則藉由前述曝光光學系統3b連續地於基板4a之預定曝光區域28、28進行曝光(投影曝光)。於該曝光操作中，也與曝光裝置1之情形同樣地，進行對應於前述基板4a之Y軸方向y的Y軸位置偏移與相對搬運方向的傾斜角θ的前述遮罩11之位置調整。

又，前述位置調整也可以使前述遮罩台12移動而進行的方式替代，而在前述投影透鏡10a附設與遮罩驅動部13相同的驅動部，以使該投影透鏡10a移動的方式來進行。

藉由本實施形態之曝光裝置1B，可以與前述實施形態的曝光裝置1、1A相同地一邊搬運基板4a一邊連續地進行曝光操作，因此，可以有效率地進行單位基板4a之預定曝光區域28、28之曝光的同時，也可將前述本發明一實施形態的曝光方法確實地實施。

又，於前述實施形態之曝光方法及曝光裝置1、1A、1B中，藉由來自前述主控制部27的指令使前述燈電源部24動作的方式，於前述基板4a之曝光開始端將燈9點亮並曝光，於曝光終端則使燈9熄滅並結束曝光。亦可於燈9的下方設置快門，於燈9點亮的狀態下使前述快門開閉，以進行於前述曝光開始端及曝光終端的曝光開始及結束。另外，於前述實施形態之曝光方法及曝光裝置1、1A、1B係表示適用於製造濾色器，在已形成有黑矩陣的基板形成著色層的(R、G、B)的情形之例。但本發明並非限制於此，也可適用於製造液晶面板的透明薄膜電極時，或其他半導體元件的製造，以及光罩或光柵(reticle)之製造等情形。

〔產業上的可利用性〕

本發明之曝光方法及曝光裝置係可以用於製造液晶面板用濾色器、透明薄膜電極、以及半導體元件等時。該曝光方法及曝光裝置，因可以一邊用基板搬運部搬運基板一邊將遮罩開口部之形狀連續地轉印並進行曝光，即使在使用小遮罩時，亦無須以基板之間歇性步進移動來進行曝光，而可以對含有廣曝光區域的基板進行有效率的曝光。

1、1A、1B．．．曝光裝置

2．．．曝光站(曝光部)

3、3b．．．曝光光學系統

4、4a．．．基板

5、5a．．．基板搬運部

6．．．攝像部

7．．．影像識別用光源

8．．．控制裝置

9．．．燈(連續光源)

10．．．照明用透鏡

10a．．．投影用透鏡

11．．．遮罩

11a．．．開口部

12．．．遮罩台

13．．．遮罩驅動部

14．．．收納滾輪

15．．．捲繞滾輪

16、16a．．．基板驅動部

17、17a、17b、31．．．引導滾輪

18、18a、18b．．．像素(圖案)

18e1．．．前方邊緣(圖案邊緣)

18e2．．．側方邊緣(圖案邊緣)

19、19b．．．半反射鏡

20．．．線性CCD

21．．．影像處理部

22．．．記憶部

23．．．演算部

24．．．燈電源部

25．．．基板控制器

26．．．遮罩台控制器

27．．．主控制部

28．．．曝光區域

30．．．基板台

E．．．曝光位置

F．．．攝像位置

S、S1．．．光軸

第1圖係表示本發明第1實施形態的曝光裝置的系統圖。

第2A圖係用以說明本發明第1實施形態的曝光裝置之遮罩位置調整的平面圖。

第2B圖係用以說明本發明第1實施形態的曝光裝置之遮罩位置調整的平面圖。

第3圖係表示本發明第1實施形態的曝光裝置之作用的流程圖。

第4圖係表示本發明第2實施形態的曝光裝置的系統圖。

第5圖係表示本發明第3實施形態的曝光裝置的系統圖。

1．．．曝光裝置