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TWI440505B - Photocatalyst coating - Google Patents

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TWI440505B
TWI440505B TW098117718A TW98117718A TWI440505B TW I440505 B TWI440505 B TW I440505B TW 098117718 A TW098117718 A TW 098117718A TW 98117718 A TW98117718 A TW 98117718A TW I440505 B TWI440505 B TW I440505B
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photocatalyst
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particles
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TW098117718A
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TW201006550A (en
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Hiroshi Terasaki
Koji Omoshiki
Makoto Hayakawa
Junji Kameshima
Yoji Takaki
Original Assignee
Toto Ltd
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Publication date
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Description

光觸媒塗裝物 發明領域
本發明係有關於一種特別適合於建築物等之外裝材、內裝材等用途且包含有高度之耐氣候性、有害氣體分解性、耐光性及各種薄膜性能優異之光觸媒層的光觸媒塗裝物。
 發明背景
氧化鈦等光觸媒近年來被利用在建築物之外裝材、內裝材等多種用途中。於外裝用途中，藉由將光觸媒塗裝於基材表面，可利用光能而賦予NOX 、SOX 等有害物質之分解機能。又，於內裝用途中，亦可利用光能而賦予VOC等有害物質之分解機能。
在取得此種光觸媒塗裝物時，會進行於構成基底的基材與光觸媒間，設置以接著及/或抑制因光觸媒所造成的基材表面劣化為目的之中間層。取得此種塗布有光觸媒的光觸媒塗裝物之技術已知的是以下所述者。
已知的技術是：於構成基底的基材與光觸媒間，設置以接著及/或抑制因光觸媒所造成的基材表面劣化為目的之聚矽氧改質樹脂等中間層(例如參照國際公開第97/00134號說明書)。
又，以下技術亦是已知的，即：於構成基底的基材與光觸媒間設置中間層，且於該中間層摻合無機系半導體、柳酸系、二苯基酮系、苯并三唑系、氰基丙烯酸酯系等有機物等之紫外線吸收物質，並抑制基材表面劣化(例如參照日本專利公開公報特開2006-116461號公報)。
以下技術亦是已知的，即：將含有作為光觸媒層之黏結劑成分的氧化矽溶膠及光觸媒性二氧化鈦之塗膜形成於基體上而取得光觸媒物(例如參照特開平11-169727號公報)。於該技術中，氧化矽溶膠之添加量係於SiO2 基準下相對於二氧化鈦構成20重量份至200重量份，且二氧化鈦之含有比率高。又，氧化矽溶膠之粒徑亦小到0.1nm至10nm。
又，在提高該塗裝物之耐久性之目的下，已知的技術係於光觸媒中添加水解性聚矽氧等黏結劑成分(參照特開2001-212510號公報及特開2002-137322號公報)。
又，為了提升抗菌、防霉性能，於光觸媒中添加銅的技術亦是已知的(參照特開平6-65012號公報)。
 發明概要
為了取得充分之光觸媒活性，迄今所進行的是將包含於光觸媒層中的光觸媒增量，然而，在依此作成時，會擔心有基材因光觸媒而劣化之虞等問題的產生。又，若僅將光觸媒減量，則欲取得充分之光觸媒活性會變得困難，同時於光觸媒層之紫外線遮蔽效果減弱，且會擔心因紫外線所造成的基材等之劣化。
本發明係有鑑於前述情形，目的在提供一種可長期地防止基材之劣化並發揮有害氣體分解性的光觸媒塗裝物。
即，依據本發明之光觸媒塗裝物包含有：基材；中間層，係設置於該基材上者；及光觸媒層，係設置於該中間層上者，又，前述光觸媒層含有由利用紫外線激發之金屬氧化物所構成之光觸媒粒子，且前述中間層含有耐氣候性樹脂及羥苯三化合物。
 用以實施發明之形態 光觸媒塗裝物
依據本發明之光觸媒塗裝物包含有：基材；中間層，係設置於該基材上者；及光觸媒層，係設置於該中間層上者。光觸媒層含有由利用紫外線激發之金屬氧化物所構成之光觸媒粒子，且中間層含有耐氣候性樹脂及羥苯三化合物。即，依據本發明之光觸媒塗裝物係於光觸媒層具有由具備紫外線吸收能力且耐光性優異之無機氧化物所構成之光觸媒粒子，且藉由少量之添加而具有優異之紫外線吸收能力，同時在化學上是安定的，因此，即使於高溫多濕之熱帶等使用，中間層及基材亦不易劣化。又，亦可抑制因隨著光觸媒氧化作用而生成之活性氧所造成的中間層及基材之劣化，因此，藉由於中間層具有亦可承受於熱帶等中長期使用之羥苯三化合物，可有效地發揮光觸媒之分解機能，同時使基材及中間層之耐氣候性提升至亦可承受於熱帶等中長期使用之程度。
依據本發明之較佳態樣，本發明之光觸媒層可藉由將含有光觸媒溶膠之塗覆液塗布後乾燥而形成，且前述光觸媒溶膠係含有由利用紫外線激發之金屬氧化物所構成之光觸媒粒子及胺，藉此，即便使用胺分散光觸媒溶膠，於添加時或使用中亦不會著色，且可提供一種能長期地防止基材之劣化並發揮有害氣體分解性的光觸媒塗裝物。即，為了防止如前述因紫外線遮蔽效果減弱所引起的因紫外線所造成的基材等之劣化，以往係使用紫外線吸收劑，然而，若使用無機系紫外線吸收劑，則為了取得充分之效果而必須大量地添加，且會有產生因添加所造成的著色、失透等問題。又，若使用例如三唑系化合物般的有機系紫外線吸收劑，則在與分散性良好之胺分散光觸媒溶膠併用時，會有於使用中變色之問題，若依據本態樣，則亦可解決該等問題。
依據本發明之較佳態樣，本發明之光觸媒層可含有由利用紫外線激發之金屬氧化物所構成之光觸媒粒子及離子狀態之銅元素，藉此，可提供一種能發揮優異之防霉性能並長期地防止基材之劣化，且於添加、使用時不會產生著色問題的光觸媒塗裝物。即，為了防止如前述因紫外線遮蔽效果減弱所引起的因紫外線所造成的基材等之劣化，以往係使用紫外線吸收劑，然而，若使用無機系紫外線吸收劑，則為了取得充分之效果而必須大量地添加，且會有產生因添加所造成的著色、失透等問題。又，若使用例如三唑系化合物般的有機系紫外線吸收劑，則特別是在添加銅以提高利用光觸媒之防霉活性時，會有於使用中變色之問題，若依據本態樣，則亦可解決該等問題。於該態樣中，離子狀態之銅元素之價數可為+1價或+2價，且於光觸媒層中所含有的銅元素之添加量於質量換算下，相對於光觸媒粒子以CuO換算宜為0.5質量份至5質量%。
依據本發明之較佳形態，於前述光觸媒層中所含有的前述光觸媒粒子之含量係作成大於1質量%、小於20質量%，且更為理想的是大於1質量%、小於5質量%。藉由作成前述範圍，可有效地發揮光觸媒之分解機能，同時使基材及中間層之耐氣候性提升至亦可承受於熱帶等中長期使用之程度，同時亦可抑制因光觸媒所造成的基材及中間層之劣化。即，可同時地發揮利用光觸媒層之紫外線吸收機能，及於溫帶、亞寒帶地方之太陽光照射下的優異之光觸媒機能與充分之耐氣候性。
依據本發明之較佳形態，作成含有受阻胺化合物。藉由含有受阻胺化合物作為光安定劑，使利用羥苯三化合物之小於380nm的短波長之紫外線吸收性能安定。
依據本發明之較佳形態，前述耐氣候性樹脂係作成聚矽氧改質樹脂。藉由使用聚矽氧改質樹脂，中間層可同時地發揮耐氣候性與耐裂紋性。
依據本發明之較佳形態，前述聚矽氧改質樹脂中的矽含量係作成相對於前述聚矽氧改質樹脂之固體成分為0.2質量%以上、小於16.5質量%，且更為理想的是6.5質量%以上、小於16.5質量%。藉由依此作成，可充分地抑制於中間層中對紫外線之耐氣候性、因光觸媒所造成的侵蝕，同時可抑制裂紋之產生。在此，聚矽氧改質樹脂中的矽原子含量可藉由利用X射線光電子分光分析裝置(XPS)之化學分析來測定。
依據本發明之較佳形態，前述羥苯三化合物係作成相對於前述中間層而含有0.1質量%以上、小於10質量%。藉由作成該範圍，不會伴隨有中間層之變色而可充分地發揮紫外線之吸收性能。
於本發明中所使用的羥苯三化合物係羥苯三及/或具有下述通式(化學式1)所示之基本骨架的羥苯三衍生物，且可適當地利用市售之羥苯三系紫外線吸收劑。
依據本發明之較佳形態，前述光觸媒層係作成具有通氣性。藉由依此作成，可增加光觸媒粒子與有害氣體之接觸機會，並發揮優異之光觸媒分解機能。
依據本發明之較佳形態，前述光觸媒層係作成除了前述光觸媒粒子之外更含有無機氧化物粒子。藉由將除了光觸媒粒子之外的黏結劑成分之主成分作成粒子狀之無機氧化物，於光觸媒層可確保充分之通氣性，且可增加光觸媒粒子與有害氣體之接觸機會，並發揮優異之光觸媒分解機能。
依據本發明之較佳形態，前述光觸媒層係作成包含有：大於1質量份、小於20質量份之光觸媒粒子；大於70質量份、小於99質量份之無機氧化物粒子；及0質量份以上、小於10質量份之選自於水解性聚矽氧的縮聚物、有機金屬化合物之水解物的縮聚物之群中之至少1種作為任意成分，又，前述光觸媒粒子、前述無機氧化物粒子及前述任意成分之氧化物換算量之合計量係構成100質量份。藉由依此作成，可增加光觸媒粒子與有害氣體之接觸機會，並有效地發揮優異之光觸媒分解機能，同時使基材及中間層之耐氣候性提升至亦可承受於熱帶等中長期使用之程度，同時亦可抑制因光觸媒所造成的基材及中間層之劣化。
依據本發明之較佳形態，前述光觸媒層係作成包含有：大於1質量份、小於5質量份之光觸媒粒子；大於85質量份、小於99質量份之無機氧化物粒子；及0質量份以上、小於10質量份之選自於水解性聚矽氧的縮聚物、有機金屬化合物之水解物的縮聚物之群中之至少1種作為任意成分，又，前述光觸媒粒子、前述無機氧化物粒子及前述任意成分之氧化物換算量之合計量係構成100質量份。藉由依此作成，可增加光觸媒粒子與有害氣體之接觸機會，並有效地發揮優異之光觸媒分解機能，同時使基材及中間層之耐氣候性提升至亦可承受於熱帶等中長期使用之程度，同時亦可抑制因光觸媒所造成的基材及中間層之劣化。
光觸媒層
本發明之光觸媒層含有由利用紫外線激發之金屬氧化物所構成之光觸媒粒子。
光觸媒粒子可適當地利用如銳鈦礦型氧化鈦、金紅石型氧化鈦、板鈦礦型氧化鈦、氧化錫、氧化鋅、鈦酸鍶、氧化鎢、氧化鈰之金屬氧化物粒子。
依據本發明之較佳態樣，光觸媒粒子宜具有10nm以上、小於100nm之平均粒徑，且更為理想的是10nm以上、60nm以下。另，該平均粒徑係作成藉由掃描型電子顯微鏡測定在20萬倍的視野中任意100個粒子之長度的個數平均值來算出。
粒子形狀係以正球最佳，然而，亦可為略呈圓形或橢圓形，此時之粒子長度係作成((長徑+短徑)/2)而大略算出。若為該範圍內，則可有效地發揮耐氣候性、有害氣體分解性及所期望之各種覆膜特性(透明性、塗膜強度等)。
再者，若將波長550nm中的光觸媒層之直線透過率確保為90%以上，且更為理想的是95%以上，則會更為理想。藉由依此作成，不會損害底層之色調、設計而可加以表現。又，即使塗覆於透明度高之玻璃或塑料等，亦不會損害透明性。
依據本發明之較佳態樣，為了進一步地顯現高光觸媒能力，可將選自於由釩、鐵、鈷、鎳、鈀、鋅、釕、銠、銅、銀、鉑及金所構成之群中之至少一種的金屬及/或由該金屬所構成之金屬化合物，添加於光觸媒層或為了形成光觸媒層而應用於中間層上的光觸媒塗覆液。該添加亦可藉由下述方法等中之任一種方法來進行，即：於塗覆液中混合前述金屬或金屬化合物並使其溶解或分散之方法；將前述金屬或金屬化合物載持於光觸媒層或光觸媒粒子之方法。
於本發明中，在光觸媒層中宜含有無機氧化物粒子。無機氧化物粒子只要是可與光觸媒粒子同時地形成層體之無機氧化物粒子，則無特殊之限制而可使用所有種類的無機氧化粒子。此種無機氧化物粒子的例子可列舉如：氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈰、氧化釔、氧化錫、氧化鐵、氧化錳、氧化鎳、氧化鈷、氧化鉿等單一氧化物粒子；及鈦酸鋇、矽酸鈣、硼酸鋁、鈦酸鉀等複合氧化物粒子，且更為理想的是氧化矽粒子。該等無機氧化物粒子宜為將水作為分散介質之水性膠體；或是於乙醇、異丙醇或乙二醇等親水性溶劑中分散成膠體狀之有機溶膠之形態者，且特別理想的是膠質氧化矽。
前述無機氧化物粒子係具有大於5nm、20nm以下，且較為理想的是10nm以上、20nm以下之平均粒徑。另，該平均粒徑係作成藉由掃描型電子顯微鏡測定在20萬倍的視野中任意100個粒子之長度的個數平均值來算出。粒子形狀係以正球最佳，然而，亦可為略呈圓形或橢圓形，此時之粒子長度係作成((長徑+短徑)/2)而大略算出。若為該範圍內，則可有效地發揮耐氣候性、有害氣體分解性及所期望之各種覆膜特性(透明性、塗膜強度等)，尤其是不僅可取得透明且密接性良好之光觸媒層，且可取得對滑動磨損堅固之膜料。
為了確保通氣性，本發明之光觸媒層宜於實質上未含有水解性聚矽氧的縮聚物，且更為理想的是完全未含有。在此，所謂水解性聚矽氧係具有烷氧基之有機矽氧烷及/或其部分水解縮合物之總稱。水解性聚矽氧的縮聚物含量係於氧化矽換算下，相對於光觸媒粒子、無機氧化物粒子及水解性聚矽氧的縮聚物之合計量100質量份，宜為0質量份以上、小於10質量份，且更為理想的是5質量份以下，最為理想的是0質量份。水解性聚矽氧係經常使用將2官能至4官能矽烷作為單體單位之聚矽氧化合物，舉例言之，可適當地利用矽酸乙酯、矽酸甲酯、含烷基聚矽氧、含苯基聚矽氧等。
為了確保通氣性，本發明之光觸媒層宜於實質上未含有有機金屬化合物之水解物的縮聚物，且更為理想的是完全未含有。在此，所謂有機金屬化合物係含有鈦、鋯、鋁等金屬元素之金屬烷氧化物、金屬有機錯合物等。有機金屬之水解物的縮聚物含量係於金屬氧化物換算下，相對於光觸媒粒子、無機氧化物粒子及水解性聚矽氧之合計量100質量份，宜為0質量份以上、小於10質量份，且更為理想的是5質量份以下，最為理想的是0質量份。
於本發明之光觸媒層中，任意成分係含有選自於由水解性聚矽氧的縮聚物、有機金屬化合物之水解物所構成之群中之至少1種。任意成分之含量係相對於光觸媒粒子、無機氧化物粒子與該等任意成分之氧化物換算量之合計量100質量份，宜為0質量份以上、小於10質量份，且更為理想的是5質量份以下，最為理想的是0質量份。
光觸媒層宜具有0.1μm以上、5μm以下之膜厚，且較為理想的是其下限值為0.5μm以上，更為理想的是其下限值為1μm以上。再者，適當之膜厚範圍係0.5μm以上、3μm以下，且更為適當之範圍係1.0μm以上、2μm以下。若為此種範圍內，則可於膜厚方向增加含有比率低於無機氧化物粒子之光觸媒粒子，因此可提升有害氣體分解性，再者，於透明性上亦可取得優異之特性。
另，於前述「光觸媒層」「光觸媒塗裝物」之項目中所述的內容可任意地組合。
光觸媒層製造方法
本發明之光觸媒塗裝物可藉由將光觸媒塗覆液塗布於具有中間層之基材上而簡單地製造。光觸媒層之塗裝方法可將前述液劑利用刷毛塗法、滾筒、噴霧、輥塗機、流塗機、浸塗、淋塗、網版印刷等一般所廣泛進行的方法。塗覆液朝基材之塗布後，只要使其常溫乾燥即可，或者亦可依需要進行加熱乾燥。
於光觸媒塗覆液中，基本上含有由利用紫外線激發之金屬氧化物所構成之光觸媒粒子及溶劑。「光觸媒粒子」可適當地利用於前述「光觸媒層」「光觸媒塗裝物」之項目中所述者。又，亦可含有「無機氧化物粒子」「水解性聚矽氧」「有機金屬化合物」，此亦可適當地利用於前述「光觸媒層」「光觸媒塗裝物」之項目中所述者。
於光觸媒層係藉由將含有光觸媒溶膠之塗覆液塗布後乾燥而形成，且前述光觸媒溶膠係含有光觸媒粒子及胺之態樣中，光觸媒溶膠係基本上由利用金屬氧化物所構成之光觸媒粒子、胺及溶劑所構成。於光觸媒溶膠中所含有的胺可適當地利用四級銨、三乙醇胺、三乙胺等三級胺、二乙醇胺、二乙胺等二級胺等。
於光觸媒層含有光觸媒粒子及離子狀態之銅元素之態樣中，光觸媒塗覆液係使用光觸媒溶膠，且該光觸媒溶膠係基本上由利用金屬氧化物所構成之光觸媒粒子、離子狀態之銅元素、胺及溶劑所構成。
光觸媒塗覆液之溶劑可使用能適當地分散前述構成成分之所有溶劑，且可為水及/或有機溶劑。又，光觸媒塗覆液之固體成分濃度並無特殊之限制，然而，若由容易塗布之觀點來看，則宜作成1質量%至10質量%。另，光觸媒塗覆組成物中的構成成分之分析可依下述來評價，即：藉由超過濾將塗覆液分離成粒子成分與濾液，且分別藉由紅外線分光分析、凝膠滲透層析法、螢光X射線分光分析等進行分析，並解析光譜。
於光觸媒塗覆液中，可含有界面活性劑作為任意成分。於本發明中所使用的界面活性劑可相對於光觸媒粒子、無機氧化物粒子及水解性聚矽氧之合計量100質量份，於光觸媒層中含有0質量份以上、小於10質量份，且較為理想的是0質量份以上、8質量份以下，更為理想的是0質量份以上、6質量份以下。界面活性劑之效果之一係具有對基材之調平性，且可藉由塗覆液與基材之組合，於前述範圍內適當地決定界面活性劑量，此時之下限值可作成0.1質量份。該界面活性劑係改善光觸媒塗覆液之潤濕性用的有效成分，然而，於塗布後所形成的光觸媒層中，已經相當於無助於本發明光觸媒塗裝物之效果的不可避免之雜質，因此，可按照光觸媒塗覆液所要求的潤濕性，於前述含量範圍內使用，若潤濕性不會成為問題，則界面活性劑可於實質上或完全未含有。應使用之界面活性劑可考慮光觸媒或無機氧化物粒子之分散安定性、塗布於中間層上時之潤濕性而適當地選擇，然而，較為理想的是非離子性界面活性劑，且更為理想的可列舉如：醚型非離子性界面活性劑、酯型非離子性界面活性劑、聚亞烷基二醇非離子性界面活性劑、氟系非離子性界面活性劑、矽系非離子性界面活性劑。
中間層
本發明之中間層係含有耐氣候性樹脂及羥苯三化合物作為必須成分。
耐氣候性樹脂只要是紫外線吸收劑之相溶性良好，且具有與基材之接著性、與光觸媒之接著性，並可抑制因光觸媒所造成的中間層表面之劣化者，則無特殊之限制，於樹脂中含有聚矽氧烷之聚矽氧改質丙烯酸樹脂、聚矽氧改質環氧樹脂、聚矽氧改質胺基甲酸酯樹脂、聚矽氧改質聚酯等聚矽氧改質樹脂是較為適合的。在應用於外裝用建材時，若由耐氣候性之觀點來看，則更適合為聚矽氧改質丙烯酸樹脂。於聚矽氧改質丙烯酸樹脂中，若由提升塗膜強度之觀點來看，則混合、使用具有羧基之聚矽氧改質丙烯酸樹脂與具有環氧基之聚矽氧樹脂之雙液是更加適合的。
中間層之乾燥膜厚並無特殊之限制，然而，較為理想的是1μm至50μm，且更為理想的是1μm至20μm，最為理想的是1μm至10μm，另，中間層之膜厚宜大於光觸媒層之膜厚。藉由依此作成，可防止耐熱性優異之羥苯三化合物因光觸媒作用而造成分解，且即使是在高溫多濕之熱帶等嚴苛之氣候條件下使用時，亦可發揮高度之耐久性，同時亦可取得充分之光觸媒活性。
於中間層中，亦可摻合體質顏料、著色顏料、防藻劑等作為任意成分。舉例言之，體質顏料可適當地利用：氧化鈦晶鬚、碳酸鈣晶鬚、硼酸鋁晶鬚、鈦酸鉀晶鬚、雲母、滑石等，又，舉例言之，著色顏料可適當地利用：氧化鈦白、氧化鋅白氧化鐵、碳黑、尖晶石綠、赤鐵氧化物、鋁酸鈷、群青等無機著色顏料，或酞菁系、苯并咪唑酮系、異吲哚酮系、偶氮系、蒽醌系、喹酞酮系、蒽吡啶系、喹吖啶酮(quinacridone)系、甲苯胺系、芘蒽酮系、苝系等有機著色顏料。防藻劑可適當地利用與中間層之樹脂成分間相溶性良好之有機防霉劑，舉例言之，可適當地利用：有機氮硫系化合物、吡啶硫酮系化合物、有機碘化合物、三系化合物、異噻唑啉系化合物、咪唑系化合物、吡啶系化合物、腈系化合物、硫胺甲酸酯系化合物、噻唑系化合物、二硫化物系化合物等。
另，於前述「中間層」「光觸媒塗裝物」「光觸媒層」之項目中所述的內容可任意地組合。
中間層製造方法
中間層可藉由將中間層塗覆液塗布於前述基材上而簡單地製造。中間層之塗裝方法可將前述液劑利用刷毛塗法、滾筒、噴霧、輥塗機、流塗機、浸塗、淋塗、網版印刷等一般所廣泛進行的方法。塗覆液朝基材之塗布後，只要使其常溫乾燥即可，或者亦可依需要進行加熱乾燥。
於中間層塗覆液中，基本上含有耐氣候性樹脂或其聚合前之前驅物及羥苯三化合物。
「耐氣候性樹脂」可適當地利用於前述「光觸媒層」「光觸媒塗裝物」之項目中所述者。
中間層塗覆液之溶劑可使用能適當地分散前述構成成分之所有溶劑，且可為水及/或有機溶劑。又，本發明之中間層塗裝用液劑之固體成分濃度並無特殊之限制，然而，若由容易塗布之觀點來看，則宜作成10質量%至20質量%。另，中間層塗覆液中的構成成分之分析在有關樹脂成分上可藉由紅外線分光分析來評價。
於中間層塗覆液中，除了前述之外，亦可摻合「體質顏料」「著色顏料」「防藻劑」等，此亦可適當地利用於前述「中間層」之項目中所述者。
於中間層塗覆液中，除了前述之外，可含有顏料分散劑、消泡劑、抗氧化劑等塗料用添加劑、於塗料中通常所含有的其他成分，又，亦可含有氧化矽微粒子等消光劑。
基材
於本發明中所使用的基材只要是可於其上形成中間層之材料，則不管無機材料、有機材料而可為各種材料，且其形狀亦無限制。看自材料觀點的基材之較佳例可列舉如：金屬、陶瓷、玻璃、塑料、橡膠、石材、水泥、混凝土、纖維、布帛、木材、紙、該等材料之組合、該等材料之積層體、於該等材料之表面上具有至少一層之覆膜者。看自用途觀點的基材之較佳例可列舉如：建材、建物外裝及內裝、窗框、窗玻璃、結構構件、交通工具之外裝及塗裝、機械裝置或物品之外裝、防塵罩及塗裝、交通標識、各種顯示裝置、廣告塔、道路用隔音壁、鐵路用隔音壁、橋樑、護軌之外裝及塗裝、隧道內裝及塗裝、絕緣器、太陽電池罩、太陽能熱水器集熱罩、塑膠棚、車輛用照明燈罩、戶外用照明器具、台架、浴室材料、廚房板、流理台、爐灶、換氣扇、空調、過濾器、便器、浴槽及用以黏貼於前述物品表面之膜料、片材、封件等。
特別是本發明之光觸媒塗裝物係暴露於太陽光，且光觸媒利用於太陽光中所含有的紫外線而光激發，並產生氣體分解或防霉等光氧化作用，同時在中間層及/或基材有因該紫外線而產生劣化之虞的利用形態中使用是特別理想的。此種用途可列舉如：建材、建物外裝、窗框、窗玻璃、結構構件、交通工具之外裝及塗裝、機械裝置或物品之外裝、交通標識、廣告塔、看板、道路用隔音壁、鐵路用隔音壁、橋樑、護軌之外裝及塗裝、隧道內裝及塗裝、絕緣器、太陽電池罩、太陽能熱水器集熱罩、塑膠棚、車輛用照明燈罩、戶外用照明器具、道路鋪設等。
實施例
根據以下例子具體說明本發明，然而，本發明並不限於該等例子。
例A1至例A6
依下述來進行塗裝物試料之製作及評價。
例A1：
基材係準備聚碳酸酯樹脂基材，且於該基材上，依下述來形成中間層，即，噴塗中間層塗覆液，且該中間層塗覆液係於矽原子含量相對於聚矽氧改質樹脂之固體成分為10質量%之聚矽氧改質丙烯酸樹脂分散液中，摻合有相對於該分散液之固體成分為1質量%之羥苯三化合物及1質量%之受阻胺系光安定劑，又，以120℃進行乾燥，並形成膜厚10μm之中間層。於所取得之中間層上，依下述來形成光觸媒層，即，混合銳鈦礦型氧化鈦水分散體(平均粒徑：約50nm，鹼性)、水分散型膠質氧化矽(平均粒徑：約14nm，鹼性)及聚醚改質聚矽氧系界面活性劑而取得光觸媒塗覆液。光觸媒塗覆液中的光觸媒及無機氧化物之合計固體成分濃度係作成5.5質量%。將所取得之光觸媒塗覆液噴霧塗布於業已預先加熱之前述中間層塗裝物上，且以120℃進行乾燥。所取得之光觸媒層中的氧化鈦係2質量份，氧化矽係98質量份，界面活性劑則為6質量份，又，光觸媒層之膜厚係0.5μm。
例A2：
除了將光觸媒層中的氧化鈦量作成15質量份、將氧化矽量作成85質量份之外，作成與例A1相同而進行塗裝物試料之製作。
例A3：
除了將光觸媒層中的氧化鈦量作成4質量份、將氧化矽量作成96質量份之外，作成與例A1相同而進行塗裝物試料之製作。
例A4：
除了將光觸媒層中的氧化鈦量作成4.5質量份、將氧化矽量作成95.5質量份之外，作成與例A1相同而進行塗裝物試料之製作。
例A5：
除了將光觸媒層之膜厚作成1.5μm之外，作成與例A1相同而進行塗裝物試料之製作。
例A6(比較)：
除了使用三唑化合物以取代中間層中的羥苯三化合物之外，作成與例A1相同而進行塗裝物試料之製作。
針對在例A1至例A6中所取得之各試料，評價(1)光觸媒分解活性，及(2)長時間劣化加速試驗。(1)係藉由求取QNOX (利用試驗片之氮氧化物除去量)來評價，且該QNOX 係藉由JIS R 1701-1(2004)「光觸媒材料之空氣淨化性能試驗方法，第1部：氮氧化物之除去性能」所揭示之試驗方法來求取。(2)係於宮古島(日本，沖繩縣)使用規定於JISK 5600-7-6之暴露架台，且朝南以距離水平有20°之角度進行戶外暴露，並目視評價六個月後之試料外觀。
表1顯示評價結果，另，評價基準係作成如下。
(1)分解活性
A：QNOX 大於光觸媒工業會基準(0.5μmol)的2倍
B：QNOX 為光觸媒工業會基準的1倍至2倍
C：QNOX 未滿足光觸媒工業會基準
(2)長時間劣化加速試驗(基材之變色抑制程度)
A：在目視及電子顯微鏡觀察中沒有問題
B：在目視下一般測定者無法辨識出粉化，但於電子顯微鏡中可看出裂紋
C：可利用目視明顯地觀察到粉化
例B1至例B5
依下述來進行塗裝物試料之製作及評價。
例B1：
基材係準備玻璃基材，且於該基材上，依下述來形成中間層，即，噴塗中間層塗覆液，且該中間層塗覆液係於矽原子含量相對於聚矽氧改質樹脂之固體成分為10質量%之聚矽氧改質丙烯酸樹脂分散液中，摻合有相對於該分散液之固體成分為1質量%之羥苯三化合物及1質量%之受阻胺系光安定劑，又，以120℃進行乾燥，並形成膜厚10μm之中間層。於所取得之中間層上，依下述來形成光觸媒層，即，混合銳鈦礦型氧化鈦水分散體(平均粒徑：約50nm，分散劑：二乙胺)、水分散型膠質氧化矽(平均粒徑：約30nm，鹼性)及聚醚改質聚矽氧系界面活性劑而取得光觸媒塗覆液。光觸媒塗覆液中的光觸媒及無機氧化物之合計固體成分濃度係作成5.5質量%。將所取得之光觸媒塗覆液噴霧塗布於業已預先加熱之前述中間層塗裝物上，且以120℃進行乾燥。所取得之光觸媒層中的氧化鈦係2質量份，氧化矽係98質量份，界面活性劑則為6質量份，又，光觸媒層之膜厚係0.5μm。
例B2：
除了將光觸媒層中的氧化鈦量作成15質量份、將氧化矽量作成85質量份之外，作成與例B1相同而進行塗裝物試料之製作。
例B3：
於實施例B1中，除了將光觸媒層中的氧化鈦量作成4質量份、將氧化矽量作成96質量份之外，作成與例B1相同而進行塗裝物試料之製作。
例B4：
除了將光觸媒層之膜厚作成1.5μm之外，作成與例B1相同而進行塗裝物試料之製作。
例B5(比較)：
除了使用三唑化合物以取代中間層中的羥苯三化合物之外，與例B1相同地進行塗裝物試料之製作。
針對在例B1至例B5中所取得之各試料，實施(1)光觸媒分解活性(利用與例A1至例A6中的評價相同之試驗方法)，及(2)利用反覆氙燈(波長300nm至400nm之放射照度80W/m2 )之照射與1%過氧化氫之噴霧來進行的長時間劣化加速試驗。表2顯示評價結果，另，評價基準係作成如下。
(1)分解活性
A：QNOX 大於光觸媒工業會基準(0.5μmol)的2倍
B：QNOX 為光觸媒工業會基準的1倍至2倍
C：QNOX 未滿足光觸媒工業會基準
(2)長時間劣化加速試驗(基材之變色抑制程度)
OK：無法利用目視看出變色
NG：可利用目視看出變色
例C1至例C8
依下述來進行塗裝物試料之製作及評價。
例C1：
基材係準備玻璃基材，且於該基材上，依下述來形成中間層，即，噴塗中間層塗覆液，且該中間層塗覆液係於矽原子含量相對於聚矽氧改質樹脂之固體成分為10質量%之聚矽氧改質丙烯酸樹脂分散液中，摻合有相對於該分散液之固體成分為1質量%之羥苯三化合物及1質量%之受阻胺系光安定劑，又，以120℃進行乾燥，並形成膜厚10μm之中間層。於所取得之中間層上，依下述來形成光觸媒層，即，混合於CuO換算下相對於TiO2 添加有0.5質量%之銅化合物的銳鈦礦型氧化鈦水分散體(平均粒徑：約50nm)、水分散型膠質氧化矽(平均粒徑：約30nm，鹼性)及聚醚改質聚矽氧系界面活性劑而取得光觸媒塗覆液。光觸媒塗覆液中的光觸媒及無機氧化物之合計固體成分濃度係作成5.5質量%。將所取得之光觸媒塗覆液噴霧塗布於業已預先加熱之前述中間層塗裝物上，且以120℃進行乾燥。所取得之光觸媒層中的氧化鈦係2質量份，氧化矽係98質量份，界面活性劑則為6質量份，又，光觸媒層之膜厚係0.5μm。
例C2：
除了將光觸媒層中的氧化鈦量作成15質量份、將氧化矽量作成85質量份之外，作成與例C1相同而進行塗裝物試料之製作。
例C3：
除了將光觸媒層中的氧化鈦量作成4質量份、將氧化矽量作成96質量份之外，作成與例C1相同而進行塗裝物試料之製作。
例C4：
除了氧化鈦係使用於CuO換算下相對於TiO2 添加有0.35質量%之銅化合物量、於Ag2 O換算下相對於TiO2 添加有0.15質量%之銀化合物量的銳鈦礦型氧化鈦水分散體(平均粒徑：約50nm)之外，作成與例C1相同而進行塗裝物試料之製作。
例C5：
除了氧化鈦係使用於CuO換算下相對於TiO2 添加有0.35質量%之銅化合物量、於Ag2 O換算下相對於TiO2 添加有0.15質量%之銀化合物量的銳鈦礦型氧化鈦水分散體(平均粒徑：約50nm)之外，作成與例C2相同而進行塗裝物試料之製作。
例C6：
除了氧化鈦係使用於CuO換算下相對於TiO2 添加有0.35質量%之銅化合物量、於Ag2 O換算下相對於TiO2 添加有0.15質量%之銀化合物量的銳鈦礦型氧化鈦水分散體(平均粒徑：約50nm)之外，作成與例C3相同而進行塗裝物試料之製作。
例C7：
除了將光觸媒層之膜厚作成1.5μm之外，作成與例C1相同而進行塗裝物試料之製作。
例C8(比較)：
除了使用三唑化合物以取代中間層中的羥苯三化合物之外，作成與例C1相同而進行塗裝物試料之製作。
針對在例C1至例C8中所取得之各試料，實施(1)光觸媒分解活性(利用與例A1至例A6中的評價相同之試驗方法)，及(2)利用反覆氙燈(波長300nm至400nm之放射照度80W/m2 )之照射與1%過氧化氫之噴霧來進行的長時間劣化加速試驗。表3顯示評價結果，另，評價基準係作成如下。
(1)分解活性
A：QNOX 大於光觸媒工業會基準(0.5μmol)的2倍
B：QNOX 為光觸媒工業會基準的1倍至2倍
C：QNOX 未滿足光觸媒工業會基準
(2)長時間劣化加速試驗(基材之變色抑制程度)
OK：無法利用目視看出變色
NG：可利用目視看出變色

Claims (13)

  1. 一種光觸媒塗裝物，包含有：基材；中間層，係設置於該基材上者；及光觸媒層，係設置於該中間層上者，前述光觸媒塗裝物之特徵在於，前述光觸媒層含有由利用紫外線激發之金屬氧化物所構成之光觸媒粒子，且前述中間層含有耐氣候性樹脂及羥苯三化合物；並且前述光觸媒層係藉由將含有光觸媒溶膠之塗覆液塗布後乾燥而形成，且前述光觸媒溶膠係含有由利用紫外線激發之金屬氧化物所構成之光觸媒粒子及胺；或者是前述光觸媒層更含有離子狀態之銅元素。
  2. 如申請專利範圍第1項之光觸媒塗裝物，其中前述中間層之膜厚係1μm以上、50μm以下，前述光觸媒層之膜厚係0.1μm以上、5μm以下，且前述中間層之膜厚比前述光觸媒層之膜厚厚。
  3. 如申請專利範圍第1項之光觸媒塗裝物，其中於前述光觸媒層中的光觸媒粒子之含量係1質量%以上、小於20質量%。
  4. 如申請專利範圍第3項之光觸媒塗裝物，其中於前述光觸媒層中的前述光觸媒粒子之含量係大於1質量%、小於5質量%。
  5. 如申請專利範圍第1項之光觸媒塗裝物，其中前述中間層更含有受阻胺化合物。
  6. 如申請專利範圍第1項之光觸媒塗裝物，其中前述耐氣候性樹脂係聚矽氧改質樹脂。
  7. 如申請專利範圍第6項之光觸媒塗裝物，其中前述聚矽氧改質樹脂中的矽含量相對於前述聚矽氧改質樹脂之固體成分為0.2質量%以上、小於16.5質量%。
  8. 如申請專利範圍第1項之光觸媒塗裝物，其中前述羥苯三化合物相對於前述中間層而含有0.1質量%以上、小於10質量%。
  9. 如申請專利範圍第1項之光觸媒塗裝物，其中前述光觸媒層具有通氣性。
  10. 如申請專利範圍第1項之光觸媒塗裝物，其中前述光觸媒層除了前述光觸媒粒子之外更含有無機氧化物粒子(但，光觸媒粒子除外)。
  11. 如申請專利範圍第10項之光觸媒塗裝物，其中前述光觸媒層包含有：大於1質量份、小於20質量份之前述光觸媒粒子；大於70質量份、小於99質量份之前述無機氧化物粒子(但，光觸媒粒子除外)；及0質量份以上、小於10質量份之選自於由水解性聚矽氧的縮聚物及有機金屬化合物之水解物的縮聚物所構成之群中之至少1種，且前述光觸媒粒子、前述無機氧化物粒子及前述氧 化物換算量之合計量係構成100質量份。
  12. 如申請專利範圍第10項之光觸媒塗裝物，其中前述光觸媒層包含有：大於1質量份、小於5質量份之前述光觸媒粒子；大於85質量份、小於99質量份之前述無機氧化物粒子(但，光觸媒粒子除外)；及0質量份以上、小於10質量份之選自於由水解性聚矽氧的縮聚物及有機金屬化合物之水解物的縮聚物所構成之群中之至少1種，且前述光觸媒粒子、前述無機氧化物粒子及前述氧化物換算量之合計量係構成100質量份。
  13. 如申請專利範圍第1項之光觸媒塗裝物，其中前述基材係外裝建材。
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