TWI305655B - Field emission type light source and backlight module using the same - Google Patents
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1305655 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光源,尤指一種場發射光源,以及採用該 光源之背光模組。 【先前技術】 人工照明光源一般可分為白熱燈、放電燈及固態光源,包括 白熾燈,螢光燈管,發光二極體(Light Emitting Diode,LED),鹵素 燈’高壓氣體放電燈(High Intensity Discharge, HID)等各種照明光 源《其中,白熾燈係鎢絲通電後發熱發光,同時產生大量熱量, 其發光效率較低(約8-15流明/瓦)’輝度有限,一般用於日常生活 照明;螢光燈管採用放電激發汞蒸汽發出紫外線打到螢光材質上 發出可見光’一般用於普通日常生活照明’其優點係發光效率高(達 到80流明/瓦)’缺點係含有汞,對環境及人體有害,因而不適合 環保要求;LED係一種固態光源’包括各種紅光LED、黃光LED、 藍光LED及白光LED ’其優點包括反應速度快、體積小、無污染, 缺點係發光效率低(約20-30流明/瓦)’目前應用於車内照明、裝飾 彩燈等;豳素燈及HID燈係目前汽車頭燈之主流,尤其係HID燈, 其可發出色溫接近白晝陽光之光纖(HID燈之色溫約 4300K-10000K,陽光色溫6000K),且HID較鹵素燈具有更遠之 視線等優點,惟,HID需將低電壓轉換為23〇〇〇伏高電壓,激發 氤氣發出電絲’織將紐敎在8_伏,供應氤氣燈泡 1305655 發光,故,其需要配合特殊電壓電流轉換設備方可工作,例如美 國專利第6,710,551號及6,781,327號。 2001年1月π日公開的中國大陸發明專利申請第〇〇1〇7813 5 號揭露一種使用奈米碳管之場發射白光源。 請參閱第-®,該白光社要包括:祕陰極之金屬薄膜u, 该金屬薄膜11設置於-下基板1〇上,形成於金屬薄膜u上之導 電聚合物薄膜圖案12,中空結構之奈米碳管15基本垂直固結在導 電♦合物案12上並且—端露出外面以發射電子,以及具有 螢光體16之透明電極17,該透明電極17設置於一透明上基板 下方。使用時’奈米碳管15發射電子A擊螢紐,從而發出可見 光。讀基於場發射的自光源具有電能轉換效率高,發光效率較 高’無污染等優點。 惟,上述場發射光源中奈米碳管係中空結構,受電場作用發 射電子將使τ、米碳管產生變形’使其使用壽命變短。^,因奈米 碳管係依馳著力固定於導絲合㈣膜之上,哺又為中空結 構’故’當場發射電場強度増強時,奈米碳管有可能由於電場作 用力而脫離‘電聚合物細,從而產生損壞,縮短場發射光源之 使用可°P,且’該場發射光源之出光輝度亦不能滿足顯示之進一 步需要。 有4α於此’ S供一種可延長場發射光源使用壽命及高出光輝 度之場發射光源實為必要。 1305655 【發明内容】 本發明之目的在於提供一種使用壽命較長之及高出光輝度場 發射光源。 本發明之另一目的在於提供一種採用上述場發射光源之背光 模組。 本發明之場發射光源包括:一具有一平整表面之基板;一形 成於該基板表面之導電陰極;一絕緣層,設置於該導電陰極上; 複數電子發射體,設置於該絕緣層上,用以發射電子;一陽極層, 其與該導電陰極相隔一定距離;一螢光層,設置於該陽極層表面, 被電子轟擊時可發出可見光,該電子發射體包括一基部與一頂 部,該基部與該絕緣層相連,該基部之材質係類金剛石碳,該頂 部之材質係鈮。 本明之月光模組包括一場發射光源及一與該光源配合之導 光板;該場發射光源包括:一具有一平整表面之基板;一形成於 该基板表面之導電陰極;一絕緣層,設置於該導電陰極上;複數 電子發射體,設置於該絕緣層上,用以發射電子;—陽極層,其 與該導電陰極相隔-定麟;—營光層,設置於該陽極層表面, 被電子轟擊時可發出可見光,該電子發射體包括一基部與一頂 部,該基部與該絕緣層相連’該基部之材質係類金剛石碳,該頂 部之材質係銳。 與先前技術相比,本發明之場發射光源之基部之材質係類金 1305655 剛石碳’頂部之材質係鈮’受電場作用發射電子亦不會產生形變, 即使電場強度增強,電子發射體亦不會損壞,延長使用壽命,且, 該場發射光源具有較高之出光輝度。 【實施方式】 請參閱第二圖’係本發明場發射光源第一實施方式之結構示 意圖。該場發射光源2包括一非金屬基板20,依次堆疊形成於基 板20表面上之成核層21、一導電層22、以及絕緣層23 ;複數奈 米電子發射體24有規則排列形成於該絕緣層23表面;一透明基 板27,其與所述奈米電子發射體24間隔一定距離,一陽極層26 形成於該透明基板27靠近該電子發射體24之表面,一螢光層25 形成於該陽極層26之表面;另外,複數側壁28將該場發射照明 光源2密封並支撐所述透明基板27,且形成一内部真空空間。絕 緣層23材質係類金剛石碳(Diamond-Like Carbon, DLC)。 所述成核層21係由矽組成,厚度非常薄,優選厚度為1微米 以下。由於該基板20係非金屬材質,設置成核層21有利於導電 層22之形成,即為導電層22提供沉積條件。該成核層21係可選 擇層。該導電層22之材質為銅、銀或金之一種。 請一併參閱第三圖,係第二圖中電子發射體之放大示意圖。 奈米電子發射體24係實心結構。如圖所示,奈米電子發射體24 係分別由一基部241與一頂部242構成,該基部241係柱狀體, 該頂部242係錐形尖端。該基部241之材質係類金剛石碳 1305655 (Diamond-Like Carbon,DLC),該頂部242之材質係鈮⑽)。基部 241係直徑d2為10-100奈米之圓柱體;頂部242底部較大直徑與 圓柱體直徑相等,即為d2,上部較小直徑dl為〇·5_1〇奈米範圍内; 奈米電子發射體24之基部241高度為100-2000奈米範圍内,頂部 242高度為10-200奈米範圍内。該基部241採用之材質係類金剛 石碳及該頂部242採用之材質係鈮(Nb),具有較高之硬度及磨損 抗力’使得該電子發射體24具有較長之使用壽命。 所述螢光層25包括有螢光材料,被電子轟擊時可產生可見 光。所述陽極層26由ITCKIndimn Tin Oxide,銦錫氧化物)導電薄 膜組成。所述透明基板27係由透明玻璃製成。 本發明之場發射光源之電子發射體係類金剛石碳,頂部之材 質係鈮,當施加電場時,所激發之電子由基部到達頂部,將加強 電勢差’使更多電子發射出ϋ電子發射體不易產生變形,不 易損壞,可延長其使用壽命且’該場發射絲財較高之出光輝 度。 下文將敘述採用本發明之場發射光源之背光模組。 請參閱第四圖’係本發明之背光模組示意圖。該背光模組4 包括前述場發射光源2與-導光板4〇,該場發射柄、2設置於導 光板40之-角,該導光板4〇包括一出光面41,出光面社具複 數狐形結構43,愈遠離光源2,該弧形結構43之間距愈小,即密 度愈大。 1305655 採用本發明場發射光源之背賴組,因場發射辆、所發出之 輝度較有機電致發光二極體或冷陰極射線管高出1〇至⑴⑻仵 故,該背光模組採用該光源可提高整體輝度。 綜上所述’本發明確已符合㈣專利要件,爰依法提出專利 申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,舉凡熟悉本 案技藝之人士,在援依本案發明精神所作之等效修飾或變化:比 應包含於以下之申請專利範圍内。 白 【圖式簡單說明】 第一圖係一種先前技術場發射光源之結構示意圖。 鲁 第二圖係本發明場發射光源第一實施方式之結構示音圖。 第三圖係第二圖中電子發射體之放大示意圖。 第四圊係本發明背光模組之立體示意圖。 【主要元件符號說明】 場發射光源 2 基板 20、3〇 成核層 21 > 32 導電陰極 絕緣層 23 電子發射體 22、31 基部 241 頂部 24 螢光層 25 陽極 242 透明基板 27 侧壁 26 背光模組 4 導光板 28 出光面 41 弧形結構 40 43 10
Claims (1)
- I3〇5655 十、申請專利範圍: h 一種場發射光源,其包括: 一具有一平整表面之基板; 一形成於該基板表面之導電陰極; 一絕緣層,設置於該導電陰極上; 複數電子發射體,設置於該絕緣層上,用以發射電子· —陽極層,其與該導電陰極相隔一定距離; , —螢光層,設置於該陽極層表面,被電子轟擊時可 出可見光; $ 其改良在於:該電子發射體包括一基部與一頂部,該 基部與該絕緣層相連,該基部之材質係類金剛石 碳’該頂部之材質係鈮。 2. 如申請專利範圍第丨項所述之場發射光源,其改良在 於:該電子發射體之基部為柱狀體,頂部為錐形體。 3. 如申凊專利範圍第2項所述之場發射光源,其改良在 於:該基部之高度範圍為100〜2000奈米,該頂部之高 度範圍為10〜200奈米。 .如申凊專利祀圍第2項所述之場發射光源,其改良在 於:該基部之直徑範圍為10〜100奈米,該頂部之上底 面直徑範圍為0.5〜1〇奈米。 5·如申請專利範圍第1項所述之場發射光源,其改良在 於:該基板與該絕緣層之間還包括一成核層,該成核層 係由矽材質組成。 6.如申請專利範圍第1項所述之場發射光源,其改良在 於:該絕緣層之材質係類金剛石碳。 •"η •一種背光模組,其包括一場發射光源及一與該光源配合 之導光板,該場發射光源包括: 1305655 一具有一平整表面之基板; 一形成於該基板表面之導電陰極; 一絕緣層,設置於該導電陰極上; 複數電子發射體,設置於該絕緣層上,用以發射電子; 一陽極層,其與該導電陰極相隔一定距離; 一螢光層,設置於該陽極層表面,被電子轟擊時可發 出可見光; 其改良在於:該電子發射體包括一基部與一頂部,該 基部與該絕緣層相連,該基部之材質係類金剛石 碳,該頂部之材質係鈮。 8. 如申請專利範圍第7項所述之背光模組,其改良在於: 該電子發射體之基部為柱狀體,頂部為錐形體。 9. 如申請專利範圍第8項所述之背光模組,其改良在於: 該基部之高度範圍為100〜2000奈米,該頂部之高度範 圍為10〜200奈米。 10. 如申請專利範圍第8項所述之背光模組,其改良在於: 該基部之直徑範圍為10-100奈米,該頂部之上底面直 徑範圍為0.5〜10奈米。 11. 如申請專利範圍第7項所述之背光模組,其改良在於: 該基板與該絕緣層之間還包括一成核層,該成核層係由 石夕材質組成。 12. 如申請專利範圍第7項所述之背光模組,其改良在於: 該絕緣層之材質係類金剛石碳。 12
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