TWI301511B - Arrangement for coating substrate - Google Patents
Arrangement for coating substrate Download PDFInfo
- Publication number
- TWI301511B TWI301511B TW094137444A TW94137444A TWI301511B TW I301511 B TWI301511 B TW I301511B TW 094137444 A TW094137444 A TW 094137444A TW 94137444 A TW94137444 A TW 94137444A TW I301511 B TWI301511 B TW I301511B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- vapor
- scope
- valve
- patent application
- quartz
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 27
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 14
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 9
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K1/00—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces
- F16K1/14—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces with ball-shaped valve member
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
1301511 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種如申請專利範圍第1項之前言部分的 裝置。 【先前技術】 電腦或電視機的平坦螢光幕生產的最近發展朝向所謂 有機發光二極體(OLEDs)。OLEDs的生產可以藉由〇VPD 技術(OVPD-有機蒸氣相沈積,美國專利5,554,22()號)而發 生,其中一在加熱反應器中的極低壓的載體氣體流獲得了 有機材料,且將它們沈積在基板上成為薄層。 在用於以一薄有機層塗覆基板的另一方法中,提供一 具備加熱機件的基板支持件,它的下表面上支持一基板, 例如,玻璃(歐洲專利0 962 260 Al =美國專利6 ι〇ι 316 號)。此基板下方提供二蒸發源,其蒸發了有機材料,如果 —配置在基板與蒸發器之間的關斷器被開启欠,則有機材料 會被沈積在基板上。 ’其可由電馬達開 閥本體在此以一紅 也已知一種用於玻璃設備的電動閥 啟與關閉(德國專利201 15 333 U1號)。 而被實施。 金屬閥,它的密封附件之—是以板、止的密封附件的全 15 487 A1號)。此閥包含一額、^實施(德國專利30 只外的密封附丰, 封附件有缺陷時變成可操作。 卞,、在板形密 1301511 在另一已知的閥中,閥本體由球 a 4r ^ 衣實細,此球忐夠關閉 _柱形官(日本專利2000120551 A號)。 一 7彡本體也包含ϋ可q於有料料 中(杲國專利3 887 162號)。 兄 已知一閥’其包含一球形封閉本體(美國專利4 195
破)。此閥用於控制高腐姓性流體。它能夠阻礙 位置的流體。 P ,-種用於以特定比例混合二流體的伺服控制閥揭示於 吴國專利3 561 484號。此閥也包含—球形封閉本體。 一種具有用於蒸發有機材料的來源,其包含-開關閥 之蒸發設備可自美國專矛Η HH 316號而得知。一清空裝 置在此連接-含有有機材料的容器,當閥關閉_ 置使容器清空。 1 用於OLED材料的蒸發的裝置也揭示在歐洲專利工 357 200 A1號與歐洲專利1 401 036 Α2號。 最後,已知一種用於塗覆區域性基板的裝置,其包含 一用於蒸發材料的靜止蒸發源(德國專利1〇2 24 9〇8 A”, 基板待由彼塗覆。此裝置包含—驅動機件,其使區域性基 板相對於蒸發源移動。此外,它包含一第一分佈裝置及一 第二分佈H,第-分佈纟置使蒸發源排㈣I氣直線分 佈,第二分佈裝置的一端至少配置在蒸發源附近,且它的 另-端配置在第-分佈裝置中。&已知的裝置安排成為用 於連續蒸發,其意指一塗覆過程一旦開始,則將執行若干 小時或若干天。由於良好的絕緣與大的熱質量,蒸發源的 1301511 T制行為很緩慢。自蒸發源的加熱機件啟動的時間開始, 關閉的時間至二二=Γ小時,且自加熱機件 長的時間。之蒸發源的關閉需花費相當 在此期間,很昂貴的材料自蒸發源蒸發而未用於塗覆。 與蒸發源之間設有一關斷器,則材料變成沈積 益上。幾分鐘的短期蒸發中斷是不可能的。 【發明内容】 的門題及2明提出中斷自該蒸發源至該基板的材料流 的問碭,及同時節省蒸發材料。 該問題依據申請專利範圍第i項的特徵而被解決。 本發明因此關於一種用於塗覆基板的, =原及-在該蒸發源與該基板之間的蒸氣屏障:二 温度。 ”至4於或切待蒸發材料的蒸發 該蒸氣屏障被實施為一石英閥,其包括 多動桿的球形封閉部件。在一第一位 ;可 會關閉一連接於該蒸發源的蒸氣導管,在1形封閉部件 球形封閉部分頂靠一將一石英管密封的球面:頂二位置’該 本發明所得的優點特別在於該蒸發被 材料不會發生沈積在不是基板的結構性部分。:,以此該 面,隨著該閥關閉,基板不再被塗覆,另—;疋-方 料不再消耗。經由該蒸氣屏障之特 Φ ’蒸發材 也馮一特殊閥,確 !3〇1511 保了它在該閥的該開啟位置,一方面,該管的橫截面可被 用於該蒸氣流及,另一方面,該閥的後空間被密封,防止 了該蒸氣穿入該閥引導件,以致於它不再堵塞。 該閥的特殊實施被界定在該獨立的申請專利範圍第9 項(=假獨立項)。 本發明之一實施例顯示在圖中,且將更詳細說明如下。 【實施方式】 圖1顯示本身為已知的一塗覆設備丨的基本結構性部 刀。此處,2標示為一支撐板,其上有一管狀外殼3以凸 緣方式連接,該管狀外㉟3中安置有一蒸發源4。此蒸發 :4由;陶瓷f 5環繞,該陶瓷管5則由一金屬保護管6 %繞。该蒸發源4包括一具備一分割I 8的坩堝7,該八 二I使中,空與一材料空間1〇分離。在該材料 ::9一女置有該有機基板,其待被蒸發。在該坩堝7 撐條彈菁Μ3的撐條"及-熱感測器"。 在遠蒸發源4上方安置有一 被連接另-石英管:在: 其以約45。的角度 塗覆的基板17、。,十備1…6前方安置有該待被 國專利ι〇2249〇8Α1號中找到。 m以在德 圖2再顯示該二石英管15與“ 直於該石英管16而延伸。石英管15不僅石央官15現在垂 於該石英管16,而且它的另一端::它的-端終止 該石英管18中安置有…、附近連接另-石英管18, 中女置有_源4。在圖
Claims (1)
1301511
97 十、申請專利範圍: 〜 ·—種用於塗覆-基板的裝置,其包含 諸材料Ί發源⑷’其Μ蒸發該基板(⑺將被塗覆之 該二蒸氣引導裝置Ο5’16,18),",- h3 一機械式蒸氣屏障(19至^ ^ 置(15,16)中, 至23),其在該蒸氣引導裝 其特徵為該蒸氣屏障(19至2 待蒸發材料的蒸發溫度的溫度。料在4於或高於該 2·如申請專利範圍第丨項之 障09至23)的溫度比該待基發二ί特徵為該蒸氣屏 50%。 …知材枓的蒸發溫度高5%至 3.如申請專利範圍第…項之裒置, 氣引導裝置⑴,16,18)被維持在與 同的溫度。 开丨早(丨9至23)相 4·如申請專利範圍第1項之梦罢 ^ 障(19至23)由石英組成。、、,-特徵為該蒸氣屏 5·如申請專利範圍第1項 導褒置(15,16,18)由石英組成、。☆、特徵為該蒸氣引 6. 如申請專利範圍第…項之裝置 氟屏障(19至23)是一閥。 “得破為该瘵 7. 如申請專利範圍帛1項之裝置 導裝置(15,16,18)包括至少—― 、政為该蒸氣引 七央管(18)。 12 1301511 8.如申請專利範圍帛!項之裝置,其特徵為該蒸氣引 導裝置(15,16,18)包括二石英管(15,18),該蒸氣屏障 (19,20,23)被設在該一石英管(18)與該另一石英管(Η)之 間0 9.一種閥,特別是用於開啟及關閉二互相輕合的蒸氣 引導裝置(15,18),其特徵為 a) 一本體(19),其具有一至少半球形的表面, b) 一連接於該本體(19)的桿(20,21), 棋丁貝(23),纟用於承接該本體(19)的至少—部 以被移動於其中。 其特徵為該本體(19) d) —引導件(22,24),該桿(2〇,21)可 1〇·如申請專利範圍第9項之閥, 是一球。 • r Μ專利範圍第9或1〇項之閥,其特 相連接的管狀蒸氣引導裝置(15,18)係互相垂直的,且: (2 0,2 1)的縱向轴重人 ^ ^ 軸線。 釉重口於至乂 6亥-㈣引導裝置(18)的縱 導二2:t申請專利範圍第1項之裝置,其特徵為該基氣 ’衣 5,16,18)具備有用於安裝加熱線圈(36 37 38 39、 接頭(30 至 35)。 ’ ’,38,39) 13.如申請專利範圍第12項之裝置,其特 頭 至35)係由石英玻璃組成。 、/ 14 士口由上 甲凊專利範圍第1項之裝置, 發的材料是田^ /、特斂為該等待 用於生產發光二極體的有機材料。 13 1301511 Η•一、圖式: 如次頁
14
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP04029928A EP1672715A1 (de) | 2004-12-17 | 2004-12-17 | Vorrichtung für die Beschichtung eines Substrats |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200622013A TW200622013A (en) | 2006-07-01 |
| TWI301511B true TWI301511B (en) | 2008-10-01 |
Family
ID=34927821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW094137444A TWI301511B (en) | 2004-12-17 | 2005-10-26 | Arrangement for coating substrate |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8192548B2 (zh) |
| EP (1) | EP1672715A1 (zh) |
| JP (1) | JP4478645B2 (zh) |
| KR (1) | KR100791142B1 (zh) |
| CN (1) | CN1789481A (zh) |
| TW (1) | TWI301511B (zh) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1862788A1 (en) * | 2006-06-03 | 2007-12-05 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Evaporator for organic material, coating installation, and method for use thereof |
| JP5220091B2 (ja) * | 2008-02-26 | 2013-06-26 | 株式会社アルバック | 成膜源、蒸着装置、有機el素子の製造装置 |
| US20100098852A1 (en) * | 2008-10-22 | 2010-04-22 | Applied Materials, Inc. | Arrangement and method for regulating a gas stream or the like |
| EP2186920A1 (en) | 2008-10-22 | 2010-05-19 | Applied Materials, Inc. | Arrangement and method for regulating a gas stream or the like |
| US20100159123A1 (en) * | 2008-12-18 | 2010-06-24 | Applied Materials, Inc. | Evaporation source with exchangeable nozzles |
| EP2199426A1 (en) | 2008-12-18 | 2010-06-23 | Applied Materials, Inc. | Evaporation source with exchangeable nozzles |
| US20100154905A1 (en) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | Elisabeth Sommer | Arrangement for the regulation of a gas stream |
| EP2202435A1 (en) | 2008-12-19 | 2010-06-30 | Applied Materials, Inc. | Arrangement for the regulation of a gas stream |
| EP2204467B1 (en) | 2008-12-23 | 2014-05-07 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for depositing mixed layers |
| US9127349B2 (en) | 2008-12-23 | 2015-09-08 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for depositing mixed layers |
| JP6407479B2 (ja) * | 2016-03-23 | 2018-10-17 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機el表示装置の製造方法 |
| CN108060392B (zh) * | 2017-12-14 | 2023-07-18 | 深圳先进技术研究院 | 一种可控线性蒸发装置及镀膜方法 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3561484A (en) | 1969-09-12 | 1971-02-09 | John F Taplin | Servo-controlled dual fluid mixing valve |
| GB1433034A (en) | 1972-05-26 | 1976-04-22 | Kernforschung Gmbh Ges Fuer | Glandless electromagnetic valve |
| US4195666A (en) | 1978-08-31 | 1980-04-01 | Nasa | Quartz ball valve |
| DE3015487A1 (de) | 1980-04-23 | 1981-10-29 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Ganzmetall-ventil |
| US5554220A (en) | 1995-05-19 | 1996-09-10 | The Trustees Of Princeton University | Method and apparatus using organic vapor phase deposition for the growth of organic thin films with large optical non-linearities |
| JP3691615B2 (ja) | 1996-12-06 | 2005-09-07 | 株式会社アルバック | 有機材料用蒸発源 |
| EP0962260B1 (en) * | 1998-05-28 | 2005-01-05 | Ulvac, Inc. | Material evaporation system |
| US6275649B1 (en) | 1998-06-01 | 2001-08-14 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Evaporation apparatus |
| JP2000120551A (ja) | 1998-10-16 | 2000-04-25 | Fuji Koki Corp | 可変容量型圧縮機用の圧力調整弁 |
| JP2001208478A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-03 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置 |
| DE10005820C1 (de) | 2000-02-10 | 2001-08-02 | Schott Glas | Gasversorungsvorrichtung für Precursoren geringen Dampfdrucks |
| JP2002030418A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-31 | Denso Corp | 蒸着装置 |
| JP2002324310A (ja) | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| DE10128091C1 (de) * | 2001-06-11 | 2002-10-02 | Applied Films Gmbh & Co Kg | Vorrichtung für die Beschichtung eines flächigen Substrats |
| DE20115333U1 (de) | 2001-09-17 | 2002-02-07 | Gebr. Buddeberg GmbH, 68219 Mannheim | Elektrisch betätigtes Ventil für Glasapparaturen |
| US6749906B2 (en) | 2002-04-25 | 2004-06-15 | Eastman Kodak Company | Thermal physical vapor deposition apparatus with detachable vapor source(s) and method |
| US7067170B2 (en) | 2002-09-23 | 2006-06-27 | Eastman Kodak Company | Depositing layers in OLED devices using viscous flow |
| JP4380236B2 (ja) * | 2003-06-23 | 2009-12-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台及び熱処理装置 |
-
2004
- 2004-12-17 EP EP04029928A patent/EP1672715A1/de not_active Ceased
-
2005
- 2005-10-20 US US11/254,425 patent/US8192548B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-26 TW TW094137444A patent/TWI301511B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-11-08 CN CNA2005101156662A patent/CN1789481A/zh active Pending
- 2005-12-12 JP JP2005357846A patent/JP4478645B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-13 KR KR1020050122654A patent/KR100791142B1/ko not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4478645B2 (ja) | 2010-06-09 |
| CN1789481A (zh) | 2006-06-21 |
| TW200622013A (en) | 2006-07-01 |
| EP1672715A1 (de) | 2006-06-21 |
| KR100791142B1 (ko) | 2008-01-02 |
| KR20060069272A (ko) | 2006-06-21 |
| JP2006169633A (ja) | 2006-06-29 |
| US20060130765A1 (en) | 2006-06-22 |
| US8192548B2 (en) | 2012-06-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI301511B (en) | Arrangement for coating substrate | |
| TWI314587B (en) | Vapor deposition device | |
| TW574396B (en) | Method and apparatus for coating a substrate in a vacuum | |
| ES2343203T3 (es) | Crisol mejorado para la cristalizacion de silicio. | |
| US20030053799A1 (en) | Apparatus and method for vaporizing solid precursor for CVD or atomic layer deposition | |
| CN108193277A (zh) | 制备大面积单层二硒化钨单晶的方法 | |
| JP2004091926A (ja) | 有機薄膜形成装置の加熱容器 | |
| US20080173241A1 (en) | Vapor deposition sources and methods | |
| SG116556A1 (en) | Non-evaporable getter multilayer deposits obtainedby cathodic deposition and precess for their manu facturing. | |
| JP2009087869A (ja) | 供給装置、蒸着装置 | |
| JP4041005B2 (ja) | 薄膜堆積用分子線源とそれを使用した薄膜堆積方法 | |
| JP4402016B2 (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 | |
| KR100626777B1 (ko) | 초합금 제품과 그 위에 코팅을 형성하는 장치 및 방법 | |
| CN103526163A (zh) | 用于真空沉积装置的蒸发设备及包括该蒸发设备的真空沉积装置 | |
| WO2016065767A1 (zh) | 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚 | |
| RU2006101147A (ru) | Устройство для выращивания кристаллов карбида кремния | |
| JP2018538429A (ja) | 堆積速度を測定するための測定アセンブリ、蒸発源、堆積装置及びそのための方法 | |
| TW200304956A (en) | Vapor organic material deposition method and vapor organic material deposition apparatus using the same | |
| RU2007105817A (ru) | Химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении | |
| JP2008106360A (ja) | 真空熱蒸着用の、円錐状の多層スリットノズルを有するエバポレータ | |
| KR100656181B1 (ko) | 유기 el소자의 연속 증착 시스템 | |
| EP2325348B1 (en) | Device and method for thermal evaporation of silicon | |
| ES2336453T3 (es) | Procedimiento para fabricar un producto metalico revestido con una pelicula delgada ultrahidrofila, y producto metalico revestido con una pelicula delgada ultrahidrofila. | |
| US20100098852A1 (en) | Arrangement and method for regulating a gas stream or the like | |
| KR100651258B1 (ko) | 유기 박막 증착 공정용 멀티 노즐 도가니 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |