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TWI395241B - 可儲存電能之磁電容裝置 - Google Patents

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TWI395241B TW096133528A TW96133528A TWI395241B TW I395241 B TWI395241 B TW I395241B TW 096133528 A TW096133528 A TW 096133528A TW 96133528 A TW96133528 A TW 96133528A TW I395241 B TWI395241 B TW I395241B
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Description

可儲存電能之磁電容裝置
本發明是有關於一種電能儲存裝置及方法，特別是有關於一種用以儲存電能的磁性設備。
能源的儲存部件在我們的生活之中佔了重要的一部分，例如用於電路中的電容以及用於可攜式裝置的電池之類的元件，電能儲存部件影響了電子裝置的執行效能以及作業時間。
然而，習知的能源儲存部件具有一些問題。舉例而言，電容具有因為漏電流而降低整體效能的問題，而電池則具有因為部分充/放電的記憶效應而降低整體效能的問題。
巨磁阻效應(Giant Magnetoresistance Effect,GMR)是一種能夠自具有薄磁性或薄非磁性區的結構中，所觀測到的量子物理效應。巨磁阻效應顯現出了電阻對外加電場產生反應，從零場(zero－field)高阻抗狀態至高場(high－field)低阻抗狀態時的顯著變化。
因此，可以利用巨磁阻效應來作成高效能絕緣體，如此具有巨磁阻效應的裝置能夠被用來儲存電能。從上述理由看來，對於此種具有巨磁阻效應的電能儲存裝置是有著實際的需求。
因此本發明之一目的在於提供一種電能儲存裝置及方法。
依據本發明之一種實施例，本裝置具有一第一磁性區，一第二磁性區以及配置於第一磁性區及第二磁性區之間之一介電區。其中本裝置是利用介電區來儲存電能以及利用第一磁性區和第二磁性區之雙極來防止電能的洩漏。
依據本發明之另一實施例，本電能儲存裝置具有多個磁性區以及多個分別配置於兩相鄰之磁性區之間的介電區，其中這些介電區係被用來儲存電能，而具有雙極的磁性區則是被用來防止電能洩漏。
和一般所理解的相同，前述之概略性說明以及下述之細節性說明皆是以範例說明的方式進行，並且是用以對本發明中宣告申請專利範圍的部分提供更進一步的解釋。
接下來會參照到本發明之較佳實施例的詳細說明，其中所提到的範例會連同圖式一同進行說明。在任何可能的情況之下，圖式及說明中所使用之相同的參考數標都代表了相同的或類似的部件。
在本說明中，是以能夠簡明地解釋本發明之基本原理作為出發點來繪示當中所有的圖式，而自本說明中的圖式，從用以組成本發明實施例之各個部件的數量、位置、關聯性及尺寸等觀點來看，所引伸而出的各種概念將會於本說明當中解釋，或亦能在了解了本發明說明的內容之後，為本發明相關技術領域之技藝者所理解。
第1圖繪示了符合本發明之一實施例之電能儲存裝置，此種電能儲存裝置具有一第一磁性區110、一第二磁性區120以及配置於第一磁性區110及第二磁性區120之間的一介電區130。介電區130具有儲存電能的作用，而具有雙極(如數標115及125所示者)則具有防止電能洩漏的作用。
介電區130為一層薄膜，並且其係由介電材料所構成，如鈦酸鋇(BaTiO3)或二氧化鈦(TiO3)。然而，介電材料並非完美的絕緣體，所以此時仍會有少量的電流流經介電區130。
因此，必須利用第一磁性區110及第二磁性區120來產生能夠防止電流流失(即電能洩漏)的絕緣效應。第一磁性區110和第二磁性區120都是一層薄膜，並且這兩個具有雙極的磁性區有著防止電能洩露的效用。
本裝置更具有配置於第一磁性區110周圍的一第一金屬元件140，其中此第一金屬元件140具有控制第一磁性區110之雙極115的作用。另外本裝置亦更具有配置於第二磁性區120周圍的一第二金屬元件150，其中此第二金屬元件150具有控制第二磁性區120之雙極125的作用。設計者或使用者可以利用這些第一金屬元件140及第二金屬元件150來施加外加電場以控制第一磁性區110及第二磁性區120的雙極。
第一金屬元件140及第二金屬元件150於第1圖中所繪示的位置並非用以限制金屬元件的實際位置，設計者可以依據實際的需求來配置這些金屬元件。
自前述內容可知，設計者可以利用第一金屬元件140及第二金屬元件150來控制第一磁性區110的雙極115及第二磁性區120的雙極125，並且在利用介電區130配合雙極115及125之後，能夠儲存電能並且防止電能洩漏。當本裝置儲存著電能時，第一磁性區110的雙極115(→)及第二磁性區120的雙極125(→)是相同的。因此，第一磁性區110及第二磁性區120防止了電能的洩漏，並且介電區130亦儲存著電能。
也就是說，當第一磁性區110的雙極115和第二磁性區120的雙極125為相同時，介電區130的電子的旋轉方向會指向一個方向，藉此也解決了電流洩漏的現象。在解決了電流洩漏的現象之後，電能的儲存時間能夠更長，電能的損失也能夠更少。
值得注意的是，符號‘→’僅是用來表示磁性區的雙極，並非用來限制雙極的方向。
第2圖繪示了本裝置在依據本發明之一實施例進行充電時的狀態。當本裝置在充電時，第一磁性區110和第二磁性區120會耦接至一電源260，此時電能會自電源260輸入介電區130。
第3圖繪示了本裝置在依據本發明之一實施例進行放電時的狀態。當本裝置在放電時，第一磁性區110和第二磁性區120會耦接至一負載元件370，此時電能會自介電區130往負載元件370輸出。
電源或負載元件能夠容易地對磁性區110及120的雙極造成影響，使得磁性區110及120無法具有很好的絕緣效應，讓電流能夠穿透這些磁性區。
本發明之裝置可被視為具有大容量之電容，甚至可將本裝置當做一個電池來使用，而且本裝置雖具有電池的功能但卻沒有電池之記憶效應的問題。也就是說，在對本裝置進行完整性或部分性充電/放電時，不會有效能上的損失。
除此之外，亦可以利用本裝置來建立一個大型的平行元件陣列以得到一個更加龐大的能量儲存體。進一步來說，可將多個本發明之裝置如第4圖所示一般堆疊起來以得到一個更加龐大的能量儲存體。
第4圖所示的實施例中使用了四個磁性區110a、110b、110c、110d以及三個介電區130a、130b和130c。本電能儲存裝置具有數個磁性區110a、110b、110c、110d以及分別配置於兩個鄰近之磁性區中間的數個介電區130a、130b和130c。舉例來說，介電區130a會被配置在磁性區110a及110b之間，而介電區130b則會被配置在磁性區110b及110c之間。這些介電區130a、130b及130c是被設計用來儲存電能，而具有雙極115a、115b、115c及115d的磁性區110a、110b、110c及110d則是被設計用來防止電能洩漏。
本裝置更具有分別被配置在磁性區周圍，用以控制磁性區之雙極的數個金屬元件(未繪示於圖式中)。
當本裝置中儲存著電能的時候，磁性區110a、110b、110c及110d的雙極115a、115b、115c及115d都會是相同的。
當對本裝置進行充電的時候，會有部分的磁性區與一電源耦接，而當對本裝置進行放電的時候，則會有部分的磁性區與一負載元件耦接。也就是說，當對本裝置進行充電或放電的時候，磁性區110a及110d會與電源或負載元件耦接，或是所有的磁性區110a、110b、110c及110d皆與電源或負載元件耦接。
雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
110、120．．．磁性區
115、125．．．雙極
130．．．介電區
140、150．．．金屬元件
260．．．電源
370．．．負載元件
110a、110b、110c、110d．．．磁性區
115a、115b、115c、115d．．．雙極
130a、130b、130c．．．介電區
為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之詳細說明如下：第1圖繪示符合本發明之一實施例之一電能儲存裝置。
第2圖繪示本發明之裝置在依據本發明之一實施例充電時之狀態。
第3圖繪示本發明之裝置在依據本發明之一實施例放電時之狀態。
第4圖繪示符合本發明之另一實施例之一電能儲存裝置。
110、120．．．磁性區
115、125．．．雙極
130．．．介電區
140、150．．．金屬元件

Claims (13)

  1. 一種磁電容裝置，包含：一第一磁性區；一第二磁性區；一介電區配置於該第一磁性區及該第二磁性區之間；一第一金屬元件配置於該第一磁性區周圍，用以控制該第一磁性區之雙極；以及一第二金屬元件配置於該第二磁性區周圍，用以控制該第二磁性區之雙極；其中該介電區係被用以儲存電能，以及具有複數個雙極之該第一磁性區及該第二磁性區係被用以防止電能洩漏。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之磁電容裝置，其中該介電區為一薄膜。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之磁電容裝置，其中該介電區係為介電材料所構成。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之磁電容裝置，其中該第一磁性區為一薄膜。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之磁電容裝置，其中該 第二磁性區為一薄膜。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之磁電容裝置，其中當該電能儲存裝置儲存著電能時，該第一磁性區及該第二磁性區之雙極係相同。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之磁電容裝置，其中當於充電該電能儲存裝置時，該第一磁性區及第二磁性區與一電源耦接。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之磁電容裝置，其中當於放電該電能儲存裝置時，該第一磁性區及第二磁性區與一負載元件耦接。
  9. 一種磁電容裝置，包含：複數個磁性區；複數個介電區分別配置於兩相鄰之該些磁性區之間；以及複數個金屬元件分別配置於該些磁性區周圍，用以分別控制每一該些磁性區之雙極；其中該些介電區係被用以儲存電能，以及具有複數個雙極之該些磁性區係被用以防止電能洩漏。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之磁電容裝置，其中 該些介電區為複數個薄膜。
  11. 如申請專利範圍第9項所述之磁電容裝置，其中該些介電區係為介電材料所構成。
  12. 如申請專利範圍第9項所述之磁電容裝置，其中該些磁性區為複數個薄膜。
  13. 如申請專利範圍第9項所述之磁電容裝置，其中當該電能儲存裝置儲存著電能時，該些磁性區之雙極係相同。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2466840B (en) * 2009-01-12 2011-02-23 Northern Lights Semiconductor A parallel plate magnetic capacitor and electric energy storage device
US20090095338A1 (en) * 2007-10-11 2009-04-16 James Chyl Lai Solar power source
US20090257168A1 (en) * 2008-04-11 2009-10-15 Northern Lights Semiconductor Corp. Apparatus for Storing Electrical Energy
US20100194331A1 (en) * 2009-02-05 2010-08-05 James Chyi Lai electrical device having a power source with a magnetic capacitor as an energy storage device
US20100193906A1 (en) * 2009-02-05 2010-08-05 Northern Lights Semiconductor Corp. Integrated Circuit Package for Magnetic Capacitor
JP2011003892A (ja) * 2009-06-18 2011-01-06 Northern Lights Semiconductor Corp Ｄｒａｍセル
TW201135766A (en) * 2010-04-01 2011-10-16 Chien-Chiang Chan Energy storage device
US9607764B2 (en) * 2010-10-20 2017-03-28 Chun-Yen Chang Method of fabricating high energy density and low leakage electronic devices
CN102683007A (zh) * 2011-03-07 2012-09-19 詹前疆 储电元件
JP4996775B1 (ja) 2011-08-18 2012-08-08 幹治 清水 薄膜キャパシタ装置
US9263189B2 (en) 2013-04-23 2016-02-16 Alexander Mikhailovich Shukh Magnetic capacitor
JP2016537827A (ja) 2013-10-01 2016-12-01 イー１０２３ コーポレイションＥ１０２３ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ 磁気強化型エネルギー貯蔵システムおよび方法
CN105071545A (zh) * 2015-08-05 2015-11-18 国润金华（北京）国际能源投资有限公司 一种量子物理蓄电池及其制备方法
CN105514508A (zh) * 2015-12-10 2016-04-20 连清宏 一种薄片电池及使用这种电池的电力供应器
TWI665690B (zh) 2017-10-24 2019-07-11 財團法人工業技術研究院 磁性電容元件
CN115548564A (zh) * 2022-11-30 2022-12-30 国能世界(北京)科技有限公司 一种量子芯片电池储能模块

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020031008A1 (en) * 2000-09-08 2002-03-14 Tohru Den Magnetic device and method for manufacturing the same, and solid magnetic memory
US6961263B2 (en) * 2003-09-08 2005-11-01 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Memory device with a thermally assisted write

Family Cites Families (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3350180A (en) * 1967-10-31 Magnetic device with alternating lami- na of magnetic material and non-mag- netic metal on a substrate
US3397085A (en) * 1962-12-27 1968-08-13 Union Carbide Corp Thin film capacitors
DE1252739B (de) * 1964-03-17 1967-10-26 Siemens Aktiengesellschaft, Berlin und München, München Speicherelement mit gestapelten magnetischen Schichten
US3535602A (en) * 1969-05-07 1970-10-20 Nasa Capacitor and method of making same
US4312025A (en) * 1978-12-06 1982-01-19 Rca Corporation Magnetic variable capacitor
US4547866A (en) * 1983-06-24 1985-10-15 Honeywell Inc. Magnetic thin film memory with all dual function films
US4981838A (en) * 1988-03-17 1991-01-01 The University Of British Columbia Superconducting alternating winding capacitor electromagnetic resonator
US5110793A (en) * 1989-02-22 1992-05-05 International Superconductor Corp. Ultra high energy capacitors using intense magnetic field insulation produced by high-Tc superconducting elements for electrical energy storage and pulsed power applications
SU1688210A1 (ru) * 1989-06-26 1991-10-30 Предприятие П/Я М-5619 Чувствительный элемент
US5173873A (en) * 1990-06-28 1992-12-22 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration High speed magneto-resistive random access memory
US5434742A (en) * 1991-12-25 1995-07-18 Hitachi, Ltd. Capacitor for semiconductor integrated circuit and method of manufacturing the same
JPH0745477A (ja) * 1993-07-26 1995-02-14 Murata Mfg Co Ltd 電子部品およびその製造方法
US5414588A (en) * 1993-09-20 1995-05-09 The Regents Of The University Of California High performance capacitors using nano-structure multilayer materials fabrication
JPH07169651A (ja) * 1993-12-16 1995-07-04 Tdk Corp 積層チップフィルタ
US6741494B2 (en) * 1995-04-21 2004-05-25 Mark B. Johnson Magnetoelectronic memory element with inductively coupled write wires
JPH08316100A (ja) * 1995-05-23 1996-11-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層複合部品
CN1056939C (zh) * 1995-06-08 2000-09-27 西安九元高压电容器厂 交流安全陶瓷电容器及其制造方法
US5757591A (en) * 1996-11-25 1998-05-26 International Business Machines Corporation Magnetoresistive read/inductive write magnetic head assembly fabricated with silicon on hard insulator for improved durability and electrostatic discharge protection and method for manufacturing same
US5898612A (en) * 1997-05-22 1999-04-27 Motorola, Inc. Magnetic memory cell with increased GMR ratio
US6111784A (en) * 1997-09-18 2000-08-29 Canon Kabushiki Kaisha Magnetic thin film memory element utilizing GMR effect, and recording/reproduction method using such memory element
JP3679593B2 (ja) * 1998-01-28 2005-08-03 キヤノン株式会社 磁性薄膜素子および磁性薄膜メモリ素子およびその記録再生方法
DE69923386T2 (de) * 1998-05-13 2005-12-22 Sony Corp. Bauelement mit magnetischem Material und Adressierverfahren dafür
EP0959475A3 (en) * 1998-05-18 2000-11-08 Canon Kabushiki Kaisha Magnetic thin film memory and recording and reproducing method and apparatus using such a memory
JP3773031B2 (ja) * 1999-01-13 2006-05-10 インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト Ｍｒａｍ用の読出／書込構造
US7190161B2 (en) * 1999-08-26 2007-03-13 Automotive Systems Laboratory, Inc. Magnetic sensor
US20070188168A1 (en) * 1999-08-26 2007-08-16 Stanley James G Magnetic sensor
US6911710B2 (en) * 2000-03-09 2005-06-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Multi-bit magnetic memory cells
JP4020573B2 (ja) * 2000-07-27 2007-12-12 富士通株式会社 磁性メモリデバイス、および磁性メモリデバイスにおけるデータ読み出し方法
JP3892736B2 (ja) * 2001-03-29 2007-03-14 株式会社東芝 半導体記憶装置
US6690251B2 (en) * 2001-04-11 2004-02-10 Kyocera Wireless Corporation Tunable ferro-electric filter
US6760249B2 (en) * 2001-06-21 2004-07-06 Pien Chien Content addressable memory device capable of comparing data bit with storage data bit
KR100386455B1 (ko) * 2001-06-30 2003-06-02 주식회사 하이닉스반도체 복합 반도체 메모리소자의 제조방법
US6483734B1 (en) * 2001-11-26 2002-11-19 Hewlett Packard Company Memory device having memory cells capable of four states
US6750491B2 (en) * 2001-12-20 2004-06-15 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Magnetic memory device having soft reference layer
US6746411B2 (en) * 2002-02-06 2004-06-08 The University Of Medicine And Dentistry Of New Jersey Exitable lumen guide wire sheath and method of use
US6735112B2 (en) * 2002-02-06 2004-05-11 Micron Technology, Inc. Magneto-resistive memory cell structures with improved selectivity
US20030161180A1 (en) * 2002-02-22 2003-08-28 Bloomquist Darrel R. Shared bit lines in stacked MRAM arrays
US6927566B2 (en) * 2002-05-22 2005-08-09 Ab Eletronik Gmbh Device for generating output voltages
JP3833145B2 (ja) * 2002-06-11 2006-10-11 Ｔｄｋ株式会社 積層貫通型コンデンサ
JP3571034B2 (ja) * 2002-06-18 2004-09-29 独立行政法人 科学技術振興機構 磁気抵抗ランダムアクセスメモリー装置
US6885576B2 (en) * 2002-08-13 2005-04-26 Micron Technology, Inc. Closed flux magnetic memory
JP2004096388A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高周波積層デバイス
TWI291186B (en) * 2002-09-10 2007-12-11 Tdk Corp Multi-layer capacitor
KR100471151B1 (ko) * 2002-09-19 2005-03-10 삼성전기주식회사 적층형 ｌｃ 필터
US6858899B2 (en) * 2002-10-15 2005-02-22 Matrix Semiconductor, Inc. Thin film transistor with metal oxide layer and method of making same
US6919233B2 (en) * 2002-12-31 2005-07-19 Texas Instruments Incorporated MIM capacitors and methods for fabricating same
TWI229878B (en) * 2003-03-12 2005-03-21 Tdk Corp Multilayer capacitor
US6958933B2 (en) * 2003-07-07 2005-10-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Memory cell strings
US6865105B1 (en) * 2003-09-22 2005-03-08 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Thermal-assisted switching array configuration for MRAM
US7027320B2 (en) * 2003-10-21 2006-04-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Soft-reference magnetic memory digitized device and method of operation
KR100594266B1 (ko) * 2004-03-17 2006-06-30 삼성전자주식회사 소노스 타입 메모리 소자
JP4589092B2 (ja) * 2004-12-03 2010-12-01 富士通セミコンダクター株式会社 半導体装置の製造方法
US7092236B2 (en) * 2005-01-20 2006-08-15 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Multilayer chip capacitor
MX349759B (es) * 2005-08-05 2017-08-11 Retti Kahrl Composicion, de multiples capas, quen recoge energia solar y metodo, nano-estructura c60 que recoge energia solar, dispositivo de acoplamiento inductivo; armazon de vehiculo; motor de hidrogeno de admision atmosferica; llanta rodante que genera energia electrica; y dispositivo que recoge energia mecanica.
US7397277B2 (en) * 2005-10-17 2008-07-08 Northern Lights Semiconductor Corp. Magnetic transistor circuit with the EXOR function
US7745893B2 (en) * 2005-10-17 2010-06-29 Northern Lights Semiconductor Corp. Magnetic transistor structure
US7269061B2 (en) * 2005-10-17 2007-09-11 Northern Lights Semiconductor Corp. Magnetic memory
US7400176B2 (en) * 2005-10-17 2008-07-15 Northern Lights Semiconductor Corp. Magnetic OR/NAND circuit
US7521842B2 (en) * 2006-06-22 2009-04-21 Cooper Tire & Rubber Co. Magnetostrictive / piezo remote power generation, battery and method
JP4537981B2 (ja) * 2006-07-11 2010-09-08 株式会社東芝 磁気記憶装置
US20080174933A1 (en) * 2007-01-19 2008-07-24 Western Lights Semiconductor Corp. Apparatus and Method to Store Electrical Energy

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020031008A1 (en) * 2000-09-08 2002-03-14 Tohru Den Magnetic device and method for manufacturing the same, and solid magnetic memory
US6961263B2 (en) * 2003-09-08 2005-11-01 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Memory device with a thermally assisted write

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