TWI391251B

TWI391251B - 防眩性硬被覆膜之製造方法

Info

Publication number: TWI391251B
Application number: TW095104298A
Authority: TW
Inventors: Osamu Inaoka; Satoru Shoshi; Kenta Tomioka
Original assignee: Lintec Corp
Priority date: 2005-02-14
Filing date: 2006-02-09
Publication date: 2013-04-01
Also published as: KR101238616B1; CN1831071B; JP2006218798A; CN1831071A; KR20060091233A; TW200702177A; JP4890770B2

Description

防眩性硬被覆膜之製造方法

本發明係關於防眩性硬被覆膜。更具體地說，關於一種防眩性硬被覆膜，其不會降低高精密顯示畫質，可賦予優良防眩性，用於各種顯示器例如液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、陰極射線管(CRT)、而且作為觸板等使用時可視性良好(照相鮮明度高)，可增大表面硬度，適合作為表面保護膜。

在CRT和液晶顯示體等的顯示器中，光從畫面外部射入，此光反射(被稱為眩光或刺目光等)，出現難以看見顯示畫像的情況，特別是近年來，隨著顯示器的大型化，解決上述問題成為越來越重要的課題。

為瞭解決這種問題，迄今對各種顯示器進行了各種防眩處理。作為其中之一，例如在液晶顯示體中，對偏光片中使用的硬被覆膜和各種顯示器保護用硬被覆膜等進行表面粗糙化的防眩處理。這種硬被覆膜的防眩處理方法通常可分為(1)在形成硬被覆層的固化時使用物理方法進行表面粗糙化的方法和(2)在形成硬被覆層用的硬被覆劑中混合填料的方法兩大類。

在這兩種方法中，後者在硬被覆劑中混合填料的方法是主流方法，並且，作為填料，主要使用矽石顆粒。作為使用矽石顆粒的理由，可以舉出可抑制所得硬被覆膜的白度下降，並且不會降低硬度，且混入塗劑時分散性良好等。

但是，例如當液晶顯示體為高精密時，作為上述防眩性硬被覆膜，如果使用以往的非高精密的硬被覆膜(感覺粗糙的)，則即使液晶顯示體折角為高精密的，也會產生其畫質難免下降的問題。因此，為了得到高精密液晶顯示體所具備的高畫質，必須有高精密的防眩性硬被覆膜。

在以前的防眩性硬被覆膜中，通常使用平均粒徑為1~2.5μm左右的矽石顆粒。這種矽石顆粒防眩性優良，但不能適應近年來的高精密化液晶顯示體等，並使其顯示畫質下降。

實際情況是，在這種單獨使用平均粒徑為1~2.5μm的矽石顆粒作為填料的防眩性硬被覆膜中，還沒有發現不會使近年來的高精密化液晶顯示體的畫質下降並能夠賦予優良防眩性的硬被覆膜。

因此，嘗試了使硬被覆層中含有膠態矽石顆粒凝聚物的方法(參見例如專利文獻1)、使硬被覆層中組合含有平均粒徑為0.5~5μm的矽石顆粒和平均粒徑為1~60nm的微粒子的方法(參見例如專利文獻2)等，但需要進一步提高鮮明度。

另外，還公開了在透明基板上形成由折射率為1.40~1.60的樹脂小球和電離射線固化性樹脂組成物構成的防眩層而形成的耐擦傷性防眩薄膜(參見例如專利文獻3)。在這種防眩薄膜中，作為較佳的樹脂小球係使用粒徑為3~8μm範圍的聚甲基丙烯酸甲酯小球、聚碳酸酯小球、聚苯乙烯小球、聚丙烯苯乙烯小球、聚氯乙烯小球，並且，為了防止這些樹脂球在塗劑中沉降，在每100重量份電離射線固化性樹脂中，加入低於0.1重量份左右的粒徑為0.5μm以下的矽石小球。

這樣，在上述公報中，為了賦予防眩性，在防眩層中分散了粒徑相對較大的典型的樹脂小球，但是出現了防眩層的耐擦傷性不一定足夠好的問題。

【專利文獻1】特開平10－180950號公報【專利文獻2】特開2002－36452號公報【專利文獻3】特開平6－18706號公報

本發明基於上述情況，目的係提供一種防眩性硬被覆膜，其不會使高精密顯示畫質下降，能夠賦予優良的防眩性，用於各種顯示器時可視性良好，並且表面硬度大，適合作為表面保護膜。

本發明者們為開發上述具有優良性能的防眩性硬被覆膜，反覆進行專門研究，結果發現，通過使用含有在由雷射繞射．散射法測定的粒度分佈中粒徑在某兩個範圍內分別具有峰值的、平均粒徑為4μm以下的矽石顆粒的活化能射線固化性樹脂組成物形成硬被覆膜，能夠實現該目的，基於這種發現，完成了本發明。

也就是說，本發明提供：(1)一種防眩性硬被覆膜，其特徵在於在基材薄膜的至少一面上具有由使用含矽石顆粒的活化能射線固化性樹脂組成物形成的固化物形成的硬被覆層，且上述組成物中的矽石顆粒為由雷射繞射．散射法測定的粒度分佈中粒徑在0.1~1μm和1.5~5μm的範圍內分別具有峰值、且平均粒徑為4μm以下的矽石顆粒，該矽石顆粒的含量，基於上述組成物的固體成分重量為1~20重量%；(2)一種防眩性硬被覆膜，其特徵在於第(1)項所述的防眩性硬被覆膜的照相鮮明度具有100以上的值；(3)上述第(1)或(2)項所述的防眩性硬被覆膜，其中含有由雷射繞射．散射法測定的粒度分佈中粒徑在0.1~1μm和1.5~5μm的範圍內分別具有峰值、且平均粒徑為4μm以下的矽石顆粒的活化能射線固化性樹脂組成物，通過將含有比上述矽石顆粒平均粒徑大、且由雷射繞射．散射法測定的粒度分佈中具有1個峰值的矽石顆粒的活化能射線固化性樹脂組成物通過利用剪切力的具有粉碎．分散功能的機器進行粉碎．分散處理，使矽石顆粒的平均粒徑比粉碎．分散處理前小0.5μm以上而製得；(4)上述第(1)、(2)或(3)項所述的防眩性硬被覆膜，其中硬被覆層的算術平均粗糙度Ra為0.05~0.15μm；和(5)上述第(1)~(4)中任一項所述的防眩性硬被覆膜，其中硬被覆層的厚度為0.5~20μm。

根據本發明，可以提供一種防眩性硬被覆膜，其不會使高精密顯示畫質下降，能夠賦予優良的防眩性，用於各種顯示器時可視性良好(照相鮮明度高)，並且表面硬度大，適合作為表面保護膜。

本發明的防眩性硬被覆膜中對基材沒有特別的限制，可以從以前作為光學用硬被覆膜基材公知的塑膠薄膜中適當選擇使用。作為這種塑膠薄膜，可以列舉例如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘乙酯等聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、賽璐玢、二乙醯纖維素薄膜、三乙醯纖維素薄膜、乙醯纖維素丁酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯－醋酸乙烯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚碸薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚碸薄膜、聚醚醯亞胺薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟類樹脂薄膜、聚醯胺薄膜、丙烯酸樹脂薄膜、降冰片烯類樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜等。

這些基材薄膜透明、半透明均可以，並且，也可以是著色的，也可以是無色的，根據需要用途適當選擇即可。例如當作為液晶顯示體的保護用時，無色透明的薄膜較適用。

對這些基材薄膜的厚度沒有特別的限制，可根據情況適當選擇，通常為15~300μm，較佳為30~200μm的範圍。此外，該基材薄膜為提高與其表面上設置的層的黏合性目的，可以根據需要通過氧化法或凹凸化法等對其一面或者兩面實施表面處理。作為上述氧化法，可以列舉例如電量放電處理、鉻酸處理(濕法)、火焰處理、熱風處理、臭氧．紫外線照射處理等，另外，作為凹凸化法，可以列舉例如噴砂法、溶劑處理法等。這些表面處理法可根據基材薄膜的種類適當地選擇，通常，從效果和操作性等角度考慮，較佳使用電量放電處理法。

本發明防眩性硬被覆膜具有由使用含矽石顆粒的活化能射線固化性樹脂組成物在上述基材薄膜的至少一面上形成的固化物構成的硬被覆層。

上述活化能射線固化性樹脂組成物是含有活化能射線固化性聚合性化合物、矽石顆粒和根據需要的光聚合引發劑以及其他各種添加成分等的組成物。

另外，活化能射線固化性聚合性化合物是指通過照射電磁波或者帶電粒子射線這種內部具有能量子的射線即紫外線或者電子束，會產生交聯、固化的聚合性化合物。

作為這種活化能射線固化性聚合性化合物，可以列舉例如活化能射線聚合性預聚物及/或活化能射線聚合性單體。上述活化能射線聚合性預聚物包括自由基聚合型和陽離子聚合型，作為自由基聚合型活化能射線聚合性預聚物，可以列舉例如聚酯丙烯酸酯類、環氯丙烯酸酯類、胺基甲酸酯丙烯酸酯類、多元醇丙烯酸酯類等。

這裏，作為聚酯丙烯酸酯類預聚物，可以通過例如將由多元羧酸與多元醇縮合所得的兩末端具有羥基的聚酯低聚物的羥基用(甲基)丙烯酸進行酯化，或者將由多元羧酸加成環氧烷所得的低聚物的末端羥基用(甲基)丙烯酸進行酯化而獲得。環氯丙烯酸酯類預聚物可以通過例如使相對較低分子量的雙酚型環氧樹脂或酚醛型環氧樹脂的環氧乙烷環與(甲基)丙烯酸反應進行酯化而獲得。聚胺基甲酸酯丙烯酸酯類預聚物可以通過例如將由聚醚多元醇或聚酯多元醇與聚異氰酸酯的反應獲得的聚胺基甲酸酯低聚物用(甲基)丙烯酸進行酯化而製得。此外，多元醇丙烯酸酯類預聚物可以通過將聚醚多元醇的羥基用(甲基)丙烯酸進行酯化而製得。這些活化能射線聚合性預聚物可以使用1種，也可以2種或以上組合使用。

另一方面，作為陽離子聚合型活化能射線聚合性預聚物，通常使用環氧類樹脂。作為這種環氧類樹脂，可以列舉例如將雙酚樹脂或酚醛樹脂等多元酚類用環氧氯丙烷等環氧化的化合物、將直鏈狀烯烴化合物或環狀烯烴化合物用過氧化物等氧化所得的化合物等。

此外，作為活化能射線聚合性單體，可以列舉1,4－丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6－己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷基二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二環戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性的二異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)異氰脲酸酯、丙酸改性的二異戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性的二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等多官能團丙烯酸酯。這些活化能射線聚合性單體可以使用1種，也可以2種或以上組合使用，並且，還可以與上述活化能射線聚合性預聚物聯用。

另外，作為根據需要使用的光聚合引發劑，對於活化能射線聚合性預聚物或單體中的自由基聚合型的光聚合性預聚物或光聚合性單體，可以列舉例如苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻異丁醚、苯乙酮、二甲胺基苯乙酮、2,2－二甲氧基－2－苯基苯乙酮、2,2－二乙氧基－2－苯基苯乙酮、2－羥基－2－甲基－1－苯基丙烷－1－酮、1－羥基環己基苯基酮、2－甲基－1－[4－(甲硫基)苯基]－2－嗎啉－丙烷－1－酮、4－(2－羥基乙氧基)苯基－2－(羥基－2－丙基)酮、二苯酮、對苯基二苯酮、4,4’－二乙基胺基二苯酮、二氯二苯酮、2－甲基蒽醌、2－乙基蒽醌、2－第三丁基蒽醌、2－胺基蒽醌、2－甲硫基咕噸酮、2－乙硫基咕噸酮、2－氯硫咕噸酮、2,4－二甲硫基咕噸酮、2,4－二乙硫基咕噸酮、苄基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對－二甲胺基安息香酸酯等。另外，對於陽離子聚合型光聚合性預聚物，作為光聚合引發劑，可以列舉例如芳香族鋶離子、芳香族氧鋶離子、芳香族碘鎓離子等鎓離子與四氟硼酸鹽、六氟磷酸鹽、六氟銻酸鹽、六氟砷酸鹽等陰離子組成的化合物。它們可以使用1種，也可以2種或以上組合使用，此外，其混合量相對於100重量份上述光聚合性預聚物及/或光聚合性單體通常在0.2~10重量份的範圍內選擇。

在本發明中，作為活化能射線固化性樹脂組成物中所含的矽石顆粒，使用在由雷射繞射．散射法測定的粒度分佈中粒徑在0.1~1μm、較佳0.2~1μm、更較佳0.3~1μm與1.5~5μm的範圍內分別具有峰值，平均粒徑為4μm以下的矽石顆粒。

通過使用具有這種粒度分佈和平均粒徑的矽石顆粒，不會使高精密顯示畫質下降，能夠賦予優良的防眩性，且用於各種顯示器時可視性變得良好(照相鮮明度增高)。作為平均粒徑，通常為0.3~4μm，較佳為0.5~3μm。

含有具有上述粒度分佈和平均粒徑的矽石顆粒的活化能射線固化性樹脂組成物，可以通過例如將含有比目的矽石顆粒平均粒徑大、且由雷射繞射．散射法測定的粒度分佈中具有1個峰的矽石顆粒的活化能射線固化性樹脂組成物通過利用剪切力的具有粉碎．分散功能的機器進行粉碎．分散處理，使矽石顆粒的平均粒徑比粉碎．分散處理前小0.5μm以上而製得。

作為上述利用剪切力的具有粉碎．分散功能機器，可以使用具有高剪切力的機器，例如輥式輾磨機、珠磨機、噴磨機等。

通過用這種具有高剪切力的機器進行粉碎．分散處理，使矽石顆粒具有上述粒度分佈和平均粒徑。該矽石顆粒的由雷射繞射．散射法測定的比表面積通常為20000cm² /cm³ 以上。

另外，對於雷射繞射．散射法，將在後述中進行說明。

本發明中使用的矽石顆粒，可以是用有機表面處理劑對表面進行了處理的，也可以是未處理的。作為上述有機表面處理劑，可以使用矽烷類偶合劑或矽酮油、矽酮蠟等。

作為上述矽烷類偶合劑，可以列舉例如三乙氧基矽烷、乙烯基三(β－甲氧基乙氧基)矽烷、γ－甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ－環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、β－(3,4－環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、N－β－(胺基乙基)－γ－胺基丙基三甲氧基矽烷、N－β－(胺基乙基)－γ－胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ－胺基丙基三乙氧基矽烷、N－苯基－γ－胺基丙基三甲氧基矽烷、γ－巰基丙基三甲氧基矽烷、γ－氯丙基三甲氧基矽烷等。它們當中較佳γ－胺基丙基三乙氧基矽烷、N－β－(胺基乙基)－γ－胺基丙基三甲氧基矽烷等胺基矽烷類。

對用上述表面處理劑處理該矽石顆粒的方法沒有特別的限制，只要是以前慣用的方法，例如水溶液法、有機溶劑法、噴霧法等，則可以使用任意的方法。

活化能射線固化性樹脂組成物中的上述矽石顆粒的含量，基於固體成分重量，在1~20重量%的範圍內選定。若該矽石顆粒的含量為1重量%以上，則可以發揮賦予硬被覆層以良好的防眩性的效果，並且若為20重量%以下，則可以抑制硬被覆層的耐擦傷性下降。該矽石顆粒的較佳含量，基於樹脂組成物的固體成分重量，為3~20重量%，特別較佳為5~15重量%。

本發明中使用的活化能射線固化性樹脂組成物，根據需要，可以通過在適當的溶劑中分別加入所規定比率的上述活化能射線固化性聚合性化合物、矽石顆粒和根據需要使用的光聚合引發劑或各種添加成分如抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、整平劑、消泡劑等，使其溶解或分散而進行配製。

作為這時所用的溶劑，可以列舉例如己烷、庚烷等脂肪族烴、甲苯、二甲苯等芳香族烴、二氯甲烷、二氯乙烷等鹵代烴、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇、丙酮、甲基乙基酮、2－戊酮、異佛爾酮、環己酮等酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯、乙基溶纖劑等溶纖劑類溶劑等。

作為這樣配製的組成物的濃度、黏度，只要能夠塗布即可，對其沒有特別的限制，可以根據需要適當地選定。

接著，通過將上述組合物採用以前公知的方法例如棒塗法、刮刀塗布法、輥塗法、刮板塗布法、模塗法、照相凹版塗布法等進行塗布，使其形成塗膜，乾燥後，對其照射活化能射線，使該塗膜固化，從而形成硬被覆層。

作為活化能射線，可以列舉紫外線和電子束等。上述紫外線可以由高壓汞燈、熔融H燈、氙燈等獲得，照射量通常為100~500mJ/cm² ，另一方面，電子束可以由電子束加速器等獲得，照射量通常為150~350kV。這些活化能射線中，特別較佳紫外線。另外，當使用電子束時，可以不添加聚合引發劑而獲得固化膜。

這樣形成的硬被覆層的厚度較佳為0.5~20μm的範圍。當該厚度低於0.5μm時，則存在不能充分發揮硬被覆膜的耐擦傷性的可能性，另外若超過20μm，則存在60°鏡面光澤度增大的可能。從耐擦傷性和60°鏡面光澤度的均衡性等方面考慮，該硬被覆層更較佳的厚度為1~15μm的範圍，特別較佳為2~10μm的範圍。

這樣形成的硬被覆層的表面算術平均粗糙度Ra通常為0.05~0.15μm，更較佳為0.05~0.10μm。又，所述算術平均粗糙度Ra是以ISO 1997為基準測定的值。

另外，該硬被覆層的硬度，較佳鉛筆硬度為H以上，若鉛筆硬度為H以上，則硬被覆膜可具備必要的耐擦傷性，但若要使耐擦傷性更充分，則特別較佳鉛筆硬度為2H以上。

另外，上述鉛筆硬度是按照JIS K 5400，通過手搔法測定的值。

在本發明的防眩性硬被覆膜中，以JIS K 7136規定的濁度值和JIS K 5600規定的60°鏡面光澤度作為防眩性指標，濁度值較佳為2%以上，並且60°鏡面光澤度較佳為150以下。當濁度值低於2%時，難以發揮充分的防眩性，另外，若60°鏡面光澤度超過150，則表面光澤度很大(光的反射很大)，成為對防眩性造成不良影響的原因。但是，若濁度值過高，則透光性變差，因而不佳。另外，本發明的防眩性硬被覆膜照相鮮明度較佳具有100以上的值。本發明中所謂的照相鮮明度是使用JIS K 7105規定的照相鮮明度測定裝置，使用寬度為0.125mm、0.5mm、1.0mm和2.0mm的4種光學梳(optical comb)，按照上述規格6.6.4和6.6.5通過透射法求出在各光學梳的鮮明度(%)，將這4個數值合計所得的值。該照相鮮明度作為顯示畫質即可視性的指標，當該值低於100時，則無法獲得足夠良好的顯示畫質(可視性)。另外，全部光線透射率較佳為90%以上，當低於90%時，則存在透明性低於的可能。

從防眩性、顯示畫質(可視性)、光透射性、透明性等的均衡性方面考慮，濁度值較佳為3~80%，照相鮮明度更較佳為150以上，全部光學透射率更較佳為91%以上。

另外，對於上述光學特性的具體測定方法將在後述中進行說明。

在本發明中，根據需要，在上述硬被覆層的表面上，可以設置為了賦予抗反射性的抗反射層，例如矽氧烷類覆膜，氟類覆膜等。這時，該抗反射層的厚度為0.05~1μm左右較合適。另外，波長550nm的反射率較佳為3.5%以下。通過設置該抗反射層，可以消除由太陽光、螢光燈等反射產生的畫面的映入，並且，通過抑制表面反射率，可以增大全部光學透射率，提高透明度。另外，根據抗反射層的種類，可以達到提高抗靜電性的目的。

在本發明的防眩性硬被覆膜中，在基材薄膜的硬被覆層的反面上，可以形成使其貼附在液晶顯示體等黏附體上的黏合劑層。作為構成該黏合劑層的黏合劑，較佳使用光學用途用的黏合劑，例如丙烯酸類黏合劑、胺基甲酸酯類黏合劑、矽酮類黏合劑。該黏合劑層的厚度通常為5~100μm，較佳為10~60μm的範圍。

另外，在該黏合劑層上，根據需要可以設置剝離膜。作為該剝離膜，可以列舉例如在玻璃紙、塗料紙、層壓紙等紙和各種塑膠膜上塗附矽酮樹脂等剝離劑的剝離膜等。對該剝離膜的厚度沒有特別的限制，通常為20~150μm左右。

實施例

接下來，通過實施例對本發明進行更具體的說明，但本發明不因彼等實施例而受到任何限定。

另外，矽石顆粒的粒度分佈和防眩性硬被覆膜的性能，按照下述方法進行評價。

(1)矽石顆粒的粒度分佈和平均粒徑使用(股)堀場製作所製造的雷射繞射．散射式粒度分佈測定裝置“LA－920”測定。

(2)全部光線透射率按照JIS K 7361－1，使用日本電色工業(股)製造的“NDH2000”測定。

(3)濁度值按照JIS K 7136，使用日本電色工業(股)製造的“NDH2000”測定。

(4)60°鏡面光澤度按照JIS K 5600，使用日本電色工業(股)製造的“VG2000”測定。

(5)照相鮮明度使用Shikao試驗機(股)製造的表示性測定器“ICM－10P”，按照JIS K 7105、6.6.4和6.6.5，通過透射法求出寬度為0.125mm、0.5mm、1.0mm和2.0mm的4種光學梳中照相鮮明度(%)，通過合計這4個數值求出。

(6)表面算術平均粗糙度(Ra)按照ISO 1997，使用三豐(股)製造的“SURFTEST SV－3000”測定。

(7)鉛筆硬度按照JIS K 5400，使用東洋精機(股)製作所製造的鉛筆劃痕塗膜硬度試驗機“NP－TYPE”測定。

(8)耐擦傷性將硬被覆層表面在鋼絲絨#0000(荷重9.8N)上來回摩擦，確認有無損傷。

實施例1

在100重量份紫外線固化性樹脂[荒川化學工業(股)生產，商品名“Beamset 575CB”，固體成分濃度100%]中添加7重量份表面經有機表面處理劑處理了的矽石顆粒[富士Silysia化學(股)生產，商品名“Sylysia436”，平均粒徑4.1μm]，將所得物質在使用2mm Φ氧化鋯珠的珠磨機中分散處理90分鐘後，通過激光繞射．散射法測定矽石顆粒的粒度分布。該顆粒分佈示於第1圖，同時，平均粒徑、粒度分佈的峰值和比表面積列於表1。

接著，將該分散處理物用乙基溶纖劑稀釋，使總固體成分濃度為40重量%，配製活化能射線固化性組成物(塗布劑)。將該塗布劑通過Maiyarba No.8塗布於厚度為80μm的三乙醯纖維素類薄膜[富士照相軟片(股)製造，商品名“T80UZ”]上，在70℃下乾燥1分鐘後，對其照射250mJ/cm² 照射量的紫外線，使其固化，形成硬被覆層。該硬被覆層的厚度為4.5μm。

所得硬被覆膜的性能列於表1。

實施例2

在實施例1中，除了使用“Sylysia 456RC”[商品名，富士Silysia化學(股)生產，平均粒徑6.7μm]作為表面經有機表面處理劑處理了的矽石顆粒以外，與實施例1同樣地製作硬被覆膜。

分散處理的矽石顆粒的粒度分佈示於第2圖，同時，平均粒徑、粒度分佈的峰值和比表面積列於表1。此外，硬被覆膜的性能列於表1。

實施例3

在實施例1中，除了使用“Nippshel SS－50B”，[商品名，東曹．矽石(股)生產，平均粒徑1.5μm]作為表面經有機表面處理劑處理了的矽石顆粒以外，與實施例1同樣地製作硬被覆膜。

分散處理的矽石顆粒的粒度分佈示於第3圖，同時，平均粒徑、粒度分佈的峰值和比表面積列於表1。此外，硬被覆膜的性能列於表1。

實施例4

在實施例1中，除了使用“Nippshel E－200A”[商品名，東曹．矽石(股)生產，平均粒徑1.5μm]作為矽石顆粒以外，與實施例1同樣地製作硬被覆膜。

分散處理的矽石顆粒的粒度分佈示於第4圖，同時，平均粒徑、粒度分佈的峰值和比表面積列於表1。此外，硬被覆膜的性能列於表1。

比較例1

在實施例1中，除了使用分散機[特殊機化工業社製造“T.K均勻分散機”]以10000rpm進行30分鐘矽石顆粒分散處理以外，與實施例1同樣地製作硬被覆膜。

分散處理的矽石顆粒的粒度分佈示於第5圖，同時，平均粒徑、粒度分佈的峰值和比表面積列於表2。此外，硬被覆膜的性能列於表2。

比較例2

在實施例2中，除了矽石顆粒的分散處理使用與比較例1同樣的分散機進行以外，與實施例2同樣地製作硬被覆膜。

分散處理的矽石顆粒的粒度分佈示於第6圖，同時，平均粒徑、粒度分佈的峰值和比表面積列於表2。此外，硬被覆膜的性能列於表2。

比較例3

在實施例3中，除了矽石顆粒的分散處理使用與比較例1同樣的分散機進行以外，與實施例3同樣地製作硬被覆膜。

分散處理的矽石顆粒的粒度分佈示於第7圖，同時，平均粒徑、粒度分佈的峰值和比表面積列於表2。此外，硬被覆膜的性能列於表2。

比較例4

在實施例4中，除了矽石顆粒的分散處理使用與比較例1同樣的分散機進行以外，與實施例4同樣地製作硬被覆膜。

分散處理的矽石顆粒的粒度分佈示於第8圖，同時，平均粒徑、粒度分佈的峰值和比表面積列於表2。此外，硬被覆膜的性能列於表2。

從表1和表2中可以看出，實施例中的硬被覆膜均保持著防眩性的同時且具有較高的表示鮮明度，並且具有較高的硬度。而比較例中的硬被覆膜雖然部具有較高的硬度，但是表示鮮明度明顯較低，全部光線透射率也較低。

本發明的防眩性膜不僅表面硬度高，而且在用於各種顯示器，比如液晶顯示器、電漿顯示器、陰極射線管、甚至觸感控製板等時，具有防眩性的同時可視性也良好。

第1圖為顯示實施例1中活化能射線固化性樹脂組成物中矽石顆粒的粒度分佈圖。

第2圖為顯示實施例2中活化能射線固化性樹脂組成物中矽石顆粒的粒度分佈圖。

第3圖為顯示實施例3中活化能射線固化性樹脂組成物中矽石顆粒的粒度分佈圖。

第4圖為顯示實施例4中活化能射線固化性樹脂組成物中矽石顆粒的粒度分佈圖。

第5圖為顯示比較例1中活化能射線固化性樹脂組成物中矽石顆粒的粒度分佈圖。

第6圖為顯示比較例2中活化能射線固化性樹脂組成物中矽石顆粒的粒度分佈圖。

第7圖為顯示比較例3中活化能射線固化性樹脂組成物中矽石顆粒的粒度分佈圖。

第8圖為顯示比較例4中活化能射線固化性樹脂組成物中矽石顆粒的粒度分佈圖。

Claims

一種防眩性硬被覆膜之製造方法，其特徵在於：藉由將基於組成物之固體成分重量含有1~20重量%之比目的矽石顆粒之平均粒徑大且由雷射繞射．散射法測定的粒度分佈中具有1個峰值的矽石顆粒之活化能射線固化型樹脂組成物，經由具有利用剪切力的粉碎．分散功能的機器進行粉碎．分散處理，使該矽石顆粒的平均粒徑比粉碎．分散處理前小0.5μm以上，而獲得含有於藉由雷射繞射．散射法測定的粒度分佈中粒徑在0.1~1μm和1.5~5μm的範圍內分別具有峰值，且平均粒徑為0.3~4μm，藉由雷射繞射．散射法測定的該矽石粒子之比表面積比為20000cm² /cm³ 以上的矽石粒子的活化能射線固化型樹脂組成物，將使用獲得的活化能射線固化型樹脂組成物所形成的硬化物而成的硬被覆層於基材薄膜的至少一面上形成。
如申請專利範圍第1項之防眩性硬被覆膜之製造方法，其中防眩性硬被覆膜之照相鮮明度之各狹縫的合計值為100以上。
如申請專利範圍第1或2項之防眩性硬被覆膜之製造方法，其中硬被覆層的算術平均粗糙度Ra為0.05~0.15μm。
如申請專利範圍第1或2項之防眩性硬被覆膜之製造方法，其中硬被覆層的厚度為0.5~20μm。
如申請專利範圍第3項之防眩性硬被覆膜之製造方法，其中硬被覆層的厚度為0.5~20μm。
如申請專利範圍第1項之防眩性硬被覆膜之製造方法，其中具有利用剪切力的粉碎．分散功能的機器為珠磨機。
如申請專利範圍第6項之防眩性硬被覆膜之製造方法，其中珠磨機為使用氧化鋯珠的珠磨機。