TWI383003B - 聚脂薄膜、及其製法、以及其用途 - Google Patents
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Description
本發明係有關一種使在二醇單位中具有環狀縮醛架構之聚酯以熔融押出法製膜的阻滯作用小之聚酯薄膜及其製法。另外，本發明係有關使用該聚酯薄膜之相位差薄膜、偏光板保護薄膜、光擴散薄膜、鏡片、防止反射薄膜、光資訊記錄媒體。
近年來，對於作為電腦、電視、手機、攜帶型資訊終端機、衛星導航視訊系統、液晶投影機、時鐘等顯示裝置之液晶顯示裝置或電漿顯示裝置等之平板顯示裝置的需求急速增加。
平板顯示裝置係以偏光板、相位差薄膜、稜鏡片、防止反射薄膜等各種的光學薄膜所構成，惟於此等薄膜所要求的性能中，為賦予結像性時複折射率時為受到重視的光學特性之一。一般而言，光學薄膜係使用偏光保護膜等之複折射率小的光學等向性薄膜、相位差薄膜等具有一定的複折射性之光學異向性薄膜。然而，光學異向性薄膜由於對光學等向性薄膜實施延伸處理等予以製造，故光學等向性薄膜佔有重要的比例。
光學等向性薄膜有三乙醯基纖維素、聚碳酸酯、非晶性環狀聚烯烴、聚醚碸、聚丙烯酸、聚酯等之薄膜，係為已知。此等薄膜大部分以使樹脂溶解於溶劑，使溶劑蒸發且製膜之流延法予以製造(參照專利文獻1~6)。然而，流延法會有生產性顯著不佳，且會受到薄膜中殘留溶劑之不良影響，而且，使用溶劑之製法就減低環境負荷而言不為企求。
因此，提案有很多藉由熔融押出法之製膜法。例如提案有藉由非晶性環狀聚烯烴之熔融押出以製得光學等向性薄膜(參照專利文獻7)。然而，由於非晶性環狀聚烯烴極為高價，故該薄膜亦高價，且由於非晶性環狀聚烯烴之極性低，會有與其他構件黏合時必須使用特別的黏合劑等之問題。
亦提案有使聚醚碸以熔融押出法製膜的方法(參照專利文獻8)，由於樹脂本身相當高價，故該薄膜亦高價，另外，不易製得表面平滑的薄膜，會有製膜步驟繁雜的問題。
另外，提案有藉由以押出法製膜的聚碳酸酯薄膜再加熱，以製得光學等向性薄膜的方法(參照專利文獻9)，惟該方法由於步驟增加，對經濟性而言不利，而且，在步驟中會有薄膜表面受到擦傷的問題。如此以押出成形製膜、經濟性優異的光學等向性薄膜，係為已知。
相位差薄膜係使光學等向性薄膜延伸以具有複折射性而製得。
相位差薄膜係為提高藉由光學補償之液晶顯示裝置等的影像顯示裝置之對比，或實現擴大視野角範圍之重要構件。形成相位差薄膜之樹脂，一般而言例如聚碳酸酯(以下稱為PC)、三乙醯基纖維素(以下稱為TAC)、環烯烴聚合物(以下稱為COP)等之步驟塑膠樹脂。相位差薄膜係使此等樹脂藉由流延法或熔融押出法予以薄膜化，且使所得的成形薄膜延伸以具有企求的阻滯作用予以製造。
成形薄膜所求的性能，於任意厚度之薄膜中例如小的厚度斑、低阻滯作用、小阻滯作用斑、以及低延伸倍率下高阻滯作用具有性。藉由使滿足該性能之成形薄膜延伸，可製造厚度及光學特性之斑少的相位差薄膜。
而且，近年來有海外競爭的其他公司在日本國內上市、或以液晶顯示裝置外之方式的SED(Surface－conduction Electron－emitter Display)登場，顯示裝置製造商進入保全存在的低價格競爭的時代。因此，藉由電機製造商調整液晶顯示裝置本身之成本，開始要求各種構件之低成本化。因此，於液晶顯示裝置所不能欠缺的相位差薄膜中，更要求低成本化。
然而，習知的PC或TAC薄膜成形之一般製造，沒有採用藉由製造成本高的流延法予以薄膜化。該理由係因製造成本低的熔融押出法不易予以低阻滯化。而且，藉由習知的熔融押出法之COP薄膜，會有成形時高分子鍵受到配向或應力而產生阻滯作用的問題(參照專利文獻10)。另外，由於最適製造條件之安定度降低，使滿足要求性能之成形薄膜直至安定生產的時間極為耗時，結果，造成處理性不佳、成本提高的問題。
為防止因STN(Super Twisted Nematic)液晶晶胞之複折射而導致的顯示顏色著色、或對比降低時，揭示有使逆扭轉(逆轉)之STN液晶晶胞重疊的方法(STN液晶晶胞之相位補償)(參照非專利文獻1)。由於液晶之配向連續，為補償該複折射時，同樣地必須藉由連續配向之STN液晶晶胞予以補償。非專利文獻1中，係積層數張相位差薄膜以取代逆扭轉(逆轉)之STN液晶晶胞。於非專利文獻1中記載，藉由使相位差薄膜之遲相軸錯開且積層10張，具有與逆扭轉(逆轉)之液晶晶胞相同的效果。另外，記載即使1張相位差薄膜具有某一程度的效果，惟藉由積層2張該物時較1張相位差薄膜具有更佳的效果。然而，沒有提及有關具體的相位差薄膜之積層方法。
此外，揭示使用使相位差薄膜(非專利文獻2中記載光學補償薄膜)貼合於偏光板與玻璃基板之間(參照非專利文獻2)。另外，由於僅以聚乙烯醇(PVA)延伸薄膜構成偏光板時，缺乏強度且因熱、濕度造成的尺寸或形狀變化大，一般而言在偏光板兩側上積層作為保護層之三乙醯基纖維素(TAC)(參照非專利文獻2)。
偏光板保護薄膜係利用光學等向性薄膜製得。
液晶顯示裝置作為消耗電力小的省空間影像顯示裝置用途年年擴大。以往，影像之視野角相關性大係為液晶顯示裝置之一大缺點，惟近年來VA型、IPS型等之高視野角液晶型被實用化，於電視等要求高視野角之領域中，對液晶顯示裝置之需求急速擴大。液晶顯示裝置由液晶晶胞、配向膜、偏光板、相位差薄膜，視野擴大薄膜及背景燈所構成，對液晶顯示裝置所使用的偏光板而言要求品質及生產性更為提高。
液晶顯示裝置所使用的典型光學用薄膜，有偏光板保護薄膜、配向膜、相位差薄膜、視野角擴大薄膜等。配向膜對直接連接於液晶之基板而言，為具有使液晶配向的功能者，典型的材料為芳香族聚醯亞胺。相位差薄膜係為光學補償用所使用的材料，利用防止因複折射性之光學變形或因視野角方向之變調原因所引起的顯示著色等視野角相關性產生為目的。典型的材料係使用聚碳酸酯或三乙醯基纖維素(TAC)、以及近年大體積環狀烯烴樹脂的壬歐羅亞(日本壬歐(股)或亞頓(JSR(股)))。視野角擴大薄膜係為即使自斜向觀看畫面時仍可見到鮮明影像之薄膜，典型的材料為使延伸TAC薄膜或碟型液晶塗覆於薄膜基材上予以配向者等。
另外，偏光板係為僅使自然光等無規偏光(無偏光)之特定方向的偏光透過之薄膜，一般而言以偏光膜與偏光板保護薄膜所構成。偏光膜係為以碘或二色性染料染色的聚乙烯醇系延伸薄膜。另外，偏光板保護薄膜係為以保護偏光膜為目的於偏光膜之單面或兩面上所設置的透明樹脂薄膜，要求光學性透明、厚度斑小、均質，以複折射度與厚度之積所表示的阻滯作用小、且斑小、吸濕性小。面內阻滯作用變大、斑變大、厚度斑變大，且液晶顯示裝置之畫質品質顯著降低。換言之，會產生顏色部分變淺等之顏色飛散現象，或影像變形等之缺點。目前，偏光板保護薄膜最為廣泛使用具有透明性、低複折射性、適當的剛性之TAC薄膜(參照非專利文獻3)。
製造此等之薄膜時，因樹脂之熔融流動、除去溶劑時之乾燥收縮、熱收縮、搬送時之應力等，對成形中之薄膜會產生各種應力。因此，所得的薄膜會因此等應力引發的分子配向起因之複折射性，容易產生阻滯作用殘留的問題。薄膜之製法，一般係使用溶液流延法或熔融押出法。以上述偏光板保護薄膜為始的光學薄膜中，由於要求極高精度之光學物性，且特別重視薄膜膜厚之均一性或外觀，故採用溶液流延法。偏光板保護薄膜，係藉由使TAC溶解於溶劑所得的濃厚溶液過濾後，在輥、帶子等無端載體上流動，形成本身載體，且剝離該物，再除去溶劑、乾燥予以製造。
然而，溶液流延法與熔融押出法相比時，為經由溶劑除去步驟時會有生產性不佳、生產成本變高的大問題。為避免此等問題時縮短溶劑之除去時間時，結果會有薄膜白化或阻滯作用及其斑增大的情形，不易製造具有偏光板保護薄膜之必要特性的薄膜。此外，不易自薄膜完全除去溶劑，薄膜中存在有溶劑之殘存斑時，於延伸時會產生應力斑、無法實現均一的阻滯作用，如攜帶用OA機器或汽車的顯示裝置之溫度變化激烈的條件化下所使用的液晶顯示裝置，會產生翹曲、影像的問題。另外，為可完全除去溶劑時充實乾燥設備時，製造設備費增高，且必須大量的能量時線上處理成本增高。此外，於製造薄膜時使用大量的有機溶劑(例如氯化甲烷)時，恐會有溶劑在大氣中揮散，對作業員之健康產生不良影響，對地球環境引起不良影響的問題。
如此，近年來試行使光學薄膜之製法由溶液流延法轉換成熔融押出法。例如，試行使用熔融押出法，製造在可視光波長範圍之面內阻滯作用低(10nm以下)的光學用聚碳酸酯薄膜(參照專利文獻11)。然而，由於藉由熔融押出所得的薄膜之面內阻滯作用為22~50nm的高值，故使該薄膜在烤箱或乾燥爐等之加熱裝置中朝薄膜加工方向施加張力且滯留一定時間，使面內阻滯作用減低於10nm以下。總之，僅以熔融押出法無法製造具有低面內阻滯作用之薄膜，藉由繼後之熱處理步驟以製得具有低阻滯作用之薄膜。
此外，TAC薄膜使用作為偏光板保護薄膜時，會有透濕度大的問題。偏光板保護薄膜之透濕度大時，恐有耐濕熱性惡化、且引起偏光膜中多數碘離子解離、碘脫離等，不僅偏光性能降低且產生偏光板翹曲的情形。因此，多數提案有防止耐濕熱性惡化的技術，惟大多在TAC中添加疏水性添加劑且導入疏水性取代基，以減低其透濕度之方法(參照專利文獻12~15)。然而，使TAC薄膜過度疏水化時，使TAC薄膜與偏光膜黏合貼合時會產生問題。而且，由於添加劑中很少容易具有複折射性，會有薄膜之阻滯作用變大的問題。換言之，難以製得同時達成具高生產性、低阻滯作用或高全光線透過率為典型的光學特性、低透濕度及偏光板貼合適正性之偏光板保護薄膜。
鏡片係以光學等向性薄膜作為基材製得。
近年來，彩色液晶顯示裝置廣泛使用於攜帶用筆記型電腦、桌上型電腦之液晶螢幕、液晶電視或衛星導航視訊之螢幕、手機之螢幕等各種領域中。由供液晶本身不為自發光元件，使用稱為背景燈之自背面照射發光的裝置。背景燈係由螢光管、導光板、反射板、稜鏡片等所構成。稜鏡片係配置於導光板之出光射面上，以改善背景燈之光學效率且提高亮度。例如，稜鏡片可藉由在樹脂薄膜上形成截面為三角形之稜鏡列並列的光學元件製得。亦可使用在樹脂薄膜表面上形成具有同心圓狀菲涅耳鏡部之光學元件的鏡片(菲涅耳鏡片(Fresnel lens))。而且，亦可使用在樹脂薄膜表面上形成具有數列圓筒型鏡片列並列形成的凹凸狀鏡片部之光學元件的鏡片(凹凸狀鏡片)。稜鏡片、菲涅耳鏡片及凹凸狀鏡片總稱為鏡片。
一般而言，稜鏡片在形成所定的稜鏡圖案的模具上注入活性能量線硬化性樹脂，且於其上重合透明基材後，通過透明基材，照射活性能量線使硬化性樹脂硬化製得。透明基材就機械強度、成本、透明性等而言，大多使用延伸熱固定聚對酞酸乙二酯薄膜(O－PET)(參照專利文獻16)。然而，為於硬化時藉由照射熱以防止熱收縮時，必須減低照射能量，成為無法提高生產性之一因。另外，O－PET之製造由於包含熔融押出、延伸、熱固定等之多數步驟，極為繁雜(例如參照專利文獻17)。此外，使用於衛星導航視訊或手機之螢幕等、特別是在高溫環境之用途下，就尺寸安定性而言必須使O－PET之厚度變厚，反而妨礙薄型化。而且，如非專利文獻4記載作為光學薄膜之分子配向不佳，藉由無配向(低阻滯作用)，即使在沒有延伸下仍企求具有強度之樹脂薄膜，惟目前仍無法得到滿足於此等之樹脂薄膜。
光擴散薄膜係以光學等向性薄膜作為基材製得。
以往，聚對酞酸乙二酯延伸薄膜(以下稱為PET延伸薄膜)，產生優異的機械強度、耐熱性及高溫下之尺寸安定性，使用作為液晶顯示裝置之光擴散薄膜的基材。
近年來，為提高液晶顯示板之對比或大型化時，必須提高背景光源之光量。然而，習知的PET薄膜即使藉由延伸提高耐熱性，惟由於使用中溫度上升，且耐熱性仍然不足，故會有無法提高光量之問題。揭示有使聚醯亞胺與聚對酞酸乙二酯所成的成形薄膜予以2軸延伸，以提高耐熱性之光擴散板用薄膜(參照專利文獻18)。然而，延伸成本係與習知的PET延伸薄膜同樣高。而且，如非專利文獻4中記載作為光學薄膜之分子配向不佳，即使在沒有延伸下藉由無配向(低阻滯作用)仍企求具有強度之樹脂薄膜，惟目前仍無法得到滿足於此之樹脂薄膜。
防止反射薄膜係以光學等向性薄膜作為基材製得。
近年來，對於做為電腦、電視、手機、攜帶型資訊終端機、衛星導航視訊系統、液晶投影機、時鐘等影像顯示裝置之平板顯示裝置需求急速擴大。於此等之影像顯示裝置中，由於外光介入而抑制視認性降低，故在影像顯示裝置之最外層等上進行設置防止反射薄膜。
在防止反射薄膜之基材上主要使用三乙醯基纖維素(TAC)或聚對酞酸乙二酯(PET)，在基材上積層硬塗覆層、防止反射層。
TAC基材係藉由使結合醋酸量(醋化度)60~62%之TAC與可塑劑溶解於氯化甲烷/甲醇混合溶劑所得的溶液連續流延，然後，使溶劑蒸發所成的溶液流延法所得。然而，該溶液流延法於溶解步驟或乾燥步驟必須耗費長時間或多量能量，形成高成本或環境問題之原因(參照專利文獻19)。此外，在TAC薄膜上塗覆防止反射層時，由於TAC薄膜容易被切斷，不易連續式捲取塗覆，必須以葉片式塗覆，生產性不佳(參照非專利文獻5)。
由於PET無延伸薄膜之耐熱性不佳，在PET薄膜上以蒸熔等塗覆防止反射層時，會因熱而引起收縮。因此，必須減低照射能量，係為無法提高生產性之因。另外，延伸、熱固定以製造耐熱性經提高的PET薄膜，包含熔融押出且延伸、熱固定等之多數步驟，極為繁雜(參照專利文獻20)。此外，使用於衛星導航視訊或手機之螢幕等、特別是在高溫環境之用途下，就尺寸安定性而言必須使延伸PET之厚度變厚，反而妨礙薄型化。而且，如非專利文獻4記載作為光學薄膜之分子配向不佳，即使在沒有延伸下藉由無配向(低阻滯作用)仍企求具有強度之樹脂薄膜，惟目前仍無法得到滿足於此之樹脂薄膜。
光資訊記錄媒體係以光學等向性薄膜作為保護層製得。
近年來，進行光資訊記錄媒體高密度化，例如實現如藍光光碟(blu－ray disc)之超高密度光碟。藍光光碟係在直徑120mm之光碟上可記錄單層記錄為23GB(giga byte)以上、2層記錄為47GB以上之大容量資料。藍光光碟係藉由使用記錄再生波長約405nm、開口數約0.85之光學系，使光碟上之凹槽的追跡間隙為0.32 μ m，以實現高密度化。為使該大開口數之拾像鏡片與資訊記錄再生層(以下簡稱為┌記錄層」)之距離，與現行的DVD光碟相比時非常相近，保護記錄層之保護層的厚度要求為100 μ m之極薄程度。而且，為於資訊再生時使用電射光之偏光時，於保護層中要求光學等向性。通常，保護層係由透明黏合劑層與光學等向性薄膜所成，故強烈要求以低價製造該光學等向性薄膜。
藍光光碟係使資訊記錄再生層之電射光入射側所形成的保護層之厚度規定為100 μ m(±2 μ m)。該保護層所要求的光學特性，例如波長405nm之保護層的面內阻滯作用為5nm以下。通常，藉由流延法所得的聚碳酸酯(以下稱為「PC」)薄膜主要使用作為保護層，惟由於其生產性不佳，故會有光碟成本變高的問題。而且，使PC熔融押出的PC薄膜不易低阻滯化，係為已知的事實，不能滿足作為構成藍光光碟保護層之光學等向性薄膜的性能(參照非專利文獻6)。
藍光光碟之構成，通常係在形成有接收溝之基材上順序成膜有反射層、有機色素為主成分之記錄層，在該記錄層上形成有保護層者所成(參照專利文獻21)。
【專利文獻1】日本特開平9－95544號公報【專利文獻2】日本特開平7－256664號公報【專利文獻3】專利第3404027號公報【專利文獻4】日本特開平7－73876號公報【專利文獻5】日本特開平8－318538號公報【專利文獻6】日本特開平7－41572號公報【專利文獻7】日本特開平2003－279741號公報【專利文獻8】專利第3035204號公報【專利文獻9】專利第2769020號公報【專利文獻10】日本特開2004－109355號公報【專利文獻11】日本特開2003－302522號公報【專利文獻12】日本特開2002－22956號公報【專利文獻13】日本特開2002－146044號公報【專利文獻14】日本特開2001－343528號公報【專利文獻15】日本特開平9－90101號公報【專利文獻16】日本特開平10－197702號公報【專利文獻17】日本特開2004－131728號公報【專利文獻18】日本特開2002－341114號公報【專利文獻19】日本特開平7－11055號公報【專利文獻20】日本特開2004－131728號公報【專利文獻21】日本特開2005－186607號公報【非專利文獻1】小林、平方、長江著、相位板方式白黑STN－LCD之解析、信學技報、88卷、54號、9－16頁、1988年【非專利文獻2】佐竹著、「偏光板用黏合劑」、黏合之技術、25卷、1號、2005年、通卷78號、25－30頁【非專利文獻3】井出文雄監修、「裝置用光學薄膜」、西耶姆西(譯音)出版、2004年【非專利文獻4】光學透明塑膠薄膜需要競合分析(股)Fuji Chimera總研2004.11.04、P128【非專利文獻5】矢野經濟研究所股份有限公司發行、2005年度版高功能底片市場之展望與戰略、第86－87頁【非專利文獻6】八藩一雄著、「光學用透明樹脂之特徵與成形加工技術及對光學薄膜之應用－聚碳酸酯薄膜之成型加工與光學用途展開－」、技術資訊協會、2005年3月28日、p.1~36
本發明之目的係有鑑於上述之情形，提供一種可以押出成形製膜、且經濟性優異的光學等向性聚酯薄膜、其製法，以及使用該聚酯薄膜之相位差薄膜、偏光板保護薄膜、光擴散片、鏡片、防止反射薄膜、光資訊記錄媒體等之光學構件。
本發明人等再三深入研究檢討的結果，發現在二醇單位中具有特定量環狀縮醛架構之聚酯，可容易以押出成形製膜，所得的薄膜具有特定的數值以上之面內阻滯作用，可由上述聚酯以經濟性良好地製造優異光學的等向性薄膜，以及上述聚酯可滿足相位差薄膜、偏光板保護薄膜、光擴散片、鏡片、防止反射薄膜、光資訊記錄媒體等之光學構件所要求的特性，遂而完成本發明。
換言之，本發明係有關一種聚酯薄膜，其係於含有二羧酸單位與二醇單位，該二醇單位之1~80莫耳%為具有環狀縮醛架構之二醇單位的聚酯藉由熔融押出法製膜的聚酯薄膜中，其特徵為波長550nm之面內阻滯作用為20nm以下。
另外，本發明係有關上述聚酯薄膜之製法、以及利用上述聚酯薄膜之相位差薄膜、偏光板保護薄膜、光擴散片、鏡片、防止反射薄膜、光資訊記錄媒體等之光學構件。
於下述中，詳細說明本發明。
本發明所使用的聚酯含有具有環狀縮醛架構之二醇單位。具有環狀縮醛架構之二醇單位為通式(1)或通式(2)所示之二醇由來的二醇單位較佳。
通式(1)及(2)之R1
及通式(1)之R2
，例如有亞甲基、伸乙基、伸丙基、異伸丙基、伸丁基及異伸丁基等之異構物、環伸己基、亞苯基等。其中以亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基、異伸丙基、異伸丁基較佳。
通式(2)之R3
例如有甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基及異丁基等之異構物、環己基、苯基等。其中，以甲基、乙基、丙基、丁基、異丙基、異丁基較佳。通式(1)及(2)之化合物係以3,9－雙(1,1－二甲基－2－羥基乙基)－2,4,8,10－四氧化螺[5.5]十一烷、5－羥甲基－5－乙基－2－(1,1－二甲基－2－羥基乙基)－1,3－二烷較佳。
另外，除具有環狀縮醛架構之二醇單位外之二醇單位，沒有特別的限制，例如乙二醇、三乙二醇、1,4－丁二醇、1,5－戊二醇、1,6－己二醇、二乙二醇、丙二醇、新戊醇等之脂肪族二醇類；1,3－環己烷二甲醇、1,4－環己烷二甲醇、1,2－十氫萘二甲醇、1,3－十氫萘二甲醇、1,4－十氫萘二甲醇、1,5－十氫萘二甲醇、1,6－十氫萘二甲醇、2,7－十氫萘二甲醇、四氫化萘二甲醇、原菠烷二甲醇、三環癸烷二甲醇、五環十二烷二甲醇等之脂環式二醇類；聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇等之聚醚化合物類；2,2－雙(4－羥基苯基)丙烷(雙酚A)、2,2－雙(3,5－二溴－4－羥基苯基)丙烷(四溴化雙酚A)、雙(4－羥基苯基)甲烷、1,1－雙(4－羥基苯基)乙烷、2,2－雙(4－羥基苯基)丁烷、2,2－雙(4－羥基苯基)辛烷、2,2－雙(4－羥基－3－甲基苯基)丙烷、1,1－雙(3－第3－丁基－4－羥基苯基)丙烷、2,2－雙(3－溴－4－羥基苯基)丙烷、2,2－雙(3,5－二氯－4－羥基苯基)丙烷等之雙(羥基芳基)鏈烷類；上述雙(羥基芳基)鏈烷類之環氧烷基加成物；1,1－雙(4－羥基苯基)環戊烷、1,1－雙(4－羥基苯基)環己烷(雙酚Z)、1,1－雙(3,5－二溴－4－羥基苯基)環己烷、1,1－雙(3,5－二氯－4－羥基苯基)環己烷等之雙(羥基芳基)環鏈烷類；1,1－雙(4－羥基苯基)二苯基甲烷等之雙(羥基芳基)芳基鏈烷類；4,4’－二羥基二苯醚、4,4’－二羥基－3,3’－二甲基二苯醚等之二羥基二芳醚類；4,4’－二羥基二苯基硫醚、4,4’－二羥基－3,3’－二甲基二苯基硫醚等之二羥基二芳基硫醚類；4,4’－二羥基二苯基亞碸、4,4’－二羥基－3,3’－二甲基二苯基亞碸等之二羥基二芳基亞碸類；4,4’－二羥基二苯基碸、4,4’－二羥基－3,3’－二甲基二苯基碸等之二羥基二芳基碸類；氫醌、間苯二酚、4,4’－二羥基聯苯、4,4’－二羥基二苯醚、4,4’－二羥基二苯基二苯甲酮等之芳香族二羥基化合物；以及上述芳香族二羥基化合物之環氧烷基加成物等由來的二醇單位。就考慮聚酯之機械強度、耐熱性、及二醇之容易取得性時，以乙二醇、二乙二醇、三甲二醇、1,4－丁二醇、1,4－環己烷二甲醇等由來的二醇單位較佳，以乙二醇由來的二醇單位更佳。
本發明使用的聚酯之二羧酸單位，沒有特別的限制，例如琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十二烷二羧酸、環己烷二羧酸、十氫萘二羧酸、原菠烷二羧酸、三環癸烷二羧酸、五環十二烷二羧酸、3,9－雙(1,1－二甲基－2－羧基乙基)－2,4,8,10－四氧化螺[5.5]十一烷、5－羧基－5－乙基－2－(1,1－二甲基－2－羧基乙基)－1,3－二烷等之脂肪族二羧酸；以及對酞酸、異酞酸、酞酸、2－甲基對酞酸、1,3－萘二羧酸、1,4－萘二羧酸、1,5－萘二羧酸、2,6－萘二羧酸、2,7－蔡二羧酸、聯苯二羧酸、四氫化萘二羧酸等之芳香族二羧酸由來的二羧酸單位。就考慮聚酯之機械強度、耐熱性、及二羧酸之容易取得性時，以對酞酸、異酞酸、2,6－萘二羧酸由來的二羧酸單位更佳。而且，聚酯之二羧酸構成單位可以由1種構成，亦可以由2種以上構成。
本發明使用的聚酯，為調整熔融黏彈性或分子量等時，在不會損害本發明目的之範圍內，可含有丁醇、己醇、辛醇等之單醇由來單位、三羥甲基丙烷、丙三醇、1,3,5－戊烷三醇、季戊四醇等之3價以上之多元醇由來的單位、苯甲酸、丙酸、丁酸等之單羧酸由來的單位、偏苯三酸、均苯四甲酸等之3價以上的多元羧酸由來的單位、乙二醇、乳酸、羥基丁酸、2－羥基異丁酸、羥基苯甲酸等之醇酸由來的單位。
就考慮成形性、耐熱性、機械性能、耐加水分解性、經濟性等時，本發明使用的聚酯係具有環狀縮醛架構之二醇單位為3.9－雙(1,1－二甲基－2－羥基乙基)－2,4,8,10－四氧化螺[5.5]十一烷由來的二醇單位，除具有環狀縮醛架構之二醇單位以外的二醇單位係為至少一種選自於乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、1,4－丁二醇、及1,4－環己烷二甲醇之二醇由來的二醇單位，二羧酸單位係為至少一種選自於對酞酸、異酞酸、及2,6－萘二羧酸之二羧酸由來的二羧酸單位較佳。
具有環狀縮醛架構之二醇單位的比例，以全部二醇單位之1~80莫耳%較佳。藉由含有1莫耳%以上具有環狀縮醛架構之二醇單位，可同時達成聚酯之結晶性降低與玻璃轉移溫度之上升，且可提高聚酯薄膜之透明性、耐熱性。此外，該聚酯薄膜可提高抑制切斷或穿孔等加工時產生鬚鬚情形等之加工性，以及降低阻滯作用、且提高減低阻滯斑、減低熔融押出時之厚斑等光學性能。具有環狀縮醛架構之二醇單位的比例大於80莫耳%時，會增加聚酯之結晶性、降低所得的聚酯薄膜之透明性。因此，具有環狀縮醛架構之二醇單位的比例，就聚酯薄膜之耐熱性、透明性、加工性、光學性能而言為全部二醇單位之1~80莫耳%，較佳者為5~60莫耳%，更佳者為15~60莫耳%。
本發明使用的聚酯之玻璃轉移溫度以85~160℃較佳，更佳者為90~150℃。玻璃轉移溫度在上述範圍內時，於加工時可得必要的耐熱性。聚酯之玻璃轉移溫度係視構成單位之種類及比例而變化，例如具有環狀縮醛架構之二醇單位為3.9－雙(1,1－二甲基－2－羥基乙基)－2,4,8,10－四氧化螺[5.5]十一烷由來的二醇單位，除具有環狀縮醛架構之二醇單位外之二醇構成單位為乙二醇由來的二醇單位，二羧酸構成單位為對酞酸及/或2,6－萘二羧酸由來的二羧酸單位時，容易達成上述範圍之玻璃轉移溫度。
本發明使用的聚酯之特性黏度，可視成形方法或用途予以適當選擇。使用苯酚與1,1,2,2－四氯乙烷之質量比6：4的混合溶劑，在25℃下測定的特性黏度為0.4~1.5dl/g之範圍較佳，更佳者為0.5~1.2dl/g，最佳者為0.6~1.0dl/g。特性黏度為該範圍時，本發明聚酯之成形性及機械性能的平衡性優異。
本發明使用的聚酯之熔融黏度亦可適當選擇，在溫度240℃下、切變速度100sec－ 1
測定時，以300~7000Pa．s之範圍較佳，以500~5000Pa．s更佳。熔融黏度為該範圍時，本發明聚酯之成形性及機械性能的平衡性優異。熔融黏度與聚酯之特性黏度有關，亦與構成單位有關。具有環狀縮醛架構之二醇單位愈多時，熔融黏度愈高。
本發明使用的聚酯之熔融強度可適當選擇，以切變速度100sec－ 1
、熔融黏度1400Pa．s之條件測定的熔融強度，以0.5~20cN較佳，以1~10cN更佳。熔融強度在上述範圍時，特別是以熔融押出法製膜時，可安定地製得薄膜。
本發明使用的聚酯之製法，沒有特別的限制，可使用習知聚酯之製法。例如酯交換法、直接酯化法等之熔融聚合法、溶液聚合法。製造時使用的酯交換觸媒、酯化觸媒、防止醚化劑、熱安定劑、光安定劑等之各種安定劑、聚合調整劑等亦可使用習知者，此等可視反應速度或聚酯之色調、安定性、熱安定性、耐候性、溶出性等予以適當選擇。
本發明使用的聚酯中，可添加平滑劑、抗氧化劑、光安定劑、紫外線吸收劑、可塑劑、增量劑、消艷劑、乾燥調節劑、抗靜電劑、抗沉澱劑、界面活性劑、流動改良劑、乾燥油、石蠟類、填充劑、著色劑、補強劑、表面平滑劑、水平劑、硬化反應促進劑、增黏劑等之各種添加劑、成形助劑。此等之添加劑可在聚酯之製造階段中添加，亦可在成形階段中添加。
聚酯之薄膜化方法，例如有熔融押出法、流延法等，就經濟性與薄膜之性能平衡性而言以熔融押出法較佳。
更詳細說明有關熔融押出法。本發明之聚酯薄膜可使用習知的方法製膜。熔融押出法例如T塑模鑄造法、膨脹法等，為製得光學等向性薄膜時以T塑模鑄造法較佳。使聚酯熔融的裝置，只要是一般使用的押出機即可，可以為單軸押出機或多軸押出機。押出機可以具有一條以上之帶子，可使帶子減壓，自熔融樹脂除去氣體、水分。亦可除去低分子物質。另外，在押出機之前端或下流側，視其所需可設置金網過濾器或燒結過濾器。塑模可使用T塑模、塗覆吊架式塑模、魚尾式塑模、通風板塑模等。而且，為多層薄膜時，可使用供應部份法、多段集合法、多段集合．供應部份混合法。
押出溫度以200~300℃較佳，更佳者為210~280℃，最佳者為220~270℃。押出溫度為上述範圍時，所得薄膜之光學等向性、平滑性、透明性、色調、機械物性等之平衡性優異。此外，氣體間隙(直至接觸自塑模吐出熔融薄膜的冷卻輥為止之距離)為0.1~100mm較佳，更佳者為1~50mm，最佳者為3~30mm。氣體間隙為上述範圍時，氣體間隙間在除冷過程中藉由樹脂熱抑制配向緩和斑(氣體間隙周圍環境之影響、或薄膜中央部與端部之冷卻速度不同的影響)為小值，以及可藉由縮幅以抑制薄膜端部之膜厚急速增加。
自塑模押出的熔融樹脂之冷卻方法，可使用習知的方法。一般而言，可以冷卻輥冷卻。冷卻輥之數可以為一條，視熔融樹脂之吐出量或拉伸速度而定亦可使用2條以上。使熔融樹脂密接於冷卻輥的方法，沒有特別的限制，可使用氣刀法、靜電密接法、真空法。可在冷卻輥上僅接觸熔融樹脂之一面予以冷卻，亦可使用數條冷卻輥夾住熔融樹脂以使兩面冷卻。本發明使用的聚酯，由於實質上為非晶性樹脂，冷卻輥之溫度可廣範圍設定。為製得光學等向性薄膜時，冷卻輥之溫度以聚酯之玻璃轉移溫度－30℃~聚酯之玻璃轉移溫度＋30℃之範圍較佳。拉伸速度係視熔融樹脂之押出量或塑模之寬度等裝置而不同，以0.2~100m/分較佳，更佳者為0.5~95m/分，最佳者為1~90m/分。拉伸速度為上述範圍時，可製得目的厚度之聚酯薄膜。為製得光學等向性薄膜時，以實質上沒有延伸下控制冷卻輥、夾緊輥、捲取輥等之回轉速度較佳。
於藉由熔融押出法製造薄膜中，薄膜產生成形變形係因流動殘留應力之分子配向(主要為MD方向)與因熱應力之分子配向(主要為TD方向)產生平衡。流動殘留應力於藉由流動應力拉伸，經配向的聚合物鍵於流動停止後回復至交纏狀態之途中硬化時，聚合物鍵產生的拉伸應力沒有被緩和下產生殘留情形。熱應力係熔融樹脂於冷卻過程中伴隨溫度變化之熱收縮(熱翹曲)所產生。
本發明人等再三深入研究檢討的結果，發現在T塑模內熔融聚合物受到切變應力產生的分子配向(支配MD方向之配向)，藉由拉伸產生的朝押出方向之分子配向(MD方向)，自T塑模吐出的熔融樹脂在氣體間隙間徐冷的過程因樹脂熱使配向緩和(主要是MD方向之配向緩和)，在冷卻輥上薄膜被冷卻時引起的熱收縮因冷卻輥而受到拘束時，藉由產生的殘留應力使分子配向(支配TD方向之配向)等配向程度相殘，可減低成形變形問題。換言之，在押出溫度200~300℃、氣體間隙0.1~100mm、拉伸速度0.2~100m/分之條件下押出成形，且藉由使冷卻輥溫度為聚酯之玻璃轉移溫度－30℃~聚酯之玻璃轉移溫度＋30℃，可使成形變形變得極小。
其次，說明有關本發明之聚酯薄膜。於下述中，面內阻滯作用Re以(nx－ny)x d予以定義。其中，d係表示薄膜厚度(nm)，nx、ny(nx>ny)係為薄膜面內之主折射率。其中，主折射率由於與波長有關，於下述中波長λ(nm)之面內阻滯作用以Re[λ]表示。本發明聚酯薄膜之面內阻滯作用Re[550]以20nm以下較佳，以15nm以下更佳，以10nm以下尤佳，以5nm以下最佳(皆包含0)。另外，波長550nm之(nx－nz)x d(nz係為薄膜面之法線方向的主折射率)以100nm以下較佳，以50nm以下更佳，以20nm以下最佳(皆包含0)。為上述範圍時，可使用本發明之聚酯薄膜作為顯示裝置用光學薄膜。
聚酯薄膜之厚度可視使用方法、用途、要求性能任意設定，一般而言以1~500 μ m較佳，以5~300 μ m更佳，以10~200 μ m最佳。為上述範圍時，本發明聚酯薄膜之加工性、機械特性、光學物性優異。
聚酯薄膜之厚度斑，係平均厚度為T時以0.9T~1.1T較佳。以0.93T~1.07T更佳，以0.97T~1.03T最佳。減低押出方向(MD)之厚度斑的方法，沒有特別的限制，以使用在押出機上設有帶子之押出機與塑模間設有齒輪幫浦，可使樹脂之吐出量一定，或在冷卻輥驅動時使用伺服電動機或行星齒輪以使驅動一定等之方法較佳。減低垂直於押出方向之寬度方向(TD)的厚度斑之方法，沒有特別的限制，使用使塑模之隙縫藉由熱變位式、伺服電動式、空氣壓式、壓電元件式等予以調整的方法。
企求聚酯薄膜之缺點或魚眼現象少時，沒有特別的限制，藉由使用金網過濾器或燒結金屬過濾器以取出凝膠等之異物，可減低缺點或魚眼現象。此等之過濾器可設置於押出機與塑模之間，除去異物且製造薄膜。另外，可使薄膜成形的環境清潔，且使保護薄膜貼附於薄膜上。
本發明之聚酯薄膜的全光線透過率，以85%以上較佳，以90%以上更佳。而且，霧度以3%以下較佳，以2%以下更佳。此等之值為上述範圍時，具有作為光學薄膜使用的充分性能。
本發明之聚酯薄膜，可直接使用或施予習知的處理、加工，作為各種光學構件及電子構件用薄膜使用。處理、加工例如有黏合劑、黏接劑、脫模劑、抗靜電劑、擴散劑、硬化樹脂等之塗覆、稜鏡、鏡片等之形成或貼附、蝕刻處理、蒸熔、濺射、延伸、壓花加工等。光學構件例如偏光板、鏡片、防止反射薄膜、抗靜電薄膜、相位差薄膜、光資訊記錄媒體、λ/4板、λ/2板、觸控板、視野角補償板、防炫光薄膜、光擴散薄膜、反射薄膜、燈光反射器、塑膠薄膜基板、透明導電性薄膜、保護薄膜、表膜等。
本發明之相位差薄膜，係具有以上述聚酯薄膜為成形薄膜，且使該物延伸所得的薄膜(亦記載為延伸聚酯薄膜、延伸成形薄膜)所成的薄膜層。藉由使用上述聚酯薄膜，可使該薄膜層之面內阻滯作用及/或Nz係數((nx－nz)/(nx－ny))(其中，nx、ny、nz係與上述相同)控制於上述任意的數值範圍內。而且，由於Nz與波長有關，故於下述中波長λ(nm)之Nz係數以Nz[λ]表示。
聚酯成形薄膜於波長550nm時面內阻滯作用Re[550]以20nm以下較佳，以15nm以下更佳，以10nm以下尤佳，以5nm以下最佳。為上述範圍時，藉由使聚酯成形薄膜延伸，可使面內阻滯作用及/或Nz係數控制於任意的數值範圍。
聚酯成形薄膜之厚度，可視要求型式而定任意設定。薄膜層之厚度就液晶顯示裝置之輕量化而言愈薄愈佳，惟相位差薄膜製造用之聚酯成形薄膜的厚度就熔融押出機之限制而言以20~200 μ m較佳。
聚酯成形薄膜之全光線透過率以85%以上較佳，以90%以上更佳。另外，霧度以3%以下較佳，以2%以下更佳。此等之值為上述範圍時，具有作為相位差薄膜製造用之成形薄膜的充分性能。
其次，詳細說明有關該聚酯成形薄膜之延伸法。成形薄膜之延伸可以為一軸延伸、逐次二軸延伸、同時二軸延伸。而且，如專利第2818983號公報中記載，藉由於延伸時在成形薄膜一面或兩面上使收縮性薄膜黏合以形成積層體，使該積層體加熱延伸處理，在成形薄膜上施予與延伸方向垂直的方向之收縮力，可形成混有各朝延伸方向與厚度方向配向的高分子鍵之薄膜層。
為一軸延伸時，可製得Nz[550]約為1之薄膜層。為逐次及同時二軸延伸時，可製得Nz[550]為1~∞之薄膜層。例如適合STN型液晶使用的相位差薄膜，可使用藉由一軸延伸製得的Nz[550]約為1、且面內阻滯作用Re[550]為100~500nm之薄膜層。另外，適合VA(Vertical Alignment)型液晶使用的相位差薄膜，可使用藉由逐次或同時二軸延伸製得的Nz[550]約為1~∞之範圍、且面內阻滯作用Re[550]為0~200nm之薄膜層。為遮蔽反射．半透明型液晶所使用的圓偏光板、或觸控板之內部ITO玻璃基板上之反射光的圓偏光板，必須具有廣泛範圍之λ/4板。藉由使波長550nm之λ/2板與λ/4板的各光軸傾斜，積層於偏光板上，可形成廣泛範圍的圓偏光板(參照日本特開平10－068816號公報)。該λ/2板與λ/4板可藉由一軸延伸製造。
延伸倍率係在沒有孔隙現象下，MD方向及/或TD方向皆以大於1倍、2倍以下較佳，以大於1倍、1.5倍以下更佳，以大於1倍、1.2倍以下最佳。
延伸溫度係指聚酯之玻璃轉移溫度~熔點之範圍。延伸溫度愈高時愈高，以同一延伸倍率可使阻滯作用降低。因此，以不具孔隙現象之低延伸倍率，改變延伸倍率以控制企求的阻滯作用較佳。為同時二軸延伸時，由於視延伸方向而定無法改變溫度，藉由視延伸方向而定改變延伸倍率，可製得企求的阻滯作用。
除僅由上述薄膜層所成的薄膜外，可採取具有積層2張以上之上述薄膜層的多層構造之相位差薄膜、在至少一面上述薄膜層上積層光學等向性保護層之相位差薄膜、在上述薄膜層上積層偏光板予以一體化所成的相位差薄膜、在至少一面上述薄膜層上經由黏合層或黏接層以積層剝離性片板之相位差薄膜等的形態。
詳細說明有關具有積層上述薄膜層之多層構造的相位差薄膜。如上所述，藉由使聚酯成形薄膜延伸，可製得具有任意大小之阻滯作用之薄膜層。藉由使用透明性高的黏合劑或黏接劑，積層2層以上之上述薄膜層，可製得適合使用於STN液晶晶胞之相位補償之相位差薄膜。
黏合劑或黏接劑係使用以聚乙烯醇系聚合物；丙烯酸系聚合物；聚矽氧烷系聚合物；聚異氰酸酯；聚烯烴；聚酯；聚醚；氯化乙烯基．醋酸乙烯酯共聚物；合成橡膠；或於此等之聚合物中導入有極性基之改質物等適當的聚合物作為基體聚合物之黏合劑或黏接劑。於黏合劑或黏接劑中，為提高耐久性或黏接性時、在不會損及本發明效果之範圍內可含有其他之聚合物、可塑劑、熱安定劑、紫外線吸收劑、交聯劑、填充劑等之習知添加劑。使黏合劑或黏接劑塗覆於上述薄膜層上的方法，可使用輸送帶等之習知方法，只要是形成均勻的黏合劑層或黏接劑層之方法即可，沒有特別的限制。此外，使用由上述成分所成、沒有市售的基材之高透明黏合劑轉印帶(薄膜狀黏合劑層或黏接劑層之兩側上貼合剝離薄膜者，例如Polatechno公司製Pressure Senstive Adhesive AD－20、住友3M(股)製之基材或高透明黏合劑轉印帶8141等)，可構成黏合劑層或黏接劑層。黏合劑層及黏接劑層之厚度以5~50 μ m較佳。
如上所述，藉由使本發明之聚酯成形薄膜延伸，可製得具有任意大小的阻滯作用之薄膜層。薄膜層可以任意角度積層。現在，液晶有各種型式，如此所得的具有本發明之多層構造的相位差薄膜，不僅可應用於STN液晶晶胞，亦可應用於任意的液晶晶胞。
然後，詳細說明有關在至少一面上述薄膜層上積層光學等向性保護層之相位差薄膜。上述薄膜層之相位差係因藉由構成該物之聚酯高分子鍵的配向而具有，於輸送中或顯示裝置組裝步驟中，藉由來自外部之物理力，恐會受到擦傷等之損傷與該部分之阻滯作用產生變化的問題。為防止該情形時，在至少一面上述薄膜層上積層光學等向性保護層(厚度：較佳者為5~50 μ m)。光學等向性保護層例如本發明所使用的聚酯成形薄膜、聚碳酸酯薄膜等，惟不受此等所限制。上述薄膜層與光學等向性保護層之貼合，可藉由在上述薄膜層上塗覆黏合劑或黏接劑，且於其上使用滾筒以使光學等向性保護層壓熔實施。黏合劑層或黏接劑層可與上述相同地形成。
其次，詳細說明有關在上述薄膜層上使偏光板積層一體化所成的相位差薄膜。
使聚乙烯醇薄膜浸漬於含有碘與碘化鉀之水溶液中，然後，浸漬於含有硼酸與碘化鉀之水溶液中，予以一軸延伸以製作偏光板(厚度：較佳者為50~200 μ m)。其次，在偏光板之一表面上經由黏合劑或黏接劑積層三乙醯基纖維素(TAC)片板(厚度：較佳者為40~80 μ m)，且在偏光板之另一表面上經由黏合劑或黏接劑積層上述薄膜層。如此可使作為偏光板之保護層的上述薄膜層與偏光板一體化。黏合劑層或黏接劑層可與上述相同地形成。
使用上述薄膜層作為偏光板之保護層時，上述薄膜層在40℃、90%RH之透濕度以5~500g/(m2
．24hr)較佳，以8~400g/(m2
．24hr)更佳，以10~300g/(m2
．24hr)最佳。若40℃、90%RH之透濕度大於500g/(m2
．24hr)時，於高溫多濕條件下通過偏光板保護薄膜之外部水分浸透於偏光板且使作為偏光板之性能降低，偏光板恐會產生翹曲情形。而且，浸漬於碘與碘化鉀水溶液時，必須使於聚乙烯醇膜中取出的水分通過偏光板保護層，予以適度蒸發，偏光板保護層被要求具有適當的透濕度。
然後，詳細說明有關至少一面上述薄膜層上經由黏合劑層或黏接劑層積層剝離性片板之相位差薄膜。在上述薄膜層上經由黏合劑或黏接劑積層剝離性片板(厚度：較佳者為10~100 μ m)之相位差薄膜，可藉由剝離剝離性片板，容易地貼合於偏光板或玻璃基板上。黏合劑層或黏接劑層，可與上述相同地形成。該相位差薄膜之積層構造，例如薄膜層/黏合劑層或黏接劑層/剝離片板、偏光板/黏合劑層或黏接劑層/薄膜層/黏合劑層或黏接劑層/剝離片板等。
本發明之偏光板，包含由該聚酯薄膜(未延伸)所成的薄膜層及偏光膜。
聚酯薄膜在40℃、90%RH之透濕度，以5~500g/(m2
．24hr)較佳，以8~400g/(m2
．24hr)更佳，以10~300g/(m2
．24hr)最佳。若透濕度大於500g/(m2
．24hr)時，於高溫多濕條件下通過偏光板保護薄膜之外部水分浸透於偏光板且使作為偏光板之性能降低，偏光板恐會產生翹曲情形。而且，偏光膜與薄膜層之黏合，大多使用水系黏合劑，透濕度過小時，會產生水系黏合劑之乾燥變慢，為具有黏合強度時之時間極為耗時的缺點。
聚酯薄膜之波長550nm中面內阻滯作用Re[550]以20nm以下較佳，以15nm以下更佳，以10nm以下尤佳，以5nm以下最佳。若大於上述範圍時，液晶顯示裝置之畫質品質顯著降低。換言之，產生顏色部分變淺等之對比降低，畫質變形等之問題。
聚酯薄膜之厚度係可視要求型式而定任意設定。聚酯薄膜之厚度以10~200 μ m較佳，以20~100 μ m更佳，以30~80 μ m最佳。若大於上述範圍時，不易使液晶顯示裝置之薄型化或小型化。
另外，聚酯薄膜之膜厚最大與最小的差，係以平均膜厚之5%以下較佳，以3%以下更佳，以2%以下最佳。大於上述範圍之膜厚斑大時，會產生液晶顯示裝置之畫質品質降低，影像變形等之缺點。
聚酯薄膜之全光線透過率以85%以上較佳，以90%以上更佳。此外，霧度以2%以下較佳，以1%以下更佳。大於上述範圍時，由於透明性顯著降低，且會損及液晶顯示裝置畫面之鮮明性，故不實用。
薄膜層係視其所需在偏光膜之一面或兩面上經由適當的黏合劑或黏接劑積層。偏光膜只要是可使入射的自然光改變成直線偏光者即可，沒有特別的限制。特別是以光線透過率或偏光度優異者較佳。例如，在由聚乙烯醇或部分甲醛化聚乙烯醇所成的薄膜上，以碘或二色性染料等之二色性物質作為漿料，再藉由延伸加工製得。黏合劑或黏接劑可使用上述者，另外，黏合劑層及黏接劑層亦可與上述相同地形成。黏合劑及黏接劑就耐熱性及透明性而言以丙烯酸系較佳，更佳者為由丙烯酸酯共聚物所成的黏合劑或黏接劑。
本發明之鏡片係包含由上述聚酯薄膜(未延伸)所成的薄膜層、以及在該薄膜層之至少一面表面上所形成的光學元件。
聚酯薄膜之厚度可視要求的型式任意設定。一般而言為50~800 μ m，就處理性而言以80 μ m以上較佳，就背景燈薄型化而言以300 μ m以下較佳。
聚酯薄膜之全光線透過率以85%以上較佳，更佳者為90%以上。而且，霧度以3%以下較佳，更佳者為2%以下。此等之值在上述範圍時，作為鏡片之透明基材使用時具有充分的性能。
為提高形成光學元件時之活性能量線硬化性樹脂或熱硬性樹脂之密接性時，以在形成薄膜層之光學元件的面上實施底塗處理等之密接性提高處理較佳。
光學元件之第一形態，例如在薄膜層之一面或兩面上並列形成，截面為三角形狀之數個稜鏡列。而且，在薄膜層之兩面上各形成數個稜鏡列時，一面的數個稜鏡列以與另一面之數個稜鏡列垂直配置較佳。稜鏡列之頂角係視由導光體之出射光的指向特性而定，適當選擇可充分提高正面亮度之角度，一般而言以50~150°之範圍較佳。使數個稜鏡列於液晶顯示裝置之背景燈中朝導光體側配置時，稜鏡列之頂角以50~75°之範圍較佳，以55~70°之範圍更佳。使數個稜鏡列朝液晶顯示板側配置時，以80~100°較佳，以90~100°更佳。數個稜鏡列之間隙以20~300 μ m較佳，以20~120 μ m更佳。稜鏡列之折射率以1.45以上較佳，以1.50以上更佳，以1.55以上最佳。具有該光學元件之鏡片可使用作為稜鏡板(參照第3圓)。
光學元件之第二形態，例如由數個圓筒鏡片列並列形成的凹凸狀鏡部。具有該光學元件之鏡片可使用作為凹凸狀鏡片，液晶顯示裝置之縱方向並列設置圓筒鏡片。藉此，可使背景燈光朝顯示裝置左右方向更為擴散，可更為控制顯示裝置左右方向的視野角。圓筒鏡片之焦點距離長時，左右方向之視野角變小，焦點距離變短時被擴大。
光學元件之第三形態，例如形成同心圓狀菲涅耳鏡形狀之菲涅耳鏡部。具有該光學元件之鏡片可使用作為菲涅耳鏡片，為限制顯示裝置之視野角，且提高亮度時所使用。
另外，亦可使菲涅耳鏡片與凹凸狀鏡片板或稜鏡片表裡一體化。例如藉由在薄膜層兩面上形成各光學元件予以製作。
光學元件係藉由活性能量線硬化性樹脂或熱硬性樹脂所形成。另外，亦可以使薄膜層表面直接賦形於光學元件。藉由活性能量線硬化性樹脂形成時，例如在具有所定光學元件圖案之模具中注入活性能量線硬化性樹脂，且於其上重合薄膜層，然後，通過薄膜層照射活性能量線，照射活性能量線以使硬化性樹脂硬化，形成光學元件。就光學元件之耐擦傷性、處理性、生產性而言，以使用活性能量線硬化性樹脂較佳。
活性能量線硬化性樹脂只要是以紫外線、電子線等之活性能量線硬化的樹脂即可，沒有特別的限制。該活性能量線硬化性樹脂以(A)可游離基聚合的單體或低聚物、及(B)活性能量線感應觸媒為主成分較佳，另可含有(C)熱感應觸媒。
可游離基聚合的單體或低聚物(A)可單獨或2種以上組合使用，以2種以上組合使用較佳。成分(A)係為決定光學元件之光學性能者，視鏡片所要求的性能而定予以適當選擇。
成分(A)例如脂肪族單(甲基)丙烯酸酯、脂環族單(甲基)丙烯酸酯、芳香族單(甲基)丙烯酸酯、芳香族二(甲基)丙烯酸酯、脂環族二(甲基)丙烯酸酯、脂肪族二(甲基)丙烯酸酯、多官能性(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸酯；環氧基聚(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯聚(甲基)丙烯酸酯、聚酯聚(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸酯系樹脂，就光學特性而言較佳。
活性能量線感應觸媒(B)，以主要感應波長為200~400nm之紫外線，產生游離基源之化合物較佳，例如二苯甲酮、苯偶因異丙醚、甲基苯基乙二酸酯、1－羥基環己基苯酮、苯甲基二甲基縮醛等之羰基化合物；硫化物；2,4,6－三甲基苯偶因二苯基氧化膦等之醯基氧化膦等。此等可單獨或2種以上組合使用。
成分(B)之使用量對100重量活性能量線硬化性樹脂(A)而言以0.005~5重量份較佳，以0.02~2重量份更佳。若小於0.005重量份時會有硬化性不充分的情形，大於5重量份時會有深部硬化性降低且容易著色的情形。
熱感應觸媒(C)以有機過氧化物或偶氮系化合物較佳。有機過氧化物例如過氧化苯偶因、辛醯基過氧化物、二異丙基過氧化過碳酸酯、雙(4－t－丁基環己基)過氧化二碳酸酯、t－丁基過氧化異丁酸酯、t－丁基過氧化－2－乙基己酸酯等，偶氮系化合物例如2,2’－偶氮雙(2,4－二甲基戊腈)、2,2’－偶氮雙異丁腈、2,2’－偶氮雙(4－甲氧基－2,4－二甲基戊腈)、2,2’－偶氮雙(2－甲基丁腈)等。成分(C)之使用量對100重量份活性能量線硬化性樹脂(A)而言以0~5重量份較佳，以0.005~2重量份更佳。大於5重量份時，會有光學元件之機械強度降低，且容易著色的情形。
光學元件中視其所需亦可添加抗氧化劑、紫外線吸收劑、防止黃變劑、藍化劑、顏料、擴散劑、螢光增白劑等之添加劑。
如上述所得的本發明之鏡片，在高溫之尺寸安定性良好。在80℃之環境下放置30分鐘前後之尺寸變化為0%，另在100℃之環境下放置30分鐘前後之尺寸變化為0%，在120℃之環境下放置30分鐘前後之尺寸變化為0%。
本發明之光擴散薄膜，包含由上述聚酯薄膜所成的薄膜層、及擴散珠與黏合劑樹脂所成的光擴散層。
聚酯薄膜之厚度可視要求型式任意設定。一般所使用的聚酯薄膜之厚度為10~150 μ m。就使光擴散的擴散珠之粒徑1~50 μ m與塗覆黏合劑之厚度約10~20 μ m時，厚度以40~100 μ m較佳。
聚酯薄膜之全光線透過率以85%以上較佳，以90%以上更佳。而且，霧度以2%以下較佳，以1%以下更佳。霧度較該值為大時，由於入射光在薄膜內部擴散、出射光量減少，故光線透過率減少。此外，霧度愈低愈佳。另外，全部厚度以35~130 μ m較佳，以70~125 μ m更佳。全部厚度小於35 μ m時，作為光擴散板時沒有腰部、不易處理，故不佳。而且，全部厚度大於130 μ m時，由於光之吸收量增加、光線透過率降低，故不為企求。此等之值為上述適當範圍時，具有充分的性能。
其次，說明有關本發明光擴散薄膜之構成與製法。
如第4圖所示，本發明之光擴散薄膜係由上述聚酯薄膜所成的薄膜層、及擴散珠與使該擴散珠固定的黏合劑樹脂所成的光擴散層所構成。光擴散層係使擴散珠等分散於黏合劑樹脂者。
擴散珠為習知者，例如由至少一種選自於玻璃、丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、氯化乙烯基樹脂及聚碳酸酯樹脂之物質所成的珠。珠之平均粒徑以1~50 μ m較佳。擴散珠之含有量以光擴散層之20~90重量%較佳。小於20重量%時光無法均勻地擴散，大於90重量%時無法得到密接性。
光擴散層可藉由滾筒塗覆、輥塗覆、噴霧塗覆、靜電塗覆等，在薄膜層上塗覆黏合劑樹脂與擴散珠予以設置。光擴散層之厚度以0.5~50 μ m較佳，以1~20 μ m更佳，以1.5~10 μ m尤佳，以2~6 μ m最佳。
黏合劑樹脂係由一種以上選自於電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂及紫外線硬化型樹脂之樹脂，具有以飽和烴或聚醚作為主鏈之聚合物較佳，具有以飽和烴作為主鏈之聚合物更佳。另外，黏合劑樹脂以交聯較佳。具有以飽和烴作為主鏈之聚合物，以乙烯性不飽和單體之聚合物較佳。為製得交聯黏合劑樹脂時，以使用具有二個以上不飽和基之單體較佳。
具有二個以上乙烯性不飽和基之單體，例如多元醇與(甲基)丙烯酸之酯(如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4－二環己烷二丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,3,5－環己烷三醇三甲基丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯)、乙烯苯衍生物(如1,4－二乙烯苯、4－乙烯基苯甲酸－2－丙烯醯基乙酯、1,4－二乙烯基環己酮)、乙烯基碸(如二乙烯基碸)、丙烯醯胺(如亞甲基雙丙烯醯胺)及甲基丙烯醯胺。於此等之中，二季戊四醇六丙烯酸酯等之5官能以上的丙烯酸酯，就膜硬度、即耐傷性而言較佳。二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯之混合物有市售，故更佳。
此等具有二個以上乙烯性不飽和基之單體，可與各種聚合起始劑其他添加劑同時溶解於溶劑、塗覆、乾燥後，藉由電離放射線或熱之聚合反應予以硬化。
可使用具有交聯性官能基之乙烯性不飽和單體取代具有二個以上乙烯性不飽和基之單體，亦可形成具有交聯性官能基之黏合劑樹脂。亦可使用具有交聯性官能基、具有二個以上乙烯性不飽和基之單體。交聯性官能基之例如異氰酸酯基、環氧基、吖啶基、唑啉基、醛基、碳基、肼基、羧基、羥甲基及活性亞甲基。交聯性官能基亦可使用如嵌段異氰酸酯基分解之具有交聯性的交聯性官能基。換言之，本發明中交聯性官能基可以本身不具交聯性，於分解後具有交聯性者。此等具有交聯性官能基之黏合劑樹脂，於塗覆後藉由加熱形成交聯構造。亦可使用乙烯性不飽和單體作為為使乙烯基磺酸、酸酐、氰基丙烯酸酯衍生物、蜜胺、醚化羥甲基、酯、胺基甲酸酯、四甲氧基矽烷等之金屬烷氧化物導入交聯構造時之單體予以混合。
為提高黏合劑樹脂本身之折射率時，在黏合劑樹脂中可添加具有高折射率之單體的共聚物及/或具有高折射率之金屬氧化物超微粒子。具有高折射率之單體，例如雙(4－甲基丙烯醯基硫化苯基)硫醚、乙烯萘、乙烯基苯基硫醚、4－甲基丙醯氧基苯基－4’－甲氧基苯基硫醚等。具有高折射率之金屬氧化物超微粒子例如由至少一個選自於鋯、鈦、鋁、銦、鋅、錫、銻之氧化物所成的粒徑100nm以下(較佳者為50nm以下)之微粒子。上述氧化物之例如ZrO2
、TiO2
、Al2
O3
、In2
O3
、ZnO、SnO2
、Sb2
O3
、ITO等。於此等之中，以使用ZrO2
較佳。金屬氧化物超微粒子之添加量，以黏合劑樹脂之全部質量的10~90質量%較佳，以20~80質量%更佳。
如上述黏合劑樹脂所使用的單體之硬化方法，例如電子線或紫外線之照射。例如為電子線硬化時，可使用自克谷羅夫瓦魯頓(Cockroft－Walton)型、結合高壓型、共振變壓型、絕緣椰纖維變壓器型、直線型、動態管型、高周波型等各種電子線加速器所放出的具有50~1000KeV(較佳者為100~300KeV)之能量線的電子線等，為紫外線硬化時，可利用自超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧、氙氣弧、金屬鹵素燈等光線所發出的紫外線等。
本發明之光擴散薄膜係為在高溫下之尺寸安定性良好者。具體而言，在80℃之環境下放置30分鐘前後之尺寸變化為0%，以及在100℃之環境下放置30分鐘前後之尺寸變化為0%，特別是在120℃之環境下放置30分鐘前後的尺寸變化為0%。因此，即使液晶顯示裝置之背景燈以LED取代現行的螢光燈，因發生熱產生的尺寸變化極小。
亦可使至少一面薄膜層之表面實施護墊處理。而且，於熔融T塑模押出時，藉由在聚酯中混練分散丙烯酸珠予以押出，可製造光擴散薄膜。
本發明之防止反射薄膜，包含由上述聚酯薄膜(未延伸)所成的薄膜層及在至少一面該薄膜層之表面上所形成的防止反射層。
聚酯薄膜在波長550nm時面內阻滯作用Re[550]以20nm以下較佳，以15nm以下更佳，以10nm以下尤佳，以5nm以下最佳。為上述範圍時，可製作影像視認性優異的防止反射薄膜。
聚酯薄膜之厚度可視要求型式任意設定。一般而言為50~400 μ m，就處理性而言以80 μ m以上較佳，就背景燈之薄型化而言以300 μ m以下較佳。
聚酯薄膜之全光線透過率以85%以上較佳，以90%以上更佳。而且，霧度以3%以下較佳，以2%以下更佳。此等之值為上述範圍時，可具有充分的性能。
防止反射層係使用習知的材料，以習知的方法製造。防止反射層係在薄膜層上或薄膜層上積層的硬性塗覆層上製膜。防止反射層可以為單層，亦可以為多層。具有多層防止反射層之防止反射薄膜，反射率極低，對於沒有背景燈之攜帶型終端機等極為有效。
可使用氟化鎂等之氟化金屬、含氟之有機化合物、二氧化矽、氧化銦－氧化錫(ITO)等作為防止反射層之材料，惟不受此等所限制。
防止反射層沒有特別的限制，可藉由乾式塗覆法，例如真空蒸熔法、濺射法等之物理蒸熔方法、及CVD等之化學蒸熔方法、或使溶液塗覆且乾燥的濕式塗覆法形成。為製得反射率低的防止反射薄膜時，以真空蒸熔法或濺射法較佳。真空蒸熔係防止反射層材料蒸發的方法使用電阻加熱方式、電子束加熱方式、高周波衍生加熱方式、雷射束加熱方式，一般而言利用電子束加熱。防止反射層之厚度，單層時以50nm~150nm，多層時以100~500nm較佳。為該範圍時，反射率為1%以下。
在薄膜層與防止反射層之間，可積層厚度1~15 μ m之硬性塗覆層(第5圖)。硬性塗覆層之材料，沒有特別的限制，可使用二氧化矽、氧化鋁、聚有機基矽氧烷等之無機氧化物、多官能丙烯酸系樹脂等透明、具有硬度之樹脂等。硬性塗覆層之製膜方法，可使用真空蒸熔法等之乾式塗覆法、溶液塗覆法等之濕式塗覆法。為具有充分的硬度(鉛筆硬度2H以上)時，由於大多必須為1 μ m以上之厚度，故以使用濕式塗覆法較佳。為濕式塗覆法時，以使活性線硬化型樹脂(例如甲基丙烯酸等之丙烯酸化合物與多官能醇之酯)上照射活性線，予以交聯以形成硬性塗覆層較佳。
本發明之光資訊記錄媒體，係由順序積層由上述聚酯薄膜(未延伸)所成的薄膜層、透明黏合劑層、記錄層、反射層及基材所成。
聚酯薄膜在波長405nm時面內阻滯作用Re[405]以20nm以下較佳，以15nm以下更佳，以10nm以下尤佳，以5nm以下最佳。為上述範圍時，適合作為藍光光碟之保護層，可製造可安定記錄再生的藍光光碟。
各層之厚度可視要求型式任意設定。保護層(透明黏合劑層與光學薄膜)之厚度，以98~102 μ m較佳。為該厚度之範圍內時，追跡伺服器之運作沒有問題，不會發生焦點錯誤的問題。透明黏合劑層之厚度為10~30 μ m，薄膜層之厚度為70~90 μ m。
聚酯薄膜之全光線透過率以85%以上較佳，以90%以上更佳。另外，霧度以3%以下較佳，以2%以下更佳。此等之值為上述範圍時，具有作為構成藍光光碟之保護層的光學等向性薄膜之充分性能。
本發明之光資訊記錄媒體的構成例如第6圓所示。如第6圖所示，基材之厚度大約為1100 μ m。基材之材質。只要是可藉由射出成形使間隙0.32 μ m之導向溝轉印即可，沒有特別的限制。一般所使用者為低價之聚碳酸酯樹脂。在基材上藉由線上塗覆法或濺射法等習知薄膜形成技術使反射層及記錄層製膜(參照日本特開2005－216365號公報、特開2005－158253號公報)。在製膜的記錄層上經由透明黏合劑或黏接劑以使聚酯薄膜貼附。透明黏合劑及黏接劑係可使用”[3]相位差薄膜”所記載者，以丙烯酸系透明黏合劑或黏接劑較佳，以由丙烯酸酯共聚物所成的透明黏合劑或黏接劑更佳。
於下述中，以實施例更詳細地說明本發明，惟本發明不受限於此等實施例所限制的範圍。
實施例所使用的聚酯之評估方法如下所述。
(1)具有環狀縮醛架構之二醇單位的比例由1
H－NMR測定結果計算。測定裝置係使用日本電子(股)製JNM－AL400，以400MHz測定。溶劑係使用重氯仿。
(2)玻璃轉移溫度使用島津製作所製DSC/TA－50WS，使約10mg試料置在鋁製非密封容器中，在氮氣(30ml/min)氣流中、以昇溫速度20℃/min測定。以所得DSC曲線於轉移前後之基線之差僅變化1/2時的溫度作為玻璃轉移溫度。
(3)特性黏度使0.5g聚酯在120g苯酚與1,1,2,2－四氯乙烷之混合溶劑(質量比＝6：4)中加熱溶解、過濾後，冷卻至25℃以調製測定試料。裝置係使用(股)柴山科學機械製作所製、毛細管黏度計自動測定裝置SS－300－L1，在溫度25℃下進行測定。
(4)熔融黏度使用(股)東洋精機製作所、商品名：Capillograph 1C。毛細管之直徑為1mm、長度為10mm，測定條件為測定溫度240℃、預熱時間3分鐘、切變速度100sec－ 1
。
實施例、比較例之薄膜的評估方法如下所述。
(5)厚度使用索尼()(股)製、使用數據微測定器M－30予以測定。
(6)阻滯作用使用日本分光(股)製分光橢圓測定器、商品名：M－220之3次元折射率測定程式，測定阻滯作用之遲相軸周邊的入射角相關性。入射角0°之阻滯作用作為面內阻滯作用Re。面內阻滯作用Re之大小，即使是同一試料時，由於與測定波長有關，故以Re[λ]表示測定波長為λ(nm)時之面內阻滯作用。
(7)全光線透過率、霧度以JIS－K－7105、ASTM D1003為基準予以測定。使薄膜調濕48小時後，在23℃、相對濕度50%之氣氛下測定。使用的測定裝置係為日本電色工業公司製之曇價測定裝置(型式：COH－300A)。
(8)透濕度使用LYSSY AG ZLLIKON公司製「L80－4005L」，以JIS－K－7129記載的方法為基準，在溫濕度條件40℃、90RH%測定。
(9)尺寸變化率以JIS－K7133為基準予以測定。在薄膜上以50mm間隔各縱橫拉出3條線，在所定溫度之熱風乾燥機中保存30分鐘後，藉由下式求取尺寸變化率。而且，表中押出方向記載為MD方向，與押出方向成直角的方向記載為TD方向。
尺寸變化率(%)＝{(La－Lb)/La}x 100 La：保存前線之間隔(50mm)Lb：保存後線之間隔
在150L具備填充塔式精餾塔、分縮器、全縮器、冷槽、攪拌機、加熱裝置、氮氣導入管之聚酯製造裝置中加入如表1記載之原料單體。對二羧酸成分而言0.03莫耳%之醋酸錳四水合物存在下，氮氣氣氛下昇溫至215℃，進行酯交換反應。二羧酸成分之反應轉化率為90%以上後，對二羧酸成分而言加入0.02莫耳%氧化銻(III)與0.06莫耳%磷酸三甲酯，慢慢地昇溫、減壓，最後在270℃、0.1kPa以下進行聚縮合。在適當的熔融黏度時完成反應，製造聚酯。評估結果如表1所示。
比較例所使用的樹脂如下所述。
(1)聚對酞酸乙二酯：日本Plastics Solution( )(股)製、RT543C(表中簡稱為PET)
(2)聚碳酸酯：三菱工程塑膠(股)製、Lupilon E－2000(表中簡稱為PC)
使用由在附有設置回流型聚合物過濾器(網目5 μ m、直徑4吋、8張)及30mm寬之塗覆吊架型T塑模的真空帶之單軸押出機(螺旋直徑32mm φ)、冷卻輥(藉由熱媒可調整溫度)、拉伸輥及卷取機(可調整張力)所成的薄膜製造設備。使用製造例1~4之聚酯，以押出機量筒溫度250℃、聚合物過濾器溫度250℃、T塑模溫度250℃、冷卻輥溫度81~88℃、T塑模隙縫開度0.7mm、氣體間隙20mm、吐出速度9kg/h、螺旋回轉數55rpm、拉伸速度4m/分之條件，製造厚度大約為100 μ m之薄膜。評估結果如表2所示。
除使冷卻輥溫度改為70℃(樹脂之玻璃轉移溫度－34℃)外，與實施例1相同地進行聚對酞酸乙二酯之熔融押出，製造厚度大約為100 μ m之薄膜。製造中，薄膜與輥之密接性不佳，薄膜部分膨脹，產生外觀缺陷情形。評估結果如表3所示。
除使冷卻輥溫度改為137℃(樹脂之玻璃轉移溫度＋33℃)外，與實施例1相同地進行聚對酞酸乙二酯之熔融押出，製造厚度大約為100 μ m之薄膜。製造中，薄膜與輥之密接性過佳，藉由重複過度密接與剝離，薄膜產生剝離斑。評估結果如表3所示。
使圓筒溫度為220~275℃、塑模溫度為265℃進行熔融押出。押出的熔融樹脂以設定為70℃之冷卻輥冷卻，製造厚度大約為100 μ m之薄膜。評估結果如表3所示。
除使圓筒溫度為220~260℃、塑模溫度為255℃外，與實施例1相同地進行聚對酞酸乙二酯之熔融押出。押出的熔融樹脂以設定為130℃之冷卻輥冷卻，製造厚度大約為100 μ m之薄膜。評估結果如表3所示。
使用由附有設置齒輪幫浦及550mm寬度之塗覆吊架型T塑模之真空帶的單軸押出機(螺旋直徑50mm φ)、冷卻輥(藉由熱媒可調整溫度)、拉伸輥及卷取機(可調整張力)所成的薄膜製造設備。使用製造例1之聚酯，以押出機量筒溫度240℃、聚合物過濾器溫度240℃、齒輪幫浦溫度240℃、T塑模溫度240℃、冷卻輥溫度80~92℃、T塑模隙縫開度0.5mm、氣體間隙15mm、吐出速度30kg/h、螺旋回轉數55rpm、拉伸速度12m/分之條件，製造厚度大約為100 μ m之薄膜。評估結果如表4所示。
除使冷卻輥溫度固定為80℃、拉伸速度為30m/分或10m/分外，與實施例5相同地進行製造例1之聚酯熔融押出，製造厚度為38 μ m、120 μ m之薄膜。評估結果如表4所示。
於下述中，詳細說明由本發明聚酯薄膜構成的相位差薄膜之實施例。
(1)Nz係數、厚度方向阻滯作用Rth([(nx＋ny)/2－nz]×d、d為薄膜厚度)之求取藉由分光橢圓測定器測定薄膜面內遲相軸周圍之阻滯作用的入射角相關性。該測定結果係由延伸薄膜之厚度及樹脂平均折射率求取延伸薄膜之折射率橢圓體的主軸長度、即主折射率nx、ny，nz。計算方式系藉由夏普技法通卷85號(2004年4月)[GRP方式廣視野角LCD技術]記載的藉由光學薄膜中折射率橢圓體膜模式進行阻滯作用之入射角相關性的解析測定特性曲線與測定值之適性。自求得的主折射率nx、ny、nz與薄膜厚度d，以上述式求取Nz係數與厚度方向阻滯作用Rth。由於Nz係數及Rth與測定波長有關，故測定波長λ(nm)之Nz係數、厚度方向阻滯作用以Nz[λ]、Rth[λ]表示。
第1圖係表示波長550nm之聚酯成形薄膜的遲相軸周圍之阻滯作用入射角相關性的藉由分光橢圓測定器之實測值(點線)與上述模式之理論曲線(實線)。
使用具有真空帶與寬550mm之塗覆吊架塑模之單軸押出機(螺旋直徑50mm φ)，以量筒溫度220~240℃、塑模溫度為240℃、吐出速度30kg/h之條件進行製造例1之聚酯的熔融押出。押出的熔融樹脂以設定為96℃之第1冷卻輥、60℃之第2冷卻輥冷卻，以12m/分拉伸，製造厚度為80 μ m、寬度480mm之聚酯成形薄膜。評估結果如表5、第1圖所示。
使聚酯成形薄膜以延伸倍率＝1.5倍、延伸速度＝30mm/分、延伸溫度＝製造例1之聚酯的玻璃轉移溫度＋7.57℃之條件，以延伸機一軸延伸，製造相位差薄膜1。評估結果如表6所示。Nz[550]、面內阻滯作用Re[550]與厚度方向阻滯作用Rth[550]，係與聚酯成形薄膜相同地求取。
除使延伸溫度改為玻璃轉移溫度＋17.57℃外，與實施例8相同地製造相位差薄膜2。評估結果如表6所示。
除使延伸溫度改為玻璃轉移溫度＋27.57℃外，與實施例10相同地製造相位差薄膜3。評估結果如表6所示。
第2圖係表示聚酯成形薄膜、及實施例10~12之延伸薄膜的Re[550]x Nz[550]與R[550]所定義的平面上之橢圓體位置。由第2圖可知，一軸延伸薄膜係Nz[550]大約為1，延伸溫度愈低時，面內阻滯作用Re[550]愈大。
使2張相位差薄膜2經由丙烯酸系黏合劑[住友3M(股)、DP－8005 Clear]，且使遲相軸錯開120°予以重疊，使該物使用滾筒予以壓熔，製造具有多層構造之相位差薄膜。
在實施例13之具有多層構造的相位差薄膜上，使與製造例5相同方法所得的厚度80 μ m之聚酯成形薄膜(作為保護層)經由丙烯酸系黏合劑[住友3M(股)、DP－8005 Clear]積層，製造積層有光學等向性保護層之相位差薄膜。
使厚度75 μ m之聚乙烯醇薄膜[(股)Kurary、Kurary Vinylon #7500]裝置於格子上，浸漬於含碘0.2g/L與碘化鉀60g/L之30℃水溶液中240秒。然後，浸漬於含有硼酸70g/L與碘化鉀30g/L之30℃水溶液中，一軸延伸成6.0倍且進行硼酸處理5分鐘。最後，在室溫下乾燥24小時，製作偏光膜。在該偏光膜上經由丙烯酸系黏合劑[住友3M(股)、DP－8005 Clear]，使用滾筒積層厚度40 μ m之三乙醯基纖維素(TAC)。再於另一面上使用相同丙烯酸系黏合劑，使偏光膜之光吸收軸與相位差薄膜之遲相軸錯開，使相位差薄膜1藉由滾筒積層一體化。
除積層製造例5之聚酯成形薄膜取代厚度40 μ m之三乙醯基纖維素(TAC)外，與實施例13相同地，製造使偏光板一體化的相位差薄膜。使該偏光板兩側之保護層與相位差薄膜由相同的聚酯(製造例1之聚酯)形成時，可得抑制因吸濕之翹曲效果。
在與實施例14之相位差薄膜的保護層反面上使用滾筒積層厚度25 μ m之丙烯酸系高透明黏合劑轉印帶(住友3M(股)、基材或高透明黏合劑轉印帶8141)。
於下述中，詳細說明由本發明聚酯薄膜所構成的偏光板保護薄膜之實施例。
切出2張10cm x 10cm之偏光板，在溫度80℃、相對濕度90%之環境下放置100小時，製作試驗片。使試驗片配置於卷布尼科爾稜晶(Cross nicol prism)上，加入色溫度5000K之燈箱中，藉由目視觀察是否有光漏情形。
使具有真空帶與寬度550mm之塗覆吊架塑模之單軸押出機(螺旋直徑50mm φ)，以量筒溫度240℃、塑模溫度為240℃、吐出速度30kg/h之條件進行製造例1之聚酯的熔融押出。押出的熔融樹脂以設定為96℃之第1冷卻輥、60℃之第2冷卻輥冷卻，以12m/分拉伸，製造厚度為76 μ m、寬度480mm之聚酯成形薄膜。評估結果如表7所示。
使厚度75 μ m之聚乙烯醇薄膜[(股)Kuraray、Kuraray Vinylon #7500]裝置於格子上，浸漬於含碘0.2g/L與碘化鉀60g/L之30℃水溶液中240秒。然後，浸漬於含有硼酸70g/L與碘化鉀30g/L之30℃水溶液中，一軸延伸成6倍且進行硼酸處理5分鐘。最後，在室溫下乾燥24小時，製作偏光膜。然後，在該偏光膜上經由丙烯酸系黏合劑[住友3M(股)、DP－8005 Clear]，使偏光膜與上述聚酯薄膜貼合，製得偏光板。光漏試驗之結果如表7所示。
除吐出速度改為55kg/h、量筒溫度及塑模溫度改為250℃外，與實施例18相同地製造聚酯成形薄膜。厚度為152 μ m，寬度為497 μ m。評估結果如表7所示。
使用上述聚酯薄膜，與實施例18相同地製得偏光板。光漏試驗結果如表7所示。
除第1輥溫度改為94℃外，與實施例18相同地製造聚酯成形薄膜。厚度為74 μ m，寬度為479 μ m。評估結果如表7所示。
使用上述聚酯薄膜，與實施例18相同地製得偏光板。光漏試驗結果如表7所示。
除押出機之量筒溫度及塑模溫度改為245℃外，與實施例18相同地製造聚酯成形薄膜。厚度為74 μ m，寬度為482 μ m。評估結果如表7所示。
使用上述聚酯薄膜，與實施例18相同地製得偏光板。光漏試驗結果如表7所示。
除使用三菱步驟塑膠公司製、商品名「Lupilon E－2000R」(表中簡稱為PC)，量筒溫度改為290℃及塑模溫度改為290℃，第1輥之溫度改為130℃外，與實施例18相同地製造聚酯成形薄膜。厚度為75 μ m，寬度為476 μ m。評估結果如表8所示。
使用上述聚酯薄膜，與實施例18相同地製得偏光板。光漏試驗結果如表8所示。
除使用日本Plastics Solution()公司製、RT543C(表中簡稱為PET)，量筒溫度及塑模溫度改為270℃，第1輥之溫度改為70℃外，與實施例18相同地製造聚酯成形薄膜。厚度為75 μ m，寬度為476 μ m。評估結果如表8所示。
使用上述聚酯薄膜，與實施例18相同地製得偏光板。光漏試驗結果如表8所示。
直接使用富士照相底片公司製、商品名「富士塔克( )」(表中簡稱為TAC)。評估結果如表8所示。
使用上述薄膜，與實施例18相同地製得偏光板。光漏試驗結果如表8所示。
於下述中，詳細說明由本發明聚酯薄膜所構成的鏡片之實施例。
使具有真空帶與寬度550mm之塗覆吊架塑模之單軸押出機(螺旋直徑50mm φ)，以量筒溫度220~240℃、塑模溫度為240℃、吐出速度30kg/h之條件進行製造例2之聚酯的熔融押出。押出的熔融樹脂以設定為Tg－10℃之第1冷卻輥、與設定為60℃之第2冷卻輥冷卻，以12m/分拉伸，製造厚度為100 μ m、寬度480mm之聚酯薄膜。評估結果如表9所示。
在JIS2804為基準之黃銅製3mmx300mmx400mm板上，以50 μ m間隙平行切削頂角65°、截面為二等邊三角形稜鏡列，形成光學元件圖案(稜鏡圖案)，實施催化鎳電鍍，製作鏡片模具。鏡片模具上適當注入丙烯酸系紫外線硬化性單體混合液後，使切成適當大小的聚酯薄膜以輥加壓且重合。然後，自3條在聚酯薄膜上述所配置的照射強度80w/cm之6.4kw紫外線燈(維斯塔庫歐茲(譯音)公司製)照射紫外線45秒，使樹脂硬化後，自鏡片模具取出，製得稜鏡片。評估結果如表9所示。而且，丙烯酸系紫外線硬化性單體混合液為下述組成。
日立化成公司製FA－321M．．．．．．．50重量%日本化藥公司製KAYARADR－604．．．．20重量%大阪有機化學公司製Biscoat #192．．30重量%Merck公司製Darocur 1173(游離基系光聚合起始劑)．．．．1.5重量份(上述FA－321M、KAYARADR－604及Biscoat #192係相當於可游離聚合的單體或低聚物(A)，Darocur 1173係相當於活性能量線感應觸媒(B))
在JIS2804為基準之黃銅製3mmx300mmx400mm板上，以0.2mm間隙平行切削截面之彎曲半徑為0.5mm的圓弧列，形成由數個平行的凹凸鏡片列所成的凹凸鏡部，實施催化鎳電鍍，製作鏡片模具。鏡片模具上適當注入丙烯酸系紫外線硬化性單體混合液後，使切成適當大小的聚酯薄膜以輥加壓且重合。然後，自3條在聚酯薄膜上述所配置的照射強度80w/cm之6.4kw紫外線燈(西方庫斯( )公司製)照射紫外線45秒，使樹脂硬化後，自鏡片模具取出，製得凹凸鏡片。而且，丙烯酸系紫外線硬化性單體混合液係與製造稜鏡片相同。
在JIS2804為基準之黃銅製3mmx300mmx400mm板上，形成焦點距離300mm、菲涅耳輪帶間隙0.5mm之同心圓狀菲涅耳鏡所成的菲涅耳鏡部，實施催化鎳電鍍，製作鏡片模具。鏡片模具上適當注入丙烯酸系紫外線硬化性單體混合液後，使切成適當大小的聚酯薄膜以輥加壓且重合。然後，自3條在聚酯薄膜上述所配置的照射強度80w/cm之6.4kw紫外線燈(西方庫斯公司製)照射紫外線45秒，使樹脂硬化後，自鏡片模具取出，製得菲涅耳鏡片。而且，丙烯酸系紫外線硬化性單體混合液係與製造稜鏡片相同。
與製造上述菲涅耳鏡片相同地，在聚酯薄膜表面上形成菲涅耳鏡部後，在另一表面上形成與製造上述凹凸鏡片相同地形成凹凸鏡部，製造在一表面上具有菲涅耳鏡部且在另一表面上具有凹凸鏡部之鏡片。
與製造上述菲涅耳鏡片相同地，在聚酯薄膜表面上形成菲涅耳鏡部後，在另一表面上形成與製造上述稜鏡片相同地形成二等邊三角形稜鏡列，製造在一表面上具有菲涅耳鏡部且在另一表面上具有稜鏡列之鏡片。
於下述中，詳細說明有關由本發明聚酯薄膜所構成的光擴散薄膜之實施例。
使具有真空帶與寬度550mm之塗覆吊架塑模之單軸押出機(螺旋直徑50mm φ)，以量筒溫度220~240℃、塑模溫度為240℃、吐出速度30kg/h之條件進行製造例2之聚酯的熔融押出。押出的熔融樹脂以設定為Tg－10℃之第1冷卻輥、與設定為60℃之第2冷卻輥冷卻，以12m/分拉伸，製造厚度為100 μ m、寬度480mm之聚酯薄膜。評估結果如表10所示。
使作為構成光擴散層之黏合劑樹脂之紫外線硬化型樹脂(日本化藥製DPHA、折射率1.51)66重量%、硬化起始劑(Cibageigy公司製、IRGACURE 184)4重量%、及作為擴散珠之丙烯酸珠(積水化成品工業MBX－12、平均粒徑12 μ m、折射率1.49)30重量%混合後，加入甲基乙酮/甲基異丁酮(3/7質量比)調整成固成分24%。使該組成物以乾燥膜厚為6.0 μ m塗覆於聚酯薄膜上，予以乾燥。然後，使用160W/cm之空冷金屬鹵素燈(Eyegraphics(股)製)，照射照度400mW/cm2
、累積照射量300mJ/cm2
之紫外線，製作塗覆層經硬化的光擴散薄膜。
於下述中，詳細說明由本發明聚酯薄膜所構成的防止反射薄膜之實施例。
使具有真空帶與寬度550mm之塗覆吊架塑模之單軸押出機(螺旋直徑50mm φ)，以量筒溫度220~240℃、塑模溫度為240℃、吐出速度30kg/h之條件進行製造例2之聚酯的熔融押出。押出的熔融樹脂以設定為Tg－10℃之第1冷卻輥、與設定為60℃之第2冷卻輥冷卻，以12m/分拉伸，製造厚度為100 μ m、寬度480mm之聚酯薄膜。評估結果如表11所示。
在以上述所得的聚酯薄膜上塗覆乾燥後之厚度為5 μ m之Desolite Z7501(JSR股份有限公司製)，且予以紫外線硬化。
然後，在硬性塗覆層上以電子束加熱式蒸熔法使氟化鎂進行厚度為100nm之塗覆，製得防止反射薄膜。評估結果如表11所示。
於下述中，詳細說明有關由本發明聚酯薄膜構成的光資訊記錄媒體之實施例。
使具有真空帶與寬度550mm之塗覆吊架塑模之單軸押出機(螺旋直徑50mm φ)，以量筒溫度220~240℃、塑模溫度為240℃、吐出速度30kg/h之條件進行製造例1之聚酯的熔融押出。押出的熔融樹脂以設定為96℃之第1冷卻輥、與設定為60℃之第2冷卻輥冷卻，以12m/分拉伸，製造厚度為80 μ m、寬度480mm之聚酯薄膜。評估結果如表12所示。
藉由射出成形所形成的厚度1.1mm之聚碳酸酯樹脂圓形基板上，藉由濺射法使薄膜(反射層及記錄層)製膜。以Ag作為反射膜、以、ZiS－SiO2
介電體膜/Ge－Sb－Te記錄膜/ZiS－SiO2
介電體膜作為記錄層之順序成膜。於成膜後，藉由雷射光照射，以熱處理使膜全面結晶化，予以初期化。
然後，在聚酯薄膜上使用輥積層器由高透明黏合劑轉印帶轉印透明黏合劑，使所得的積層體穿孔成外徑119.4mm φ、內徑22.5mm φ之同心圓多拿茲狀。使所得附有透明性黏合劑之聚酯薄膜藉由輥積層器貼附於記錄層上，製造光資訊記錄媒體。此時，聚酯薄膜與透明性黏合劑層之合計厚度考慮為100 μ m(±2 μ m)。聚酯薄膜之厚度為80 μ m，透明性黏合劑層之厚度為20 μ m。使該製造的光資訊記錄媒體以夏普牌(股)製藍光光碟記錄器”BD－HD100”記錄再生的結果，以記錄再生影像之目視觀察確認進行良好的記錄再生。
除使丙烯酸系黏合劑(住友3M(股)、DP－8005 Clear)自滾筒帶塗覆於聚酯薄膜上以取代在聚酯薄膜上藉由輥積層器積層由透明性黏合劑所成的高透明黏合劑轉印帶外，與實施例27相同地，製造光資訊記錄媒體。
除使丙烯酸改質一液型濕氣硬化型黏合劑(Konishi股份有限公司製、商品名：伯頓賽雷古斯「谷里亞」)自滾筒帶塗覆於聚酯薄膜上以取代在聚酯薄膜上藉由輥積層器積層由透明性黏合劑所成的高透明黏合劑轉印帶外，與實施例27相同地，製造光資訊記錄媒體。
除使醋酸系一液型濕氣硬化型黏合劑(信越化學工業股份有限公司製、商品名：KE－41－T)自滾筒帶塗覆於聚酯薄膜上以取代在聚酯薄膜上藉由輥積層器積層由透明性黏合劑所成的高透明黏合劑轉印帶外，與實施例27相同地，製造光資訊記錄媒體。
除使胺基甲酸酯系一液濕氣硬化型黏合劑(三井武田化學股份有限公司製、商品名：塔肯奈頓M631N)自滾筒帶塗覆於聚酯薄膜上以取代在聚酯薄膜上藉由輥積層器積層由透明性黏合劑所成的高透明黏合劑轉印帶外，與實施例27相同地，製造光資訊記錄媒體。
除使丙烯酸系無溶劑電子線硬化型黏合劑(納卡西肯姆技術股份有限公司製、商品名：DA－314)自滾筒帶塗覆於聚酯薄膜上以取代在聚酯薄膜上藉由輥積層器積層由透明性黏合劑所成的高透明黏合劑轉印帶外，與實施例27相同地，製造光資訊記錄媒體。
除使環氧系無溶劑紫外線硬化型黏合劑(Norland Products製、商品名：Norland Optical Adhesive 81)自滾筒帶塗覆於聚酯薄膜上以取代在聚酯薄膜上藉由輥積層器積層由透明性黏合劑所成的高透明黏合劑轉印帶外，與實施例27相同地，製造光資訊記錄媒體。
除使丙烯酸系黏合劑(Konishi股份有限公司製、商品名：優尼伯頓)自滾筒帶塗覆於聚酯薄膜上以取代在聚酯薄膜上藉由輥積層器積層由透明性黏合劑所成的高透明黏合劑轉印帶外，與實施例27相同地，製造光資訊記錄媒體。
自索尼製錄影用藍光光碟BF23GB之保護層除去透明黏合劑層，評估所得薄膜之阻滯作用。結果如第7圖所示。使該薄膜之吸收光譜藉由ATRFT－IR法測定時，為PC樹脂製。
本發明之光學等向性聚酯薄膜，光學透明性優異，且折射率起因之阻滯作用小。特別是藍光光碟在波長405nm下垂直入射之面內阻滯作用Re[405]為5nm以下，係更佳。由第7圖可知，Re[405]對比較例8為3.97nm而言，實施例27為1.94nm。
而且，實施例27之最大入射角±60°(由拾像光學系之開口數0.85換算)範圍內波長405nm之阻滯作用為20nm以下，比較例8中較40nm以下為小，係較佳。如上述說明，由於產生聚酯薄膜之複折射原因的入射雷射光之偏波面變化沒有問題，故本發明之聚酯薄膜可使用作為藍光光碟之保護層的構成材料。
本發明之聚酯薄膜，以經濟性優異的押出成形法，可容易地使光學等向性薄膜製膜。本發明之聚酯薄膜可使用於偏光板或相位差薄膜等之光學構件，本發明對工業上具有極大意義。
10、10a、10b、10c‧‧‧薄膜層
20‧‧‧稜鏡部
30‧‧‧黏合劑樹脂
40‧‧‧擴散珠
50‧‧‧光線
60‧‧‧防止反射層
70‧‧‧硬性塗覆層
80‧‧‧保護層
82‧‧‧聚酯薄膜
84‧‧‧黏合層
90‧‧‧記錄層
100‧‧‧反射層
【第1圖】係表示藉由分光橢圓測定器之實測值(點線)與折射率橢圓體模型之理論曲線(實線)圖。
【第2圖】係為藉由一軸延伸之阻滯作用表現性。
【第3圖】係表示稜鏡片之構成例的簡略圖。
【第4圖】係表示光擴散薄膜之構成例的簡略圖。
【第5圖】係表示防止反射薄膜之構成例的簡略圖。
【第6圖】係表示光資訊記錄媒體之構成例的簡略圖，圖中，保護層之厚度為100μm，薄膜層之厚度為100μm，聚酯薄膜之厚度為80μm，黏合層之厚度為20μm。
【第7圖】係表示阻滯作用之入射角相關性圖。
Claims (24)
- 一種聚酯薄膜，其係將含有二羧酸單位與二醇單位，且該二醇單位之1~80莫耳%為具有環狀縮醛架構之二醇單位的聚酯，藉由熔融押出法製膜而成的膜厚1~500μm之聚酯薄膜，其特徵為波長550nm之面內阻滯作用為20nm以下；該具有環狀縮醛架構之二醇單位係源自於3,9-雙(1,1-二甲基-2-羥基乙基)-2,4,8,10-四氧化螺[5.5]十一烷基或5-羥甲基-5-乙基-2-(1,1-二甲基-2-羥基乙基)-1,3-二烷；該具有環狀縮醛架構之二醇單位以外之二醇單位係源自於一種以上選自於乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、1,4-丁二醇、及1,4-環己烷二甲醇的二醇；該二羧酸單位係源自於一種以上選自於對酞酸、異酞酸、及2,6-萘二羧酸之二羧酸；且係藉由包含下列步驟之製法所製造，將聚酯熔融押出以形成熔融薄膜之步驟；將該熔融薄膜接觸冷卻輥予以冷卻硬化之步驟；該熔融押出步驟係在押出溫度200~300℃、氣體間隙100mm以下、拉伸速度0.2~100m/分之條件下進行，並將冷卻輥溫度調整於聚酯之玻璃轉移溫度-30℃~聚酯之玻璃轉移溫度+30℃之範圍。
- 一種光學構件，其特徵為具有如申請專利範圍第1項之聚酯薄膜、或由如申請專利範圍第1項之聚酯薄膜所得的延伸薄膜所成之薄膜層。
- 如申請專利範圍第2項之光學構件，其係具有經控制面內阻滯作用及/或Nz常數之該延伸薄膜所成之薄膜層的相位差薄膜。
- 如申請專利範圍第3項之光學構件，其中具有積層2層以上該薄膜層之多層構造。
- 如申請專利範圍第3項之光學構件，其中在該薄膜層之至少一面上積層有光學等向性保護層。
- 如申請專利範圍第5項之光學構件，其中該光學等向性保護層具有由如申請專利範圍第2項之聚酯薄膜所成的薄膜層。
- 如申請專利範圍第3~6項中任一項之光學構件，其中已在該薄膜層上積層偏光板予以一體化。
- 如申請專利範圍第3~6項中任一項之光學構件，其中在該薄膜層之至少一面上介隔黏合劑層或黏著劑層積層有剝離性片板。
- 如申請專利範圍第2項之光學構件，其係由在40℃、90%RH下之透濕度為10~300g/(m2 ‧24hr)之該聚酯薄膜所成的薄膜層及偏光膜所構成的偏光板。
- 如申請專利範圍第9項之光學構件，其中該聚酯薄膜之波長550nm的面內阻滯作用為5nm以下。
- 如申請專利範圍第9項之光學構件，其中該聚酯薄膜之膜 厚為200μm以下，膜厚之最大值與最小值差為平均膜厚之2%以下。
- 如申請專利範圍第9~11項中任一項之光學構件，其中該聚酯薄膜之全光線透過率為90%以上，霧度為1%以下。
- 如申請專利範圍第2項之光學構件，其係由該聚酯薄膜所成的薄膜層、及由擴散珠及黏合劑樹脂而成的光擴散層所構成之光擴散薄膜。
- 如申請專利範圍第13項之光學構件，其中該黏合劑樹脂係由一種以上選自於包含電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、及紫外線硬化型樹脂的群組之樹脂所成。
- 如申請專利範圍第13或14項之光學構件，其中擴散珠係由至少一種選自於包含玻璃、丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、氯化乙烯樹脂、及聚碳酸酯樹脂之群組所成。
- 如申請專利範圍第2項之光學構件，其係由該聚酯薄膜所成的薄膜層、及形成於該薄膜層之至少一個表面上之光學元件所成的鏡片。
- 如申請專利範圍16項之光學構件，其中光學元件係由活性能量線硬化性樹脂所形成。
- 如申請專利範圍第16或17項之光學構件，其中光學元件具有由並列形成的截面為三角形之數列稜鏡列所成的稜鏡部。
- 如申請專利範圍第16或17項之光學構件，其中光學元件具有由並列形成的數個圓筒狀鏡列所成的凹凸鏡部。
- 如申請專利範圍第16或17項之光學構件，其中光學元件為具有形成同心圓狀菲涅耳鏡(Fresnel lens)形狀所成的菲涅耳鏡部。
- 如申請專利範圍第2項之光學構件，其係由該聚酯薄膜所成之薄膜層、及積層於該薄膜層之防止反射層所成之防止反射薄膜。
- 如申請專利範圍第2項之光學構件，其係為依序積層由該聚酯薄膜所成的薄膜層、透明性黏合劑層、記錄層、反射層及基材所成的光資訊記錄媒體。
- 如申請專利範圍第22項之光學構件，其中該薄膜層之厚度與透明性黏合劑層之厚度合計為98~102μm。
- 如申請專利範圍第22或23項之光學構件，其中該薄膜層之波長405nm之面內阻滯作用為5nm以下。
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