TWI358749B - Method of forming pattern writing data by using ch - Google Patents

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1358749 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於荷電粒子束描繪資料之製作方法。例如係 關於由作為設計資料之電路之佈局資料製作描繪資料之荷 電粒子束描繪資料之製作方法。描繪資料係用來一面使荷 電粒子束偏向’一面描繪特定圖案之資料。 【先前技術】 擔負半導體裝置之微細化之進展之微影技術係在半導體 製程中唯一生產圖案之極重要之製程。近年來，隨著 之高積體化，半導體裝置所要求之電路線寬年年趨向微細 化。為了在此等半導體裝置形成希望之電路圖案，需要高 精度之原始圖案（又稱標線片或遮罩在此，電子束（電子 束）描繪技術在本質上具有優異之解像性，可使用於高精 度之原始圖案之生產。 圖31係說明可變成形型電子束描繪裝置之動作之概念 圖。 可變成开> 型電子束描繪裝置（EB(Electron bean :電子束） 描繪裝置）施行如以下之動作。在第丨孔徑41〇形成用來成 形電子束442之矩形例如長方形之開口 411。又，在第2孔 徑420形成用來將通過開口 411之電子束料2成形為希望之 矩形形狀之可變成形開口 42卜由荷電粒子源43〇照射，並 通過開口 411之電子束442係被偏向器所偏向。而，通過可 變成形開口 42丨之一部分而照射於裝載於台上之試樣44〇。 又，台係在描繪中，向特定一方向（例如χ方向）連續移 119038.doc -6 - 1358749 動。即’可通過開口 411與可變成形開口 421之雙方之矩形 形狀被描繪在裝載於連續移動之台上之試樣440之描繪區 域。通過開口 411與可變成形開口 421之雙方，作成任意形 狀之方式稱為可變成形方式。 在施行此電子束描繪之際，首先，設計半導體積體電路 之佈局’產生佈局資料（設計資料而，變換此佈局資 料’產生使用於電子束描繪裝置之描繪資料。而且，依據 描繪資料，進一步實際地將圖形分割、描繪成電子束發射 用之發射尺寸。 而’例如向Y方向將試樣之描繪區域假想地分割成偏向 器可偏向幅度之長形之複數頁框區域β而，使載置試樣之 台一面向X方向移動，一面利用1段或多段偏向器使電子束 偏向而描繪其分割之各頁框區域。而，在第1頁框區域之 描繪結束後’使台向γ方向移動。而，此次施行第2頁框區 域之描纟會。在此，也使台一面向X方向移動，一面施行第2 頁框區域之描繪。如此依序施行各頁框區域之描繪。 在此’有關台在1個頁框内向X方向移動之情形，以步進 及反覆方式移動之電子束描繪方法，揭示下列技術。即， 為了消除因機械的移動而跨過移動前後之區域之圖案之偏 移’將圖案分割’而依照分割數減少用量之技術（例如.參 照曰本特開平4-176 114號公報）。又，有關存在有跨過將頁 框寬角之主偏向區域作更小分割之子欄位間之圖案之情 形’揭示下列技術。即’以跨過之圖案為基準變更子攔位 之境界位置而調整成不跨過之技術（例如參照日本特開平 119038.doc 1358749 11 在描緣裝置中有—段或多 向區域之區域，在該偏向區域中偏二起關於超出偏 束之偏向無法逹到而不能施行描繪。因此 偏向區域之圖π _、 ^ Ψ配置跨過 際，有…形，在作成佈局資料之 取如τ所述之對策。即，有必要預先將翠元 二==偏向區域而作成佈局資料。此種情形，1個 m複數偏向區域。因此，單元之配置位置及 之資料量。 —果會增加佈局資料 又，在原本有可陣列結構化之單元之情形，在並 或全部要素跨及別的偏向區域之情形，有必要採取如= =策。即，有必要故意展開陣列而定義於依照各單元 被配：之偏向區域。因此’有關單元之資訊需要有複數 個，結果，會增加佈局資料之資料量。 資料r換處理中，尤其在上游側之佈局資料之 增加時’在由佈局資料變換成描繪資料之情形，變 換所需之時間會增加。再者，不僅如此，為了將該資料發 換裝置也會有需花費龐大時間之問題。在資料量隨 者：年之LSI之南積體化而增加之趨勢中，此種 之-貝料量之增加對料裝置之生㈣也會造成影響。 :=，即可削減判斷佈局資料之正當性之 格式檢查時間）。 【發明内容】 119038.doc 丄乃8749 本發明之目的在於提供一種減少佈局資料之 法0 發明之-㊆樣之荷電粒子束描％資料之製作方法係 由電路之佈局資料，利用荷電粒子束製作用來—面使前 “何電粒子束偏向面描繪特定圖案之錢 特徵在於： '、 輸入含有跨過複數偏向區域之圖案之佈局資料；

依據所輸入之佈局資料，在前述複數偏向區域之各偏向 區域中，產生跨區圖案中可在自己 匕之e域偏向之部分圖 案； ▲將在各偏向區域中定義有區域内之部分圖案之佈局資料 變換成荷電粒子束描繪資料而輸出。 又，本發明之另-態樣之荷電粒子束描繪資料之製作方 法係

為料量之方 …由電路之佈局資料’利用荷電粒子束製作用來—面使前 述何電粒子束偏向面描繪特定圖案之描繪資料者，盆 特徵在於： ~ 輸入含有被；t義作為複數偏向區域中之任—個偏向區域 之圖案，並跨過複數偏向區域之圖案之佈局資料； 在疋義有跨區圖案之偏向區域中，將跨區圖案中偏離在 自己之區域可偏向之位置之圖案部分加以分割； 將被分割後之前述㈣部分應用作為所跨過之偏向區域 中之部分圖案； 將在各偏向區域定義有區域内之部分圖案之佈局資料變 H9038.doc 丄观749 換成荷電粒子束描繪資料而輪出者。 【實施方式】 以下在實施型態中，主要說明有關製作描繪資料之荷 電粒子束⑽:㈣之製作方法或其裝置。描繪資料係由電 路之佈局貝料’利用荷電粒子束一面使荷電粒子束偏向一 面描繪特Μ案用之資料。而且，說明使用電子束做為荷 電粒子束之__例之情形。在此，荷電粒子束並不限定於電

子束，只要是離子束等之荷電粒子均無妨 實施型態1. 圖1係表不實施型態丨之電子束描繪資料之製作方法之要 部步驟之流程圖。

在圖1中，電子束描繪資料之驗證方法係實施輸入步驟 (S102)、單元抽出步驟（S104)、作為圖案產生步驟之一部 分之複製步驟（S106)、叢集分割步驟（S108)、叢集分配步 驟（S110)、作為圖案產生步驟之一部分之刪除步驟 (S112)、描繪資料變換步驟（S114)之一連串步驟。 圖2係表示實施型態1之裝置輸入格式變換裝置之構成之 一例之概念圖。 描繪系統600係包含裝置輸入格式變換裝置3〇〇與描綠裂 置1 〇〇。首先’設計半導體積體電路之佈局，產生佈局資 料1〇(設計資料）。而且，裝置輸入格式變換裝置3〇〇輸入此 佈局資料10。而且，變換佈局資料10，以產生使用於描繪 裝置100之描繪資料12。在本實施型態中，進一步依據描 繪資料12，實際地變換成將圖形分割成將電子束照射用之 119038.doc •10- 1358749 照射尺寸之照射資料等。藉此變換，產生輸入至描繪裝置 100用之裝置輸入格式資料14。而且，將此裝置輸入格式 資料14輸出至描繪裝置100。而且，描繪裝置1〇〇利用電子 束，面使電子束偏向，*7面在試樣描繪特定圖案。作為 試樣’包含製造半導體裝置用之遮罩。 在圖2中，裝置輸入格式變換裝置3〇〇係包含描繪資料變 換裝置320與裝置輸入格式變換電路350。描繪資料變換裝 置320係荷電粒子束描繪資料之作成裝置之一例。描繪資 料變換裝置320係包含單元抽出電路3 22、叢集分割電路 324、叢集分配電路326、單元分配電路328、描繪資料變 換電路330、記憶體332。而，單元分配電路328具有複製 電路342、刪除電路344。描繪資料變換裝置32〇係作成描 繪資料12而加以輸出。而，裝置輸入格式變換電路35〇係 輸入描繪資料12，變換成裝置輸入格式資料14而加以輸 出。在圖2中，記載有關說明本實施型態i上所需之構成部 分。裝置輸入格式變換裝置300及描繪裝置1〇〇包含其他構 成也無妨。 圖3係表示實施型態丨之佈局資料之階層結構之一例之 圖。 佈局資料1 0係將描繪區域階層化成為晶片3丨之層、頁框 35之層、區塊32之層、單元34之層、圖形33之層等一連串 之複數之各内部構成單位。頁框35係將晶片3丨區域例如向 y方向分割成長形之區域。單元34係至少由1個以上之圖形 33所構成。圖形33為構成相關單元34之圖案。 D8749 圖4係表示實施型態丨之描繪資料之階層結構之一例之 圖。 描繪資料12係將描繪區域階層化成為晶片41之層、帶49 之層、區塊46之層、單元45之層、叢集47之層、圖形“之 層等連串之複數之各内部構成單位。帶49係將晶片41區 域例如向丫方向分割成長形之區域。 如上所述，關於超出偏向區域之區域，在該偏向區域中， 偏向器引起之荷電粒子束之偏向無法達到而不能施行描繪。 因此，希望配置跨過偏向區域之圖案（例如單元）之情 形，以往，有必要採取如下所述之對策。以往，需設計半 =體積體電路之佈局。巾，在作成佈局資㈣之際，通常 需預先將單元分割成不超出此偏向區域而作成佈局資料 1〇。但在本實施型態中’在佈局上含有跨過複數偏向區域 之圖案（例如單元）之情形，採取如下所述之對策。即，在 此種情形，佈局資料也不會切斷此圖案。代之，在變換成 描繪資料12之際’將此圖案分配至各偏向區域。以下，說 明有關以單元單位掌握圖案之情形。 圖5係表示實施型態1之分配跨過偏向區域之單元之方法 之一例之概念圖。 在圖5中，在佈局資料1〇上，單元4〇之基準點座標位於 區塊22(偏向區域⑽。因此，將單元破義於區塊$區 塊成為偏向區域之-例。也就是說，跨區圖案被定義為複 數偏向區域中之；!個偏向區域之圖案。此單元4〇係跨過鄰 接之區塊20(偏向區城2)被佈局。如上所述，在佈局資料 •12· 1358749 之階段中，不將單元4〇分割。而，將佈局資料1〇輸入至描 繪貝料變換裝置320 〇而，依據輸入後之佈局資料1〇，在 ' 前述複數偏向區域之各偏向區域中，產生可在跨過各偏向 - 區域之單元40中自己之區域偏向之部分單元圖案42、44。 在圖5中，也將單元4〇之資料拷貝（複製）至區塊2〇。而將單 兀40定義於區塊2〇。而，在區塊22中，切斷單元4〇中可在 自己之區域偏向之部分單元圖案44以外之圖案而加以刪 φ 除。同樣地，在區塊2〇中，切斷在單元40中能在自己之區 域偏向之部分單元圖案42而加以刪除。如此，將跨區圖案 之資料複製至跨過之偏向區域而刪除在自己之區域不能偏 向之圖案部分。藉此，在描繪資料變換裝置32〇内，可將 跨區單元分配至各偏向區域。其結果，即可不必在佈局資 、 料10加以分割。藉由此構成，在作成描繪資料12而非作成 佈局資料10之際’在複數偏向區域中有跨區圖案存在之情 形’可產生各區域份之部分圖案。以下’具體說明之。 • 在圖1之8(步驟）1 中，作為輸入步驟，描繪資料變換 裝置320輸入佈局資料1〇。在佈局資料中含有跨過複數 偏向區域之單元。 在圖1之S(步驟）1 〇4中，作為單元抽出步驟，單元抽出 電路322係由佈局資料10,在各區塊抽出被定義於自己之 區域之單元。 圖6係表示實施型態丨之跨過複數偏向區域之單元之一例 之圖。 依據佈局資料10及描繪資料12被描繪之描繪區域係以偏 119038.doc • 13· 1358749 向器可偏向之寬度w被分割成長形之複數區域之頁框i8。 而，在描繪裝置1〇〇描繪鄰接之頁框18之區域之情形，執 - 行如下之動作。即，由於已超越描繪裝置100之偏向器可 ' 變更之區域，故可使描繪裝置100之台移動。藉台之移 動’可移動至偏向器可變更之區域。而，如圖6所示將 各胃框18進一步分割成複數區塊。在圖6中，係表示就區 塊座標（3，4)之區塊22抽出被定義於自己區域之單元之情 • 形。另外，在區塊座標（3, 4)中，表示單元40被布局成跨 在需要描繪裝置100之台移動之頁框18a與頁框18b之區域 間之情形。具體上，單元40係被定義於接觸頁框18b之境 界之區塊22。而跨過接觸於鄰接之頁框i8a之境界之區塊 20。單元40係由圖案π所構成。 ' 在圖1之8106中，作為圖案產生步驟之一部分之複製步 驟’單元分配電路328内之複製電路342係將單元40之資料 拷貝（複製）在跨過之偏向區域之區塊20。 • 圖7係表示實施型態1之複製在跨過之偏向區域之單元之 一例之圖。 如圖7所示，就被定義於區塊22之單元40，也將其複製 ^ 在跨過之區塊20。而，將單元40定義作為區塊20内之單 •元。藉由複製，也可在未被定義之區域中辨識位於自己區 - 域内之圖案。 ' 在圖1之S108中，作為叢集分割步驟，叢集分割電路324 將單元40内叢集分割。 圖8係表示實施型態1之單元之叢集分割之一例之圖。 119038.doc -14- 在圖8中，表示有關被定義於區塊22之單元40。如圖8所 示’被定義於區塊22之單元40之區域内係被叢集分割成複 數叢集16之區域。藉由叢集分割，在描繪裝置100中多重 曝光之情形，可使用於其曝光位置。 圖9係表示圖8之單元之叢集邊分割之一例之圖。 如圖9所示，叢集分割後，可藉由施行省略圖案17不存 在之叢集16之處理而降低資料量。 圖1〇係表示實施型態1之被複製之單元之叢集分割之一 例之圖。 在圖10中，顯示有關被複製且被定義於區塊20之單元 40。如圖1〇所示’與區塊22同樣地，被定義於區塊2〇之單 元40之區域内係被叢集分割成複數叢集丨6之區域。藉由叢 集分割’在描繪裝置1〇〇中多重曝光之情形，可使用於其 曝光位置。 圖11係表示圖10之單元之叢集邊分割之一例之圖。 如圖11所示，與區塊22同樣地，叢集分割後，可藉由施 行省略圖案17不存在之叢集16之處理而降低資料量。 在圖1之si ίο中，作為叢集分配步驟，叢集分配電路326 係在定義跨區單元40之偏向區域與跨過之其他偏向區域 中，切斷在跨區單元40中不能在自己區域内偏向之圖案部 分而將單元4〇分離成複數部分單元圖案。 圖12係表示實施型態i之切斷單元之一例之圖。. 如圖12所示，就被定義於區塊22之單元4〇，產生能在自 己區域内偏向之圖案部分之部分單元圖案44與不能偏向之 119038.doc -15· 1358749 圖案部分之部分單元圖案42。而，切斷超出偏向區域之部 分單元圖案42。 圖13係表示實施型態丨之切斷被複製之單元之一例之 圖。 如圖13所示，就被定義於區塊2〇之單元4〇，產生能在自 己區域内偏向之圖案部分之部分單元圖案42與不能偏向之 圖案部分之部分單元圖案44。而，切斷超出偏向區域之部 分單元圖案44。 在圖1之S112中，作為删除步驟，單元分配電路328内之 刪除電路344係在定義跨區單元4〇之偏向區域與跨過之其 他偏向區域中，刪除在跨區單元4〇中超出自己之偏向區域 而不能偏向之圖案部分。即，如圖12所示，就被定義於區 塊22之單7C 40，切斷不能在自己區域内偏向之圖案部分， 刪除分離之部分單元圖案42之資料。同樣地，如圖13所 示，就被定義於區塊20之單元40,切斷不能在自己區域内 偏向之圖案部分，刪除分離之部分單元圖案44之資料。 藉由如以上所示之構成，依據所輸入之佈局資料1〇，可 產生在跨過複數偏向區域之各偏向區域之圖案中可在自己 區域偏向之部分圖案。其結果，可在佈局資料1〇未分割而 在描繪資料變換裝置320内將跨區單元分配至各偏向區 域。故可降低佈局資料1〇之資料量。 在圖1之S114中，作為描繪資料變換步驟，描繪資料變 換電路330在各區塊或頁框18，將佈局資料1〇變換成描繪 資料12。而將描繪資料12由描繪資料變換裝置32〇輸出至 119038.doc -16· 1358749 裝置輸入格式變換電路350。 在以上之說明中，各電路之輪出入資料係儲存（記憶）於 記憶體332，經由記憶體332被輸送至其他電路。但，並不 限定於此，直接在電路間施行資料之通信也無妨。資料之 通尨只要經由未圖示之匯流排施行即可。 圖14係表示實施型態丨之描繪系統之要部構成之—例之 概念圖。

在圖14中，描繪系統600係包含作為描繪裝置1〇〇之—例 之曝光裝置與裝置輸入格式變換裝置3〇〇。描繪裝置1〇〇包 含描繪部150、控制電路110、資料處理電路12〇。描繪部 150具有電子鏡筒1〇2與描繪室1〇3。在電子鏡筒1〇2内，配 置有電子搶201、照明透鏡202、第！孔徑2〇3投影透鏡 2〇4、偏向器205、第2孔徑206、物鏡207、偏向器2〇8。在 描繪室103内，配置有XYs105。而，在χγ台1〇5上具有法 拉第杯209。而，在XYs 105上配置試樣1〇1。在圖14中，

記載著有關說明本實施型態i上所需之構成部分。在描繪 裝置100中包含其他之構成也無妨。 在裝置輸入格式變換裝置300中，作成裝置輸入格式資 料14後，將裝置輸入格式資料14輸出至資料處理電路 12〇。而，資料處理電路12〇依據被輸入之裝置輸入格式資 料14施行驅動各電路用之資料處理。而，由資料處理電路 120將各控制信號送至控制電路11〇。而，藉控制電路“ο 控制描繪部150，將描繪.資料12所含之圖形圖案描繪在試 119038.doc •17- 1358749

由電子搶210射出之電子束200經由照明透鏡202照明例 如具有長方形孔之第1孔徑203全體。在此，首先，將電子 束200成形為例如長方形。而，通過第1孔徑2〇3之第1孔徑 像之電子束200經由投影透鏡204投影在第2孔徑206上。在 此第2孔徑206上之第1孔徑像之位置係被偏向器205所控 制。藉此’可使束形狀及大小發生變化。而，通過第2孔 徑206之第2孔徑像之電子束200係藉物鏡2〇7被對正焦點。 而’被偏向器208偏向後，照射於χγ台1〇5上之試樣1〇1之 希望之位置。在描繪中，χγ台1〇5連續移動。如上所述， 為繪區域係以可藉偏向器2 〇 8偏向之幅度在分割成長形之 區域（在描繪資料12内為帶狀）内偏向。而，對鄰接之不能 偏向之區域，則可藉由移動XY台1〇5而使試樣1〇1移動至 可藉偏向器208偏向之位置。 圖15係表示實施型態1之切斷位置之一例之概念圖。 區塊20跨過被定義於區塊22之單元4〇之情形，可構成將 偏向區域境界線上切斷作為分離位置5〇〇(切斷位置）。而， 將部分單元圖案44定義於區塊22，將部分單元圖案42定義 於區塊20。 切斷位置並不限定於此，在其他位置也無妨。 圖16係表示實施型態！之另一切斷位置之一例之圖。 偏向區域境界線係由實際可偏向之境界線留下某種程度 之邊寬而設定於内側。故區塊2〇跨過定義於區塊。之單元 4〇之情形，構成將偏向區域邊内之任—位置切斷作為分離 位置500(切斷位置）也極為合適。@，將部分單案料定 119038.doc • 18 · 1358749 義於區塊22,將部分單元圖案42定義於區塊2〇β或者，也 可切斷如以下狀態。 • 圖17係表示實施型態1之另一切斷位置之一例之圖。 • 叢集分割所產生之叢集16也可被定義於基準點座標所在 . 之單元。故區塊20跨過定義於區塊22之單元4〇之情形，構 成在偏向區域邊内，將叢集境界線上切斷作為分離位置 500(切斷位置）也極為合適。而，在叢集“跨過偏向區域境 φ 界線上之情形，考慮叢集16之基準點座標而構成在叢集境 界切斷跨區之叢集16，使其進入自己被定義之部分單元圖 案側時，更為合適。而，將部分單元圖案44定義於區塊 22，將部分單元圖案％定義於區塊2〇。或者，也可切斷如 以下狀態。 ' 圖18係表示實施型態1之另一切斷位置之一例之圖。 在圖18中，區塊2〇跨過定義於區塊22之單元4〇之情形， 構成在偏向區域邊内，在2個分離位置500(分離位置500a • 與分離位置500b)切斷，使構成單元40之圖案17之一部分 重複（重疊）也極為合適。而，將含圖案17b之部分單元圖案 44疋義於區塊22 ’將含圖案17a之部分單元圖案42定義於 區塊20。或者，也可切斷如以下狀態。 圖19係表示實施型態丨之另一切斷位置之一例之圖。 • 在佈局資料10雖含有單元圖案資料，但進一步對跨過複 ' &偏向區域之單70 ’在單元上定義切斷位置作為屬性資訊 也相田〇適。例如’如圖19所示，只要準備具有正邊界與 I邊界之切斷位置資訊作為屬性資訊。而構成切斷此切斷 119038.doc 1358749 位置資訊之位置作為切斷位置500即可。而，將部分單元 圖案44定義於區塊22,將部分單元圖案42定義於區塊2〇。 在此，佈局資料10所含之單元圖案並不限定於分別被單 獨地定義於自己之基準位置座標所在之區塊之情形，也有 對重複被配置之單元圖案，將i個單元圖案與重複資訊定 義於1個區塊作為陣列單元之情形。 圖20係表示實施型態！之分配跨過偏向區域之陣列結構 之單元之方法之一例之概念圖。 在圖20中，在佈局資料10上，單元52與單元54構成之陣 列單元50之基準點座標位於偏向區域之一例之區塊22(偏 向區域1)内。因此，將陣列單元5〇定義於區塊22。在此陣 列單元50中，單元52係跨過鄰接之.區塊2〇(偏向區域2)被佈 局。如上所述，在佈局資料1 〇之階段中，不將陣列單元5 〇 分割，輸入至描繪資料變換裝置32〇。而，依據輸入後之 佈局資料10 ’在構成跨過各偏向區域之陣列單元5〇之單元 52中’產生可在自己區域偏向之部分單元圖案％、58。在 圖20中，也將陣列單元5〇之資料拷貝（複製）至區塊2(^而 將陣列單元5 0疋義於區塊2〇。而，在區塊22中，在陣列單 凡50中，對跨區之單元52，切斷可在自己之區域偏向之部 分單元圖案58以外之圖案而加以删除。同樣地，在區塊2〇 中在陣列單元50中，切斷可在自己之區域偏向之部分單 疋圖案56以外之圖案而加以刪除。如此，在保持陣列結構 之狀態下，將跨區圖案之資料複製至跨過之偏向區域而刪 除在自己之區域不能偏向之圖案部分。藉此，在描繪資料 H9038.doc 1358749 變換裝置32〇内，可將跨區單元分配至各偏向區域。因 此，可不必在佈局資料ίο不必要地分割單元，可在保持陣 列結構之狀態下，作成佈局資料1〇。其結果，除了可避免 在佈局資料10導致分配至部分單元圖案用之資料量之增大 以外，也可進一步避免因分解陣列結構引起之資料量之增 大°各步驟與圖1所示之步驟同樣，故省略其說明。 圖21係表示實施型態1之分配跨過偏向區域之陣列結構 之單元之方法之另一例之概念圖。 在圖21中’在佈局資料1〇上，單元52與單元54構成之陣 歹J早·7〇 5 0之基準點座標位於偏向區域之一例之區塊22(偏 向區域1)内。因此’將陣列單元50定義於區塊22 ^在此陣 列單元50中，單元52係跨過鄰接之區塊20(偏向區域2)被佈 局。而，在佈局資料1 〇之階段中，不將陣列單元5〇分割， 輸入至描繪資料變換裝置320。至此為止，與上述之圖2〇 相同。而，依據輸入後之佈局資料10,在構成跨過各偏向 區域之陣列單元50之單元52中，產生可在自己區域偏向之 部分單元圖案56、58。但在圖21中，並非將陣列單元5〇全 體之資料拷貝（複製）至區塊20，而係僅將跨過區塊2〇之要 素之單元52之資料拷貝（複製）至區塊2〇。而將單元52定義 於區塊20。而，在區塊22中，在陣列單元50中，對跨區之 單元52，切斷可在自己之區域偏向之部分單元圖案58以外 之圖案而加以刪除。同樣地，在區塊2〇中，在陣列單元52 中’切斷可在自己之區域偏向之部分單元圖案56以外之圖 案而加以刪除。如此，在保持陣列結構之狀態下，將跨區 119038.doc •21· 1358749 圖案之資料複製至跨過之偏向區域而刪除在自己之區域不 月b偏向之圖案部分。藉此’在描繪資料變換裝置32〇内， "T將跨£單元分配至各偏向區域。因此，可不必在佈局資 料10不必要地分割單元，可在保持陣列結構之狀態下，作 成佈局資料10。其結果，除了可避免在佈局資料10導致分 配至部分單元圖案用之資料量之增大以外，也可進一步避 免因分解陣列結構引起之資料量之增大。各步驟與圖1所 示之步驟相同’故省略說明。 如以上所述，在複數偏向區域中，將跨區圖案（單元）之 資料複製至跨過之偏向區域後，刪除在自己之區域不能偏 向之圖案部分時，即可在描繪資料變換裝置320内，將跨 區單元^7配至各偏向區域β故可不必在佈局資料Μ之階段 加以分割。故可降低佈局資料⑺之資料量。其結果，可縮 短對描繪資料變換裝置320之轉送時間。 將在佈局-貝料10之階段加以分割之情形與在變換成描繪 k料12之際加以分割之情形作比較時，由描繪資料變換裝 置20將描繪資料12發送至裝置輸入格式變換電路之時 間相同。但，對描繪資料變換裝置320輸入（轉送）佈局資料 之時間貝j發生大的差異。即’在佈局資料i Q之階段加以 =!而^加佈局資料1 〇之資料量時，對描繪資料變換裝置 之轉送時間會大幅拉長。故如本實施型態般，在變換 成描繪資料12之際分割跨區圖案時，即可縮短開始將佈局 資料ίο輸人至描繪資料變換裝置32q後至發送至裝置輸入 格式變換電路350之時間。 119038.doc -22· 1358749 實施型態2. 在實施型態2令，說明有關利用異於實施型態1之方法’ 在佈局上，將跨過複數偏向區域之圖案（例如單元）分配至 各偏向區域之方法。與實施型態1同樣地，以τ，說明有 關以單元單位掌握圖案之情形。又，切斷並分離跨區圖案 之位置與實施型態1同樣地，可適用種種之構成。 圖2 2係表示實施型態2之電子束描繪資料之製作方法之 要部步驟之流程圖。 在圖22中，電子束描繪資料之驗證方法係實施輸入步驟 (S1〇2)、單元抽出步驟（S104)、叢集分割步驟（S108)、叢 集分配步驟（S 110)、作為圖案產生步驟之一部分之應用步 驟（S113)、描繪資料變換步驟（SU4)之一連串步驟。 .圖23係表示實施型態2之裝置輸入格式變換裝置之構成 之一例之概念圖。 佈局資料1 〇(設計資料）與描繪資料12之階層結構等與實 施型態1同樣。又，裝置輸入格式變換裝置3〇〇係輸入此佈 局資料10。而，變換佈局資料10，產生使用於描繪裝置 100之描繪資料12。而，依據描繪資料i 2，實際地變換成 將圖形分割成將電子束發射用之發射尺寸之發射資料等。 藉此，產生輸入至描繪裝置1〇〇用之裝置輸入格式資料 14。而，將此裝置輸入格式資料14輸出至描繪裝置1〇〇。 至此為止之點’與實施型態1相同。 在圖23中’除了單元分配電路328具有應用電路346，以 取代圖2之複製電路342與刪除電路344之點以外，與圖2相 119038.doc •23- 1358749 同。在圖23t，記載有關說明實施型態2上所需之構成部 分。包含裝置輸入格式變換裝置300及描繪裝置1〇〇之描緣 系統600包含其他構成也無妨。 圖24係表示實施型態2之分配跨過偏向區域之單元之方 法之一例之概念圖。 在圖24中，在佈局資料10上，單元4〇之基準點座標位於 區塊22(偏向區域1)内。因此，將單元4〇定義於區塊22。此 單元40係跨過鄰接之區塊2〇(偏向區域2)被佈局。如上所 述’在佈局資料10之階段中，不將單元4〇分割，將其輸入 至描繪 > 料變換裝置320。而，依據輸入後之佈局資料 10’產生在被定義單元4〇之側之偏向區域之區塊22中可自 己之區域偏向之部分單元圖案44與其外之部分單元圖案 42。而’在被定義跨區單元40之偏向區域之區塊22中，切 斷在跨區單元40中不能在自己之區域偏向之單元圖案部分 之部分單元圖案42而加以分割。而將被分割之單元圖案部 分之部分單元圖案42應用作為在跨過之偏向區域之區塊2〇 之部分單元圖案。如此，將跨區圖案之資料中，將不能偏 向之單元圖案部分先送至跨過之偏向區域時，即可在描繪 資料變換裝置320内，將跨區單元分配至各偏向區域。其 結果，即可不必在佈局資料1〇加以分割。如此，在作成描 繪貝料12而非作成佈局資料1〇之際，在複數偏向區域中有 跨區圖案存在之情形，可產生各區域份之部分圖案。以 下，具體說明之。 在圖22之S 102中，作為輸入步驟，描繪資料變換裝置 H9038.doc •24· 1358749 320輸入佈局資料ι〇 β 區域之單元？ 在佈局資料1 〇中 含有跨過複數偏向 作為單元抽出步驟，單元抽出電路 在各區塊抽出被定義於自己之區域

在圖22之S104中， 322係由佈局資料1〇 之單元。 在實施型態2中，與實施型態i同樣地，如圖6所示，描 繪區域係以偏向器可偏向之寬度而分割成長形之複數區 域之頁框18。巾’ m裝置i⑽描㈣接之頁㈣之區 域之情形，由於已超越描繪裝置100之偏向器可變更之區 域，故可使描繪裝4100之台移動。藉此，可使其移動至 偏向器可偏向之區域。@，將各頁框18進一步分割成複數 區塊。在此，係表示在就區塊座標（3, 4)之區塊22抽出被 定義於自己區域之單元之際，被佈局成使單元4〇跨過需要 描繪裝置100之台之移動之頁框18a與頁框18b之區域間之 情形。具體上，單元40係被定義於接觸頁框18b之境界之 區塊22，跨過接觸於鄰接之頁框18a之境界之區塊2(^單 元40係由圖案π所構成。 在圖22之S 108中’作為叢集分割步驟，叢集分割電路 324將單兀40内叢集分割。如圖8所示，被定義於區塊22之 單元40之區域内係被叢集分割成複數叢集16之區域。藉由 叢集分割’在描繪裝置1〇〇中多重曝光之情形，可使用於 其曝光位置。而，如圖9所示，叢集分割後，有關圖案17 不存在之叢集16，因不需要分割，故可藉由施行省略圖案 17不存在之叢集16之處理而降低資料量。 119038.doc -25. 1358749 在圖22之S110中，作為分割步驟之一例之叢集分配步 1叢集分配電路326係在跨區單元财，切㈣義跨區 早兀40之偏向區域中’不能偏向之圖案部分。叢集分配步 驟係分割步驟之一例。 圖25係表示切斷實施型態2之單元之一例之圖。 如圖25所示，就被定義於區塊22之單元4〇，產生能在自 己區域内偏向之圖案部分之部分單元圖案44與不能偏向之

圖案部分之部分單it圖案42。而，切斷並分割部分單元圖 案42。

在圖22之S113中，作為應用步驟，單元分配電路328内 之應用電路346係將在被定義跨區單元4〇之偏向區域被切 斷並分割之圖案部分應用作為在跨區之偏向區域之部分圖 案。即，如圖25所示，就定義於區塊22之單元4〇，先送不 能在自己之區域偏向之被切斷並分離之部分單元圖案42之 資料。而，應用作為區塊20之單元圖案，定義作為區塊2〇 之單元圖案。在此，如圖25所示，部分單元圖案42之基準 點使用切斷前之單元40之基準點時，在計算處理上相當合 適。但，並不限定於此，也可在部分單元圖案42之區域另 設基準點。 藉由如以上所示之構成’依據所輸入之佈局資料1〇，可 產生在跨過複數偏向區域之各偏向區域之圖案中可在自己 區域偏向之部分圖案。其結果’可在佈局資料1〇未分割而 在描繪資料變換裝置320内將跨區單元分配至各偏向區 域。故可降低佈局資料10之資料量。 119038.doc -26- 1358749 在圖22之SI 14中，作為描繪資料變換步 兩缯資料轡 換電路330在各區塊或頁框18，將佈局資料i〇 資料12。 -、成描繪 在以上之說明中，各電路之輸出入資料係儲存（記憶）於 記憶體332，經由記憶體332被輸送至其他電路。作"、 限定於此，例如直接在電路間施行資料之通信也無妨不 料之通信只要經由未圖示之匯流排施行即可。

又，實施型態2之描繪系統之要部構成及其動作係與圖 14相同…單元之切斷位置及切斷方法也與實施型態^ 相同。 在此，佈局資料10所含之單元圖案並不限定於分別被單 獨地定義於自己之基準位置座標所在之區塊之情形。如上 所述’也有對重複被配置之單元圖案，將1個單元圖案與 重複資訊定義於1個區塊作為陣列單元之情形。以下，說 明有陣列結構之情形。 圖26係表示實施型態2之分配跨過偏向區域之陣列結構 之單元之方法之一例之概念圖。 在圖26中，在佈局資料10上，單元62與單元64構成之陣 列單元60之基準點座標位於區塊22(偏向區域丨）内。因此， 將陣列單元60定義於區塊22。在此陣列單元60中，單元62 係跨過鄰接之區塊2〇(偏向區域2)被佈局。單元64係跨過鄰 接之區塊20(偏向區域2)被佈局。如上所述’在佈局資料10 之階段中不將陣列單元60細分成各要素後分割，而係在 保持陣列單元60之結構不變之狀態下輸入至描繪資料變換 119038.doc -27- /外y 裝置320。而，依據輸入後之佈局資料10，在構成陣列„ 元60之跨區單元64中， 車歹丨早 向區域之_… 陣列單元6〇之側之偏 °° 此自己區域偏向之部分單元圖案65與構 成陣列單元6G之其他之m * _㈣與構 八他之部分早凡圖案63與單元62。而， 區塊22中’切斷並分$跨 跨£之早⑽中不能自己區域偏向 …圖案4分之部分單元圖案63以下之圖案。而，將被 分割之早爾部分之部分單元圖案Ο與單元以應用作為 在跨區之偏向區域之區塊2〇之部分單元圓案與單元。如 此’在跨區圖案之資❹，將不能偏向之單元圖案部分先 送至跨區之偏向區域。藉此，可在描繪資料變換裝置320 内，將跨區單元分配至各偏向區域。因此，可不必在佈局 資料10不必要地㈣單元，可在保持陣列結構之狀態下， 作成佈局資料10 °其結果，除了可避免在佈局資料10導致 分配至部分單元圖案用之資料量之增大以外，也可進一步 避免因分解陣列結構弓丨^之資料量之增大。各步驟與圖22 所示之步驟同樣。 如以上所述，在複數偏向區域中，將跨區圖案（單元）之 資料之-部分切斷後，先送在自己之區域不能偏向之圖案 部分時，即可在描繪資料變換裝置320内，將跨區單元分 配至各偏向區域。&可不必在佈局冑料10之階段加以分 割。故可降低佈局資料10之資料量。其結果，可縮短對描 繪資料變換裝置320之轉送時間。 實施型態3. 在實施型態3中，在複數偏向區域中，將跨區圖案（單 119038.doc -28· 1358749 元）之資料之一部分切斷後，先送在自己之區域不能偏向 之圖案部分而應用於跨區之偏向區域時，即可在摇繪資料 ' 變換裝置320内’將跨區單元分配至各偏向區域，此點與 • 實施型態2相同。在此，在實施型態3中，說明將在自己之 區域不能偏向之切斷後之圖案部分之資料儲存於預先準備 之作為跨區之各偏向區域用之缓衝區之記憶裝置之方法。 又’切斷並分離跨區圖案之位置與實施型態1同樣地，可 _ 適用種種構成。 圖27係表示實施型態3之電子束描繪資料之製作方法之 要部步驟之流程圖。 在圖27中，電子束描繪資料之驗證方法係實施輸入步驟 (S102)、單元抽出步驟（Sl〇4)、叢集分割步驟（sios)、叢 • 集分配·步驟（S110)、儲存步驟（S111)、作為圖案產生步驟 之一部分之應用步驟（S113)、描繪資料變換步驟（8114)之 一連争步驟。除了追加步驟（S111)以外，與圖22相同。 • 圖28係表示實施型態3之裝置輸入格式變換裝置之構成 之一例之概念圖。 佈局資料10(設計資料）與描繪資料12之階層結構等與實 施型態1同樣。又，裝置輸入格式變換裝置300係輸入此佈 • 局資料10。而’變換佈局資料10,產生使用於描繪裝置 1〇〇之描繪資料12。而，依據描繪資料12，實際地變換成 • 將圖形分割成將電子束發射用之發射尺寸之發射資料等。 如此’產生輸入至描繪裝置100用之裝置輸入格式資料 14而’將此裝置輸入格式資料14輸出至描繪裝置1〇〇, 119038.doc -29- 此點與實施型態1相同。 在圖28中，描繪資料變換裝置320包含複數基板36〇 '複 數記憶體332、及描繪資料變換電路33〇。而，各基板3 6〇 具有單元抽出電路322、叢集分割電路324、叢集分配電路 320、應用電路346。除了描繪資料變換電路33〇以外，與 圖2或圖23相同。在圖28中’記載有關說明實施型態3上所 需之構成部分。具備裝置輸入格式變換裝置300及描繪裝 置100之描繪系統600包含其他構成也無妨β 圖29係表示實施型態3之分配跨過偏向區域之單元之方 法之一例之概念圖。 在圖29中，在佈局資料1〇上，單元7〇之基準點座標位於 區塊22(偏向區域1)内。因此，將單元7〇定義於區塊22。單 元70係跨過鄰接之偏向區域之一例之區塊2〇(偏向區域2)及 跨過鄰接於區塊20之偏向區域之一例之區塊24(偏向區域3) 被佈局。單元82及單元84所構成之陣列單元80之基準點座 標位於區塊24内。因此’將陣列單元80定義於區塊24。在 此陣列單元80中，單元82係被佈局於鄰接於區塊24之偏向 區域之一例之區塊26(偏向區域4)内。單元90之基準點座標 位於區塊20内，故將單元9〇定義於區塊20。 在圖27之S 102〜S110以前與實施型態2相同。而，在佈局 資料10之階段中’不將單元70與陣列單元8〇分割，而係在 保持單元70與陣列單元80之結構不變之狀態下輸入至描繪 資料變換裝置320。在此，在S102〜S110之步驟中異於實施 型態2之點在於：在實施型態3中’因具有複數基板 119038.doc -30- 1358749 (a、b…η)，故可施行並列處理之點上。在圖29中作為一 例’表示以2種基板360a、360b並列處理之情形。 在圖27之S111中，作為儲存步驟，將分割後之圖案部分 之資料儲存於作為跨區之偏向區域用之緩衝區之各記憶體 332。在圖29中，作為一例，在基板36〇具有2種構成之情 形，首先，就區塊22與區塊24施行處理。 在基板360a中，就被定義於區塊22之單元7〇，產生能在 自己區域内偏向之部分單元圖案72、跨過區塊2〇之部分單 元圖案74、及跨過區塊24之部分單元圖案％而加以分割。 而，將部分單元圖案72之資料儲存於作為區塊22用之緩衝 區1之記憶體332。將部分單元圖案74之資料儲存於作為區 塊20用之緩衝區2之記憶體332。將部分單元圖案％之資料 儲存於作為區塊24用之緩衝區3之記憶體332。與在基板 360a之處理並列地，在基板36〇b中，就被定義於區塊24之 陣歹!單元80，除了產生能在自己區域内偏向之作為陣列單 兀*80之要素之單元84以外，並產生跨過區塊26之作為陣列 單元80之要素之單元82而分割單元82。而，將單元^之資 料儲存於作為區塊24用之緩衝區3之記憶體332。將單元82 之-貝料儲存於作為區塊26用之緩衝區4之記憶體332。 而，在基板360具有2種構成之情形，在完成基板36〇a與 基板360b之處理後，對區塊2〇與區塊26施行處理。在基板 360a中’由於被定義於區塊2〇之單元9〇並未跨過其他偏向 區域’故直接將作為單元9〇之資料儲存於區塊2〇之緩衝區 2用之§己憶體332。在基板360b中，因被定義於區塊26之單 H9038.doc -31- 1358749 元不存在，故不處理。 在圖27之S113中，作為應用步驟，各基板36〇之應用電 路346係由作為自己處理之偏向區域用之緩衝區之記憶體 332讀出單元之資料’應用於自己處理之偏向區域。 設置有作為各偏向區域用之緩衝區之複數記憶體332而 逐次儲存而蓄積該偏向區域用之資料時，即使在跨過自己

區域之單元被定義於其他區域之情形，也可與此區域之處 理並列地施行.自己區域之處理。 如上所述，在跨區圖案之資料中，將不能偏向之單元圖 案部分儲存於跨過之偏向區域用之作為緩衝區之複數記憶 體332而先送時，可在描繪資料變換裝置32〇内將跨區單元 分配至各偏向區域。其結果，可在佈局資料1〇内不必加以 分割。故可降低佈局資料1()之資料量。其結果，可縮短對 描繪資料變換裝置320之轉送時間。又可藉並列處理縮短 處理時間。

那工尸AT W〜土 / Α稷’可抑制佈局資 料之單70配置數。故可削減佈局f料1G之資料量。即，可 減少更上游側之佈局資料之資料量…因可以陣列表： 之單元增加’故可削減佈局資料1〇之資料量… 減佈局資料H)之資料量’故可抑制如磁碟裝置等之記憶： 置之磁碟空間之消耗。又’因可削減佈局資料10之資料 量’故可縮短對描繪裝置100之資料轉送時間。 枓 缚裝置輸入前有應處理之製程存在之情形，因可 ： 資料10之資料量，故一般而士 ^ 咸佈局 舨而s，可減少其製程之處理時間 119038.doc -32· 1358749 (資料存取時間等）。其結果，可縮短描繪開始以前之時 間，提高生產率。 在此，如上所述，依據描繪資料描繪之描繪區域被分割 成長形之複數區域。而’在描繪鄰接之區域之情形’使描 繪裝置之台移動。藉此’可向可偏向之區域移動。而’在 上述之跨區圖案跨在需要此種描繪裝置之台之移動之區域 間之情形，利用上述各方法產生部分圖案特別有效。 又，在以上之說明中，所記載之「〜電路」或「〜步 驟」，可利用電腦可驅動之程式加以構成8或不僅作為軟 體之程式，也藉硬體與軟體之組合而予以實施也無妨。或 者採用與韌體之組合也無妨。又’利用程式構成之情形’ 程式係被記錄於磁碟裝置、磁帶裝置、軟碟、或ROM(唯 讀記憶體）等之記錄媒體。 圖30係表示利用程式構成之情形之硬體構成之一例之區 塊圖。 作為電腦之CPU 450係經由匯流排474連接至RAM(隨機 存取記憶體）452、ROM 454、硬碟（HD)裝置462、鍵盤 (K/B)456、滑鼠458、外部介面0^)460、監視器464、印 表機 466、軟碟 468、DVD 470、CD 472。在此 ’ RAM(隨 機存取記憶體）452、R〇M 454、硬碟（HD)裝置462、軟碟 468、DVD 470、CD 472係記憶機構之一例。鍵盤（K/B) 456、滑鼠 458、外部介面（I/F)460、軟碟 468、DVD 470、 CD 472係輸入機構之一例。外部介面（I/F)460、監視器 464、印表機466、軟碟468、DVD 470、CD 472係輸出機 119038.doc -33- 1358749 構之一例。 以上’一面參照具體例，一面說明有關實施型態。但本 發明並不限定於此等具體例。 又雖省略裝置構成及控制方法等非本發明之說明直接 需要之部分等之記載’但也可適宜地選擇使用需要之裝置 構成及控制方法《例如，有關控制描繪裝置1〇〇之控制部 構成雖省略其6己載，但當然也可適宜地遷擇使用需要之 控制部構成》 此外，具備本發明之要素，同業業者可適宜地變更設計 之所有荷電粒子束描繪資料之製作方法及執行此用之程式 或荷電粒子束描繪資料之製作裝置均包含於本發明之範 圍。 有鑑於精通此技藝者可對本發明之實施型態加以模仿或 變更，獲取附加利益。因此，從廣義而言，本發明之内容 不應僅限疋於上述特殊細節及代表性之實施型態。從而， 在不背離其精神或一般發明概念下，如所附申請專利範圍 等閣述之要旨之範圍内，當然可作種種之變更。 【圖式簡單說明】 圖1係表示實施型態1之電子束描繪資料之製作方法之要 部步驟之流程圖。 圖2係表示實施型態1之裝置輸入格式變換裝置之構成之 一例之概念圖。 圖3係表示實施型態1之佈局資料之階層結構之一例之 圖。 119038.doc -34- 圖4係表示實施型態i之描繪資料之階層結構之一例之 圖。 圖5係表示實施型態1之分配跨過偏向區域之單元之方法 之一例之概念圖。 圖6係表示實施型態丨之跨過複數偏向區域之單元之一例 之圖。 圖7係表示實施型態1之複製在跨過之偏向區域之單元之 一例之圖。 圖8係表示實施型態i之單元之叢集分割之一例之圖。 圖9係表示圖8之單元之叢集邊分割之一例之圖。 圖1〇係表示實施型態1之被複製之單元之叢集分割之— 例之圖。 圖11係表示圖10之單元之叢集邊分割之一例之圖。 圖12係表示切斷實施型態1之單元之一例之圖。 圖13係表示實施型態1之切斷被複製之單元之一例之 圖。 圖14係表禾實施型態1之描繪系統之要部構成之一例之 概念圖。 圖1 5係表示實施型態1之切斷位置之一例之圖。 圖16係表不實施型態1之另·一切斷位置之一例之圖。 圖17係表不實施型態1之另·一切斷位置之一例之圖。 圖18係表示實施型態1之另一切斷位置之一例之圖。 圖19係表示實施型態1之另一切斷位置之一例之圖。 圖20係表示實施型態i之分配跨過偏向區域之陣列結構 119038.doc -35- 1358749 之單元之方法之一例之概念圖。 =21係表不實施型態丨之分配跨過偏向區域之陣列結 之單凡之方法之另一例之概念圖。 圖22係表示實施型態2之電子束描繪資料 要部步驟之流程圖。 法之

圖23係表示實施型態2之裝 之一例之概念圖。 圖24係表示實施型態2之分 法之一例之概念圖。 置輸入格式變換裝置之構成 配跨過偏向區域之單元之方 圖25係表示切斷實施型態2之單元之一例之圖。 圖26係表示實施型態2之分配跨過偏向區域之陣列結構 之單元之方法之一例之概念圖。 圖27係表示實施型態3之電子束描繪資料之製作方法之 要部步驟之流程圖》

圖28係表示實施型態3之裝置輸入格式變換裝置之構成 之一例之概念圖。 圖29係表示實施型態3之分配跨過偏向區域之單元之方 法之一例之概念圖。 圖30係表示利用程式構成之情形之硬體構成之一例之區 塊圖。 圖31係說明以往之可變成形型電子束描繪裝置之動作之 概念圖^ 【主要元件符號說明】 10 佈局資料 H9038.doc -36- 1358749 12 描繪資料 14 裝置輸入格式資料 16 ' 47 叢集 17 圖案 18 ' 35 頁框 20 、 22 ' 24 、 26 ' 32 、 46 區塊 31、41 晶片 34、40、45、52、54、62、 64、66、70、82、84、90 一 早兀 33、43 圖形 42 、 44 、 56 、 58 、 63 、 65 ' 72 、 74 、 76 部分單元圖案 49 帶 50 ' 60 ' 80 陣列單元 100 描繪裝置 101 、 440 試樣 102 電子鏡筒 105 ΧΥ台 110 控制電路 120 資料處理電路 150 描繪部 200 電子束 201 電子搶 202 照明透鏡 203 、 410 第1孔徑 206 、 420 第2孔徑 204 投影透鏡 119038-1000208.doc -37- 1358749

205 、 208 偏向器 207 物鏡 209 法拉第杯 300 裝置輸入格式變換裝置 320 描繪資料變換裝置 322 單元抽出電路 324 叢集分割電路 326 叢集分配電路 328 單元分配電路 330 描繪資料變換電路 332 記憶體 342 複製電路 344 刪除電路 346 應用電路 350 裝置輸入格式變換電路 360 基板 411 開口 421 可變成形開口 430 1 荷電粒子源 442 電子束 450 CPU 452 RAM 454 ROM 456 鍵盤 119038.doc -38- 1358749

458 滑鼠 460 介面 462 硬碟裝置 464 監視器 466 印表機 468 軟碟 470 DVD 472 CD 474 匯流排 500 '分離位置 600 描繪系統 119038.doc -39-

Claims (1)

1. 1358749 第096107246號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(100年2月） 十、申請專利範圍： 1. 一種荷電粒子束描繪資料之製作方法，其係由電路之佈 局資料，利用荷電粒子束製作用來一面使前述荷電粒子 . · 束偏向，一面描繪特定圖案之描繪資料者，其特徵在 於： 輸入含有跨於複數偏向區域之跨區圖案之佈局資料； 依據所輸入之前述佈局資料，在前述複數偏向區域之 各偏向區域中，產生前述跨區圖案中可在自己之區域偏 向之部分圖案； 將在各前述偏向區域中定義有區域内之部分圖案之佈 局資料變換成荷電粒子束描繪資料而輸出。 2. 如請求項1之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 前述跨區圖案係被定義作為前述複數偏向區域中任一 偏向區域之圖案； ， 在產生前述部分圖案之際，在前述複數偏向區域中， 將前述跨區圖案之資料複製於被跨過之偏向區域，複製 後在各偏向區域中，刪除偏離可在自己之區域偏向之位 置之圖案部分。 3. 如請求項2之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 於前述偏向區域之境界線分離前述跨區圖案，並將被 分離之一方删除。 4. 如請求項2之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 前述偏向區域之境界線係設定於距離實際可偏向之境 界線特定寬度之内側； 1358749 在矩離前述偏向區域之境界線前述特定寬度以内 疋之特定位置分離前述跨區圖案，並將被分離〜。又 除。 ''方刪 如明求項2之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 將前述跨區圖案假想分割成複數小區域； 跨複數小區域中任一個小區域之境界線分離前述 7 °°圖案，並將被分離之一方刪除。 6·如4求項2之荷電粒子束描繪資料之製 八::述跨區圖案以具有重複部份之方式分離:、並將被 刀離之一方刪除。 7·如j求項2之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 前述跨區圖案係將切斷位置定義作為屬性資訊1 =切斷位置分離前述跨區圖案，並將被分離之—方二 8.如請求項！之荷電粒子束描繚資料之製作方法，其中 、將依據前述㈣資料所料之騎區域分割成長形之 複數區域，在描縿鄰接之區域時，使描綠裝置之台移 動， 前述跨區圖案係跨在前述插緣裝置之台移動所需之區 域間者。 9. 一種荷電粒子束描繪資料 .太 表作方法，其係由電路之佈 局資料，利用荷電粒子克愈』# 7 Μ作用來—©使前述荷電粒子 束偏向，-面描繪特定圖案之描繪資料者’其 於： 輸入含有跨於複數偏向區域之跨區圖案之佈局資料， 前述跨區圖案被定義作為前述複數偏向區域中任一個 向區域之圖案； 在定義有前述跨區圖案之偏向區域令，將前述跨區圖 案中偏離在自己之區域可偏向之位置之圖案部分加 割； 將被分割後之前述圖案部分應用作為所跨過之偏向區 域中之部分圖案； 應用前述部分圖案後，將前述佈局資料變換成荷電粒 子束描繪資料而輸出。 10·如請求項9之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 、於前述偏向區域之境界線分離前述跨區圖案；並將被 分離之一方應周於所跨過之偏向區域。 1.如4求項9之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 前述偏向區域之境界㈣設定於距離實際可偏向之 界線特定寬度之内側； 〜在距離前述偏向區域之境界線前述特定寬度以内所設 疋之特定位置分離前述跨區圖案，並將被分離之^ 用於所跨過之偏向區域。 〜 如吻求項9之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 將别述跨區圖案假想分割成複數小區域； 跨=複數小區域中任一個小區域之境界線分離前述 域。/、並將被分離之—方應用於所跨過之偏向區 13. 如

   14. 、9之荷電粒子束描繒_資料之製作方法其中 雜述跨區圖案以具有重複部份之方式分離，並將被 之一方應用於所跨過之偏向區域。 15. 如2求項9之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 、，述跨區圖案係將切斷位置定義作為屬性資訊，在前 述切斷位置分離前述跨區圖案，並將被分離之一方應用 於所跨過之偏向區域。 如明求項9之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 前述荷電粒子束描繪資料之製作方法係進一步將被分 割之前述®㈣分之資料麟於所跨過之偏向區域用之 緩衝區者。 16. 如請求項9之荷電粒子束描繪資料之製作方法，其中 將依據前述描繪資料所描繪之描繪區域分割成長开彡之 複數區域，在描繪鄰接之區域時， 動； 使描繪裝置之台移 前述跨區圖案係跨在前述描繪裝置之 域間者。 移動所需之區