TWI357359B - Apparatus for jetting fluid - Google Patents

Description

1357359 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種流體喷射裝置，尤其涉及一種可應用 於基板處理裝置中將液體（DIW)和氣體（CDA)的混合流體喷 射到基板上而對基板進行清洗，且容易製作，並可以提高 流體噴射效率的流體噴射裝置。 【先前技術】 通常，流體喷射裝置可應用於爲清洗基板而對基板喷 射混合流體的過程。這種流體喷射装置中，形成有氣體腔 室的第一墊板和形成有液體腔室的第二墊板相重疊並藉由 連接部件相互結合。並且，第一墊板和第二墊板之間形成 有用於噴射供給到氣體腔室的氣體（CDA，清潔用乾燥氣體） 的喷射管道。另外，第二墊板上形成有以傾斜狀態設置、 並用於連接液體腔室和喷射管道的多個連接管道。 即，液體腔室的液體（DI water ’去離子水）依據汽化器 原理經氣體和連接管道被噴射到喷射管道内而形成混合流 體’然後噴射到基板上。 上述連接管道是通過銑削（milling )作業等工序形成 細長的孔而製作的。這種現有的流體噴射裝置在對該連接 官道進行加工時’由於處理基板逐漸大型化，流體喷射裝 置的長度明顯變大，而且連接管道的數增加，從而導致加 工時間和加工成本增加。 而且’向氣體腔室供給氣體的壓力大於向液體腔室供 3 1357359 給液體的壓力。錢體從氣隸室㈣射管道喷射的過程 中，液體腔室側管道與喷射管道相i^的位置上有 部分氣體沒有噴射到喷射管道外部，而與液體流出的連接 管道的末端壁相撞’從而改變移動方向，反而流入壓力較 弱的液體腔室内，這種現象會降低流體的喷射效率。 而且，現有的流體喷射裝置的底面爲平面形狀，因此 混合流體噴射到基板上時，喷射的流體周圍會産生負壓， 從而發生基板被吸附到流體喷射裝置上的現象，因此會導 致基板處理不良的問題。 【發明内容】 本發明鑒於上述問題而作，本發明的目的在於提供一 種具有可易於加工的用於連接液體腔室和喷射單元的連接 流道結構，從而減少生產成本並節約生產時間，以此來提 高生産效率的流體喷射裝置。 並且，本發明的又一目的在於提供一種可以防止氣體 向液體腔室逆流的現象，以提高流體喷射效率的流體喷射 裝置。 另外，本發明的另一目的在於提供一種可去除在流體 喷射裝置中因喷射的混合流體周圍產生負屢，導致基板被 吸附到流體喷射裝置上的現象，從而防止基板處理不良的 流體喷射裝置。 爲了實現上述目的，本發明提供一種流體喷射裝置， 其包括：第一墊板，其用於形成氣體供給單元；第二墊板， 1357359 其用於形成液體供給單元，並與該第-塾板結合而構成主 體；噴射單it，纽置在相互結合的㈣—塾板和該第二 塾板的末端，ϋ用於喷射混合流體；以及間隙墊板，其設 置在該第—墊板和該第二墊板之間，並且其下面設有用於 連接該液體供給單元和該噴射單元的連接流道。 〇氣體供給單兀最好包括氣體腔室；以及氣體供給流 道，其-端與該氣體腔室連接，另—端與該喷射單元連接， 從而使氣體流動。 該液體供給單it最好包括龍腔t ;以及㈣供給流 道，其一端與該液體腔室連接，另一端與該連接流道連接， 從而使液體流動。 該間隙墊板的下面最好相隔預定距離設置用於形成該 連接流道的多個槽。 該喷射單元的寬度最好大於該氣體供給流道的寬度。 該第一墊板和該第二墊板之間最好放置該間隙墊板並且 瘳 兩者相面對的側面分別形成有氣體腔室和液體腔室。 <»亥第塾板和第一塾板的前端部最好是傾斜面。 該第二墊板的前端部上最好形成有朝該第一墊板方向 延伸的延伸部。 如上所述的本發明，在間隙墊板的下端部以相同距離 隔開形成連接流道並將其結合到第一墊板和第二塾板之 間’該連接流道由將液體輸送到喷射管道上的多個槽組 成。因此其加工容易，生産成本低廉，可提高生産效率。 並且，本發明中噴射單元的寬度大於氣體供給流道的 5 丄357359 ::，因此從氣體供給流道向喷射單元供給的部分氣體不 的噴射效率。 纟喷射出去，從而提高了流體 另山外，本發明中流體喷射裝置的第一墊板和第二整板 二=部爲傾斜面’因此可以防止從喷射單元噴射的混合 "的周圍産生負壓，而避免基板被吸附到流體喷射裝置 上的現象’從而防止基板的處理不良。 【實施方式】 以下參照附圖詳細說明本發明的最佳實施例。 圖1是用於說明本發明流體喷射裝4一個f施例的外 觀結構圖》 流體喷射裝置具有較長的狹缝，其可將在處理槽内混 合的液體（DI Water)和氣體（CDA， Clean Dry Air)的混合流 體喷射到基板G上，而對基板G進行清洗。該流體喷射裝 置中第一墊板1和第二墊板3藉由連接部件5相互連接。 如圖2和圖3所示，上述第一墊板丨和第二墊板3之間配 置有間隙墊板7。 第一塾板1上形成有氣體供給單元氣體供給單元2 可以包括氣體腔室la、用於輸送氣體腔室la中氣體的氣體 供給流道lb。氣體腔至la形成於第一塑•板1上，並可以暫 時存儲從氣體供給裝置（省略圖示）供給的氣體。 而且，第二塾板3上形成有液體供給單元4。液體供給 單元4可以包括液體腔室3a、用於輸送液體腔室3a中液體 1357359 的液體供給流道3b。液體腔室3a形成於第二墊板3上，並 可以暫時存儲從液體供給裝置（省略圖示）供給的液體。 如圖3所示，第一墊板！和第二墊板3相互結合，並 在其間設置有間隙墊板7，並且第一墊板丨和第二墊板3相 互面對的側面分別形成有氣體腔室la和液體腔室3&。 罐

並且，第一墊板1和間隙墊板7之間形成有與氣體腔 至1 a連接的氣體供給流道丨b。另外，第二墊板3和間隙墊 板7之間形成有與液體腔室3a連接的液體供給流道孙。 另外’第一墊板！和第二墊板3之間的前端上形成有 供混合流體通過的噴射單元13。即，第-塾板！和第一整 板3的前端具有間距㈣），從而形成了可喷射混合流 體的空間，該空間即爲噴射單元13〇 °話說’軋體供給流冑lb是由氣體腔室h流出的氣 ==域’嘴射單元13是由氣體腔室u流出的氣體和 液 。流體通過並噴射到基板G上的區域。 體供如圖4所示)最好大於上述氣 07尤度a (如圖4所示 另外’第二墊板3的前端部朝 而形成突出形狀的延伸部3c P朝第一塾板1的方向延伸 並且，如圖2所示，間隙墊板 離隔開的多_ 7a， &下端Φ成有專距 7a是用於連接液體二S 、下的開口部。該多個槽 饮饮體腔室3a和喷射 圖4所示），從而向噴 的連接流道9(如 即，間隙塾板7盘第 ^ ，液體腔室3a内的液體。 4二墊板3相結合後，間隙塾板7下面 1357359 的多個槽7a成爲輸送液體的連接流道9。 如上所述，間隙墊板7可通過在其下端部以相同間矩 隔開形成的多個槽7a來製作使液體流到喷射單元13的連接 流道9。如此，通過對間隙墊板7的下端部進行加工來製作 多個槽而形成連接流道9的方式具有加工性優良、減少生 産成本和時間，從而可提高生産效率的效果。 另外，第一墊板1和第二墊板3的下端部形成有朝兩 側傾斜的傾斜面le、3e。當混合流體以高壓狀態經噴射單 元13喷射到基板G上時，該傾斜面le、3e的周圍會形成 充分的閒置空間’從而防止喷射的混合流體周圍産生負壓。 下文參照附圖具體說明如上所述的本發明的作用。並 且詳細說明向通過輸送裝置移送到處理槽内部的基板G嘴 射混合流體的過程。 通過氣體供給裝置供給到氣體腔室1 a内的氣體經由氣 體供給流道lb和喷射單元13喷射。此時，液體腔室3a内 的液體流過液體供給流道3b，並沿由間隙墊板7的槽7a構 成的連接流道9喷射到喷射單元13上。即，根據汽化器的 原理，氣體從氣體供給流道lb和喷射單元13流出時，液 體就會與氣體一起通過連接流道9,此時液體和氣體混合的 混合流體被噴射到基板G上。 此時，如圖5所示，氣體從氣體喷射流道ib流過喷射 單元13。並且’隨著喷射單元13的擴充，可防止現有技術 中氣體向液體喷射流道3b逆流的現象。 當然氣體流過喷射單元13時，液體腔室3a的液體流過 連接流道9的同時成爲混合流 m 然後喷射到基板G上。 如上所述，由於第一執拓7 、 板和第二墊板3的前端部被

構成爲斜面1 e、3 e ,因此ι»^· _ή·ι· 5ι丨«· I 此嘴射到基板G上的混合流體的周 圍會形成充分的空間1而防止喷射到基板g上的混合流 體的周圍產生負壓。因此’可以避免基板G被吸附到流體 喷射裝置上或者搖晃’從而防止基板處理不良的現象。 【圖式簡單說明】 圖1是本發明流體噴射裝置一個實施例的的外觀結構 圖2是圖1中主要部分的分解立體圖。 圖3是圖i中瓜-诅向剖面圖。 圖4是圖3中A部分的放大圖。 圖5是用於說明本發明實施例作用的示意圖。 【主要元件符號說明】 1 第一墊板 2 氣體供給單元 3 第二墊板 4 液體供給單元 5 連接部件 7 間隙墊板 9 連接流道 13 喷射單元 9 1357359 a 氣體供給流道的寬度 b 喷射單元的寬度 la 氣體腔室 lb 氣體供給流道 le ' 3e 斜面 3a 液體腔室 3b 液體供給流道 3c 延伸部 7a 槽 G 基板

Claims (1)

1357359七、申請專利範圍：

⑽年μff日修正替換頁

一種流體噴射裝置，其特徵在於，包括： 第一塾板，其用於形成氣體供給單元； 第二塾板’其用於形成液體供給單元，並與該第—塾 板相結合而構成主體； 喷射單7C，其設置在相結合的該第一墊板和該第二塾 板的末端’用於喷射混合流體；以及. 間隙墊板，其設置在該第一墊板和該第二墊板之間， 並且其下面設有用於連接該液體供給單元和該噴射單元的 連接流道，該間隙墊板的下面相隔預定距離設置有用於形 成δ亥連接流道的多個槽。 2 .如申請專利範圍第丨項所述之流體喷射裝置，其特 徵在於，該氣體供給單元包括： 氣體腔至，其設置於該第一墊板上並用於暫時存儲氣 體；以及 氣體供給流道，其一端與該氣體腔室連接，另一端與 該喷射單元連接’從而使氣體流動。 3 ·如申請專利範圍第1項所述之流體喷射裝置，其特 徵在於，該液體供給單元包括： 液體腔室，其設置於該第二墊板上並用於暫時存儲液 體，以及 液體供給流道，其一端與該液體腔室連接，另—端與 S亥連接流道連接’從而使液體流動。 4 .如申請專利範圍第2項所述之流體喷射裝置，其特 11 微在於： 匕。年9月(f日修正替換頁 4噴射單元的寬度大於該氣體供給流道的寬度。 士申明專利範圍第1項所述之流體喷射裝置，其特 徵在於： 該第一墊板和該第二墊板之間放置有該間隙墊板，並 且兩者相面對的側面分別形成有氣體腔室和液體腔室。 6 ·如申請專利範圍第1項所述之流體喷射裝置，其特 徵在於： 該第一墊板和第二墊板的前端部爲傾斜面。 7 ·如申請專利範圍第1項所述之流體喷射裝置，其特 徵在於： 該第二墊板的前端部形成有朝該第一墊板方向延伸的 延伸部。 八、圖式： (如次頁） 12