TWI352505B - Semiconductor integrated circuit have input functi - Google Patents
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Description
1352505 九、發明說明: - 【發明所屬之技術領威】 • 本發明係有關一耩半導體積體電路,尤其有關一種具 備有施加電源電壓以上的正高電壓或接地電壓以下的負高 電壓的高電壓施加端孑之半導體積體電路。 【先前技術】 一般習知之於微電腦(microcomputer)等之半導體積體 電路中,係設置有施加比其電源電壓還高的高電壓之高電 • 壓施加端子。第5圖#顯示具備有這種高電壓施加端子的 半導體積體電路的電絡圖。當將半導體積體電路的電源電 -壓VDD設作為5V時,於此高電壓施加端子50施加OV至 12V的輸入電壓。高電壓施加端子50係經由輸入電阻51 連接至 CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor ;互補式金氧半導體)反相器(inverter)52(輸 入緩衝器)。CMOS反相器52係由p通道型M0S(Metal ^ Oxide Semiconductor ;金屬氧化物半導體)電晶體(以下稱 為PMOS)(Tl)與N通道型M0S電晶體(以下稱為NMOS) (T2)所構成,並於這呰電晶體的閘極施加來自高電壓施加 端子50的輸入電壓。此外’高電壓施加端子50係連接有 由NMOS(T3)所構成的高耐壓的輸出電晶體53。在使用高 耐壓的輸出電晶體5 3的情形下,於高電壓施加端子亦出現 0V至12V的電壓。 並且,為了承受上述高電壓,係將CMOS反相器52 的PMOS(Tl)與NMOS(T2)的閘極耐壓設定成12V以上, 5 319722 1352505 將輸出電晶體53的NMOS(T3)的汲極耐壓設定成12V以 . 上。 . 為了確保PMOS(Tl)與NMOS(T2)的閘極耐壓,閘極絕 緣膜係形成比VDD系(VDD=5V)的MOS電晶體還厚。然 而,當閘極絕緣膜變厚時,臨界電壓(threshold voltage)Vt 會上升,電源電壓VDD低時的CMOS反相器52的輸入電 壓的余裕度會變小。 因此,為了降低PMOS(Tl)及NMOS(T2)的Vt,以往 春 係追加臨限值(threshold)調整用的離子注入步驟。 關於半導體積體電路的輸出入電路係記載於專利文獻 .1、2。 . 專利文獻1 :日本特開平9-93115號公報 專利文獻2:日本特開平9-172146號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之課題) 鲁 然而,當為了降低PMOS(Tl)及NMOS(T2)的Vt而追 加臨限值調整用的離子注入步驟時,會有製造步驟及製造 成本增加的問題。 (解決課題的手段) 本發明乃有鑑於上述課題而研創者,本發明的半導體 積體電路係具備有:高電壓施加端子,係接受電源電壓以 上的正高電壓之施加;轉移閘極(transfer gate),係由具有 輸入端連接至前述高電壓施加端子、對閘極施加有電源電 壓、且能承受前述高電壓的高耐壓N通道型MOS電晶體 6 319722 1352505 所構成,輸入缓衝器(input buffer),係包含有閘極連接至 前述轉移閘極的輸出端之M0S電晶體;以及升壓電阻(pull up resistance)’係連接至前述轉移閘極的輸出端,並將輸 出端偏壓至電源電壓。 依據本發明的半導體積體電路,即使於高電壓施加端 子施加高電壓,其高電壓亦會藉由轉移閘極而降低,故不 會有兩電壓至輸入緩衝器的M〇s電晶體的閘極。由此, 輸入緩衝器的MOS電晶體的閘極絕緣膜不用形成很厚, 故能省略臨限值調整用的離子注入步驟,而不會增加製造 步驟及製造成本。 曰 " (發明效果) -,依據本發明的半導體積體電路,不會增加製造步驟及 製造成本,而能設置高電壓施加端子。 【實施方式】 接著,參照圖式說明本發明的實施形態的半導體積體 _ 電路。 [第一實施形態] 第-圖係顯示本發明的第一實施形態的半導體積體電 :的電路圖。針對與第5圖的半導體積體電路相同的構成 部分係附上相同的符號並省略其說明。 第-實施形態的電路特徵,係於第5圖的電路謂 由雨耐壓# N應(T4)所構成的轉移㈣54與升壓電四 55此點。轉移閘極54的輪入★山及、±^ _ ]翰入碥係連接至高電壓施加端^ 50 ’轉移閘極54的輸出端係缺±
,、、,二由輸入電阻51連接至CMO 319722 7 1352505 反相器52。CMOS反相器52的臨限值大多設定成0.5VDD - 左右。升壓電阻55的一端係連接至轉移閘極54的輸出端, . 而升壓電阻55的另一端係施加有電源電壓VDD(5V)。並 且,亦可設置升壓電晶體以取代升壓電阻55。 當於高電壓施加端子50施加VDD以上的高電壓VX - 時,轉移閘極54的輸出端會變成VDD—Vtl’(無升壓電阻 • 55時)。Vtl’係施加有反向閘極偏壓(back gate bias)狀態下 的轉移閘極54的臨限值。在本例中,由於轉移閘極54的 • 反向閘極係設定成接地電壓VSS(=0V),故反向閘極偏壓等 於高電壓VX。亦即,轉移閘極54係使輸入的高電壓VX(VX -> VDD)下降至VDD—Vtl’。升壓電阻55係將轉移閘極54 .的輸出端電壓偏壓至VDD,並使藉由轉移閘極54而下降 的輸出端電壓上升至大致VDD。 另一方面,當於高電壓施加端子50施加L位準的低 電壓(例如0V)時,若將升壓電阻55的電阻值設為RU、將 φ 轉移閘極54的電阻值設作為RT時,轉移閘極54的輸出 端電壓係以下式表示: 轉移閘極54的輸出端電壓=RTxVDD/(RU+RT) 在此,當RU>>RT時,轉移閘極54的輸出端電壓會 變成与0V,故能防止升壓電阻55對於轉移閘極54的輸出 端電壓的影響。 輸入電壓(=施加至高電壓施加端子50的電壓)與轉移 間極5 4的輸出電壓(=CMOS反相益52的輸入電壓)的關 係係顯示於第2圖。由此可知,於CMOS反相器52僅會 8 319722 1352505 壓(例如VDD)時,若將下拉電阻57的電阻值設為RD、將 • 轉移閘極56的電阻值設為RT時,轉移閘極56的輸出端 . 電壓係以下式表示: 轉移閘極56的輸出端電壓= RDxVDD/(RT+RD) 在此,當RD»RT時,轉移閘極56的輸出端電壓會 變成与VDD,故能防止下拉電阻57對於轉移閘極56的輸 * 出端電壓的影響。 輸入電壓(=施加至高電壓施加端子50的電壓)與轉移 • 閘極56的輸出電壓(=CMOS反相器52的輸入電壓)的關 係係顯示於第4圖。由此可知,於CMOS反相器52僅會 -施加0V至VDD範圍的電壓。因此,CMOS反相器52的 .PMOS(Tl)及NMOS(T2)的閘極絕緣膜只要形成為與VDD 糸的MOS電晶體相同的厚度即可,故這些電晶體的臨界 電壓不會變高。因此,能省略臨限值調整用的離子注入步 驟,而不會增加製造步驟及製造成本。 I 並且’本實施形態的半導體積體電路雖具備有輸出入 功能,但亦可不設置輸出電晶體58而僅具備輸入功能。 【圖式簡單說明】 第1圖係顯示本發明的第一實施形態的半導體積體電 路的電路圖。 第2圖係顯示本發明的第一實施形態的半導體積體電 路的輸出入特性圖。 第3圖係顯示本發明的第二實施形態的半導體積體電 路的電路圖。 10 319722 1352505 第4圖係顯示本發明的第二實施形態的半導體積體電 路的輸出入特性圖。 第5圖係顯示習知例的半導體積體電路的電路圖。 【主要元件符號說明】
50 高電壓施加端子 51 輸入電阻 52 CMOS反相器 53 > 58 輸出電晶體 54 > 56 轉移閘極 55 升壓電阻 57 下拉電阻 VDD 電源電壓 VSS 接地電壓 T1、 T5、 T6 PMOS T2、 T3、 T4 NMOS 11 319722
Claims (1)
1352505 Μ年π月叫曰修正替換頁 第96142636號專利申請案 (99年11月24日) - 十、申請專利範圍:- 1. 一種具備輸入功能或輸出入功能之半導體積體電路,係 具備有: 高電壓施加端子,係接受電源電壓以上的正高電壓 之施加; . 轉移閘極,係由具有輸入端連接至前述高電壓施加 ‘ 端子、閘極施加有電源電壓、且能承受前述高電壓的高 耐壓Ν通道型MOS電晶體所構成; • 輸入緩衝器,係包含有閘極連接至前述轉移閘極的 輸出端之MOS電晶體;以及 升屢元件,係連接至前述轉移閘極的輸出端’並將 輸出端偏壓至電源電壓,且 前述升壓元件的電阻值 >> 前述轉移閘極的電阻值。 2. 如申請專利範圍第1項所述之具備輸入功能或輸出入功 能之半導體積體電路,其中,復具備有輸出電晶體,係 $ 連接至前述高電壓施加端子,且由能承受前述高電壓的 高耐壓Ν通道型MOS電晶體所構成。 3. —種具備輸入功能或輸出入功能之半導體積體電路,係 具備有: 高電壓施加端子,係接受接地電壓以下的負高電壓 之施加; 轉移閘極,係由具有輸入端連接至前述高電壓施加 端子、閘極施加有接地電壓、且能承受前述高電壓的高 耐壓Ρ通道型MOS電晶體所構成; 12 319722修正版 1352505 ri年11月外曰修正替換頁 第96142636號專利申請案 (99年11月24曰) 輸入緩衝器,係包含有閘.極連接至前述轉移閘極的 輸出端之MOS電晶體;以及 下拉元件,係連接至前述轉移閘極的輸出端,並將 輸出端偏壓至接地電壓,且 前述下拉元件的電阻值》前述轉移閘極的電阻值。 4.如申請專利範圍第3項所述之具備輸入功能或輸出入功 能之半導體積體電路,其中,復具備有輸出電晶體,係 連接至前述高電壓施加端子,且由能承受前述高電壓的 高耐壓P通道型MOS電晶體所構成。
13 319722修正版
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