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TWI233775B - Power layer system for multi-level structure - Google Patents

Power layer system for multi-level structure Download PDF

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Publication number
TWI233775B
TWI233775B TW93101974A TW93101974A TWI233775B TW I233775 B TWI233775 B TW I233775B TW 93101974 A TW93101974 A TW 93101974A TW 93101974 A TW93101974 A TW 93101974A TW I233775 B TWI233775 B TW I233775B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
substrate
metal
power
layer
power supply
Prior art date
Application number
TW93101974A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200526110A (en
Inventor
Tzung-Lin Wu
Yan-Huei Lin
Original Assignee
Univ Nat Sun Yat Sen
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univ Nat Sun Yat Sen filed Critical Univ Nat Sun Yat Sen
Priority to TW93101974A priority Critical patent/TWI233775B/zh
Priority to US11/043,605 priority patent/US7148425B2/en
Application granted granted Critical
Publication of TWI233775B publication Critical patent/TWI233775B/zh
Publication of TW200526110A publication Critical patent/TW200526110A/zh

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  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Description

1233775 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 係關於一種用 、本發明係關於—種電源層系統,詳言之 於多層結構之電源層系統。 【先前技術】 相關之先前技術可參閱美國專利第6G84779、6557154及 6518930號等專利。 —在南速數位電路中,訊號線與電源平面相接,其間存在 -寄生勺甩感、電谷、電阻效應,當積體電路(1C )快速 切換時,導致暫態電壓Δν產生於電源平面間,該暫態電壓 為一雜訊,稱之為地彈雜訊(Ground Bounce Noise)。若將 提供電源之電源層視為一平行導波結構,此地彈雜訊將造 成電源層共振,可發現在共振頻率點附近,地彈雜訊對訊 號品質(SI)與電磁干擾(EMI)的影響相當顯著。 為了減低地彈雜訊的影響,習知之技術有兩種··第一為 加一去耦合電容,該去耦合電容能提供一低阻抗路徑,使 該地彈雜訊順利導引到金屬接地面;第二種習知技術請參 考圖1 ’ ό知之電源層結構1 〇包括一基板11、一電源層12及 一接地層13。該電源層12係形成於該基板丨丨之上,該接地 層13係形成於該基板11之下。該電源層12係一金屬平面板 121 ’為避免地彈雜訊’於該金屬平面板121上切割一狹縫 122,該狹縫122界定一區域123,可將地彈雜訊束縛於該狹 缝122所界定之區域123,而不會使内部之地彈雜訊雜訊干 擾到該區域外其他元件的正常工作。另外,切割該狹縫12 2
O:\90\90608.DOC 1233775 使得平㈣面積減小,造成電_射共振職高頻遷移, 如此可達到在工作頻率點内有良好的雜訊_效果#較 低的電磁輻射場。 然而’利用第一種習知技術所加之實際去耦合電容且有 寄生電感效應,且愈大的電容值此電感效應越明顯,所以 去搞合電容對雜訊的抑制效果,會因為電感效應而隨工作 頻率增加,抑制效果下降。在第二種習知技術中,電源平 面層若以完整切劉狹缝方式來抑制接地彈跳效應(亦即益 通道124),不但阻斷了狹縫内外直流電位準位,當内部訊 號線與外部元件相連接時,勢必要跨越狹縫而造成更嚴重 的訊號品質(si)與電磁輻射問題。因此,—般之狹縫122周 圍會預留-通道124,以維持内外準位的—致性與避免訊號 線跨越狹縫情況產生。然而,實驗結果發現,該通道124之 通道效應们寻抑制雜訊與電磁輕射的效果降⑯,另外於低 頻帶處會產生新的共振頻率點。 因此,實有必要提供一種創新且富進步性之電源層系 統,以解決上述問題。 【發明内容】 本發明 < 目的在於提供一種用於多層結構之電源層系 統,包括:一基板、一電源層及一接地層。該電源層用以 提供藏多層結構之電源,該電源層具有複數個金屬單元, 忒等金屬單元間係以複數個單元狹缝區隔,且該等金屬單 兀係以複數個通道連接,該等通道係由複數個通道狹缝所 界定。該接地層用以提供該多層結構之接地,該接地層具
O:\90\90608.DOC 1233775 有'^接地金屬板。 利用本發明之電源層系統,該電源層之通道可等效為電 感,該金屬單元間之該等單元狹缝可等效為啦— ^ ’电谷,加上該 等金屬單元與基板間之電容,提供—合成之等效電容。因 此,利用並接之等效電容及電感效應,可達到—具寬頻之 截止帶’在該截止帶中之訊號不易向外傳播,可達到抑制 雜訊干擾之目m在截止帶的電磁輕射亦可被有效地 抑制。 【實施方式】 請參閱圖2,其顯示本發明用於多層結構之電源層系統扣 之結構示意圖。本發明之電源層系統20主要包括··一基板 3〇、一接地層40及一電源層5〇。該基板3〇具有一第一表面 及一第二表面,該第二表面係相對於該第一表面。該電源 層50係形成於該基板3〇之第一表面。該接地層仙係形成於 ?褒基板30之第二表面。然而,因本發明之電源層系統可應 用於多層結構,故該電源層及該接地層並不限須形成於^ 一基板之結構,可分別形成於不同之基板上。 忒基板可為印刷電路板,使本發明之電源層系統可應用 於^層印刷電路板之架構。另外,該基板可為半導體封裝 基板’使本發明之電源層系統可應用於多層半導體封装之 架構。 清參考圖3 ’該電源層包括複數個金屬單元51、52、53 等,金屬單元間係以複數個單元狹縫區隔,例如金屬單元 51及52間係以單元狹縫56區隔。請同時參閱圖4,以金屬單
O:\90\90608.DOC 1233775 兀5 1為例說明。該金屬單元5丨具有一金屬單元板5丨丨、複數 個通道512、513等。利用該等通道512、513等使該金屬單 元51與相鄰之金屬單元可電氣連接。例如,通道512可使金 屬單元51及金屬單元52電氣連接。 該等通道512、513等係由複數個通道狹缝所界定。以通 道512為例說明,該通道512係由成對之通道狹縫5丨4及 所界定。該等通道狹縫514及515係由單元狹缝兄朝該金屬 單元板511延伸,俾形成該通道512。 本發明上述實施例中之金屬單元係呈正方形,並以通道 互相連接。然而,本發明之金屬單元並不限於正方形,亦 可為,、角形等可以互相接續之形&,或是為不規則形狀但 彼此可以狹縫區隔並以通道連接。 以等效電路之觀點而言,該等金屬單元間係以通道(例 如:通道512)相連接,該等通道可等效為電感效應。另外, 該等金屬單元(例如:金屬單元51及52)間之該等單元狹 缝(例如:單元狹縫56)可等效為—電容,再加上該等金 屬早几與基板間之電容,可提供—合成之等效電容。因此, 利用上述並接之等效電容及電感效應,可達到一具有寬頻 之截止帶(Stop Band)’在該截止帶中之訊號不易向外傳 播,可達到抑制雜訊干擾之目的,並且在截止帶的電磁輕 射亦可被有效地抑制。 在多層結構中,另有—元件層或複數Μ件層,該元件 層具有-基板及複數個元件(通常為積體電路),因此設二 財金屬單元可對應於供給特定之某—或某些積體電路之
O:\90\90608.DOC 1233775 電源。當在該金屬單元内之奚 κ系一積體電路因高速切換產生 地彈雜訊時,該地彈雜訊將會限制於該金屬單元内,而不 會向外傳遞’因此不會影響在該金屬單元外之其他元件。 可有效達到抑制雜訊干擾之目的。 參考圖5所示’其中曲線58係參考板“―) 之頻率響應,曲線59為本發明之電源層系統由金屬單元53 率響應D上述之參考板為未具任何狹缝之電源 θ因此本發明之%源層系統於1〇1^〜40112間有極深的 截止帶’若雜訊頻率落在此頻帶内,該雜訊則不易傳播到 周邊其他元件。反觀在未具狹縫之參考板,其頻率響應則 不具有此一特性,顯示雜訊將傳遞至其他元件。 參考圖6 ’以數值分析方法(時域有限差分法;FDTD )探 时本發明足電源層系統各方向的遠場輻射效應並取其最大 值。其中曲線61係參考板之輻射效應,曲線62為本發明之 電源層系統之輻射效應。模擬結果發現,本發明之電源層 系統其共振輻射場於截止帶(1(3^12〜4(3112)處大幅被抑制, 由此可證明本發明之電源層系統在抑制雜訊與電磁輻射場 方面具全向性。 惟上述實施例僅為說明本發明之原理及其功效,而非限 制本發明。因此,習於此技術之人士可在不達背本發明之 精神對上述實施例進行修改及變化。本發明之權利範圍鹿 如後述之申請專利範圍所列。 【圖式簡單說明】 圖1為習知之電源層結構示意圖;
O:\90\90608.DOC 1233775 圖2為本發明用於多層結構之電源層系統之示意圖; 圖3為本發明電源層系統之電源層之結構示意圖; 圖4為本發明電源層系統之金屬單元之結構示意圖; 圖5為本發明之電源層系統之頻率響應示意圖;及 圖6為本發明之電源層系統之輻射效應示意圖。 【圖式元件符號說明】 10 :電源層結構 11 :基板 12 :電源層 121 ··金屬平面板 122 :狹缝 123 :區域 124 :通道 13 :接地層 20 :電源層系統 30 :基板 40 :接地層 50 :電源層 51、52、53 ··金屬單元 5 11 :金屬單元板 512、513 :通道 514、515 :通道狹縫 56 :單元狹縫 O:\90\90608.DOC -10-

Claims (1)

1233775 拾、申請專利範園: 1 · 一種用於多層結構之電源層系統,包括: 一基板; 一電源層’具有複數個金屬單元,該等金屬單元間係以 複數個單元狹缝區隔,且該等金屬單元係以複數個通道 連接,該等通道係由複數個通道狹缝所界定:以及 一接地層,具有一接地金屬板。 2. 3. 如申請專利範圍第1項之電源層系統,其中該基板具有一 第-表面及一第二表面,該第二表面係相對於該第一表 面’該電源層係形成於該基板之第—表面,該接地層係 形成於該基板之第二表面。 如申請專利範圍第β之電源I㈣,其中該等通道狹缝 係成對地設置,用以界定該等通道。 4· 如申請專利範圍第1項之 其中該等通道狹 5. 係由該等單元狹缝向該等金屬單元延伸 如申請專利範圍第1項之電源層系 比 4 ’其中該等金屬單元 係呈方形。 其中該等金屬單元 其中該基板為印刷 6·如申請專利範圍第1項之電源層系統 係呈六角形。 如申請專利範圍第1項之電源層系统 電路板。 8. 如申請專利範圍第1項之電源層系練 體封裝基板。 其中該基板為半導 〇:\90\9〇6〇8.D〇C
TW93101974A 2004-01-29 2004-01-29 Power layer system for multi-level structure TWI233775B (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8035993B2 (en) 2009-01-08 2011-10-11 Tatung Company Circuit board
TWI386115B (zh) * 2009-01-08 2013-02-11 Tatung Co 電路板

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