1290455 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於電漿顯示器用蔽磁薄片，尤其 置於電發顯不器顯不兀件（亦稱爲PDP)之前面 蔽元件產生之電磁波及近紅外線而以可良好辨識 不器（亦稱爲圖像顯不裝置）之圖像爲目的之電 用蔽磁薄片相關。 【先前技術】 本說明書中，用以表示比率之「比」及「％」 特別說明時係以質量爲基準，「/」記號係表示一 。又，「PDP」係代表「電漿顯示器顯示元件」 」則代表「近紅外線」。 PDP顯示元件係由具有資料電極及螢光層之® 、及具有透明電極之玻璃基板組合而成，其內部貝I 氙及氖等氣體，和傳統之陰極射線管（CRT )相tt 可實現大畫面化而逐漸普及。PDP啓動時，會大量 磁波、近紅外線、以及封入氣體之發射光譜所導萄 波長之不必要之光。爲了屏蔽或減少這些電磁波' 線、以及特定波長之不必要之光，在PDP之前面画 用黏結劑層將蔽磁薄片、近紅外線吸收薄片、以5 光吸收薄片積層於透明基板所構成之電漿顯示器月 (複合薄片）而形成電漿顯示器。電漿顯示器用前 須具有用以屛蔽PDP產生之電磁波之屏蔽性’ ，與配 用以屏 示於顯 顯示器 等在未 •體積層 ，「NIR [璃基板 J密封著 :，因爲 t產生電 〔之特疋 近紅外 ]設由利 :不必要 j前面板 ί面板必 尤其是 (2) 1290455 30MHz〜1GHz之30dB以上之機育g。又，因爲PDP產生之 波長8 0 0〜1，1 0 Onm之近紅外線亦會導致其他V TR等遙控 機器之錯誤動作，因必須進行屏蔽。此外，亦必須實施 PDP特有之封入氣體所具有之發射光譜之補正、以及喜好 色調之調整等之色質最佳化而提高顯示圖像之品質。又， 電漿顯示器用蔽磁薄片不但要具有適當之透明性（可見光 透射性、可見光透射率）及亮度，尙需要具有外光之反射 防止性及防眩性等可提高顯示圖像之辨識性之各種機能。 此外，亦要求電漿顯示器用蔽磁薄片爲具有可防止外力所 造成之破損之機械強度之基板，且在必要時可與其他層組 合，而很容易即可當做電漿顯示器用前面板使用。 眾所皆知之傳統蔽磁薄片構成要素之電漿顯示器用前 面板，係利用與以接地爲目的之外部電極之良好連結獲得 高蔽磁性且具有近紅外線屏蔽性及透明性之蔽磁性黏結薄 片及利用其之構件（例如，參照專利文獻1〜3 )。然而， 曰本特開2003 - 1 5 5 3 3號公報係利用雷射等除去上層來形 成用以接地之端子部，又，日本特開2 003 -66 8 5 4號公報 係只除去上1層來形成緣部（端子部），又，日本特開 2002-3 2443 1號公報係利用銀底或導電帶來形成電極（端 子部）’故有必須增加該形成步驟且需要以該步驟爲目的 之設備及材料而提高成本之缺點。 又’大家都知道電漿顯示器用前面板之近紅外線洩漏 應較少（例如，參照專利文獻4〜6 )。然而，日本特開 2000-2 3 5 1 1 5號公報係使基板含有近紅外線吸收劑，又， 1290455 (3) 曰本特開2000- 1 3 7442號公報係使基板含有近紅外線吸收 劑’此外’日本特開平；! 〇- ；! 86丨27號公報係配設含有近紅 外線吸收劑之基材或另一層。因此，含有近紅外線吸收劑 之構件皆爲相當於本發明之透明基板之構件。該構件係又 大又重而難以逐片處理，且係量產之完成材料。因此，若 爲了含有近紅外線吸收劑，會因爲係需要其他步驟之特別 訂製品而成爲依品種別之少量生產，故有高成本之問題。 又’近紅外線吸收劑一般會因爲紫外線而劣化，故有近紅 外線吸收性能降低之問題。 [專利文獻1]日本特開2003 - 1 5 5 3 3號公報 [專利文獻2]日本特開2003-66854號公報 [專利文獻3]日本特開2002-32443]號公報 [專利文獻4]日本特開2000-235115號公報 [專利文獻5]日本特開2000- 1 3 74 42號公報 [專利文獻6]日本特開平10- 1 8 6 1 27號公報 【發明內容】 本發明之目的即在解決上述諸問題。其目的係可利用 多品種少量生產提供具有電磁波之屏蔽、近紅外線之屏蔽 '以及封入氣體之發射光譜所導致之特定波長之不必要之 光之屏蔽之機能之電漿顯示器用蔽磁薄片。 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片之特徵，係具有：透 曰月基材薄片、直接或利用黏結層配設於透明基材薄片之一 面之含有複數開口之網目部、具有配置於該網目部之外緣 -7- (4) 1290455 之邊緣部之金屬層、以及依序積層於金屬層上之平坦化樹 脂層及黏著層，平坦化樹脂層含有近紅外線吸收劑，黏著 層含有用以吸收電漿顯示器之封入氣體之發射光譜所導致 之特定波長光之色調補正用著色劑。 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片之特徵，係黏著層進 一步含有用以執行電漿顯示器之顯示圖像之色調調整之色 調調整用著色劑。 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片之特徵，係金屬層之 邊緣部之至少一部份未覆蓋平坦化樹脂層及黏著層之任一 方而外露。 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片之特徵，係透明基材 薄片之另一面配設著反射防止層及/或防眩層。 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片之特徵，係在金屬層 之透明基材薄片側之面利用黑化處理配設黑化處理層。 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片之特徵，係平坦化樹 脂層完全塡埋網目部之開口而形成平坦化面。 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片之特徵，係平坦化樹 脂層塡埋網目部之部份開口。 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片之特徵，係比平坦化 樹脂層更靠近透明基材薄片側之層之其中1層以上含有紫 外線吸收劑。 依據本發明，因爲金屬層被平坦化樹脂層覆蓋，故網 目之凹部、尤其是凹部之角部會被塡埋’不論是塗布或貼 附黏著層皆不會含有氣泡。傳統上，因爲無平坦化樹脂層 -8- (5) 1290455 而直接以黏著層貼附，故爲了除去網目凹部之角部所含有 之氣泡而需要在貼附後實施減壓及/或加壓之脫氣步驟， 然而，本發明不需要該脫氣步驟。又，近紅外線之吸收著 色劑、及封入氣體之發射光譜所導致之特定波長之不必要 之光之吸收著色劑係位於不同之層，很容易對應多品種少 量，且在最終步驟將色調補正用著色劑配置於黏著層側， 故可配合顧客之需要，很容易即可以多品種少量之方式只 調整需要實施透射率調整之色調補正用著色劑，而提供可 實現辨識性長期保持安定之顯示圖像之電漿顯示器用蔽磁 薄片。 依據本發明，除了含有色調補正用著色劑以外，尙含 有色調調整用著色劑，故可配合顧客之需要，實施顯示圖 像之色調調整。 依據本發明，因爲係以使金屬層面之部份邊緣部外露 之圖案狀塗布平坦化樹脂層，故無需對邊緣部實施端子加 工即可得到接地。此外，只在必要部份實施平坦化樹脂層 之圖案狀塗布，故可節省材料費。 依據本發明，因爲附與外光之反射防止及防眩性，故 不會映入顯示面而可提高顯示圖像之辨識性。 依據本發明，在存在外光之狀態下可進一步提高顯示 圖像之對比。 又’依據本發明，因爲比含有近紅外線吸收劑之平坦 化樹脂層更靠近透明基材薄片側（外光射入側）之層含有 紫外線吸收劑，即使射入陽光等含有紫外線之外光時，亦 -9- (6) 1290455 可防止近紅外線吸收性能因爲紫外線而劣化。 【實施方式】 以下，參照圖面’針對本發明之實施形態進行詳細說 明。第1圖係本發明之1實施例之電漿顯示器用蔽磁薄片 之剖面圖。第2圖係本發明之1實施例之電漿顯示器用蔽 磁薄片之平面圖。 (基本之構成） 如第1圖所示，本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片30 係由透明基材薄片31/必要時之黏結層33/金屬層35/平坦 化樹脂層39/黏著層41所構成。亦即，電漿顯示器用蔽磁 薄片3 0具有：透明基材薄片3 1、利用黏結劑3 3配設於透 明基板3 1之一面之金屬層3 5、以及依序配設於金屬層3 5 上之平坦化樹脂層3 9及黏著層4 1 ° 金屬層35具有網目狀區域（網目部）203及位於該網 目狀區域之外側之邊緣部2 0 1，必要時’對前述金屬層3 5 之透明基材薄片3 1側之面實施黑化處理而形成黑化處理 層3 7。而且，平坦化樹脂層3 9含有近紅外線吸收劑’黏 著層4 1含有用以吸收封入氣體之發射光譜所導致之特定 波長光之色調補正用著色劑。又，如第2圖所示’金屬層 3 5之至少部份邊緣部20 1未覆蓋平坦化樹脂層3 9而外露 。又，黏著層4 1亦可以在色調補正用著色劑之外進一步 含有色調調整用著色劑。此外，亦可在透明基材薄片3】 -10- (7) 1290455 之非金屬層3 5面之面配設反射防止及/或防眩層5 1。 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片3 0可以單 獨使 用、或與保護板等其他構件倂用，將其配設於PDP之觀察 側即成爲電漿顯示器用前面板，具有要求之機能。 (著色劑之定義） 又，因爲本發明使用複數著色劑，爲了避免混淆，本 說明書中，將用以屏蔽PDP產生之波長800〜1,100 nm之 近紅外線之著色劑定義成「近紅外線吸收劑（亦稱爲NIR 吸收劑）」，將用以補正PDP特有之封入氣體（氖氣體等 )之發射光譜（亦即，用以吸收特定波長之不必要之光並 補正圖像色調之從天然色之偏離）之著色劑定義成「色調 補正用著色劑（尤其是吸收氖原子發射光譜時，亦稱爲 Ne光吸收劑）」，將用以將顯示圖像調整成適當色調之 著色劑定義成「色調調整用著色劑」。 (電漿顯示器用蔽磁薄片之製造及材料） 本發明之電漿顯示器用蔽磁薄片之製造上，首先，（ 1 )準備金屬層3 5，並配合需要對至少一面實施黑化處理 。（2)積層上述金屬層35或其表面之黑化處理層37、及 透明基材薄片3 1。（ 3 )積層之金屬層3 5係以光刻法形成 ，具有網目狀區域2 03、及位於該網目狀區域之外側之邊 緣部201。（ 4)以覆蓋上述金屬層35之網目狀區域203 且至少使部份邊緣部2 0 1外露之方式形成圖案狀之平坦化 -11 - (8) 1290455 樹脂層3 9。（ 5 )在上述平坦化樹脂層3 9面形 4 1。依序針對該製造方法及使用材料進行說明。 (金屬層） 金屬層 3 5之材料採用例如金、銀、銅、鐵 、鋁等可充分屏蔽電磁波且具有某程度之導電性 金屬層可以不是單體而爲合金或多層，使用鐵時 低碳未靜鋼或低碳去錦不銹鋼（aluminum killed 低碳鋼、Ni-Fe合金、或銦合金，又，實施陰極 做黑化處理時，以電附著之容易度而言，以銅或 爲佳。該銅箔可以使用壓延銅箔或電解銅箔，然 度之均一性、黑化處理及/或鉻酸處理之密合 10 μπι以下之薄膜化而言，以電解銅箔爲佳。該： 之厚度應爲1〜ΙΟΟμπι程度，最好爲5〜20μηι。 之厚度時，利用光刻法之網目加工會較爲容易， 屬之電阻値會增加而降低蔽磁效果，大於前述之 無法得到期望之高精細網目形狀，結果，實質之 會降低，光線透射率亦會降低，且視野角會降低 之辨識性變差。 金屬層3 5之表面粗細度之Rz値應爲0.5〜 於前述値時，即使實施黑化處理，外光亦會進行 ，而降低圖像之辨識性。若大於前述値，塗布黏 蝕劑等時，無法均一分布於表面整體或會產生氣 表面粗細度Rz係依據JIS · B060 1 ( 1 994年版 成黏著層 、鎳、鉻 之金屬。 ，應採用 steel )等 電附著當 銅合金箔 而，以厚 性、以及 屬層35 小於前述 然而，金 厚度時， 數値孔徑 ，使圖像 1 0 μ m 〇 小 鏡靣反射 結劑或抗 泡。又， )檢測之 -12- (9) 1290455 1 0點平均粗細度値。 (黑化處理） 至少應在金屬層3 5之透明基材薄片3 1側之面實施黑 化處理來形成黑化處理層3 7。亦可進一步對兩面實施黑化 處理。該黑化處理係在金屬層3 5單層之狀態下執行再積 層至透明基材薄片3 1。亦可在積層後，再對從透明基材薄 片31之相反面外露之金屬層35進行黑化處理，在兩面形 成黑化處理層3 7。 (兩面黑化） 又，對兩面實施黑化處理時，可將上述之經過單面黑 化處理之金屬層3 5積層於後述之透明基材薄片3 1而形成 網目後，再對另一方進行黑化處理。該黑化處理之方法可 應用後述之黑化處理，最好採用電鍍法。利用光刻法配設 網目部後再實施黑化處理，可以對網目狀金屬層表面（線 部之表面）及側面（線部之側面）部份實施黑化處理，不 但可屏蔽PDP產生之電磁波，尙可抑制蔽磁用金屬網目框 (線部）部份之反射，而使顯示器之顯示圖像具有高對比 ，而處於良好之辨識狀態。 黑化處理係使金屬層表面粗化（光擴散）及/或黑化 (光吸收）即可，可以利用添加著金屬、合金、金屬氧化 物、金屬氧化物、或者黑色顏料之樹脂（塗料）或各種方 法來形成。黑化處理最好採用電鍍法，因爲電鍍法可使其 -13- (10) 1290455 具有對金屬層之良好密合力，且容易獲得均 鍍之材料爲從銅、鈷、鎳、鋅、鍚、或鉻選 或化合物。其他金屬或化合物會出現無法充 屬層之密合不足，例如，鎘鍍最爲明顯。 金屬層3 5若爲銅箔時之電鍍法，例如 酸銅、以及硫酸鈷等所構成之電解液中實施 解處理而使陽離子性粒子附著之陰極電附著 陽離子性粒子可使金屬層3 5更爲粗化，同 色。該陽離子性粒子可以採用銅粒子、銅及 金粒子，然而，最好採用銅.鈷合金之粒子 粒子之平均粒子徑應爲0 · 1〜1 μπι。採用陰 松子右爲平均粒子徑均一之 0.1〜Ιμηι可實 又，以高電流密度對對銅箔表面進行處理， 成爲陰極並產生還原性氫而活化，進一步大 粒子之密合性。 銅·鈷合金粒子之平均粒子徑若爲前述 上，金屬層之厚度會變薄，在實施基材薄片 可能出現金屬箔被切斷等而使加工性變差， 之外觀之緻密度不足，而明確出現外觀及光 若爲前述平均粒子徑以下，金屬層之粗化會 之辨識性變差。 又，利用黑色鉻及黑色鎳之黑化處理亦 導電性及黑色程度’且粒子不易脫落，然而 之接地性較差’只要實施圖案狀電鍍即可。 一之黑化。電 取之至少1種 分黑化或與金 在由硫酸、硫 銅箔之陰極電 電鍍。配設該 時，可得到黑 其他金屬之合 ’銅·姑合金 極電附著時， 現良好附著。 可使銅箔表面 幅提高銅箔及 平均粒子徑以 之積層之步驟 又，密集粒子 吸收之不均。 不足而使圖像 可獲得良好之 ，因爲黑色鎳 -14- (11) 1290455 用以評估蔽磁薄片3 0之辨識性之光學特性，係以 JIS-Z8729基準之色座標系統「L*、a*、b*、ΔΕ*」來表 示色調。該「a*」及「b*」之絶對質較小之一方之金屬層 爲非辨識性，對比感會較高，結果，圖像有較佳之辨識性 〇 本說明書將粗化及黑色化倂稱爲黑化處理。該黑化處 理之反射Y値最好爲大於0%、20%以下。又，反射γ値 之檢測方法係利用分光光度計UV_3100PC (島津製作所製 )以射入角5。（波長爲3 8 0 n m至7 8 0 n m )檢測。 (防銹處理） 必要時，亦可在金屬層3 5面及/或黑化處理層3 7配 設防銹層3 7a，最好則係至少對黑化處理層3 7進行配設。 該防銹層3 7a具有金屬層3 5及黑化處理層3 7之防銹機能 ’且黑化處理爲粒子時，可防止其脫落或變形。該防銹層 3 7 a可應用眾所皆知之防銹層，然而，以鎳、鋅、及/或銅 之氧化物、或鉻酸處理層爲佳。鎳、鋅及/或銅之氧化物 之形成上，可使用眾所皆知之電鍍法，厚度爲0.001〜 Ιμηι程度’最好爲〇 〇〇1〜ο.ΐμ^。 (鉻酸處理） 鉻酸處理係在被處理材料上塗布鉻酸處理液之處理。 該塗布方法係輥塗、簾狀塗布、擠壓塗布、靜電噴霧法、 以及浸漬法等進行塗布，其後，不進行水洗而直接乾燥即 -15- (12) 1290455 可。鉻酸處理液通常係使用含有3g/l之Cr02之水溶 具體而言，例如 ALUSURF# 1 000 ( NIPPON PAINT LTD 製，鉻酸處理劑商品名稱），PM-284 ( Ϊ Parkerizing Co，m Ltd.製，鉻酸處理液商品名稱）等 鉻酸處理可進一步提高黑化處理效果。 (透明基材薄片） 透明基材薄片3 1之材料只要爲可以承受使用條 製造之透明性、絶緣性、耐熱性、以及機械強度等， 採用各種材料，例如，聚對苯二甲酸乙二酯及聚2,6 甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、耐隆6及耐隆6 10等聚醯 樹脂、聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烴系樹脂、聚氯乙 乙烯基系樹脂、聚甲基（間）丙烯酸酯等丙烯酸系樹 聚芳醋、聚楓、聚苯撐氧、polyaramide等工程樹脂 碳酸酯、聚苯乙烯等苯乙烯系樹脂、纖維素三醋酸 TAC )等纖維素系樹脂等。 透明基材薄片31可以爲以上述樹脂爲主要成分 聚合樹脂或混合體（含有合金）、或由複數層所構成 層體。該透明基材可以爲定向延展膜，亦可以爲未定 展膜，然而，若以提高強度之目的而言，應以單軸方 雙軸方向之延展膜爲佳。透明基材3 1之厚度方靣， 爲 12 〜ΙΟΟΟμηι 程度，50 〜700μιη 更佳，100 〜5 00μηι 。前述以下之厚度時，會因爲機械強度不足而發生反 變形等，前述以上時，則會具有過剩性能而浪費成本 液。 CO·， i h ο η 。該 件及 可以 萘二 胺系 烯等 脂、 、.聚 酯（ 之共 之積 向延 向或 通常 最佳 翹或 。該 -16- (13) 1290455 透明基材係由這些樹脂之至少1層所構成之膜、片、及板 狀’這些形狀在本說明書中統稱爲薄片。通常會採用聚對 苯二甲酸乙二酯及聚2，6萘二甲酸乙二酯等聚酯系薄片， 因爲其透明性及耐熱性佳，且成本較爲便宜，其中又以聚 對苯二甲酸乙二酯最佳。又，基本上，透明性係愈高愈好 ’然而’可見光線透射率應爲8 0 %以上。 在對透明基材薄片31進行塗布之前，亦可先對塗布 面實施電暈放電處理、電漿處理、臭氧處理、框處理、底 漆（亦稱爲底層、黏結促進劑、易黏結劑）塗布處理、預 熱處理、除塵處理、蒸鍍處理、鹼處理等之易黏結處理。 必要時，可對該樹脂薄片添加充塡劑、可塑劑、抗靜電劑 等添加劑。 (積層） 透明基材薄片31及金屬層35之積層（亦稱爲層疊） 法’通常係將黏結劑（或黏著劑）之樹脂或其混合物製成 乳膠、水性分散液、或有機溶媒液，利用網板印染、凹板 印刷、comma coat、以及輥塗等眾所皆知之印刷或塗膜法 進行印刷或塗布，必要時進行乾燥，形成黏結層3 3後， 使其和另一方之材料重疊並加壓即可。該黏結層之膜厚應 爲〇·1〜20μηι (乾燥狀態）程度，最好爲}〜1〇μηΊ。 具體之積層方法通常係利用連續之帶狀物（捲取）， 在從捲取滾筒捲出而呈現拉伸之狀態下，對金屬層（箔） 或透明基材薄片之一方塗布黏結劑並進行乾燥後，疊合另 -17- (14) 1290455 一方之材料並進行加壓。此外，必要時，在3 0〜8 〇 °C之環 境下實施數小時〜數日之老化（成化、硬化）’而成爲捲 取滾筒狀之積層體。最好採用相關業者稱爲乾燥積層法（ 亦稱爲乾積）之方法。此外，最好採用利用紫外線（UV )或電子束（EB )等遊離輻射實施硬化（反應）之遊離輻 射硬化型樹脂。又，亦可在透明基材薄片之一面利用電鍍 及蒸鍍等方法來直接形成金屬層。此時，沒有黏結層。 (乾燥積層法） 乾燥積層法係將分散或溶解於溶媒之黏結劑，以乾燥 後之膜厚爲0.1〜20μιη (乾燥狀態）程度、最好爲1.0〜 5 ·〇μηι之方式，利用例如滾筒塗膜、反向滾筒塗膜、或凹 板塗膜等塗膜法進行塗布，並實施溶劑等之乾燥，形成黏 結層，其後，立即進行貼合實施基材積層後，進行3 0〜 1 2 0°C、數小時〜數日間之老化來使黏結劑硬化，而得到2 種材料之積層。乾燥積層法所使用之黏結層會成爲黏結層 3 3，可採用熱硬化型或遊離輻射硬化型黏結劑。熱硬化型 黏結劑之具體實例如使二异氰酸甲苯酯或 Hexamethylenediisocyanate ( HDI)等多官能異氰酸酯、 與聚醚系聚醇及polyacrylate polyol等含有羥基之化合物 進行反應所得到之2液硬化型胺甲酸乙酯系黏結劑、丙烯 酸系黏結劑、橡膠系黏結劑等，然而，以2液硬化型胺甲 酸乙酯系黏結劑爲佳。 -18- (15) 1290455 (金屬之網目加工） 如第2圖之平面圖所示，金屬層35具有網目狀區域 之網目部203、及配置於該網目部之外緣之當做全面金屬 層之端子部之邊緣部2 0】。網目部2 0 3如第3圖之剖面圖 所示，具有由開口部2 0 7及保留金屬層之線部2 0 5所圍成 之複數開口部2 0 7。邊緣部2 0 1沒有開口部而全面保留金 屬層，邊緣部201係以圍繞網目部203之方式配設。配設 網目狀區域之方法可以利用眾所皆知之光刻法。 (光刻法） 利用光刻法使透明基材薄片31/黏結層33/金屬層35 之積層體之金屬面成爲網目狀。在該金屬層35配設網目 圖案狀抗蝕劑層，利用蝕刻除去未覆蓋抗蝕劑層之部份之 金屬層後，除去抗蝕劑層，得到網目狀金屬層。此步驟亦 對帶狀連續捲取之滾筒狀積層體進行加工。實施該積層體 之連續性或間歇性搬運，在不鬆弛之拉伸狀態下，實施遮 罩、蝕刻、以及抗蝕劑剝離。 首先，遮罩係例如將感光性抗蝕劑塗布於金屬層全面 並進行乾燥後’利用具有特定圖案（網目之線部及邊緣部 )之原版（光遮罩）進行密合曝光，實施水顯影並執行硬 膜處理等，再實施烘烤。抗蝕劑係闱下述方法塗布，亦即 ’對捲取滾筒狀之帶狀積層體實施連續性或間歇性搬運， 同時對該金屬層面，利用浸漬（d i p p i n g )、簾狀塗布、或 表面流過等方法實施乾酪素、p V A、以及白明膠等抗I虫劑 -19- (16) 1290455 之塗布。又，亦可不塗布抗蝕劑而使用乾膜抗蝕 用乾膜抗蝕劑，可提高作業性。烘烤時，若爲乾 劑，則在200〜3 00°C下實施，然而，爲了防止積 翹，以較低之溫度爲佳。 (蝕刻） 遮罩後進行蝕刻。蝕刻所使用之蝕刻液方面 發明以連續方式執行蝕刻時，應採用容易循環使 化鐵、或三氯化銅之水溶液。又，基本上，該蝕 及步驟係和對帶狀連續鋼材、尤其是厚度爲20〜 薄板進行蝕刻用以製造彩色TV之陰極射線管用 罩之設備及步驟相同。亦即，可應用製造該陰影 存製造設備，從遮罩至蝕刻可以進行一貫性之連 具有極佳之效率。蝕刻後，實施水洗、利用鹼液 劑剝離、以及洗淨後，再實施乾燥。 (網目） 網目部203除了被邊緣部201圍繞以外，尙 線部205形成之複數開口部207。開口部207之 特別限制，例如，可以爲正三角形等之三角形、 長方形、菱形、梯形等之四角形、六角形等之多 形、以及橢圓形等。利用配列同一形狀、或2種 合之複數開口部2 07來形成網目部203。以開口 數値孔徑及網目之非辨識性而言，線部2 0 5之 劑，若使 酪素抗蝕 層體之反 ，在如本 ΓΊΓ1 —- A=r 用之二氣 刻之設備 8 0 μιη 之 之陰影遮 遮罩之既 續生產， 實施抗蝕 具有利用 形狀並無 正方形、 角形、圓 以上之組 部207之 線寬應爲 -20- (17) 1290455 2 5 μηι以下，最好爲20 μηι以下，線部205之線間隔（線間 距）方面，以光線透射率而言，應爲1〇〇μηι以上，最好爲 20 Ομηι以上。又’線部20 5及蔽磁層端部之邊所構成之角 度方面’爲了消除雲紋等，應考慮顯示器之圖素及發光特 性進行適當選擇。 第3圖（A )及（Β )係蔽磁薄片之網目部之剖面圖。 (平坦化樹脂層） 在利用光刻法積層而成之透明基材薄片3 1 /黏結層3 3 / 金屬層35/由配合需要而配設之黑化處理層37所構成之積 層體之金屬層或黑化處理層3 7面配設平坦化樹脂層3 9。 若形成網目部203，則邊緣部201及網目部2 03之線部 2 05會具有金屬箔之厚度，然而，開口部207則因爲金屬 層35被除去而成爲凹洞（凹部），網目部203則呈現凹 凸狀態。傳統上，該凹凸往往會因爲在下一步驟進行黏結 劑或黏著劑之塗布而被黏結劑等塡埋，然而，因爲不能確 實塡埋至各部，而特別容易在角部形成氣泡，而降低透明 性及顯示圖像之辨識性，故有必須配設利用加壓或減壓等 來進行氣泡脫氣之步驟的缺點。該脫氣步驟係將積層體置 入通常爲常溫〜7 0 °C程度之密閉鍋，進行加壓及/或減壓 、或重複實施加壓及/或減壓之3 0〜60分鐘之整批處理’ 生產性極低且成本較高。又，將形成網目部2 0 3後之積層 體貼附至顯示器時，會呈現凹凸外露之狀態，很容易受損 且作業性較差。依據本發明’可解決前述相關缺點。 -21 - (18) 1290455 以平坦化樹脂層3 9塡埋凹部，不但可順利達到網目 部2 0 3之開口部20 7之凹部各角落，且可保護金屬層。塗 布平坦化樹脂層3 9之樹脂使其覆蓋於金屬層3 5上，然而 ，亦可如第3圖（A )所示，使平坦化樹脂層3 9塡埋開口 部207之凹部，且形成於金屬層35上而具有使表面獲得 平坦化之效果，亦可如第· 3圖（B )所示，保開口部207 之凹部之表面保留凹凸。換言之，覆蓋開口部207之凹部 及金屬層3 5，使平坦化樹脂層3 9到達開口部2 0 7之凹部 之各角落，而減少金屬層之凹凸落差即可。 平坦化樹脂層3 9只要具有高透明性、與網目之金屬 具有良好黏結性、以及與與下一步驟之透明黏結劑具有良 好黏結性即可。該平坦化樹脂層3 9之材料只要爲透明即 可’並無特別限制，可以使用傳統之眾所皆知之熱可塑性 樹脂、熱硬化型樹脂、反應型樹脂、遊離輻射硬化型樹脂 、以及這些樹脂之混合物。平坦化樹脂層3 9爲熱硬化型 樹脂時，若含有後述之著色劑，尤其是含有二亞銨系化合 物時，該著色劑在具有異氰酸酯基等官能基之硬化劑之硬 化反應過程中會產生變化而容易導致機能變差。又，遊離 輻射硬化型樹脂時，遊離輻射之照射可能會導致著色劑變 色及褪色而使機能變差，故最好採用熱可塑性樹脂。 此外，爲了隔離平坦化樹脂層3 9與黏著層4 1含有之 「色調補正用著色劑」及/或「色調調整用著色劑」，應 使用熱可塑性樹脂，最好能使用不具有高極性官能基之合 成樹脂、或官能基數較少之合成樹脂。 -22- (19) 1290455 熱可塑性樹脂可使用例如氯乙烯-醋酸乙烯共聚物、 氯乙烯-醋酸乙燒醇共聚物、或氯乙烯-丙烯共聚物等之氯 乙烯系樹脂、聚甲基（間）丙烯酸酯樹脂、聚丁基（間） 丙烯酸酯樹脂、或丙烯酸酯-丙烯共聚物等之丙烯酸系樹 脂、環狀聚烯烴系等之聚烯烴系樹脂、苯乙烯-丙烯樹脂 、聚乙烯丁醛、聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、胺甲酸乙酯系 樹脂、醯胺系樹脂、纖維素系樹脂（醋酸丁酸纖維素、雙 醋酸纖維素、三醋酸纖維素 '丙酸纖維素、硝化纖維素、 乙基纖維素、甲基纖維素、丙基纖維素、甲基乙基纖維素 、殘甲基纖維素、以及乙醯纖維素等）、或前述物質之混 合物等。又，本說明書中，變性之纖維素系樹脂亦包含於 合成樹脂之內。 熱可塑性樹脂最好爲丙烯酸系樹脂、丙烯系樹脂、胺 甲酸乙酯系樹脂、或聚酯樹脂。以著色劑之色素之溶解性 、安定維持性、以及著色劑之機能耐久性而言，以熱可塑 性樹脂爲佳。 (近紅外線吸收劑之含有） 使平坦化樹脂層3 9含有近紅外線吸收劑（NIR吸收 劑）。該近紅外線吸收劑對於PDP發出之波長800〜 11 OOnm頻帶寬度近紅外線之透射率應爲20%以下，最好 爲10°/。以下，若爲可滿足實用之程度之屏蔽，並沒有特別 限制。近紅外線吸收劑係使用可大量吸收近紅外線頻帶且 可見光頻帶之光透射性較高者，例如，聚次甲基系、花菁 -23- (20) 1290455 (cyanine)系化合物、花菁（phthalocyanine)系化合物 、naphthalocyanine系化合物、萘酚醌系化合物、蔥醌系 化合物、雙硫基系金屬錯合物化合物、亞銨系化合物、二 亞銨系化合物、六氯化鎢等近紅外線吸收色素。 著色劑之種類及添加量只要配合著色劑之吸收波長、 吸收係數、色調、以及顯示器用前面板要求之透射率等進 行適度選擇即可，例如，近紅外線吸收劑之添加量方面， 在層中添加0.1〜15質量％程度，色調補正用著色劑及色 調調整用著色劑等各著色劑之添加量方面，在層中添加 0.0000 1〜2質量％程度，爲了避免這些著色劑受到紫外線 影響而劣化，在層中亦可添加二苯基酮系及苯半唑系等紫 外線吸收劑，紫外線吸收劑之添加量方面，在層中添加 0.1〜10質量。/〇程度。 (著色劑之含有） 使平坦化樹脂層3 9含有由近紅外線吸收劑（NIR吸 收劑）所構成之著色劑時，只要塗布由透明合成樹脂及著 色劑溶解或分散於溶媒所構成之組成物之墨並實施乾燥即 可。以均一分散著色劑而言，上述著色劑應事先溶解或分 散於溶媒之溶液狀，同樣的，透明合成樹脂亦應事先溶解 或分散於溶媒之溶液狀，然後，進行混合或再分散使其成 爲組成物之墨。混合或分散之方法並沒有特別限制，可使 用通常之例如減溫器、拌合器、顛動筒、摻合機、均質機 、球磨機等眾所皆知之混合分散機。 -24- (21) 1290455 (平坦化樹脂層之形成） 平坦化樹脂層3 9係塗布上述樹脂使其塡埋開口部2 0 7 之凹部，然而，若未能深入凹部之各角落，則會產生氣泡 而降低透明性。因此，利用溶劑等將其稀釋成低黏度之組 成物（墨），進行塗布及乾燥來形成該層。均一分散之觀 .點而言，該組成物（墨）之取得上，應將上述樹脂分散或 溶解於甲基乙基酮、醋酸乙酯、及/或甲苯等溶媒，另外 ，亦將著色’劑分散或溶解於同樣之溶媒，然後再進行混合 。塗布方法可使用網板印染、輥塗、反向輥塗、slit reverse coat、噴塗、鋼模塗布、lip die coat、凹板塗布（ 凹板印刷）、凹·板反向塗布、或comma coat等眾所皆知 之印刷或塗布法。若未能深入凹部之各角落，則會產生氣 泡而降低透明性。因此，應利用溶劑等稀釋成低黏度後進 行塗布乾燥、或實施空氣之脫氣並同時進行塗布。 (圖案狀之形成） 該平坦化樹脂層3 9應如第2圖所示，爲圖案狀塗布 ，該圖案塗布方法可以採用網板印染、凹板偏置印刷、或 間歇式鋼模塗布法。該圖案只要能覆蓋網目部203即可， 然而，至少有部份邊緣部2 0 1未被覆蓋，使該邊緣部2 〇 1 之一部份之金屬層3 5外露，當做接地用。該外露部份亦 可以爲邊緣部201之全部、網目部203之外緣之上下左右 之一邊或複數邊、或一邊之一部份。如此，因爲邊緣部 -25- (22) 1290455 2〇 1之一部份外露，很容易對框體等進行接地。又，因爲 平坦化樹脂層3 9只針對必要部份實施圖案狀塗布，故可 節省材料費用。此外，傳統上，因爲接地用端子部未外露 ’故需要特別進行加工使其外露之端子加工作業’然而’ 本發明因爲係圖案狀塗布而使邊緣部之一部份外露，故不 需要實施端子加工。 (黏著層） 以如上所述方式實施積層之透明基材薄片3 1 /黏結層 33/金屬層35/平坦化樹脂層39當中之平坦化樹脂層39面 配設著黏著層4 1。黏著層4 1之黏著劑可使用眾所皆知之 利用感壓進行黏結之黏著劑。黏著劑並無特別限制，可以 使用例如天然橡膠系、丁基橡膠、聚異戊二烯、聚異丁烯 、聚氯丁二烯或苯乙烯-丁二烯共聚合樹脂等之合成橡膠 系樹脂、聚（間）丙烯酸甲酯、聚（間）丙烯酸丁酯、（ 間）丙烯酸甲酯-(間）丙烯酸丁酯共聚合樹脂等之丙烯 酸系樹脂、聚醋酸乙烯酯、或乙烯-醋酸乙烯酯共聚物等 醋酸乙烯酯系樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂、丙烯、烴樹脂、 烷基酚樹脂、松香、松香三酸甘油酯、或rosin hydride等 松香系樹脂。黏著層4 1之黏著劑應爲化學極性較低、透 明性較佳之材料。 (色調補正用著色劑） PDP會發出特有封入氣體（例如氖等）特有之發射光 -26- (23) 1290455 譜光（不必要之發光），而降低顯示圖像之色純度。因此 ，必須配設含有用以屏蔽該光並進行補正之著色劑「色調 補正用著色劑（尤其是，吸收氖原子之發射光譜時，亦稱 爲N e光吸收劑）」之層。黏著層41會含有「色調補正用 著色劑」。尤其是，吸收氖原子之發射光譜時，色調補正 用著色劑係採用可大量吸收波長5 70nm〜6 05nm之著色劑 。色調補正用著色劑係使用可吸收可見光頻帶之期望波長 之一般染料或顏料，其種類並沒有特別限制，例如，蔥醌 系、花菁（phthalocyanine)系、次甲亞胺系、次甲基偶 氮系、oxalysine系、偶氮基系、苯乙烯系、香豆素系、 紫質系、dibenzo furanone 系、diketo pyrrole pyrrole 系、 玫紅系、二苯并喃系、甲撑卩比略系、以及s q u a 1 i r i u m系等 眾所皆知之有機色素。 (色調調整用著色劑） 黏著層41除了「色調補正用著色劑」以外，尙可含 有色調調整用著色劑。色調調整用著色劑之目的在於提高 透射圖像之對比、及色彩調整，係以改變圖像之色調將圖 像調整成喜好之色調爲目的之可吸收可見光頻帶之著色劑 。色調調整用著色劑可使用例如單偶氮色素、喹Π丫酮、硫 靛波爾多、二萘嵌苯栗褐、苯胺黑、鍛赭石、氧化鉻、鈷 藍、群青、碳黑等有機及無機顏料、靛類染料、碳離子型 染料、喹啉染料、硝酸靈染料、萘酚醌染料、二萘嵌苯染 料等染料。著色劑（染料或顏料）方面，5 6 0〜6 2 0 n m之 -27- (24) 1290455 波長範圍應爲玫紅系、卟啉系、花菁（cyanine )系、 squalirium系，次甲基偶氮系、咕噸系、〇χ〇η〇1系、或偶 氮基系之化合物’ 380〜440nm之波長範圍應爲花菁（ cyanine)系、份菁系、oxon〇l系、arylidene烯丙叉系或 苯乙烯系等次甲亞胺系、蔥醌系、苯酮系、二苯甲烷染料 、三苯甲烷染料、二苯并喃染料、偶氮基系、次甲基偶氮 系之化合物，640〜780n m之波長範圍應爲花菁（cyan ine )系、squalirium系、次甲基偶氮系、二苯并喃系、 oxonol系、偶氮基系、蔥醌系、三苯甲烷系、二苯并喃系 、銅花菁（phthalocyanine)系、硫二苯胺系、或吩噁嗪 系等之化合物。這些著色劑可單獨使用亦可混合使用。 著色劑之種類及添加量只要配合著色劑之吸收波長、 吸收係數、色調、以及顯示器用前面板要求之透射率等進 行適度選擇即可，例如，近紅外線吸收劑之添加量方面， 在層中添加〇 . 1〜1 5質量％程度，色調補正用著色劑及色 調調整用著色劑之添加量方面，在層中添加 0.00001〜2 質量％程度。爲了避免這些著色劑受到紫外線影響而劣化 ，在層中亦可添加二苯基酮系及苯半唑系等紫外線吸收劑 ，紫外線吸收劑之添加量方面，在層中添加0 · 1〜1 0質量 %程度。 (著色劑之含有） 黏著層4 1之層中含有色調補正用著色劑（N e光吸收 劑等）及色調調整用著色劑之至少1種著色劑時’只要塗 -28- (25) 1290455 布由黏著層4 1用之黏著劑及著色劑溶解或分散於溶媒所 構成之組成物並進行乾燥即可。以均一分散著色劑而言， 上述著色劑應事先溶解或分散於溶媒之溶液狀，同樣的， 黏著劑亦應事先溶解或分散於溶媒之溶液狀，然後，進行 混合或再分散使其成爲組成物之墨。混合或分散之方法並 沒有特別限制，可使用通常之例如減溫器、拌合器、顛動 筒、摻合機、均質機、球磨機等眾所皆知之混合分散機。 本發明因係將含有之近紅外線吸收劑（NIR吸收劑） 及色調補正用著色劑（Ne光吸收劑等）分別配置於平坦 化樹脂層3 9及黏著層4 1之不同層，故可個別調整兩著色 劑之透射率，而很容易即可調整NIR及不必要之光之吸收 程度。又，使黏著層4 1含有色調補正用著色劑（Ne吸收 劑等）及色調調整用著色劑之作業係在接近完成之步驟中 實施。因此，可預先決定物理規格，尤其是，至使無需確 認透射譜並調整色調之作業之黏著層41含有著色劑爲止 之步驟可以共用規格以1品種大批方式製造，故可實現低 成本製造。此外，因爲係在最終步驟之黏著層形成步驟才 使其含有必須確認透射譜並調整或補正色調之色調補正用 著色劑及色調調整用著色劑，故很容易補正及調整成符合 顧客需要之顯示圖像之色調，而且，可節約步驟整體之作 業時間及抑制成本之上昇。又，和平坦化樹脂層形成步驟 相比，因爲黏著層形成步驟對於加工精度及加工條件調整 之要求較低，故適合應用於多品種少量之色調之補正或調 整。 -29- (26) 1290455 (剝離紙） 因爲黏著層4 1具有黏著性，應對黏著層4 1面貼附剝 離紙。在形成黏著層後立即使用時，不需要剝離紙。剝離 紙可使用塗布著矽樹脂或三聚氰胺樹脂等之聚對苯二甲酸 乙二酯薄膜或高品質紙等眾所皆知者。又’亦可以將預先 將黏著劑塗布於剝離紙之黏著薄片貼附於透明基材薄片 3 1/黏結層33/金屬層35/平坦化樹脂層39之積層體之平坦 化樹脂層3 9面來取代將黏著劑塗布於平坦化樹脂層3 9上 。電漿顯示器用蔽磁薄片30之構成應爲透明基材薄片31/ 黏結層33/金屬層35/平坦化樹脂層39 (含有近紅外線吸 收劑）/黏著層4 1 /(含有色調補正用著色劑、或色調補正 用著色劑及色調調整用著色劑）/剝離紙’使用時才除去 剝離紙。 (反射防止層及/或防眩層） 以上，係使透明基材薄片3 1之一面具有電磁波及近 紅外線之屏蔽機能，然而，亦可以進一步在透明基材薄片 之另一面配設反射防止層及/或防眩層5 1。反射防止層及/ 或防眩層5 1亦可最後才配設，然而，以預先配設於透明 基材薄片3 1上較佳。 (反射防止機能） 爲了使上述透明基材薄片3 1表面具有反射防止機能 -30- (27) 1290455 ，至少應配設反射防止層及/或防眩層5 1。又’亦可使用 反射防止薄片TAC-AR1 (大日本印刷公司製、商品名稱） 等具有反射防止機能之市販透明薄片。反射防止機能係用 以減少太陽及螢光燈等外光射入PDP之畫面並反射對畫面 所造成之影響。又，因爲可降低表面之反射率，故圖像之 對比會更佳，結果，可提高圖像之辨識性。 (反射防止層） 本說明書中之7反射防止層」，係指積層於透明基材 薄片31表面之1層以上之透明介電質層。其構成上，係 介電質層當中之最外層之折射率小於其正下方之層（透明 基材薄片、其正下方之介電質層、或在後述之硬質層上積 層反射防止層時爲硬質層），而且，該介電質層之光學厚 度（折射率X幾何厚度）應爲欲防止反射之光之波長之 1 /4。利用此構成，可以利用干涉而衰減來自各層界面之 反射光。反射防止層之代表性層構成爲（1 )透明基材薄 片/(低折射率層）、（2 )透明基材薄片/ (高折射率層/ 低折射率層）、（3 )透明基材薄片/(低折射率層/高折射 率層/低折射率層）、（4 )透明基材薄片/ (高折射率層/ 中折射率層/低折射率層）等。 此處之（）內係反射防止層之構成。構成反射防止層 之各層材料方面’低折射率層可以使用氟化鎂（MgF2 ) 及水晶石等無機物、或後述之低折射率樹脂組成物。高折 射率層可以使用二氧化鈦及硫化鋅等無機物。反射防止層 -31 - (28) 1290455 之製造方法可以使用眾所皆知之蒸鍍及濺鍍等乾式塗膜法 、或輥塗及lip die coat等濕式塗膜法。 具體實例如（1 )利用真空蒸鍍法依（透明基材薄片/ [ 高折射率層/低折射率層/高折射率層/低折射率層])之順 序積層由折射率爲2 · 3之硫化鋅所構成之高折射率層、及 由折射率爲1 .3 8之氟化鎂所構成之低折射率層。各層之 光學厚度係可見光線頻帶寬度之中間附近波長之鈉原子光 譜之D線（与590nm)之1/4。 亦可以爲（2 )在透明基材薄片表面以lip die coat法 塗布積層由低折射率樹脂組成物所構成之低折射率層。低 折射率層之光學厚度爲可見光線頻帶寬度之中間附近波長 之鈉原子光譜之D線（与5 9 0 nm )之1 /4。該低折射率樹 脂組成物係在分子中含有氟原子之遊離輻射硬化型樹脂中 分散著平均粒子徑爲5〜3 0 0nm之透明微粒子。將低折射 率樹脂組成物塗布於透明基材薄片表面，照射遊離輻射進 行交連、硬化，在硬化塗膜之內部及/或表面產生多數平 均孔徑爲〇.〇1〜l〇〇nm之含有空氣之孔，形成多孔質塗膜 。此種分子中含有氟原子之遊離輻射硬化型樹脂，其本身 之折射率低於通常之樹脂，且因爲塗膜爲多孔質而含有空 氣，塗膜之平均折射率會朝空氣之折射率（1 · 0 )接近， 結果，塗膜之折射率會降低。分子中含有氟原子之遊離輻 射硬化型樹脂係數平均分子量爲20,000〜500,000程度之 聚合物，除了分子中含有氟原子以外’尙具有當做遊離輻 射硬化性官能基之（間）丙烯醯基等之自由基聚合性不飽 -32- (29) 1290455 和基、及環氧基等之陽離子聚合性官能基等之必要成分。 (又’此處之「（間）丙烯醯基」係代表「丙烯醯基或甲 基丙烯基」）。分子中含有氟原子之遊離輻射硬化型樹脂 係使用例如氟乙烯等之含有氟原子之單體間之單獨聚合體 、或含有氟原子之單體及季戍四醇三丙烯酸酯等之未含有 氟原子之單體之共聚物。必要時，該聚合物可進一步具有 1分子中含有3個以上之遊離輻射硬化性官能基之單體。 單體中可含有亦可不含有氟原子。此外，遊離輻射係以電 子束及紫外線等爲代表。 遊離輻射硬化型樹脂中含有之微粒子係粒子內部含有 空氣之中空粒子、或粒子本身含有空氣之多孔質粒子等。 或者，粒子本身不含有空氣，然而，將其分散至該遊離輻 射硬化型樹脂中時，使其周圍附著空氣而產生微粒徑氣泡 ’或者，複數集合或凝集（1次）粒子來其成爲包含空氣 等。該微粒子可使用例如中空二氧化矽粒子、多孔質二氧 化矽粒子、膠質氧化矽、丙烯酸凝集粒子等。 該微粒子之添加量方面，係相對於1 00質量之該分子 中含有氟原子之遊離輻射硬化型樹脂部爲1〜4 0 0質量程 度。 (硬質層） 必要時配設於透明基材薄片3 1及反射防止層5 1間之 硬質層，係由具有JIS-K5 4 00之鉛筆硬度試驗爲Η以上之 硬度之層所構成，係實施聚酯（間）丙烯酸酯、胺甲酸乙 -33- (30) 1290455 醋（間）丙烯酸酯、環氧（間）丙烯酸酯等多官能（間） 两烯酸酯預聚合物、三甲醇基丙烷三（間）丙烯酸酯、二 季戍四醇六（間）丙烯酸酯等多官能（間）丙烯酸酯單體 等之單獨或2種以上之混合物之塗布，再利用熱或遊離輻 射實施硬化而形成。 (防眩層） 本說明書之「防眩層」係指利用層表面之微小凹凸、 或分散於層內部之不同折射率之微粒子使光擴散（散射） ’用以防止顯示圖像之閃爍或飄動感。防眩性之光學性質 方面，霧度値應爲3%以上，3〜40%爲佳，5〜30%最佳。 霧度値爲3%以下時’防眩性會不足，霧度値若超過40% ，則光線透射率會變差。6 〇 〇籮應爲1 0 0以下，9 0以下更 佳，50〜85最佳。600籮若超過100，對於反射所造成之 表面光澤的防眩性會不足。透射鮮明度應爲1 〇〇以上’ 150以上更佳，200〜3 00最佳。透射鮮明度若小於1〇〇， 則辨識性會不足。全光線透射率慜爲7 0 %以上，7 5 %以上 更佳，8 0〜9 5 %最佳。全光線透射率若爲7 0 %以下，透 明性會不足。上述之數値範圍可以綜合考慮防眩性、辨識 性、光線透射性、以及透明性等相關特性來決定。 (防污層） 亦可以在反射防止層及/或防眩層5 1面配設防污層 1 a。防污餍5 1 a係一般之具有撥水性及撥油性之覆膜， -34- (31) 1290455 可使用矽氧烷系及氟化烷基甲矽院基化合物等。亦可使 當做撥水性塗料使用之氟系或矽系樹脂，例如，利 S i 0 2形成反射防止層之低折射率層時，可以使用氟砂酸 撥水性塗料。 (紫外線吸收劑） 爲了防止如上述之層構成之蔽磁薄片3 0之近紅外 吸收劑因爲陽光等外光中之紫外線而劣化，最好使比含 近紅外線吸收劑之平坦化樹脂層3 9更靠近基材薄片3 1 之位置之層中含有紫外線吸收劑。如上所示，外光中之 外線在到達（含有近紅外線吸收劑之）平坦化樹脂之前 被吸收而衰減。含有紫外線吸收劑之層應爲黏結層3 3、 明基材薄片3 1、反射防止及/或防眩層5 1、或防污層5 之其中任一層或2層以上。或者，亦可在上述層以外， 比平坦化樹脂層3 9更靠近透明基材薄片3 1側之任一位 另外形成透明樹脂中含有紫外線吸收劑之層。紫外線吸 劑應選擇透明之物，例如，可使用苯半唑系化合物、二 基酮系化合物、三氮雜苯系化合物等之有機系紫外線吸 劑、以及由粒徑爲0·2μιη程度以下之微粒子所構成之氧 鋅、氧化鈽等之無機系紫外線吸收劑。紫外線吸收劑之 加量方面，各層中爲0 . 1〜5重量。/〇程度。 (電漿顯示器前面板之製造） 利用以上之方法可得到本發明之電漿顯示器用蔽磁 用 用 系 線 有 側 紫 會 透 1 a 在 置 收 苯 收 化 添 薄 -35- (32) 1290455 片3 0，可單獨使用該蔽磁薄片3 0、或另外實施透明基板 6 1等之積層，而形成電漿顯示器用前面板60。使用剝離 紙時，除去剝離紙，將黏著層4 1黏著於透明基板6 1。其 他透明基板應爲厚度爲0 · 5〜1 0mm程度之玻璃板或丙烯酸 板。 (電漿顯示器之組裝） 其次，將電漿顯示器用前面板60裝設於PDP之前面 ，製成電漿顯示器。以使電漿顯示器用前面板60之黏著 層4 1側或透明基板6 1側與PDP面相對之方式設置即可得 到電漿顯示器。電漿顯示器用前面板60及PDP間可具有 空氣層，亦可以利用黏結劑等直接黏結。 此時，金屬層35之部份邊緣部201會從電漿顯示器 用前面板之觀察側之面露出，故很容易即可利用眾所皆知 之導電性帶等實施電漿顯示器之框體之接地。傳統之物因 爲金屬層並未外露，故必須執行使金屬層外露之步驟。依 據本發明，只要從透明基材薄片4 1側觀看電漿顯示器即 可得到前述眾多機能及效果。 (變形形態）（電鍍金屬層） 金屬層3 5係針對使用金屬箔時進行說明，然而，亦 可利用電鍍法形成網目狀金屬層3 5。此時，因爲利用電鍍 法直接在透明基材薄片3 1之一面形成金屬層3 5，故不需 要黏結層3 3。電鍍法係先在透明基材薄片3 1之一面形成 -36- (33) 1290455 由中心部份之網目部203及其外緣部之邊緣部 之形狀之圖案後進行導電處理，實施黑化處理 磁機能之金屬之電鍍。網目狀區域203及包圍 域2 0 3之邊緣部2 0 1可利用執行網目狀之導電 形成期望之網目圖案而獲得。如此，可得到同 狀區域203及包圍該網目狀區域203之邊緣部 層35。必要時，可進一步在金屬層35上形成 用電鍍法形成透明基材薄片3 1、金屬層3 5、 理層3 7所使用之材料，和前述光刻法時相同 ，只有金屬層之成膜方法不同而已。 實施例1 以下，利用實施例及比較例針對本發明進 ，然而，本發明並未受限於此。 (金屬層、黑化處理層） 金屬層係使用厚度爲1〇μΐΏ之電解銅箔， 銅·鈷合金粒子（平均粒子徑爲0 · 3 μ m )之陰 形成黑化處理層。 (基材薄片及積層） 黑化處理層係厚度爲1〇〇μηι之2軸延展 Α4 3 00 (東洋紡績公司製、聚對苯二甲酸乙二 )，層疊2液硬化型胺甲酸乙酯系黏結劑後， 2〇1所構成 後，執行蔽 該網目狀區 處理時，以 時形成網目 201之金屬 防鏡層。利 以及黑化處 。電鑛法時 行詳細說明 在該面實施 極電附著， :PET薄片 酯商品名稱 竇施5 0 °C,、 -37- (34) 1290455 3日間之老化，得到積層體。黏結劑係以聚酯胺甲酸乙酯 聚醇爲主劑，又，硬化劑係使用六亞甲二異氰酸酯，塗布 量方面，係乾燥後之厚度爲。 (網目部之形成） 利用光刻法使該積層體之銅箔形成網目部。可利用彩 色TV陰影遮罩用之製造線，對連續之帶狀積層體（捲取 )對遮罩進行蝕刻。首先，對積層體之銅層面整體表面流 過法塗布乾酪素抗鈾劑。間歇式搬運下一工作站，利用開 口部207爲正方形、線部205之線寬爲22μπι、線部205 之線間隔（間距）爲3 0 0 μπι之偏角爲4 9 °之網目部2 0 3及 包圍該網目部之寬度爲1 5 mm之邊緣部2 0 1之負圖案原版 ，實施密合曝光。陸續將積層體搬運至工作站的伺時，實 施水顯影及硬膜處理，此外，亦進行加熱實施烘烤。再將 其搬運至下一工作站，利用蝕刻液及三氯化鐵水溶液’以 噴霧法吹附來進行鈾刻，形成開口部207。陸續將積層體 搬運至工作站的同時，實施水洗、剝離抗蝕劑、進行洗淨 ，再進行加熱實施乾燥，形成網目部203。 (平坦化樹脂層之形成） 其次，形成平坦化樹脂層3 9。平坦化樹脂層之組成液 係預先將下述著色劑分散或溶解於甲基乙基酮溶媒再混合 至丙烯酸系樹脂。 -38- (35)1290455 (著色劑） 上述著色劑之近紅外線吸收劑（NIR吸收劑）係利用 二亞銨系色素 CIR1085 ( Japan Carlit Co.5 Ltd.製、商品名 稱）、花菁（phthalocyanine)系色素1R12(日本觸媒公 司製、商品名稱）、以及花菁（Phthalocyanine)系色素 IR1 4 (日本觸媒社製、商品名稱）之混合物。
混合上述平坦化樹脂層之組成液，以鋼模塗布法只針 對網目部份實施圖案狀塗布並進行乾燥，可得到覆蓋著平 坦化樹脂層之網目部203、及外露之見度爲15mm之邊緣 部2 0 1 (金屬層）側之平坦化樹脂層3 9 (乾燥後之厚度爲 1 5 μιη ) 〇 (黏著層） 利用下述黏著層組成物，以網板印染法只針對網目部 2 03實施圖案狀印刷並進行乾燥，再貼合厚度爲75 μιη之 矽塗布之PET分隔件。如此，可得到具有被黏著層41覆 蓋之網目部203、及外露寬度爲15mm之邊緣部（金屬層 )201之實施例1之電漿顯示器用蔽磁薄片30。 (黏著層組成物） 上述黏著層組成物係使用丙烯酸系樹脂之黏著劑含有 當做色調補正用著色劑（Ne光吸收劑）使用之TAP-2 (山 田化學公司製、商品名稱）者。 -39- (36) 1290455 實施例2 (色調調整用著色劑之添加） 除了黏著層4 1之組成液進一步添加了當做色調調整 用著色劑使用之PS VIOLET RC (三井東壓染料公司製、 商品名稱）以外，其餘和實施例1相同，得到電漿顯示器 用蔽磁薄片3 0。 實施例3 透明基材薄片係利用下述之反射防止FILM TAC-AR1 (大日本印刷公司製、反射防止FILM係商品名稱）（層 構成係厚度80 μιη之TAC (纖維素三醋酸酯）薄片/硬質層 /低折射率層/防污層），除了在該反射防止面之相反側面 積層金屬層以外，其餘和實施例1相同，得到電漿顯示器 用蔽磁薄片3 0。 實施例4 (紫外線吸收劑之添加） 透明基材薄片係使用由聚對苯二甲酸乙二酯中含有當 做紫外線吸收劑使用之1質量％之2 ( 4,6-聯苯-1，3,5-三氮 雜苯-2-YL) -5-[(己基）羥基]-酚之厚度爲80μπι之層、 及未含有紫外線吸收劑之聚對苯二甲酸乙二酯之厚度爲 2 Ομιη之層之2層積層體所構成之總厚爲1〇〇 μηι之2軸定 向延展膜，除了該透明基材薄片之未含有紫外線吸收劑之 層側積層金屬層之黑化處理層以外，其餘與實施例1相同 -40- (37) 1290455 ，得到電漿顯示器用蔽磁薄片3 0。 (參考例1〜4 ) 將實施例1〜4之電漿顯示器用蔽磁薄片3 〇之黏著層 面貼附於厚度爲5 mm之丙烯酸樹脂板，得到電漿顯示器 用前面板。將該電漿顯示器用前面板以和PDP之W〇〇〇 ( 曰立製作所公司製、商品名稱）之前面隔著5mm之空氣 層之方式配置，製成電漿顯示器。 (參考例5 ) 將參考例1之電漿顯示器用前面板以利用丙烯酸系樹 脂之黏著劑直接黏結於PDP之WOOO (日立製作所公司製 、商品名稱）之前面之方式配置，製成電漿顯示器。 (評估） 針對電漿顯示器用蔽磁薄片，進行蔽磁性、近紅外線 吸收性、圖像之色調、耐濕熱試驗及耐光性試驗後之著色 劑之褐色性、圖像之辨識性、以及耐光性試驗後之褐色性 及近紅外線吸收性之劣化之評估。圖像之色諷係顯示TV 測試圖案並以目視觀察色調，若無異常視爲合格。著色劑 之褐色性係在耐濕熱試驗（6〇°C、95%RH環境下、置放 1 0 00小時）後、以及耐光性試驗（碳弧燈型太陽光機、黑 板溫度爲63 °C之環境下、曝露1 00小時）後之色之變化與 試驗前進行比較’進行目視評估，若爲顯著變化則視爲合 -41 - (38) 1290455 格。圖像之辨識性係在全面顯示白及黑之圖像並以目視觀 察色調，無閃爍或外光所導致之明顯飄動時視爲合格。近 紅外線吸收性及耐光性試驗之劣化係在上述耐侯性試驗之 前後檢測波長爲8 00〜1 lOOnm之頻帶寬度之透射率，該頻 帶寬度內之任一波長之透射率皆爲1 〇°/。以下時視爲合格。 又，蔽磁性係利用KEC法（財團法人關西電子光學振興 CENTER開發之檢測法）進行檢測，頻率 30MHz〜1 GHz 之頻帶寬度內之衰減率爲30dB以上時視爲合格。 (評估結果） 由評估結果可知，全部實施例及全部參考例之蔽磁性 及耐濕熱試驗、以及耐候性試驗前之近紅外線吸收性皆合 格。又，實施例1〜3時，圖像之色調、耐熱試驗後之著 色劑之褐色性、以及圖像之辨識性之任一項皆合格，然而 ，耐光性試驗後之著色劑之褐色性方面，因爲變黃而視爲 不合格。又，耐光性試驗後之近紅外線吸收性方面，上述 波長頻帶寬度內之近紅外線透射率因爲超過1 〇 %而視爲不 合格。 另一方面，實施例4時，耐候性試驗後之著色劑之褐 色性、及耐候性試驗後之近紅外線吸收性皆合格。參考例 1〜5時，圖像之色調及圖像之辨識性皆合格。 【圖式簡單說明】 第1圖係本發明之1實施例之電漿顯示器用蔽磁薄片 -42- (39) 1290455 之剖面圖。 第2圖係本發明之1實施例之電漿顯示器用蔽磁薄片 之平面圖。 第3圖係蔽磁薄片之網目部之剖面圖，係平坦化樹脂 層、及網目之開口部及線部之關係圖。 【主要 元件 符 號 說 明 ] 30 電 漿 顯 示 器 用蔽磁薄片 3 1 透 明 基 材 薄 片 33 黏 結 層 35 金 屬 層 37 里 y \ \ \ 化 處 理 層 37a 防 銹 層 39 平 坦 化 樹 脂 層 41 粘 著 層 5 1 反 射 防 止 層 及/或防眩層 5 1a 防 污 層 60 電 漿 顯 示 器 用前面板 61 透 明 基 板 201 邊 緣 部 203 網 部 205 線 部 207 開 P 部
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