1287075 九、發明說明： L發明戶斤屬之技術領域3 發明領域 本發明係有關於一種閘閥及真空閘閥。 5 【才支冬奸】 發明背景 歷來，閘閥多設於真空處理室，以及用以將該真空處 理室排氣成真空狀態的真空泵二者之間，此種閘閥稱為真 空閘閥。近年來，真空閘閥對於用以構成液晶、半導體製 10 造裝置等領域中之真空系統而言係為重要裝置，且占有重 要地位。 真空閘閥在提高真空處理室之真空度時，係令閥為開 閥狀態，並藉由驅動真空泵以提高真空處理室内的真空 度，俾做成高真空狀態。又，藉由令閥為閉閥狀態而讓真 15 空處理室内為低真空（低壓）或大氣壓，可取出於真空處理室 内進行處理之工作件，或者是去除真空處理室内的反應生 成物。進而，可保護真空泵不受低壓或大氣壓影響，防止 真空泵之劣化及受損。 再者，迄今已提供有多數之真空閘閥，具體而言，有 20 一種真空閘閥，其係於閥箱形成真空處理室側排氣口及真 空泵側排氣口，並設有一可自由開啟及關閉地裝卸於該真 空處理側排氣口之真空處理室側閥板，以及一可自由開啟 及關閉地裝卸於真空泵側排氣口之真空泵閥板。 此種習知之真空閘閥係譬如專利文獻1所揭示者。 5 1287075 (專利文獻1 :日本專利公開公報特開平11-99326號) 【發明内容】 發明概要 發明欲解決之課題 5 半導體製程中之層間絕緣膜積層技術，即 CVD(Chemical Vapor Deposition :化學氣相沉積法）製程， 係將以各種方法（電漿、熱、光等）而讓材料氣體進行反應的 反應生成膜積層於矽晶圓上。然而同時，腔室（chember)之 内壁及電極、配管内以及真空閘閥的閥箱内亦會堆積反應 10生成物。特別是，真空閘閥中，有時會因前述堆積的反應 生成物而招致閥滲漏(valve leak)以及閥動作不良的情形， 而無法發揮真空閥之功能。
於叩，W迷習知之真空閘閥其目的並不在於完全地I 15 止滲漏。因此，反應生成物不僅附著於密封面，更會附 在閥板及閥箱内，如此不但導致腔室内的真空度降低，^ • 會增加潔淨作業的負擔。進而，假設若因渗漏而變得無; 欲去除腔室_堆積物時，由於無法切斷腔室4 及真玉泵側，因此不得不暫時停止 裝置時，至腔室内之真空度提升為止二而再★啟動cv] 2〇因此，本發明係用以解決前述^化費許多時間。 供-…異_於密封二:=: 真空閘閥。 私王珍漏之閘闕Ά 用 以解決課題之手段 用以解決前述課題之第^务明的閘 閥，係用以開啟及關 1287075 閉相對向地設於流體通道上之密封面者，包含有： 開閥體，係開閥時抵接於前述密封面，且用以連通前 述通道者； 閉閥體，係閉閥時抵接於前述密封面，且用以切斷前 5 述通道者； 閥箱，係用以收納前述開閥體及閉閥體者；及 閥體移動機構，係用以於前述閥箱内讓開閥體及閉閥 體相對於密封面而交互移動者。 用以解決前述課題之第2發明的閘閥，係於第1發明之 10 閘閥中，於前述開閥體及閉閥體設一對閥板， 該閘閥並包含用以將前述一對閥板裝卸於密封面之連 接機構。 用以解決前述課題之第3發明的閘閥，係於第2發明之 閘閥中，於前述開閥體之一對閥板間設一波形管。 15 用以解決前述課題之第4發明的閘閥，係於第1、2或3 發明之閘閥中，於前述閥箱形成可開啟及關閉之檢測口， 並將該檢測口設於與閉閥時進行移動的開閥體相對向之位 置上。 用以解決前述課題之第5發明的閘閥，係於於第1、2 20 或3發明之閘閥中，設有二個開閉閥，該等開閉閥係藉由開 啟及關閉動作而將前述閥箱内之流體供給及排出於前述閥 箱， 又，由開閥狀態操作成閉閥狀態或由閉閥狀態操作成 開閥狀態時，令至少其中一側之前述開閉閥為開啟狀態， 7 1287075 且操作結束後令前述二個開閉閥同為關閉狀態。 用以解決前述課題之第6發明的真空閘閥，係用以開啟 及關閉設於處理室側及泵側二者之間的連通路徑者，包含 有： 5 開閥體，係開閥時，藉由讓一對閥板抵接於前述處理 室側之密封面及前述泵側之密封面，俾形成前述連通路徑 者， 閉閥體，係閉閥時，一對閥板抵接於前述處理室側之 密封面及前述泵側之密封面而切斷前述連通路徑者； 10 閥箱，係用以收納前述開閥體及閉閥體者； 閥體移動機構，係用以於前述閥箱内讓開閥體及閉閥 體相對於密封面而交互移動者； 連接機構，係用以將前述開閥體及閉閥體的一對閥板 裝卸於密封面者； 15 波形管，係設於前述開閥體之一對閥板間，且用以隔 離前述閥箱内及連通路徑内者； 檢測口，係與閉閥時進行移動的前述開閥體相對應地 形成在前述閥箱上，且具有可開啟及關閉之蓋部者； 處理室側開閉閥，係設於用以連通前述閥箱内及處理 20 室内之配管上者；及 泵側開閉閥，係設於用以連通前述閥箱内及泵二者之 配管上者。 發明之效果 依第1發明之閘閥，其係用以開啟及關閉相對向地設於 8 1287075 流體通道上之密封面者，包含有：開閥體，係開閥時抵接 於前述密封面，且用以連通前述通道者；閉閥體，係閉閥 時抵接於前述密封面，且用以切斷前述通道者；閥箱，係 用以收納前述開閥體及閉閥體者；及閥體移動機構，係用 5 以於前述閥箱内讓開閥體及閉閥體相對於密封面而交互移 動者；藉此，可防止異物附著於前述密封面，並防止發生 滲漏。 依第2發明之閘閥，係於第1發明之閘閥中，於前述開 閥體及閉閥體設一對閥板，該閘閥並包含用以將前述一對 10 閥板裝卸於密封面之連接機構；藉此，進行開啟及關閉動 作時，由於可密封住前述密封面，故可防止發生滲漏。 依第3發明之閘閥，係於第2發明之閘閥中，於前述開 閥體之一對閥板間設一波形管；藉此，由於可隔離前述通 道及閥箱内，故可防止異物滲入前述閥箱内，並可防止發 15 生滲漏。 依第4發明之閘閥，係於第1、2或3發明之閘閥中，於 前述閥箱形成可開啟及關閉之檢測口，並將該檢測口設於 與閉閥時進行移動的開閥體相對向之位置上；藉此，可檢 測閉閥時附著於前述開閥體之異物的堆積情形，又，由於 20 可去除異物，故可降低維修費用及工作成本。 依第5發明之閘閥，係於於第1、2或3發明之閘閥中， 設有二個開閉閥，該等開閉閥係藉由開啟及關閉動作而將 前述閥箱内之流體供給及排出於前述閥箱，又，由開閥狀 態操作成閉閥狀態或由閉閥狀態操作成開閥狀態時，令至 9 1287075 少其中一側之前述開閉閥為開啟狀態，且操作結束後令前 述二個開閉閥同為關閉狀態；藉此，可順暢地操作前述開 閥體及閉閥體。 依第6發明之真空閘閥，係用以開啟及關閉設於處理室 5 側及泵側二者之間的連通路徑者，包含有：開閥體，係開 閥時，藉由讓一對閥板抵接於前述處理室側之密封面及前 述泵側之密封面，俾形成前述連通路徑者；閉閥體，係閉 閥時，一對閥板抵接於前述處理室側之密封面及前述泵侧 之密封面而切斷前述連通路徑者；閥箱，係用以收納前述 10 開閥體及閉閥體者；閥體移動機構，係用以於前述閥箱内 讓開閥體及閉閥體相對於密封面而交互移動者；連接機 構，係用以將前述開閥體及閉閥體的一對閥板裝卸於密封 面者；波形管，係設於前述開閥體之一對閥板間，且用以 隔離前述閥箱内及連通路徑内者；檢測口，係與閉閥時進 15 行移動的前述開閥體相對應地形成在前述閥箱上，且具有 可開啟及關閉之蓋部者；處理室側開閉閥，係設於用以連 通前述閥箱内及處理室内之配管上者；及泵側開閉閥，係 設於用以連通前述閥箱内及泵二者之配管上者；藉此，由 於可防止異物附著於前述密封面，並防止發生滲漏，故不 20 會導致真空度降低。又，由於可隔離前述連通路徑及閥箱 内，故可防止異物滲入前述閥箱内，並減少去除前述閥箱 内之堆積物的作業，同時可延長維修效果。進而，由於不 會有因滲漏而產生無法閉閥之問題，潔淨前述處理室内 時，不需停止前述泵，故不需浪費至該泵再次啟動止之時 10 1287075 間。甚而，由於可檢測閉閥時附著於前述開閥體之異物的 堆積情況，並去除異物，故可降低維修費用及工作成本。 並且，由於前述開閥體及閉閥體可順暢地進行移動，故可 提高操作性。 5 圖式簡單說明 第1圖係一橫截面圖，用以例示本發明一實施態樣之真 空閘閥的開閥狀態。 第2圖係一縱截面圖，用以例示本發明一實施態樣之真 空閘閥的開閥狀態。 10 第3圖係一橫截面圖，用以例示本發明一實施態樣之真 空閘閥的閉閥狀態。 第4 (a)〜(c)圖係例示本發明一實施態樣之真空閘閥的 動作，第4(a)圖係例示閉閥狀態的概略圖，第4(b)圖係例示 由閉閥狀態至開閥狀態之動作的概略圖，第4(c)圖係例示開 15 閥狀態的概略圖。 第5圖係本發明其他實施態樣之真空閘閥的概略圖。 第6圖係本發明一實施態樣之真空處理裝置的概略圖。 C實施方式I 較佳實施例之詳細說明 20 以下，參照圖面詳細說明本發明之真空閘閥的實施態 樣。 第1圖係一橫截面圖，用以例示本發明一實施態樣之真 空閘閥的開閥狀態，第2圖係一縱截面圖，用以例示本發明 一實施態樣之真空閘閥的開閥狀態，.第3圖係一橫截面圖， 11 1287075 用以例示本發明一實施態樣之真空閘閥的閉閥狀態，第4圖 係例示本發明一實施態樣之真空閘閥的動作，第4(a)圖係例 示閉閥狀態的概略圖，第4(b)圖係例示由閉閥狀態至開閥狀 態之動作的概略圖，第4(c)圖係例示開閥狀態的概略圖，第 5 5圖係本發明其他實施態樣之真空閘閥的概略圖，第6圖係 -本發明一實施態樣之真空處理裝置的概略圖。 第6圖係例示譬如CVD裝置等真空處理裝置1的概略 ^ 圖。真空閘閥2係設於真空處理室3及真空泵4之間，用以使 真空處理室3及真空泵4之間成密閉狀態者。真空閘閥2與真 10 空處理室3係藉由配管5而相連通，配管5上設有開閉閥6。 同樣地，真空閘閥2與真空泵4係藉由配管7而相連通，配管 7上設有開閉閥8。 參照第1圖〜第3圖詳細說明該真空匣閥2。 如第1圖至第3圖所示，真空閘閥2係由一箱狀之閥箱 15 11，以及配置於該閥箱11上部的圓筒狀箱體12所構成。 • 閥箱11上形成有一與真空處理室3相連通之圓形的處 理室側排氣口 13，以及一與真空泵4相連通之圓形的泵側排 氣口 14，且該處理室側排氣口 13及泵側排氣口 “具有密封 面13a 14a。又，處理室側排氣口 13的下方形成有一用以 20連接配官5之處理室側連通口 15，㈤時果側排氣口⑽下方 形成有〜用以連接配管7之泵側連通口 16。 ^方面，釦體12内，波形管17係朝上下方向延伸配 波形g 17其上端係支撐於波形管支承件μ ，其下端 則支撐m彡管支树19。—2_插人於該波形管17 12 1287075 内，且配置成貫通箱體12。又，波形管支承件18之突起部 18a係插入在箱體12上形成開口之長形孔21内，且可上下滑 動。再者，箱體12之上部設有把手（移動手段)22，把手22 之螺絲部22a係與轴桿20之螺絲部20a相咬合。 5 位於閥箱11内之軸桿20下端，設有一對朝上下方向延 伸設置之閥支撐件23。閥支撐件23的上、下部各設有上部 滾輪支撐件24及下部滾輪支撐件25。即，閥支撐件23係經 由上部滾輪支撐件24而支持於軸桿20。又，上部滾輪支撐 件24及下部滾輪支樓件25分別具有一對滾輪26、27，且該 10等滾輪％、27係抵接在閥箱11之内壁，且可旋轉地支撐。 閥支撐件23的上方配置有一於開閥狀態專用的開閥體 28 ’另一方面，下方配置有一於閉閥狀態專用的閉閥體31。 開閥體28係由真空處理室3側之處理室側開閥板29，以 及真空泵4側之泵側開閥板3〇所構成。前述處理室側開閥板 15 29及泵側開閥板30上，對向地形成有與處理室側排氣口 13 及泵側排氣口 14具相同孔徑之連通孔29a、30a。又，連通 孔29a、30a的周圍形成有可按壓於密封面13&、i4a之密封 面29b、30b。處理室側開閥板29及泵側開閥板30之間，設 有用以連通前述連通孔29a、30a之波形管34。且，該等連 20 通孔29a、30a與波形管34形成一連通路徑35。 處理室側開閥板29及泵側開閥板30係配置成由前後方 向挾住閥支撐件23。處理室側開閥板29及泵側開閥板30在 其兩側端部的上下位置，係以四個連接件36支撐於閥支撐 件23。 13 1287075 連接件36係由二個板材構成，且具有連結部36a及支撐 部36b。連結部36a，係板材其中一端在閥支撐件23的側端 部重疊且相連結之部位。支撐部36b，係其中一側板材的另 一端支撐在處理室側開閥板29的側端部，且另一側板材的 5 另一端支撐在泵側開閥板30的側端部之部位。 同樣地，閉閥體31係由真空處理室3側之處理室側閉閥 板32及真空泵4側之泵側閉閥板33所構成。處理室側閉閥板 32及泵側閉閥板33上，形成有可按壓於處理室側排氣口 13 之密封面13a以及泵側排氣口 14之密封面14a的密封面 10 32a、33a。前述處理室側閉閥板32及泵側閉閥板33係配置 成可由鈾後方向挾住閥支撐件23。處理室側閉閥板32及泵 側閉閥板33在其兩側端部的上下位置，係以四個連接件37 支撐於閥支撐件23。 連接件37係由二個板材構成，且具有連結部37a及支撐 15部37b。連結部37a，係板材其中一端在閥支撐件23的側端 部重疊且相連結之部位。支樓部37b，係其中一側板材的另 一端支撐在處理室側閉閥板32的側端部，且另一側板材的 另一端支撐在泵側閉閥板33的側端部之部位。 再者，連接件36在開閥體28係配置於第3圖所示之位置 2〇上時，連結部36a係配置在較支撐部36b上方之位置。又， 連接件37在閉卿31錢置於f⑽鮮之位置上時，連結 部37a係配置在較支撐部37b下方之位置。 處理室側開閥板2 9及泵側開閥板3 〇上端部的中央，設 置有淚子38，同時處理室側閉閥板^及果側閉闕板％下端 14 1287075 部的中央，設置有滾子39。閥箱_上部及下部之内壁形 成有擋止部40、41，俾讓該等滾子38、39成相對向。土 y 其次，參照第4⑻圖〜第4(c)圖說明真空閘閥2的動作。 首先，使用第4(a)圖說明閉閥狀態。 5 利用旋轉把手22而讓軸桿20朝上方移動，閥支撐件23 亦朝上方移動。藉此，開閥體28朝閥箱丨丨内的上方移動。 此時，連接件36的連結部36a因閥支撐件23的移動而上 馨幵，且連接件36的支撐部36b邊朝閥箱11的中央側移動邊上 昇。因此，支撐於該支撐部36b的處理室側開閥板29及泵側 1〇開閥板30，亦邊朝閥箱11的中央側移動邊上昇。波形管34 因處理室側開閥板29及泵側開閥板30朝閥箱U的中央側移 動而緊縮。再者，滾子38抵接於擋止部40,且開閥體28配 置在閥箱11内的上方。 又 旦閥支撐件23朝上方移動，僅連結部36a會上 15幵’處理室側開閥板29及泵側開閥板30因滾子38的旋轉而 • 更往閥箱11的中央側移動。 另一方面，閉閥體31隨著閥支撐件23朝上方移動之動 作’而移動至與處理室側排氣口 13及泵側排氣口 14相對向 之位置。此時，由於連接件37之連結部37a因閥支撐件23的 移動而上昇，故連接件37的支撐部37b移動至閥箱11的側壁 側°藉此’支撐於該支撐部37b的處理室側閉閥板32及泵側 閉闊板33 ’會將密封面32a按壓在處理室側排氣口 13之密封 面13a上’同時並將密封面33a按壓在泵側排氣口 14之密封 面 14a。 15 1287075 因此，可切斷閥箱11與真空處理室3及真空泵4。即， 可使真空處理室3及真空泵4之間成密封狀態。 其次，使用第4(b)圖說明由閉閥狀態至開闊狀態的動 作。 5 狀態動作至開閥狀態時’藉由旋轉把手22而讓 軸桿2〇朝下方移動，並讓閥支撐件23往下移動。藉此，開 閥體28及閉閥體31亦往下方移動。 • 再者，連接件36的連結部3如因閥支撐件23的移動而下 降且連接件36的支撐部36b邊朝閥箱n的側壁側移動邊下 口此處理至側開閥板29及泵側開閥板3〇亦邊朝閥箱 ⑽側壁側移動邊下降。此時，波形管34朝下方移動，同 柃並t叉慢地拉伸開來。又，連接件”的連結部3%因闊支樓 件23的移動而下降，且連接件37的支樓部奶邊朝閥箱⑽ 中、】矛夕動邊下降。因此，處理室側閉閥板32及泵側閉閥 15板33亦邊朝閥箱Π的中央側移動邊下降。 • 進而，一旦開閥體28及閉閥體31朝下方移動，就成第 4(c)圖所示之開閥狀態。 其次，使用第4(c)圖說明開閥狀態。 開閥體28隨著閥支撐件23朝下方移動之動作，而移動 20至與處理室側排氣口 U及泵側排氣口 14相對向之位置。此 π处里至側開閥板29之連通孔29a及泵側開閥板3〇之連通 孔3〇心係配置在與處理室側排氣口 13及泵側排氣口 14相同 之咼又(位置）。同時，藉由連接件36而移動至閥箱11之側壁 側的處理室側開閥板29及泵側開閥板3〇，會將密封面2外按 16 1287075 壓在處理室側排氣口 13之密封面13a上，同時並將密封面 30b按壓在泵側排氣口 14的密封面14a。又，波形管34亦伸 展至預定的長度。 另一方面’滾子39抵接於播止部41 ’閉閥體μ係配置 5 在閥箱11内的下方。進而，一旦閥支撐件23朝下方移動， 僅連結部37a下降，處理室側閉閥板32及泵側閉閥板33因滾 子39的旋轉而更往閥箱11的中央側移動。 因此，由於形成連通路徑35，真空處理室3及真空果4 相連通’可以真空果4對真空處理室3進行真空處理。又， 10 由於排出之氣體不會滲入閥箱11内，故可防止發生滲漏。 此處’由開閥狀態至閉閥狀態的動作中，由於真空處 理室3及真空泵4内為真空區域，且閥箱11内為低壓或大氣 壓，因此有時並無法輕易地就移動處理側開閥板29及泵側 開閥板30。即，為可順暢地移動處理室側開閥板29及泵側 15開閥板3〇 ’必須讓閥箱11内亦為真空區域，並讓閥箱η内 的壓力與真空處理室3内及真空泵4内的壓力相等。 因此，藉由讓開閉閥6為閉閥狀態且開閉閥8為開閥狀 恶’由於閥箱11内及真空處理室3内及真空泵4内之壓力相 等，故可順暢地移動處理室側開閥板29及泵側開閥板30。 20 同樣地，由閉閥狀態至開閥狀態的動作中，由於真空 處理室3内及真空泵4内之壓力與閥箱11内有壓力差，故有 時並無法輕易地就移動處理室側閉閥板32及泵側閉閥板 33。即，為可順暢地移動處理室側閉閥板32及泵側閉閥板 33，必須讓閥箱Π内之壓力與真空處理室3内之壓力及真空 17 1287075 泵4内的壓力相等。 因此，藉由讓開閉閥6、8為開閥狀態，由於閥箱11内 與真空處理室3内及真空泵4内之壓力相等，故可順暢地移 動處理室侧閉閥板32及泵側閉閥板33。 5 又，如第5圖所示，亦可於與在閉閥時進行移動的處理 室侧開闊板29及泵側開閥板30對應的前述閥箱上，形成處 理室側檢測口 42及泵側檢測口 43。蓋部44、45係可開啟及 關閉地支撐於前述檢測口 42、43。第5圖中，係例示蓋部44 ® 為關閉狀態，而蓋部45為開啟狀態。藉此，閉閥時，讓蓋 10 部44、45為開啟狀態，就可檢測附著於處理室側開閥板29 及泵側開閥板30與連通路徑35之反應生成物的堆積情況， 又，可去除反應生成物。因此，可降低維修費用及工作成 本。進而，以透明材質形成蓋部44、45時，縱或非為開啟 狀態亦可進行檢測。 15 因此，藉由前述之構成，開閥狀態中，由於可隔離閥 _ 箱11内及連通路徑35，故可防止反應生成物滲入閥箱工工 内又’藉由包含有開閥狀態所專用的開閥體28，及閉閥 狀態所使用之閉閥體31，於開閥狀態及閉閥狀態中，由於 密封面13a、14a可經常性地密封住，故可防止反應生成物 2〇 之附著。 藉L 了防止發生渗漏，且不會導致真空度降低。又， 可減少去除閱箱11内之堆積物的作業，並延長維修效果。 進 由於不會有因渗漏而產生無法閉閥之問題，潔淨前 述處理至内日可，不需停止前述泵，故不需浪費至該裝置再 18 1287075 次啟動止之時間。 管17，故不合:⑽干20產生滑動，由於箱體12内設有波形 之突起降低。—形管支承伽 桿加的滑動㈣於相對轴 開_及閉_31 ==滾輪26、27’可讓 ,〇 又上下移動變得流暢，且藉由設置滾
10 侧辟編銘Γ讓開閥體28及閉閥體31朝閥箱11之中央側或 側壁側的移動動作變得順暢。 飞 者雖可利用把手22而移動開閥體28及閉闊體31， 但亦可為使用空氣或油壓等之氣缸。 因此依本發明之真空閘閥，其係用以開啟及關閉相 對向地設於處理室側排氣口 13及栗側排氣口 14上的密封面 13a及14a者’且包含有：開閥體“，係開閥時抵接於密封 面13a 14a’且用以連通處理室側排氣口 13及栗側排氣口 I5 14之間者，閉閥體31，係閉閥時抵接於密封面13a、…，
且用以切斷處理室側排氣口 13及㈣排氣口 14之間者；閱 箱11 ’係用以收納開閥體28及閉閥體31者；及把手22，係 用以於閥箱11内讓開閥體28及閉閥體31相對於密封面 13a、14a而交互移動者；藉此，可防止反應生成物附著於 2〇 岔封面、14a ’並可防止發生渗漏。 又，開閥體28設有處理室側開閥板29及泵側開閥板 30，同時閉閥體31設有處理室側閉閥板32及泵側閉閥板 33，又，該真空閘閥具有連接件36、37，該等連接件36、 37係用以將處理室側開閥板29之密封面29b及泵側開閥板 19 1287075 30之密封面30b，或處理室側閉閥板32之密封面32a及泵側 閉閥板33之密封面33a裝卸於密封面13a及密封面14& ;藉 此’由於開啟或關閉時可密封住密封面13a、14a，故可防 止發生滲漏。 5 又，藉由在處理室側開閥板29及泵側開閥板30之間設 一波形管34,由於可隔離連通路徑35及閥箱11内，故可防 土反應生成物滲入閥箱11内，並可防止發生滲漏。 又，於閥箱11形成具有可開啟及關閉之蓋部44、45的 檢測口 42、43，並藉由將該等檢測口 42、43設於與在閉閥 10 時進行移動的處理室側開閥板29及泵側開閥板30相對向的 位置上，而可檢測閉閥時附著於處理室側開閥板29及泵側 開閥板30與連通路徑35的反應生成物之堆積情況，又，由 於可輕易地去除反應生成物，故可降低維修費用及工作成 本。 15 進而，由開閥狀態操作為閉閥狀態或由閉閥狀態操作 為開閥狀態時，至少令開閉閥6、8其中一者為開啟狀態， 且操作結束後令開閉閥6、8同為關閉狀態，藉此，由於可 讓閥箱11内與真空處理室3内或真空泵4内的壓力相等，故 可順暢地操作開閥板29、30及閉閥板32、33。 20產業上之可利用性 本發明可適用於具有二個閥體，即開閥狀態所使用的 閥體，以及閉闕狀態所使用的閥體之真空閘閥。 【圖式簡單説明】 第1圖係一橫截面圖，用以例示本發明一實施態樣之真 20 1287075 空閘閥的開閥狀態。 第2圖係一縱截面圖，用以例示本發明一實施態樣之真 空閘閥的開閥狀態。 第3圖係一橫截面圖，用以例示本發明一實施態樣之真 5 空閘閥的閉閥狀態。 第4圖係例示本發明一實施態樣之真空閘閥的動作，第 4(a)圖係例示閉閥狀態的概略圖，第4(b)圖係例示由閉閥狀 態至開閥狀態之動作的概略圖，第4(c)圖係例示開閥狀態的 概略圖。 10 第5圖係本發明其他實施態樣之真空閘閥的概略圖。 第6圖係本發明一實施態樣之真空處理裝置的概略圖。 【主要元件符號說明】 1…真空處理裝置 14...泵側排氣口 2··.真空閘閥 14a...密封面 3···真空處理室 15...處理室側連通口 4...真空泵 16...泵側連通口 5...配管 17...波形管 6...開閉閥 18:..波形管支承件 7.··配管 18a...突起部 8...開閉閥 19...波形管支承件 11…閥箱 20...軸桿 12…箱體 20a...螺絲部 13...處理室側排氣口 21...長形孔 13a...密封面 22...把手 21 1287075 22a...螺絲部 34...波形管 23...閥支撐件 35...連通路徑 24...上部滾輪支撐件 36...連接件 25...下部滾輪支撐件 36a...連結部 26...滾輪 36b...支撐部 27…滾輪 37...連接件 28…開閥體 37a...連結部 29...處理室側開閥板 37b...支撐部 29a...連通孔 38...滾子 29b...密封面 39...滾子 30...泵側開閥板 40...擋止部 30a...連通孔 41...擋止部 30b...密封面 42...處理室側檢測口 31…閉閥體 43...泵側檢測口 32...處理室側閉閥板 44··.蓋部 32a...密封面 33...泵側閉閥板 33a...密封面 45...蓋部 22