TWI275141B - Substrate processor - Google Patents

Description

1275141 九、發明說明： 安裝有液晶或各種電子器件等玻璃 中對這些基板進行既定的處理的 【發明所屬之技術領域 本發明有關在包括 基板的各種基板的製造 基板處理裝置。 【先前技術】

在液日日顯不裔等所接用^ I 針對每巾，—般在製造時，在 对對母種處理液而設晋的益 置的稷數個處理槽内，依次裝入該基 板，在各處理槽内，供給 兀疋的處理液，由此，分 各種處理。設置連接各處 > u、+、+ 粕扪連迗通路，以便對基板進 仃上述處理，並且沿著哕 攸适 運逆機M " 一、路，設置複數個運送輥等 運t機構’基板通過運送機 槽内。 < 卫依—人運迗到各處理 在對基板，進行使用不同處 v _ _ t 、 处里/夜的多種處理的時候， '、須防止上游側的處理液隨 ，夜酼者基板，被帶到下游側的處理 :此、二；：此，必須充分地確保處理槽之間的距離。 :、:=處理所佔有的空間增加，導致 用製造空間的不利情況。 為了解決這樣的問題，人們 如，出了各種解決方案。比 /〇者運送通路，從清靈暗 理、夜的方气^ 、、，對運送中的基板喷霧處 ^.,,^ ^ b 從嘴務方式，可使處理液遍及基 板的整體，_基板浸潰於 比較，處理時間縮短，並且可更加可樣的次潰方式相 了罪地對處理液使用量 2〇l4-7191-PF;Ahddub 6 1275141 進行管理、控制。但是，即使這樣的處理液喷霧方式，仍 有大量的處理液殘留於處理後的基板上，因此，為了可靠 地對該殘留處理液進行去除處理，必須與下一處理液喷霧 位置，隔開相當長的距離，使殘留處理液從基板上滴落， 另外必須在最後通過除液部件進行除液處理。 另外近年，人們提出採用液體回收型喷嘴裝置，即 在基板運送方向的下游側’將處理液供給基板，在上游側， 從基板上回收該處理液（比如，JP特開2002- 280340號文 獻)。由於上述液體回收型噴嘴袭置即刻將已供給的處理液 體回收，故希望通過採用這樣的裝置，不用再設置去除處 理液的除液用的基板運送空間。但是，實際上，如果採用 液體回收型噴嘴裝置，進行基板處理，則具有下述的問題。 ① 即使使用液體时型噴嘴裝置，仍無法完全地將處 理液體回收於液體回收型喷嘴裝置的内部，一部分的處理 液殘留於基板上。 ② 由此，產生基板局部乾燥的乾燥不均勾。其結果是， 粒部分地附著於基板表面上，處理液的成分形成晶 體而邛为析出，即所謂的水痕。 ^痕是在從喷嘴喷霧處理液的已知的處理液喷霧方式 中二又有產生的現象，是在液體回收型喷嘴裝置的使用中產 生的新的技術課題。於是，紫 型喷嘴裝置的優點的㈣在發揮液體回收 鮮决上述問題的新的技術手段。 發明内容 2014~7191~PF/Ahddub 7 1275141 本叙明的目的在於提供一種解決上述問題的基板處理 裝置。 本t明的另一目的在於提供一種基板處理裝置，該基 板處理裝置在確保處理液的有效使用的基礎上，使基板處 理工間更加緊密’並且使基板處理更加有效化。 此外，本發明的還有一目的在於提供一種基板處理裝 置"亥基板處理I置不產生水痕，並發揮液體回收型喷嘴 裝置的特性。 ' 本發明有關-種基板處理裝置，對基板進行既定的處 理:其特徵在於包括：運送通路，運送基板；液體回收型 喷實π肖沿著上述運送通路運送的基，供、給處理液， f行基板處理’並且從基板回收處理後的處理液；及除液 部，在上述運送通路中的上述液體时型喷嘴部下游側， 仗上述液體回收型喷嘴部間隔_ ^距離地設置 的處理液去除。 ^過知用上述的方案，對送到基板處理裝置内部的基 板方面進行運送，另一方面，首先通過從液體回收型喷 =供給的處理液進行處理，並將大量的處理液體回收。、 *外理後的基板送達除液部，通過該除液部，對殘留 的处里液進仃除液處理。由Λ，即使在液體回收型喷嘴裝 =的正下游側的位置’設置除液部的情況下，仍可進行確 祐念嫌、、< 里α此’可以最大限度地減少隨著濕潤的基 ，被-到下游側的處理液的量，與過去的情況相比較，可 取大限度地縮短基板處理裝置的前後長度。可相對基板運 2〇14-7l9l~PF;Ahddub 8 1275141 ::向，密集設置液體回收型噴嘴部和除 運轉成：v 處理裝置緊密化，並且降低 運轉成本，採用了液體回收型 -

已知技術的以下不利情況，即為了防止二二T Γ:的情況’而不得不延長到下-步驟的距離= 板處理裝置的緊密化設置而產了促進基 降低。 座生的^置成本和運轉成本的 •之間另：置=’在上述液體回收型喷嘴部與上述除液部 5又置保持液供給部，該保㈣供 持濕潤狀態到至少在A柘、s、、^ 彳/、^使基板保 液。 …板運运到上述除液部為止的處理 按照上述的方案，送到基板處理裝置㈣的基板—方 仃運达，另-方面，首先通過從液體 給的處理液ii杆卢w #丄 i货01 口|5供 你其Η 持液供給部持續供給處理液 土反在濕潤狀態到達除液部，通過該除液部 :可防止從液體回收型喷嘴部，僅僅供給必= 顆< 度的處理液，因此，基板在到達除㈣ 顆粒局部地固宕於A L ^ ^ 心月j也各， ^ 、" ’或處理液巾的成分局n日 析出攻樣的不利情況的發生。於是，儘管為了使而 :置二化，並且降低運轉成本，採用了液體回:= 回收型喷嘴”置在在A “兄了最大限度地發揮將液體 土賀’ π 5又置在在基板處理裝置中的優點。 另外，上述保持液供給部最好是設置在比上述液體回 2〇l4-7191-PF；Ahddub 9 1275141 收3L喷鳴部與上述除液部的中間位置更接近上述液體回收 !噴鳥部側。按照該方案，由於上述保持液供給部設置於 相對上述液體回收型喷嘴部與上述除液部之間的基板運送 方向的中間位置偏向液體回收型喷嘴部的位置，故可確保 呆持液供給部冑於设置，i且盡彳能地制止通過液體回收 型噴嘴部進行處理的基板的乾燥。 主此外，保持在濕潤狀態的處理液最好採用清洗基板的 =洗水。按照該方案’由於處理液採用對基板進行清洗的 ，月洗水’故可將基板處理裝置用作清洗裝i，可通過清洗 水’將附著於基板上的顆粒等污染物沖洗掉，可對基板進 行清潔處理。 逖有，敢好形成有 ，卜穴q芏®的殽體合 相對向面的壁面的-面上形成基板送入口；在另一面上开 成基板送出口；在基板送入口與基板送出口之間，形成』 述運达通路；在上述殼體的内部’設置分隔壁；上述液儀 回收型喷嘴部設置於上述基板送入口和上述分隔壁之間； 上述除液部設置於上述分隔壁和基板送出口之門。 按照該方案，通過基板送人口，送人殼體㈣基板被 人运到沿運送通路而設置於殼體内部的液體 π、除液部和保持液供給部，通過各喷嘴部，進行既定處 理，然後從基板送出口排到系統之外。* 隔壁’在上游側，言免置保持液供給部，在下於°又置刀 液部，故即使在保持液供給部 ^ ’设置除 液飛“由分隔壁阻播，可防止這顆粒或處理 一，予游顆粒移動到設 2014-7191-PF;Ahddub 10 1275141 置除液部的空間（齡、原办 的^ & 本二間）晨，所以可保持乾燥空間清潔 w、j主衣士兄。 成—另外’也可通過上述液體回收型噴嘴部和除液部，形 :個單元的基板處理部，複數個單元的基板處理部沿上 =通路串聯設置，在各單元的基板處理部，採用不同 搜頰的處理液。 …按照該方案’基板沿著運送通路被運送，因而，從各 =基板處理部通過，由此可進行多種的處理液的處理。 、夜=與過去相比較，可減少上游側的基板處理部的處理 ?者基板被帶到下游側的基板處理部的量，故與過去相 比較，可以盡可能地縮短各基板處理部之間的距離。另外， =沒有分隔部的狀態τ，對基板進行處理，可有助於採 夕種處理液’對基板進行處理的基板處理裝置的裝置成 本和運轉成本的降低。 也可從運送的上游側起，設置作為上述各基板處理部 虫刻部、清洗部和乾燥部，在上耗刻部中，處理液採 用钱刻液，對基板進行敍刻處理，在上述清洗部中，處理 液㈣純水，對基板進行清洗，上述乾燥部可以將上述除 液部作為乾燥用來使用。 按照該方案，正在沿著運穿g … 者連廷通路運运的基板首先在蝕 y’進行供給钱刻液的钱刻處理，接著，在清洗部，通 匕供給的純水進行清洗處理，最後，在乾燥部，通過從除 液部供給的氣流’進行乾燥處理，然後將其排到下一步驟。 還有’也可在該殼體的相對向的壁面的_面上形成基 2014-7191-PF;Ahddub 11 1275141 口，在基板送入口與 ，上述液體回收型噴 可以設置將淨化空氣 及排出上述殼體内的 板ϋ入口 另—面上形成基板送出 基板送出nn彡成上述運送通路 嘴部和除液部設置於上述殼體内，也 达入上述殼體内的空氣導入機構，以 空氣的排氣機構。 ★按照該方案，沿著運送通路，從基板送入口，運送到 —的基板依_人運达到設置於殼體内的液體回收型喷^ 部和除液部，在各嗜禮都 一 、、， ， 、▲。卩進仃既定的處理，然後從基板 士、， l到系m卜。將來自空氣導入機構的清潔空氣持 、只、到双體内冑’並且殼體内的空氣通過排氣機構，持續 排出坆樣，即使在殼體内部，存在處理液飛沫、浮游顆 粒也可/ ^著排氣而排到系統之外n # ^ ^ 可以持、，，地保持清潔的環境。因&，可確實防止因殼體内 的被污染的環境，而將基板污染的不利情況。 另卜最好上述除液部沿運送通路的寬度方向延伸， 相對運送方向錢定角度傾斜交叉的方向設置。按照該方 式’由於除液部在與基板運送面平行的面上，沿與基板運 达方向以既定角度傾斜而交叉的方向設置，故從除液部噴 射的空氣，其按壓力作為朝向基板寬度向的分力作用于附 著於基板上的處理液上，由此，與除液部與基板運送方向 相垂直的情況相比較，可有效地去除附著於基板上的處理 液0 【實施方式】 2014-7191-PF;Ahddub 12 1275141 弟1圖所示的本發明的一個實施例的基板處理裝置1〇 為對基板進行蝕刻處理的蝕刻處理裝置，如第丨圖所示， 在呈長方體狀的殼體丨丨内部，具有對基板Β進行蝕刻處理 的姓刻部1 2，對從該钱刻部i 2送出的基板Β進行清洗處 理的清洗部13，對從該清洗部13送出的基板β 二 處理的乾燥部14。 ” 在上述殼體11的上游側壁ηι(第i圖的右方），門执 有基板送入口 15，並且在下游側壁112上，在與上述：： 运入口 15相對向的位置，開設有基板送出Π 16。另外， 在該基板送人口 15與基板送“ 16之間， 向（第1圖中為向左的方向）按昭算門Η 反連运方 17,在該複數個運送輥：Γ': : 複數個運送輥 的運送通路171。各運送㈣通過圖示二: 動圖的逆時針方向驅動旋轉。 於是，從系統之外，通過基板送入口… 内的基板β通過各運逆亲 、λ又體11

Mu b 17的驅動旋轉，將運送通路m 运向下游側，在蝕刻部12 逆、通路171 13進行清洗處理，最後在乾燥處理，’然後在清洗部 通過基板送出口16送到系統之°外/仃乾燥處理，接著， 上述清洗部1 3由上游側（第 ⑽，以及在下游側，與第R ^圖的右方）的第1清洗部 洗部130，構成。第卜 “ 130鄰接設置的第2清 Μ，進行普通的清洗處：：2對_刻㈣送出的基 β，再次進行更高度的精細清洗洗部130,則對基板 2014-7191-PF;Ahddub 13 1275141 在上述殼體11内的蝕刻部12的下方位置，設置第） 料斗121，在該第1清洗部130的下方位置，設置第2料 + m’在該第2清洗部130’的下方位置，設置第3料斗 132’在該乾燥部14的下方位置，設置第4料斗⑷。另 外，沿運送通路171運送中的基板B上滴落的處理液由第 ;〜第4料斗m、m、132、⑷接收，然後，從底部的 開口，通過後述的氣液分離器181適當地排出。 另外’在_部12和清洗部13的運送通路171的上 Γ3Γ:’/設置分隔各部分的分隔壁，但是在第2清洗部 1 d ϋ 和乾燥部1 4的i蠢炅ϋ _ …， 的邊界位置’设置從殼體11的頂板113, 運送…71的正上方位置的頂部分隔壁114，通 二ΓΡ分隔壁114，防止在钮刻部12和清洗部13的内 ° 力水滴等移動到乾燥部14内部的情況。 *於：外、i弟2清洗部13°，的基板運送方向的長度按照 ;弟1清洗部1 3 〇的長度的尺寸Μ 名於成位τ 4 又97尺寸5又疋。如此構成的目的 板^ h間’即用於對進行最終的清洗處理後的基 -人使用後述液體保持用喷嘴裝 止處理的空間。 延仃顆粒形成防 遇有，在上述敍刻部12，對送入殼體u 進行蝕刻液的蝕刻處理， 土板 在弟1清洗部130,進0 i ^ :，:=，在第2清洗物，，進行精細清洗處理， 理。 ^月冼處理好的基板β，進行乾燥處 為了進行上述清洗處理等，在#刻部12、帛^清洗部

Ahddub 2〇14~7l91-pp; 14 1275141 1 3 0和第2清济邱]q n， 冼邛130中，按照夾住運送通路 在上下處分別-罟义日斜a aA 格171的方式 ⑺叹置相對向的一對液體回收型 體回收型噴嘴邱） .〇 . ^ 1 %政置（液 .貝馮邛）20，並且在蝕刻部i 2和第、 處，在液體回收型噴喈_ w 9n ^ α π洗部130 叹生唷為裝置20的正下游側，按 通路Π1的方式八別< 罢μ π 夾住運送 万式刀別政置上下一對氣刀（除液 相對’在第2清洗部！ 3〇’，在液體回收 ”此

下游側’以住運送通路171的狀態，設置；^置^ 保持用喷嘴裝置40。 置上下—對液體 在第2清洗部130,處設置液體保持用噴嘴襄置 因為由乾燥部14來進行由氣刀3。所進行的正式的乾燥： 理，所以可以防止通過液體回收型喷嘴裝置2〇而進行最2 的清洗處理的基板Β在到達乾燥部14之前的期間被自然乾 坧，就會有顆粒固著於基板Β的内外面上產生水痕的問 題，從而更進-步地進行最終的清洗處理。通過從該液體 保持用喷嘴裝置40，將超純水向基板Β的内外面噴射，可 通過乾燥部1 4的乾燥處理，防止在基板Β上產生顆粒或 水痕。 另外，在基板處理裝置1 0的附近，設置向液體回收型 噴嘴裝置20和液體保持用喷嘴裝置40供給處理液用的處 理液供給源5 0。該處理液供給源5 0由以下部分構成 艮 钱刻液供給源51，其向餘刻部1 2的液體回收型噴嘴事置 2 〇 ’供給以氟酸為主成分的钱刻液；第1清洗水供給源$ 2， 其向第1清洗部1 3 0的液體回收型喷嘴裝置2 〇供給清、先 水，第2清洗水供給源5 3 ’其向第2清洗部13 0，的液體 2014-7191-PF;Ahddub 15 •1275141 回收型噴嘴裝置2。供給超純水。 置的==部14中’按照夹住運送通路…方式設 "I射口朝向運送通路171的方 側傾斜地設置。在穿置…二 的方式，向上游 30供給進行 ^双體11的附近，設置向上述氣刀 ,^ /尹匕處理的加壓空氣的空氣供給裝置+ 自該空氣供认駐淫ΡΛ 口衣置60。來 邙η6^ 置60的加壓空氣還供向蝕刻部12和清洗 口Ρ 1 3的軋刀3 〇。 月/先 卜运入乾燥部14的基板Β首先通過上游 30，進行除、&走_ 、、工办例的虱刀 :除液處理，接著，通過下游側的氣刀3〇 分的乾燥處理。痛 充 尽 札刀3〇沿運送通路171的寬度方向延伸。 氣刀30沿與運送古 申。 广游A # 、方向傾斜地交又的方向設置，有效地進行 除液與乾燥。完成卜 订 述乾燥邛14的乾燥處理的基板β 基板达出口 1 6，诸 、糸、、先之外，使其去向下一步驟。另外， 錢㈣14處的氣刀3〇’如果只用上游側的上下 =刀可以充分地進行乾燥時，也可以不設置下游側的氣 ，第3圖為用於說明液體回收型喷嘴裝置20、氣刀3n 和液體保持用喷喈获 0 噴囑欢置40的立體圖，其表示液體回收型嗔 〃 /夜體保持用噴嘴襄置40設置於第2清洗部 、’乳刀30設置於乾燥部14的狀態。如第3圖所示， 液體回收型噴嘴萝署 、、2 0由設置於運送通路1 71的上方側的 頂部噴嘴裝置20 1，以乃^兮丁士 乂丨 勺 Λ及在该下方側，與頂部喷嘴裝置2〇】 相對向設置的底部喷嘴裝置2〇2構成。 20l4>7l91-PF;Ahddub 16 1275141 夜體回收型噴嘴裝置2〇如第4圖所示，包括上下 一對喷嘴本體21， 匕祜上下 與基板運送方向相垂 直的基板見度方向(與第4圖的紙面相垂 ==體；導人管22，該導人管22與各_體21 的基=方向下游側的端部連接；導出管Μ，該 導送方向上游側的端部連接;液體導…， 口茨及體導入口 2 4，形士认L π .,t、、 7成於上下一對的喷嘴本體21的各相 、 ，/、導入管22連通，且在盥美;、軍、、，t A Ϋ ^ ^ 社/、基板運达方向相垂直的 基板見度方向上呈長尺狀細 導出口 Μ > 長形，液體導出口 25，該液體 導出25知照與上述導出管23連诵& 士 ^ , 導入逑通的方式，與上述液體 導 2 4相對向地設置。 另一方面，在第2清洗水供 η ^ ^ ^ 、、°源53的下游側，如第3 圖所不的那樣，設置有將該第 弟d 逆屮&、、，山 弟Ζ π冼水供給源Μ的超純水 达出的达出泵531。該送出泵531盥 ~ 卜汁々憎， 一上述各導入管22連接， 上述各導出管23與設置於殼體η 接。於η 1的附近的吸引泵532連 妾於疋，如果通過送出泵531的酿說 清洗皮枇认π 的艇動’將超純水從第2 冼Μ，、給源53導入到各導入管 導入 9 U ’則該超純水通過液 導入口 24，供給到夾持於上下 、成 ub 、爲4置2 01、2 0 2之間的 狀恶的基板B的表背面與上之間的 不合因— 、鳥本體21的相對面之間， 曰口毛、、、田官現象，從基板Β與噴 漏到外部，而e h 道& 、本體21的間隙處，洩 導屮〇 % 万向移動。另外，到達液 導出口 25的超純水通過吸引 運及 9 Q AA τ> 的驅動’通過導屮答 23的吸引，排到系統外。 、、等出吕 另外’在底部的喷嘴本體21 π頂面側，設置支承基板 2〇14-7l91-PF;Ahddub 17 1275141 B的複數個支承滾輪26，基板B支承于這些支承滾輪26 上，由此，在該基板B與底部的喷嘴本體21❸上表面之間， 形成使超純水通過的通路。 由於通過採用這樣的液體回收型噴嘴裝置2〇,將所需 最小限度的超純水供向基板B，由此，實現可靠的清洗處 理，這樣，可有助於採用高價的超純水的基板清洗處理的 運轉成本的降低。 上述氣刀30如第3圖所示，具有從側面看呈五邊形狀 的，沿基板寬度方向的長尺狀的氣刀本體3ι ;形成於該氣 刀本體31的前端側的前端尖狀的喷嘴部32 ;與氣刀本體 31的根端側相連接的空氣導人管33。在噴嘴部犯的前端， 設置有沿基板寬度方向的長尺狀的吹氣細縫32丨。於是， 通過空氣供給裝置60的驅動而送出的加壓空氣通過空氣 導入管33,送入氣刀本體31的内部，然後，從吹氣細縫 32卜吹向基板B’通過上述程式的加壓氣流，吹散附著於 基板B的表背面上的超純水。 上述氣刀30相對基板B的運送方向傾斜狀態地設置。 如此，從吹氣細縫321喷射的吹氣，其按壓力向基板寬度 方向的分力作用於附著在基板B上的清洗水上，故與吹氣 細縫321與基板運送方向相垂直的情況相比較，能有效地 去除附著於基板B上的清洗水。 上述液體保持用喷嘴裝^ 40如帛3圖所示，在液體回 收型喷嘴裝置20和氣刀30之間，按照夹住運送通路i7i 的方式上下-對地設置，其包括呈圓筒狀的嗔嘴管導 18 20l4-7191-PF；Ahddub 1275141 吕42與上述喷嘴官41的一端部連接，通過上述送出 泵531的驅動’將來自第2清洗水供給源^的超純水送入 ^吕42 ’複數個喷嘴孔43，該複數個喷嘴孔43在各 、觜s 41的縱向的基本全長範圍内，等間距開設於與基 Β相對向的面上。 通過攸夹住運送通路171而上下一對地設置的液體保 持:喷嘴裝置40的㈣孔43，將超純水喷霧到基板6的 表背面上，以防止通過液體回收型喷嘴裝置20進行了清洗 处里的基板Β在到達氣刀3G之前乾燥的情況，並且通過來 自：體保持用喷嘴裝置4。的喷霧水，進一步進行最終階段 的清洗處理，由此，在進行氣刀3G的基板B的乾燥處理的 狀態下，可可靠地防止顆粒固著於基板B的表背面上的不 利情況。

另外，在本實施例中，上述液體保持用喷嘴裝置4〇被 設置在，相對於液體回收型喷嘴裝置2〇和氣刀3〇之間的 中間位置’更靠近液體回收型喷嘴裝置2〇的位置，並且盡 可能地接近液體回收型噴嘴裝置2〇的位置。上述情況下， 由於在液體回收型喷嘴裝置2〇中，只將必要的最小限度的 超純水與基板B接觸，故附著水的量少，於是，基板b中 的已清洗的部分，從液體回收型喷嘴裝置2〇分離的瞬間開 始，自然乾燥便快速地進展，因此，液體保持用噴嘴裝置 40按照盡可能接近液體回收型喷嘴裝置2〇的方式嗖置， 以便避免上述情況。 另-方面，在第i〜第4料斗m、131、132、i4i的 2014-7191-PF;Ahddub 19 1275141 底部’如第1圖所示，設置對殼體u内的氣液的送出 導向的導向管〗8 、， 丁 18。各導向管18的底端部敞開，且面向殼 體11的底邛’並且在導向管18的中途，排氣管19形成支 路在導向g 18中的相對排氣管丨9的分支位置，設置既 定的氣液分離器m ’集中于導向管18中的清潔空氣和處 理液通過這些氣液分離器181分離，然後，處理液從導@ 管18的底端開口，送向殼體η的底部，另-方面，把通 過敍刻12、清洗部13和乾燥部14的用過的空氣送向排 氣管1 9。 上述各排乳管1 9的下游端與設置於基板處理裝置i 〇 的附近用於吸收工麻肉久立 廠内各邛位的排氣的集中排氣管（排翕 機構）7 4連接。於早 、s々 、 於疋通過Λ液分離器181分離的排氣 1 9内的用過的空氣集中到隼 彳釆Τ排軋官74中，通過設置於 工廠内的圖示省略的集塵器， 、 排到系統外。 #仃既…塵處理，然後， 接著，在各排氣管丨9的内部， & 刀⑺5又置用於调節吸引 風虿的調節風門191。該調節 乳門1 91在蝕刻部12、第1 清洗部130和乾燥部14中，在 主、 文乳刀3 0喷射加壓空氣的 f月況與不喷射的情況下，調 ，汀開耘度，由此，可在 體11内的塵力持續地處於預定的負屢環境。 π 即，在從氣刀30喷射加壓空氣 —从a ， 風的時候，該情況通過既 疋的感測|§進行檢測，將該檢測 ^ , σ〜輸入到圖示省略的控 制為，由此，將來自該控制器的 ,Q1门# #工制^就輸出給調節風門 1 91 ’因基於該控制信號調節風 L門19丨的打開程度增加，向 2014-7191-PF/Ahddub 2〇 1275141 調節風門191的用過的空氣的吸引量被增加，另一方面， 如果從氣刀3 0而來的加懕处名， 加座工乳的排出被停止，則該情況可 通過既定的感測器檢測出，並通過基於該檢測信號的控制 器的控制信號’使調節風門191的打開程度變小，使用過 的空氣的吸引量減少。 ^通過上述調節風門191的打開程度控制，從氣刀30而 來的加壓空氣無論喷射或喷射停止，㈣㉝12、清洗部Η 和乾燥部14内的壓力持續保持在一定的狀態。 、、、如上所述，本發明的基板處理裝置1〇，是對正在沿運 适通路m，以基本水平的姿勢運送的基板β，進行既定的 處理之裝置’並且將液體回收型噴嘴裝置2()與氣刀3〇沿 運送通路171串聯地設置，其中液體回收型喷嘴裝置20作 :向運迗中的基板β供給既定的處理液的處理液供給器， 叔…、可攸基板β回收已供給的處理液的方式構成；而氣刀 、乍為去除在上述處理液被供給後的基板Β上殘留的處理 液的處理液去除裝置，按照通過氣流吹散基板Β上的殘留 外里液的方式構成，因此，送人基板處理裝置玉q内部的基 板壯B-方面進行運送，另一方面，首先通過液體回收型喷 W置2G供給的處理液進行處理，接著以液體濕潤狀態到 ' 3 0處通過該氣刀3 0，進行除液處理，這樣，以 ，餘刻口^ 1 2與清洗部1 30那樣，在相互鄰接並採用不同種 :、的液體的邛分’分離處理液，可最大限度地減少隨著該 /門的基板Β帶到下游側的處理液的量。 於疋，儘管為了使基板處理裝置〗〇緊密化，並且降低 20l4-7l91-pF;Ahddub 21 1275141 運轉成本，採用了液體回收型喷嘴裝置2〇，但是，也可以 2除為了防止將處理液帶到τ—步驟，而不得不延長到下 -步驟的距離的現有不利情況，可促進因基板處理裝置ι〇 的緊密化帶來的裝置成本和運轉成本的降低。 一另外，通過液體回收型喷嘴裝置20和氣刀30,形成 一個單元的基板處理部（在本實施例中，為蝕刻部12和第 1清洗部130) ’複數個單元的基板處理部沿運送通路171 串聯設置（在本實施射，㈣】部12和清洗部13串聯設 置），而1 ’因在各單兀的基板處理部採用不同種類的處理 液:在本實施例中，在姓刻部124，處理液採用姓刻液， 在第1清洗部130處，處理液採用清洗水），所以通過基板 Β沿運送通路171進行運送，通過各單元的基板處理部%蝕 刻部12和第1清洗部13〇)，可進行多種處理液的處理。 另外，由於處理液供給器採用液體回收型噴嘴裝置2 〇，故 與過去相比較，可減少上游側的基板處理部的處理液隨著 基板Β帶到下游側的基板處理部的量，因此，與過去相比 較’可最大限度地縮短各基板處理部之間的距離，可促進 採用多種處理液，對基板Β進行處理的基板處理裝置ι〇的 裝置成本和運轉成本的降低。 此外’在本實施例中，作為各基板處理部，從運送通 路171的上游側起，設置蝕刻部12、清洗部和乾燥部 14，在該蝕刻部12，處理液採用對基板β進行蝕刻處理的 #刻液；在清洗部13，處理液採用對基板Β進行清洗的純 水’在乾燥部14，氣刀30被用於乾燥；因此，正在沿運 2014-7191-PF；Ahddub 22 ^275141 叙路171運达的基板β，首先在敍刻# 12，進行供給有 刻液的蝕刻處理’接著，在清洗部13，通過純水的供给 二行清洗處理，最後’在乾燥部14，通過從氣刀3〇供： 岁“氧流，進行乾燥處理。因此，使基板Β通過各處理部（敍 二部12,清洗部13和乾燥部⑷，由此，可對基板β，進 仃包括清洗和乾燥在内的—系列的#刻處理。 另外’液體回收型喷嘴裝置2〇和氣刀3〇，具有相互 對向的分別㈣於上游側壁⑴和下游側壁ιΐ2上的基板 k入口 15和基板送出口 16，並且該液體回收型噴嘴裝置 =和氣刀3G設置于形成有在基板送人口 15和基板送出\ 、之間的運送通路171的殼體n的内部，因此，沿運送

路1Ή ’從基板达入口 15，送入殼體"的内部的基板B 被依次送到設置於殼體11 Μ部的液體回收型噴嘴裝置 2〇和氣刀30,進行各噴嘴震置的既定的處理，秋後，二基 板送出口 16’排到系統之外。此外，由於在殼體U的二 部，具備送入清潔空氣的淨化空氣用吹風機Η，以及排出 二體11内的空氣的集中排氣管74，故通過空氣用吹風機 的平化空氣持績導入殼體u的内部的同時，將殼體η 内的空氣通過集中排氣管74持續地排出。因此，即使在殼 =的内二存在處理液的飛珠、浮游的顆粒，也將隨著 ，到糸1之*卜因此，可使殼體11内的環境持續保 、r、叮確實地防止由於殼體11内的污染的環境，將基 板B污染的不利情況。 此外，在液體回收型喷嘴裝置2〇和氣刀3〇 ^ 間，吕又 2014-7191-PF;Ahddub 23 ^75141 置向基板B，供认& 裳置40。 〜5乾無防止用的清洗水的液體保持用噴嘴 按照該方宰，# 進行運送，另i、方基板處理裝置内部的基板B 一方面 供給的清洗水^面’百先通過從液體回收型喷嘴裝置2〇 用喷嘴穿詈4Π沾主 被么、巧來自液體保持 3。广 清洗水，在液體濕潤的狀態下，到達氣刀 处’通過該氣刀30,進行除 型噴嘴裝置2〇n㈣μ丨 U體回收 修確實地防卜其4 度的清洗水，因此，可 土板Β在到達除液用喷嘴 粒固著於基板Β上的情況。、…便已“，使顆 於是，儘管為了實現基板處理裝置的緊⑧ 本的降低，採用了液體回收型 * 轉成 免因顆粒等固著於基板B 避 ^ 使I ασ的不合格率增加的情 土板處理裝置10中，可最大限 噴嘴裝置20的優點。 ”體回收型 • 另外，由於液體保持用嘴嘴農置4 〇 收型喷嘴裝置20和氣刀30之門^其/於相對液體回 ρ„ 之間的在基板運送方向上的中 立置’更罪近液體回收型喷嘴駐番ΑΑ, 可〜…， 置20的位置，故能夠盡 了此地抑制通過液體回收型嘴

的乾燥。 贺’衣置2°進仃清洗的基板B 二卜，由於設置將淨化空氣導入處理室殼體u内部的 斤化工氣用吹風機6卜同時處理室殼體u的内部的空氣 可通過設置於工廠内的集中排氣管74而排出，故可以將來 自淨化空氣用吹風機61的淨化空氣持續地導入到處理室 24 2014-7191-PF；Ahddub 1275141 殼體11的内部’同時處理室殼體u内的空氣通過集中排 氣管74持續地向外排出。於是，即使在處理室殼體u内， 存在浮游顆粒，也可以將其隨著排氣，排到系統之外，因 此可持續地保持處理室殼體n内的環境的清潔，可確實地 防止由於殼體η内的污染的環境，導致顆粒將基板B污染 的不利情況。

還有，由於在第3清洗室14中所採用的清洗水使用超 純水，故可在清洗處理的最終階段，使基完全清潔。 本發明不限於上述實施例，其還包括下述的内容。 (1)在上述實施例中，例舉了作為基板處理裝置對 基板B進行㈣處理的裝置的實例，但是，本發明並不限 於基板處縣置1G為_處理用的裝置，也可將基板處理 裝置10的整體作為進行清洗處理用的裝置。此時，钮刻液 供給源51由清洗水處理源代替。即，將清洗液從液供給源 5卜供向蝕刻部12的液體回收型噴嘴裝置2〇。蝕刻部u 可乍為第1 β洗部’第！清洗部i 3〇可作為第2清洗部。 *另外’此時’也可在第！清洗部12，第2清洗部13〇 &兩者上’設置液體保持用喷嘴裝置4〇。此時，來自第1 清洗水供給源51的清洗水供向設置於第）清洗部Μ上的 持用喷嘴裝^ 4〇,同時來自第2清洗水供給源52 的>"先水供向設置於第2清洗室13上的液體保持用噴嘴裝 置40中。通過以上構成，由於在第i和第2清洗部 0内的β洗處理形成為液體回收型噴嘴裝置Μ和液體保 持用喷嘴裝置40的二階段處理，故可實現比第！和第2清 2〇14-7l91^pF/Ahddub 25 1275141 洗部1 2、1 3 0的階段更有效的清洗處理。 (2) 在上述實施例中，蝕刻部12和第丨清洗部13〇中， 未設置液體保持用喷嘴裝置4〇,但是，本發明並不限於在 飯刻部12和第1清洗部13〇中不設置液體保持用喷嘴裝置 40，也可對應於基板處理的種類、狀況，在這些基板處理 部中，設置液體保持用喷嘴裝置4〇。通過以上構成，由於 在蝕刻部12和第"青洗部13〇内的處理形成為液體回收型 喷嘴裝置20和液體保持用喷嘴裝置4〇的二階段處理，故 _可以更有效地實現基板處理。 (3) 在上述實施例中，通過採用在第2清洗部13〇，中 的液體回收型喷嘴裝置2〇的超純水的基板B的清洗處理， 將從液體回收型喷嘴裝置2〇 #出的清洗處理後的=純水 排到系統之外，但是，也可代替這樣的方式，將清洗處理 後的超純水返回給第i清洗部13〇，以供再次使用。 (4) 在上述實施例中，液體保持用喷嘴裝置40中用於 _喷射清洗水的圓形的喷嘴孔43，穿設于噴嘴管41上，j 是，本發明並不限於噴射清洗水的部分為圓形的噴嘴:: 43，也可為方孔、多邊形孔，或星型孔等，還可代替孔， 而採用細縫，安裝於既定的喷嘴部件上。 曰 (5) 在上述實施例中，雖然第2清洗 r的液體 保持用噴嘴I置4〇，被設置于相對於液體回收型噴嘴妒 2〇與氣刀30的大致中間位置更接近液體回收型噴嘴 2〇 —側，但是，本發明並不限於液體保持用噴嘴裝置、置 設置於以上所述的位置，可根據基板B的種類、運行條: 2〇14-7191-pF；Ahddub 26 1275141 等與基板處理有關的各種狀況，設定適當地設置位置。 【圖式簡單說明】 第1圖為表示本發明的一個實施例的基板處理裝置的 大體結構的縱向剖視圖； 第2圖為第1圖所示的基板處理裝置的橫向剖視圖· 弟3圖為表示設置於上述基板處理裝晋 不1甲的，液體回 收型喷嘴裝置、氣刀和液體保持用噴嘴裳 触m · 、的位置關係立 弟4圖為第 視圖。 3圖所示的液體回收型喷嘴穿置 的縱向剖 主要元件符號說明】 11〜殼體； 112〜下游側壁； 114〜分隔壁； 1 21〜第1料斗； 1 3 0〜第1清洗部； 131〜第2料斗； 14〜乾燥部； 15〜基板送人σ · 1 7〜運送親； 18〜導向管； 1 9〜排氣管； I 0〜基板處理裝置·, 111〜上游側壁； II 3〜頂板； 1 2〜姓刻部； 1 3〜清洗部； 130’〜第2清洗部 1 3 2〜第3料斗； 141〜第4料斗； 16〜基板送出口； 171〜運送通路； 181〜氣液分離器·， 2014-7191-PF;Ahddub 27 1275141 1 91〜調節風門； 201〜頂部喷嘴裝置 21〜喷嘴本體； 23〜導出管； 25〜液體導出口； 31〜氣刀本體； 321〜吹氣細縫； 41〜喷嘴管； • 42〜導入管； 5 0〜處理液供給源 5 31〜送出泵； 532〜吸引泵； 60〜空氣供給裝置 74〜集中排氣管； 20〜液體回收型喷嘴部； 202〜底部喷嘴裝置； 22〜導入管； 24〜液體導入口； 3 0〜氣刀； 32〜喷嘴部； 33〜空氣導入管； 40〜液體保持用喷嘴裝置； 43〜喷嘴孔； 51〜蝕刻液供給源； 52〜第1清洗水供給源； 53〜第2清洗水供給源； 61〜淨化空氣用吹風機； B〜基板。 2014-7191-PF;Ahddub 28

Claims (1)

1275141 十、申請專利範固： 土板處理裊置，對基板實施既定的處理，其特 徵在於包括： ^ 運送通路，運送基板； 液體回收型喷嘴部，向沿著上述運送通路運送的基板 供給處理液，來進行基板處理，同時，從基板回收處理後 的處理液；及 除液邛在上述運送通路中的上述液體回收型喷嘴部 下游側，從上述液體回收型喷嘴部，間隔既定距離地設置， 並去除基板上的處理液。 2·如申請專利範圍第丨項所述的基板處理裝置，其中 在上述液體回收型噴嘴部和上述除液部之間，還設置有保 持液供給部，該保持液供給部供給使基板保持濕潤狀態到 至少運送到上述除液部為止的處理液。 3 ·如申請專利範圍第2項所述的基板處理裝置，其中 _上述保持液供給部設置在比上述液體回收型喷嘴部與上述 除液部的中間位置，更偏向上述液體回收型噴嘴部側。 4·如申請專利範圍第2項所述的基板處理裝置，其中 保持濕潤狀態的所述處理液為清洗基板的清洗水。 5 ·如申晴專利範圍第2至4項中任一項所述的基板處 理裝置’其中進一步包括具有壁面的殼體，在殼體相對向 的壁面的一個壁面上形成基板送入口，在另一壁面上形成 基板送出口，在所述基板送入口與所述基板送出口之間， 形成上述運送通路，在上述殼體的内部設置分隔壁，上述 2014-7191-PF;Ahddub 29 1275141 液體回收型喷嘴部設置於上述基板送入口和 ea 上迹分隔壁之 4，上述除液部設置於上述分隔壁和上述基板送出 理/署如申請專利範圍第1至4項中任—項所述的口基之板間處 虞置’其中由上述液體回收型喷嘴部和上述除液部 —個單元的基板處理部，複數個單元的基板處理m 運送通路串聯設置，在各單元的基ϋ 類的處理液。 知用不同種 7.如申請專利範圍第6項所述的基板處理裝置，盆 從運送通路的上游侧起，設置蝕 八 α洗。卩和乾燥部來 作為上述各基板處理部，上述蝕 k做β 口Μ木用蝕刻液作為對基 板進料刻處理的處理液；上述清洗部採用純水作為對基 板進行清洗的處理液；上述乾燥部將上述除液部用作乾燥。 8·如申請專利範圍第1至4頊中 ” 4貝中任一項所述的基板處 理裝置，其中還包括具有壁面 J ^ 在设體的相對向的 壁面的-個壁面上形成基板送入口；在另一壁面上形成基 板送出口；在上述基板送入口盘 上迷基板达出口之間形成 上述運送通路；上述液體回收型噴嘴部和上述除液部設置 於上述殼體内；並設置有將清潔空氣導入到上述殼體内的 空乳導入機構，以及排出上述殼體内的空氣的排氣機構。 9·如申請專利範圍第項中任一項所述的基板處 理裝置，其甲上述除液部沿上述運送通路的寬度方向延 伸’並設置在㈣運送方向以既定角度傾斜交差的方向上。 2014-7191-PF;Ahddub 30