TWI273038B - Service station of ink-jet head - Google Patents

Description

Ϊ273038 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種喷頭維護裝置，特別係一種用於製造彩色濾光片之喷 墨裝置之噴頭維護裝置。 【先前技術】 由於液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)為非主動發光之元件，必 須透過内部之背光源提供光源，搭配驅動1C與液晶控制形成黑、白兩色之 灰階顯示，再透過彩色濾光片（Color Filter)之紅(R)、綠(G)、藍(B)三種顏色

層提供色相，形成彩色顯示畫面，因此彩色濾光片為液晶顯示器彩色化之 關鍵零組件。 噴墨方法為使用一喷墨裝置將含有尺(；}]6顏色層之墨水同時噴射於一玻 璃基板上之黑色矩_ ’墨水滴魏錢於職板上形成著色之rgb顏色 ^圖案。使时墨方法能夠—挪獻GB腕層，使得製備過程大量簡化， 成本大幅降低。故，喷墨方法具有製程簡化、環保 '節省原料之諸多優點。 —田上述之喷墨裝置具有複數噴頭’各噴頭具有—墨水室及—噴嘴，墨水 儲存特1里之墨水’噴嘴與墨水室相連。藉由""外部壓力將墨 像辛二”過喷嘴射出至基板上之複數像素區域内。由於基板上之每一 水積賴魏’^墨水殘留於倾上，賊留之墨水會防礙墨 之均ί产另了匕，便較難控制墨水下次之噴出量，難以保證各顏色層 之均勻度。另，喷頭於待機狀態時二 有鑑於此，提供-種因此’喷頭之清潔及維護顯得尤為重要。 墨水不會揮發、錢，還b 碩在賴織下，铜上之喷嘴中之 正常運作之維護裝置實為鮮㈣喷嘴中级塞物，清射頭，保證噴頭 【發明内容】 以=以實施例說明一種嘴頭 一種喷頭維護裝置，其包括· _ <罝 ‘者並列設置於一基板上，兮生β洗杈組，一擦拭模組及一封罩模組， 〜洗模組用於清洗喷頭，該擦拭模組用於擦 6 1273038 防止噴頭内之墨水揮發、乾 拭喷頭，該封罩模組用於喷頭在待機狀態下 燥，及清除噴頭内之阻塞物。 相較於先前技術，所述之喷獅護裝置可以即時清除嗔頭 水，可以保證噴頭在待機狀態下，噴頭上之倾中之墨水不會揮發墨 還可以清除喷嘴中之阻塞物，保證噴頭正常運作。 ’、 【實施方式】

請參考第-圖，本發明實施例之噴頭維護裝置i，其包括一清洗模电 100，-擦拭模組200，及-封罩模組·，三者並列設置於一基板彻，上。 該清洗模組酬於清洗_…般地，_上具魏數倾，清洗模組働 則是用來綠倾，娜賴組2_麵拭_，雜_㈣嘴上之廢 墨水及其它污物，贿罩模組3G⑽於罩住喷嘴，防止細内 亦可以清除喷頭内之阻塞物。 $ 請一併參考第二圖、第三圖及第四圖，所述清洗模組1〇〇包括一清洗基 座110，及一與清洗基座110相連之第一驅動部120，該清洗基座11〇上包括複 數喷液孔111，該第一驅動部120用以控制清洗基座11〇轉動之動作，喷液孔 111喷出之溶劑用來清洗噴頭上之複數喷嘴。 上述清洗基座110包括:一第一凹槽U2，複數環形擋壁113設置於該第一 凹槽112内’該複數環形擋壁113分別圍成一固液凹槽115，複數喷液孔ηι 設置於該固液凹槽115底部，該複數環形擋壁113分別具有出液口 1131;複數 出液孔114設置於該第一凹槽112底部，該出液孔114與清洗基座110之底面連 通’清洗喷頭所產生之廢液經出液孔114排出清洗基座no之外。 於本實施例中，將複數喷液孔111分成三組分別設置於三個固液凹槽 115底部，該三個固液凹槽115下方即清洗基座11〇中分別有一中空管道116， 固液凹槽115底部之複數喷液孔m皆與該中空管道116連通，與該中空管道 116下方即清洗基座110底面設置一進液口 117，溶劑從該進液口 117進入中空 管道116中，再由喷液口 1U喷出。需要清洗之喷頭移動到上方，喷液孔m 能夠喷出溶劑對喷頭進行清洗，將喷頭上殘留之墨水清除掉，環形擋壁113 可以防止喷射到喷頭上之溶劑向周圍飛濺，清洗喷頭所產生之溶劑會滯留 於固液凹槽115底部，然後經由出液口 1131流入第一凹槽112,再經出液孔114 7 1273038 排出清洗基座110之外，該出液口 1131底部固液凹槽115一側高於第一凹槽 :112 一側，便於清洗喷頭所產生之溶劑流入第一凹槽112，該出液孔114之孔 • 壁與第一凹槽112相連之一側高於孔壁内側，便於清洗噴頭所產生之溶劑排 出。 上述第一驅動部120包括：一第一驅動裝置121，例如馬達；一與該第一 驅動裝置121相連之第一轉軸1211，第一驅動裝置121可以驅動第一轉軸 1211轉動並控制其轉動速度與轉動距離；一第一底座123 ; 一與該第一底座 “ I23相連之第一底座轉軸1231，該第一轉軸1211轉動可以通過第一傳動帶 122來帶動該第一底座轉軸1231轉動，第一底座轉軸1231所轉動之角度與第 魯一轉軸1211相對應，故，第一驅動裝置121可以通過對第一轉軸1211的控制 來控制第一底座轉軸1231 ; —相對第一底座轉軸1231設置之第一缓衝座 124 ’利用複數彈簧連接該第一緩衝座124與清洗基座11〇，該第一底座轉軸 1231帶動第一缓衝座124轉動，當清洗基座11〇受到外界衝擊時，與清洗基 座110相連之第一緩衝座124可以吸收衝擊之能量，以防止喷頭因碰撞而受 損。 請參考第五圖，所述擦拭模組200包括一承載板210，及一與承載板210 相連之第一·驅動部220 ’該承載板210上具有一第二凹槽211，該第二驅動部 220用以控制擦拭布224於該第二凹槽211上方移動之動作。 上述苐'一驅動部220包括：一第二驅動裝置221 ’例如馬達；^與第二驅 ® 動裝置221相連之第二轉軸222，在此，設置複數與第二轉軸222相配合之從 動轉軸2222，第二轉軸222通過擦拭布224帶動從動轉軸2222轉動，第二驅 動裝置221可以驅動第二轉軸222轉動並控制其轉動速度與轉動距離；一與 第二轉軸222相配合之從動轉軸223，擦拭布224纏繞於從動轉軸223上，擦 拭布224之一端經過上述承載板210上之第二凹槽211上方與第二轉軸222相 連，在此，第二轉軸222通過轉動使得擦拭布224於第二凹槽211上方移動， 已經經過第二凹槽211上方之擦拭布224再纏繞於該第二轉轴222上。擦拭布 224於第二凹槽211上方所移動之距離由第二驅動裝置221來控制。 值得注意的是，第二轉軸222與從動轉轴223應當設計為可快速拆卸結 構，便於更換擦拭布224。 1273038 上述擦拭布224選用質地柔軟之無塵布。 ； 上述承載板210選用鐵弗龍材料製作。 ‘ 於從動轉軸2222上連接一編碼器2221，該編碼器2221紀錄從動轉軸 2222之轉動速度與轉動距離，從而測得擦拭布224所移動之距離，所得數據 可以傳輸到第二驅動裝置221，實現第二驅動裝置221對第二轉軸222的控制 進而控制擦拭布224之移動速度與距離。 ^於擦拭布224之下方設置一光傳感器225，當擦拭布224使用完畢時，該 光傳感器225可以發出一訊號，便於更換擦拭布224。 對需要擦拭之喷頭進行擦拭使通過下述過程完成的，首先將需要擦拭 • 之喷頭飾到承載板210上方即第二凹槽m上方，再將喷頭向第二凹槽加 底=方向移動，於第二凹槽211底部上方一預定距離之位置上將噴頭停留一 預疋時間，在預定時間内，第二轉軸222與從動轉轴223相配合並通過第二 轉轴222的轉動使第二凹槽211上方之擦拭布224緊貼承載板21〇，同時增大 擦拭布224的表面張力，擦拭布224利用其表面張力緊貼喷頭並對其進行清 潔，該預定距離要小於第二凹槽211之深度，該預定時間可根據具體情況而 定，以能夠將喷頭上多餘之墨水或其他異物除去即可。 叫一併參考第六圖與第七圖，所述封罩模組3〇〇包括一封罩基座及 -與該封罩基座310相連之第三驅動部32〇，該封罩基座31〇包括兩個設置於 封罩基座310上之第三凹槽314，三個密封孔312及兩個單孔311，該三個密 封孔312平行設置.，且兩個第三凹槽314分別設置於兩個相鄰密封孔312之 間，該兩個單孔311分別設置於兩個第三凹槽314底部，每一個密封孔312上 設置有一密封孔圈3122 ,單孔311上設置有單孔密封圈3ii2。 單孔密封圈3112與密封孔圈3122用彈性良好之橡膠製作。 於本貫加例中，二個欲封孔312分別對應三個噴頭，噴頭上具有併列排 佈之複數噴嘴。喷頭在待機狀態時，將噴頭移動到密封孔312之上方，準碟 •定位後將噴嘴置人密狐3湖，設置於密封孔312内之密封關遍緊密 地包裹喷嘴邊緣，此時，喷頭之出液ng卩嘴嘴難於密封孔圈31方之 密封孔312内。 豸密封孔312外接-控綱，該__來控制密封孔312内之氣壓， 1273038 從而使得該密封孔312内具有負壓，密封孔圈3122所包裹之喷嘴内之阻塞物 於負壓的作用下被吸出。 於該封罩基座310上設置一第三凹槽314，單孔311設置於該第三凹槽 314底部，該單孔311外接一控制閥，該控制閥用來控制單孔3ιι内之氣壓， ，，使得該單孔311内具有負壓，當需要清理單一喷嘴之阻塞物時，喷頭會 沿著第二凹槽314之與密封孔312平行之延伸方向移動，將所需處理之喷嘴 移動到單孔311之上方，隨後將喷嘴伸人單孔3朗，單孔密封随12可以利 用自身良好的彈性將置人其内之喷嘴邊緣緊魏包裹，同時噴頭之喷液口 即喷嘴則置於單孔密封圈迎下方之單孔祀内，喷嘴内之阻塞物於負廢作 用下被及出。於第二凹槽314底部設置複數排液孔3d，該排液孔313與封罩 基座310之底面連通，滞留於第三凹槽314内之液體經由排液孔313排出 基座310之外。 上述第三驅動部320包括：一第三驅動裝置321，例如馬達；一與第三驅 動裝置321相連之第二轉軸3211，第三驅動裝置321可以驅動第三轉軸3211 轉動並控制其轉動速度與轉動距離；_第二底座奶；—與該第二底座知 ，之第二底鋪軸3231 ’該第三雜32雜動可以通縣二傳動帶322來 ，動該第二底鋪軸现觸，第二底座難3231轉崎齡之角度與第 f轉軸3211相對應，故，第三驅動裝置321可以通過對第三轉軸32ιι的控制 來控制第二敍_3231 ;—姉第二底座熱3231設置之第二 324 ’利用複數彈簧連接該第二緩衝舰慎封罩綠31〇，該第二底座轉轴 3231帶動第二緩魅324觸’ #封罩基座3财浙界衝擊時，與封罩^ 座310相連之第二緩衝座324可以吸收衝擊之能量，以防止喷頭因碰撞而^ 損。 综上所述’本發明符合發明專利要件，爰依法提出專利申請。惟 上所述者縣本發明讀佳實财本發歡翻料社述實施 圖式簡單說明】 第-圖係本發明實施例噴頭維護裝置之立體示意圖。 1273038 第二圖係本發明實施例喷頭維護裝置之清洗模組之立體示意圖。 • 第三圖係第二圖中所示清洗模組之清洗基座之立體示意圖。 、 第四圖係第三圖中清洗基座沿IV-IV線之立體剖視圖。 第五圖係本發明實施例喷頭維護裝置之擦拭模組之立體示意圖。 第六圖係本發明實施例喷頭維護裝置之封罩模組之立體示意圖。 第七圖係第六圖中所示封罩模組之封罩基座之立體示意圖。 【主要元件符號說明】 喷頭維護裝置 1 清洗模組 100 擦拭核組 200 封罩模組 300 基板 400’ 喷液孔 111 清洗基座 110 第一驅動部 120 第一驅動裝置 121 第一凹槽 112 第一底座轉軸 1231 第一轉軸 1211 第一底座 123 第一傳動帶 122 第一緩衝座 124 出液孔 114 環形擋壁 113 出液口 1131 喷液孔 111 固液凹槽 115 中空管道 116 承載板 210 第二驅動部 220 擦拭布 224 光傳感器 225 從動轉軸 223, 2222 第二凹槽 211 第二轉軸 222 編碼器 2221 第三驅動部 320 第二驅動裝置 221 單孔 311 封罩基座 310 單孔密封圈 3112 密封孔 312 第三驅動裝置 321 密封孔圈 3122 第二底座 323 第三轉軸 3211 第二底座轉軸 3231 第二傳動帶 322 第三凹槽 314 第二緩衝座 324 排液孔 313 11

Claims (1)

1273038 十、申請專利範圍： 1·，喷頭維護裝置，其包括：-清洗模組，_擦拭模組及—封罩模組， 二者並列☆置於-基板上，該清洗模組用於清洗喷頭，鱗拭模 於擦拭喷頭，該封罩模組用於防止噴勸之墨水乾燥，及清除 之阻塞物。 、 2.如申請專利範圍第1項所述之噴頭維魏置，其中，所述清洗模組包括 -清洗基座及-與其相連之第—驅動部，該清洗基座包括複數 孔，該第一驅動部用以控制清洗基座轉動之動作。

3. 如申請專利範圍第2項所述之喷頭維護裝置，其中，所述清洗基座進— 步包括：-包括複數環形擋壁之第一凹槽，該複數環形擋壁分別圍成一 固液凹槽，所述複數喷液孔設置於該固液凹槽底部，所述複數環形幹 壁上分別具有出液口 ；至少__出液孔設置於該第—凹槽底部。 4. 如申請專利範圍第3項所述之噴頭維護裝置，其中，所述固液凹槽 具有一中空管道與相對應之噴液孔相通。 5·如申請專利範圍第2項所述之噴頭維護裝置，射，所述第一驅動 括:·-第-驅動裝置；-與該第-驅動裝置相連之第一轉軸；一第一底 座，-與該第-底座相連之第—底座轉軸，該第—轉軸通過第一 帶帶動該第-底座轉轴轉動；一相對第一底座轉轴設置之第一 座，該第-緩衝座與清洗基座彈性連接，該第一底座轉轴帶動第-緩 6·如申請專利範圍第搞所述之喷頭維護裝置，其中，所述擦拭模組包括 承載板及肖其相連之第二驅動部，該承載板上具有—第二凹槽， 該第二驅動部用以控制擦拭布於該第二凹槽上方移動之動作。曰 7·如申請專利範圍第6項所述之喷頭維護裝置，其中，所述第二驅動部包 括二第二驅動裝置；—與該第二驅動裝置相連之第二轉軸；一裝設 擦拭布之從動轉軸，擦拭布之一端與第二轉軸相連。 8·如申請專利範圍第7項所述之喷頭維護裝置，其進一步包括一編瑪器， 該編碼器與第二轉轴相配合，該編碼器用來測得擦拭布移動之距離。’ 9·如申請專利範圍第7項所述之喷頭維護裝置，其進一步包括複數與第二 12 1273038 器，其設置於擦拭布之下方。 、置，其進—步包括一光傳感 如申凊專利範圍第1項所述之嘴頭維護裝 置，其中，所述封罩模組包括 11. 封罩基座及-與其相連之第三 “皁補包括 座上之第三凹槽底部，該單孔上It ；：=’ __於封草基 μ，臟數密封孔 一 了早祕上戶斤遂第二凹槽與密封孔相間設置。 • Μ專利範圍第⑽所述之噴頭維護裝置，其中，所述第三驅動部 = :·-第三驅動裝置；—與該第三驅動裝置相連之第三轉軸·，一第二 一與該第二底座相連之第二底座轉軸，該第三轉轴通過第二傳 ▼ π動該第二底座轉軸轉動；_相對第二底座轉轴之第二緩衝 ΐ座雜連接，該第二底座轉軸帶動第二緩 κ如申明專利抱圍第⑽所述之喷頭維護裝置，其進一步包括複數排液 孔’其設置於該第三凹槽底部。 13