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TWI270659B - Optical device using a reflection principle to measure levelness - Google Patents

Optical device using a reflection principle to measure levelness Download PDF

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TWI270659B
TWI270659B TW94111600A TW94111600A TWI270659B TW I270659 B TWI270659 B TW I270659B TW 94111600 A TW94111600 A TW 94111600A TW 94111600 A TW94111600 A TW 94111600A TW I270659 B TWI270659 B TW I270659B
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TW
Taiwan
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position sensor
measuring device
signal
reflection principle
optical level
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Application number
TW94111600A
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English (en)
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TW200636210A (en
Inventor
Wen-Yuh Jywe
Chang-Jin Lin
Chun-Jen Chen
Jian-Ming Lai
Guan-Yu Lin
Original Assignee
Nat Huwei Institue Of Technolo
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Description

1270659 ———— - 九、發明說明:f年狄月 〜曰修(更)正替換頁 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種利用反射之光學式水平量測裝置,特 別指一種以位置感測器、反射鏡配合雷射所建立的一套高猜 度水平量測裝置。 【先前技術】
隨著科技日益發達,產業界對機器精度之需求也越益提 升,對於機器的真直度、平行度、垂直度及平坦度之量測需 求亦愈趨頻繁及嚴苛,因此,對於水平量測裝置的要求也越 嚴格;習用之水平量測裝置可分成兩種,第—種係為利用重 力原理所建立之量測裝置;第二種為非利用重力原理所建立 之量測$置。爿用重力原理所建立之水平量測裝置主要有米 密氣泡式水平儀、電解錢泡水平儀、電μ水平儀、電笔 式水平儀及光電式水平儀等裝置。利用非重力原理的水平量 測裂置主要有雷射干涉儀、自動視準儀、六分儀等裝置。 目前業界最常使用之水平儀為精密氣泡式水平儀,但是 氣:包式水平儀之解析度無法滿足目前精密機械對水平量測 而长現有之间精度水平量測裝置主要以電容式水平儀為 主’ -般簡稱電子式水平儀’此類裝置目前水平解析度可以 : rc sec。然而電子水平儀具有下列缺點··(丨)量 測解析度越高量測鈴衝 “巳圍越小’如量測解析度0.2 Arc-sec的 電子水平儀只可以|、丨 J—4〇〇Arc—sec;(2)單次只能量測單 5 1270659 |?r年/評日修便)正替換頁 ,往往需要量測兩個自由 自由度之水平,但是一般的量測 度的水平(俯仰度及滾動度)。 水平儀除了量測水平傾斜,亦可應用在幾何量測上,士 真直度、平行度及平坦度;習用之幾何誤差量測多使用雷射 干涉儀’但{雷射+涉儀在大型機具上帛設非常困難且耗 時,而且價格昂貴,成本遠高於電子式水平儀。
由此可見,上述習用之水平量測與幾何誤差量測裝置仍 有諸多缺失,亟待加以改良。 本案發明人鑑於上述習用水平與幾何誤差量測裝置所衍 生的各項缺點’乃亟思加以改良創新’並經多年苦心孤詣潛 心研究後’終於成功研發完成本件—種利用反射原理之光學 式水平量測裝置。 【發明内容】 本發明之目㈣在於提供-制用反射,可同時量測俯 仰度及滾動度兩個自由度之傾斜度的光學式水平量測裝置。 本發明之次-目的係在於提供—種利用反射,在相同量 測精度下,具有較大量測範圍之光學式水平量測裝置。 本發明之又—目的係在於提供一種利用反射等光學原 理’不文電磁影響之水平量測裝置。 ^達上述發明目的之—種利用反射原理之光學式水平 量測裝置,包括有:光學式水平儀架構利用光於空間中行走
褒置放置於具有傾斜角的水平面上,因為重力的作用,反射 鏡會平行於地球水平面,㈣射及位置相器有相對移動, 經由分析最後落於位置感測器上的光點位置,即可得到平面 之傾斜角。 本發明之反射式光學水平儀係利用光反射之後,可提高 角度靈敏度之原理,經兩次反射以提高量測裝置之角度解析 度0 【實施方式】 () 糸統架構及動作說明 (1)請參閱圖一,本發明所提供之一種利用反射原理之光 學式水平量測裝置,其平面圖如圖一所示,而立體示意 圖如圖二所示,主要包括有: (a)將雷射光源11、反射鏡122及位置感測器13固定 在反射式光學水平儀之夾治具16上,該雷射光源u 可為可見光、微波、紅外光、紫外光以及χ射線,視 里測J哀境所需及精度所需而進行更換且皆可應用於 相對距離量測;該位置感測器13係可以電荷耦合器 件之相機(Charge Coupled Device camera, CCD)或以 127〇659----— f伴v月、日修(更)正替换頁 - ϊ測二維訊號之感測儀器替代;反射鏡121固定於鐘 擺機構14之上,該鐘擺機構14可以是利用點接觸、 萬向關節、雙向軸承或繩索等機構所組成; ⑻將位置感測ϋ 13的訊號線連接至位置感測器訊號 處理器17 ; (c) 將訊號處理器17輸出接到類比/數位轉換卡18,使 _ 訊號處理器的類比訊號轉成數位訊號,以便電腦19 後績的儲存工作; (d) 將反射式光學水平儀放置於待測平面之上。 反射式光學水平儀之平面光路圖如圖三所示,立體光路 圖如圖四所示,雷射光源11從P1點發射雷射光束,打在反 射鏡121上的P2點,接著反射至P3點,最後雷射光束由反 射鏡122反射至位置感測器J 3上。由於反射鏡丄2工是固定 於鐘擺機構14之上,因此與水平面恆為平行,但是當架構 ,放置於非水平之表面時,雷射光源U、反射鏡122、位置感 測器13之位置會對反射鏡121作相對運動,這是因為雷射 光源11、反射鏡122、位置感測器13是固定於夾治具16上, 因此會隨著夾治| 16的偏擺一起連動。圖五(a)(b)分別為 此架構放置於具有傾斜角么及傾斜角么時,夾治具16偏擺的 情形。 反射式光學水平儀操作流程如圖六所示,其操作流程與 1270659 ?]^年/月V日修(更)正替換頁 ( 一般的電子水平儀相同,首先水平儀需進行歸零程序,再將 水平儀置於待測物表面,並啟動量測程式進行取樣,量測結 束後,訊號經訊號處理器17處理,並經類比/數位轉換卡18 轉換’將類比訊號轉成數位訊號,並經電腦1 9輸出量、、則择 果 D /、、、、° 當雷射光源11打在位置感測器13上時,感測器13會 產生對應的X、Y軸訊號,此訊號即為雷射光在位置感測器 13上的位置訊號,由於當本發明位於不同的傾斜程度的待測 平面時,其位置感測器上之雷射光點的位置會隨傾斜程度的 待測平面而有相對應之變化。故,透過分析位置感測器上的 雷射光點位置,即可得到待測平面的傾斜程度;由於類比/數 位Λ旒轉換卡丨8所擷取的訊號為電壓訊號,因此在做量測 别需先進行位置感測器13的校正,以求得電壓與光點位置 的關係式(校正曲線方程式);校正曲線之求得係將雷射干涉 儀所提供苓考座標以及位置感測器輸出的電壓,利用最小平 方差法計算而求得。 (二)二維位置感測器校正 一維位置感測器用於量測前,必須先經過校正,其校正 木構圖如圖七所示。將位置感測器3放置在微動平台8上, 其上有雷射光1打入,接著架設雷射干涉儀7,使雷射干涉 儀7可以I測微動平台8之移動量。最後將微動平台&每隔 9
1270659 固定距離定點來回G數次,取位置感測器3訊 號與雷射干涉儀7之讀值’將此過程所擷取的資料,經過最 小平方法計算後,即可得到此組位置感測器7的校正曲線。 -維位置感測H 3的校正分成χ軸校正與γ轴校正兩 次,校正流程圖如圖八⑴與圖八⑻所示,先將雷射光點移 至位置感測器之肩點,尤似ν ά ^ ^在做Χ軸校正時,微動平台8之移動 方向與位置感測器軸平行,然後在位置感測器3工作 乾圍内每隔固定距離來回移動數次;而Υ軸的校正則是將位 置感測器3轉9。度後,讓微動平台8之移動方向與位置感 !器…轴平行’接著讓微動平台8在位置感測器3工; 祀圍内每隔以距離來回移動數次,並擁取位置感測器訊號 並紀錄雷射干涉儀所量得的座標位置,將上述兩個動作過程 所擷取的資料經由計管 及丫轴校正曲線。卩了㈣二維位置感· 3的⑼ (三)幾何誤差量測 —本發明可以應用在機具幾何誤差量測上,如真直度 仃度及平坦度之量测。真直度量測一般用於導軌之 是長方形物件,將牲、目f从、二、▲ ’、丨或者 、待測物为成數個量測點(如 P,.,.P3, p2 每一個點的量測处杲敕 , )將 之直亩择 整理在一起,即可得到導軌或長形物件 ,、直度。水平儀所能做的平行度量測,通常是指扭轉方向 1270659
ί兮年^月、日修(更)正替換頁 的平行度,若要量行度J 則將兩道待測物分 成數個量測點(如圖+ π α十所不),然後依序量 (Pn-l,Ρη... ρ3 ρ〇 Ρ1 個點的水平 •·Μ P2’ P卜以及 Qn-i,Qn. 將每一個點的量測結果整理在 · 行度 ρ 了侍到兩道導軌之平 *平坦度量測大多應用於大型物件量测,如機具床 機機翼等。對於待測物件可°氣 私一、L 景无規測的點(如圖十一 所不),然後依序量測,最後整 件之平坦度。-般的電子水平·、、、。果,即可得到工 0電子水干儀’單次量測只能量測單一方 向的偏擺,所以每—個量測點必須量測兩次,如此才可以旦 測工件的兩個方向之偏擺,但是本發明可同時量測兩個方向里 的偏擺,因此可以較傳統的水平儀節省一半以上的量測時 間。 本表月亦可以用於量測線軌或硬軌等滑動件的俯仰度 及滾動度,-般的電子水平儀單次只能量測俯仰度或㈣ 度’必須量完其中一種誤差之後,將電子水平儀旋轉90度, 才能量測另—種誤差’但是本發明可以同時量測兩個誤差, 因此可以較一般的電子水平儀省下一半以上的量測時間。 本發明所提供之-種利用光學反射原理之光學式水平 量測裝置’與前述習用技術相互比較時,更具有下列之優點: 1.本發明之水平量測裳置可同時量測兩個自由度之傾 11 1270659 年/月>^修(更)正替換頁 驟 斜,在相同的量測流程下, 』Μ即省一半的量測步 使用於平坦度量测時可以節 喝 半的時間,因此對於 精禮、機具之檢測非常有用; 同4測精度下,具有較大 2 ·本發明之水平量測裝置在相 量測範圍; 測原理,不受電 本發明之水平量測裝置採用光學式量 磁影響; 4.本發明之反射式光學k# 尤予水千儀係利用光反射之後,可以
提高角度靈敏度之®理,叙Λ A 摩理經兩次反射達到將本發明之 角度解析度提升四倍; 上列詳細說明係針對本發明之一可行實施例之具體說 明,惟該實施例並_以限制本發明之專利範圍,凡未脫離 本發明技藝精神所為之等效會絲$ # $ ^心寻政貫施或變更,均應包含於本案之 專利範圍中。 綜上所述,本案不但在架構上確屬創新,並能較習用水 平量測裝置增進上述多項功效,應已充分符合新穎性及進步 性之法^發明專利要件,爰依法提出巾請,懇_貴局核准 本件發明專利申請案,以勵發明,至感德便。 【圖式簡單說明】 圖一反射式光學水平儀平面圖; 圖一反射式光學水平儀立體圖; 12 1270659 y年^月^^修(更)正替換頁 圖二反射式光學水平儀平面光路圖; 圖四反射式光學水平儀立體光路圖; 圖五水平儀偏擺示意圖; 圖六光學水平儀動作流程圖; 圖七二維位置感測器校正架構圖;
圖八(A)位置感測器校正X軸之流程圖; 圖八(B)位置感測器校正Y轴之流程圖; 圖九真直度及傾斜度量測路徑圖; 圖十平行度量測路徑圖; 圖十一平坦度量測路徑圖。 【主要元件符號說明】 11 雷射光源 121 反射鏡 122 反射鏡
13 位置感測器 14 鐘擺機構 16 夾治具 17 位置感測器訊號處理器 18 類比/數位轉換卡 19 電腦 1 雷射光源 13 1270659 书年Γ月I Q日修(更)正替換頁 2 反射鏡 3 二維位置感測器 6 位置感測器夾治具 7 雷射干涉儀 8 線性微動平台
14

Claims (1)

1270659 申請專利範園: — 一丨 ^「_ _ ,,.尸私月,修(^£替換弓 種利用反射原理之光學式水平量測裝置,包括 一雷射光源; 二反射鏡, 一鐘擺機構; 一二維位置感測器; 一訊號處理器;
一類比/數位訊號轉換卡; 一電腦; 將該雷射光源、一反射鏡及該位置感測器固定在架構 上,另一反射鏡固定於該鐘擺機構上,使該反射鏡恆平 行水平面,該雷射光源發射雷射光束,打在該固定於鐘 擺機構之反射鏡上,並反射至該固定在架構上之反射 鏡,該雷射光束再反射至該位置感測器上,該位置感測 器所產生之訊號傳輸至該訊號處理器,將該訊號轉為電 壓汛號,再將該訊號傳輸到該類比/數位轉換卡,以將 4 Λ號轉成數位訊號,並連接至該電腦以儲存該數位訊 號。 2·:申請專利範圍第"員所述之一種利用反射原理之光 學式水平量測裝置,纟中該位置感測器係架設於不同傾 斜程度的待測平面,以測量待測平面兩個互相垂直的水 平面傾斜程度。 風申明專利範圍第1項所述之一種利用反射原理之光 學式水平量測裝置,纟中該4測裝置係利用《學的反射 15 1270659 一-~______ " 丫伴7月V0修(更)正替換頁 ’ * 原理增加系統量測精度。 如申清專利範圍第1項所述之一種利用反射原理之光 予式水平量測裝置,其中該雷射光源係選自下列任一光 源·可見光、微波、紅外光、紫外光以及X射線,視量 • /則%境所需及精度所需而進行更換,且皆可應用於相對 距離量測。 5·如申請專利範圍第1項所述之一種利用反射原理之光 學式水平量測裝置,其中該位置感測器係為二維位置感 _ 測器。 6·如申請專利範圍第1項所述之一種利用反射原理之光 學式水平量測裝置,其中該位置感測器係可以CCD相機 (Charge Coupled Device camera)或以量測二維訊號之 感測儀器替代。 7.如申請專利範圍第1項所述之一種利用反射原理之光 學式水平量測裝置,其中該鐘擺機構係以點接觸、萬向 φ 關節、雙向軸承或繩索等機構所組成。 16
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI714449B (zh) * 2020-02-04 2020-12-21 大銀微系統股份有限公司 快速量測模組
US11969845B2 (en) 2020-02-18 2024-04-30 Hiwin Mikrosystem Corp. Quick measurement module

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TWI714449B (zh) * 2020-02-04 2020-12-21 大銀微系統股份有限公司 快速量測模組
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