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TWI269801B - Photosensitive polymer - Google Patents

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TWI269801B
TWI269801B TW089116393A TW89116393A TWI269801B TW I269801 B TWI269801 B TW I269801B TW 089116393 A TW089116393 A TW 089116393A TW 89116393 A TW89116393 A TW 89116393A TW I269801 B TWI269801 B TW I269801B
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TW
Taiwan
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group
monomer
carboxylate
substituent
methyl
Prior art date
Application number
TW089116393A
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English (en)
Inventor
Sook Lee
Ki-Young Kwon
Si-Hyeung Lee
Kwang-Sub Yoon
Hyun-Woo Kim
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
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Publication of TWI269801B publication Critical patent/TWI269801B/zh

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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/02Macromolecular compounds containing only carbon atoms in the main chain of the macromolecule, e.g. polyxylylenes
    • C08G61/04Macromolecular compounds containing only carbon atoms in the main chain of the macromolecule, e.g. polyxylylenes only aliphatic carbon atoms
    • C08G61/06Macromolecular compounds containing only carbon atoms in the main chain of the macromolecule, e.g. polyxylylenes only aliphatic carbon atoms prepared by ring-opening of carbocyclic compounds
    • C08G61/08Macromolecular compounds containing only carbon atoms in the main chain of the macromolecule, e.g. polyxylylenes only aliphatic carbon atoms prepared by ring-opening of carbocyclic compounds of carbocyclic compounds containing one or more carbon-to-carbon double bonds in the ring
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Description

1269801 A7 B7 五、發明說明(I ) 1明背景 1. 發明的領域 本發明係有關一種光敏性聚合物。 2. 相關技藝術的說明。 由於半導體裝置變得非常集成,所以使用於該裝置之 製造中的光微影成像法中必須可以形成精細圖案。進一步 地,具有超過1G位元容量之半導體記憶裝置中所需要之 次四分之一微米或較小尺寸之圖案的結果,因此,其中使 用氟化氬(ArF)準分子雷射(波長:193奈米)作爲一種新類 型之曝光光源的光微影成像法已經被提議。ArF準分子雷 射的使用從其波長小於傳統氟化氪(KrF)準分子雷射(波長 :248奈米)的事實產生。結果,適合於與ArF準分子雷射 使用之新穎化學擴大型光阻劑聚合物的需求逐漸增加。 一般,用於ArF準分子雷射之化學擴大型光阻劑組成 物較佳應呈現下列特性:(1)於193奈米波長的透明性;(2) 優良的熱性質(例如,高玻璃轉化溫度);(3)對下層和覆蓋 薄膜材料的良好黏著性,(4)高抗乾鈾刻性;和(5)可使用廣 泛使用在半導體裝置之製造中的顯影溶液,例如,2.38重 量%的氫氧化四甲基銨(TMAH)容易地顯影。 然而,包括甲基甲基烯酸酯,三級-丁基甲基烯酸酯和 甲基丙烯酸之三元共聚物,是一種用於ArF準分子雷射之 廣泛已知的化學擴大型光阻劑聚合物,不呈現上述所有特 性。特別地,三元共聚物具極低之抗乾蝕刻性及對下層和 覆蓋薄膜材料之低黏著性。 3 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) i 訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7_______ 五、發明說明(> ) 最近’已冒試使用具有脂環族化合物,例如,異冰片 基,金剛烷基或二環癸基(decanyl),當做取代基的(甲基) 丙烯酸酯或三級-丁基原冰片烯羧酸酯製備用於ArF準分子 雷射而具有增加抗蝕刻性之光敏性聚合物。然而,這些聚 合物也有幾個缺點。例如,他們的抗蝕刻性和對薄膜材料 的黏著性特性仍是差的,其造成光阻劑圖案之剝落。 發明的槪沭 本發明的一個目的是提供一種光敏性聚合物,其維持 透明性’即使當曝光於193奈米或以下之短波長光源,和 其具有改良之黏著,對比,和抗乾蝕刻特性。 本發明另一目的是提供一種包含光敏性聚合物之化學 擴大型光阻劑組成物。 因此,爲了達成上述目的,提供一種光敏性聚合物, 包括第一單體,其爲具有酸不穩定(:8到Cm三級脂環族烴 當做取代基的脂環族烴羧酸酯,和能夠自由基聚合的第二 單體。 較佳,其中脂環族烴羧酸酯是原冰片烯羧酸酯,第二 單體是順-丁烯二酸酐,和C8到C2〇三級脂環族烴基是2_ 甲基-2-原冰片基,2-甲基-2-異冰片基,8-乙基-8-三環 Ρ·2·1·02’6]癸基,2_甲基-2-金剛烷基,2-乙基_2_金剛院基 或金剛烷基-1-甲基乙基。 根據本發明之光敏性聚合物與一種或以上的選自包括 第三單體,第四單體和第五單體之單體聚合,除了第一和 4 本紙張尺度適用家標準(CNS)A4規格(21G X 297公釐) " (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁)
I 訂---------^_91. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7 五、發明說明(巧) 第一單體之外,其中第二單體是一種具有二級環醇基鍵結 至主鏈之單體;其中第四單體是選自包括(甲基)丙烯酸, 具有Ci到Cn脂族醇當做取代基的(甲基)丙嫌酸酯,具有 酸不穩定基當做取代基的(甲基)丙燦酸酯,和具有溶解抑 制劑基當做取代基的(甲基)丙嫌酸酯;和其中第五單體是 一種選自包括原冰片烯,原冰片烯-醇,具有匕到Cl2脂族 醇當做取代基的原冰片烯,原冰片烯羧酸,原冰片烯二羧 酸酐,具有(^到Cn脂族醇當做取代基的原冰片烯羧酸酯 ,具有內酯基當做取代基的原冰片烯羧酸酯,具有酸不穩 定基當做取代基的原冰片烯羧酸酯和具有溶解抑制劑基當 做取代基的原冰片烯羧酸酯之單體。 較佳地,第三單體是二級多環醇。 根據本發明較佳具體實施例的光敏性聚合物具有環主 鏈,和酸不穩定的c8到C2G三級脂環族烴基鍵結至主鏈。 因此,含其之光阻劑組成物呈現高抗蝕刻性。亦即,因爲 溶解度在曝光之前和之後的大差異,對比是優良的。 較佳具體實施例的說明 現將描述根據本發明之光敏性聚合物和含其之化學擴 大型光阻劑組成物。 亦即,將描述使用化學擴大型光阻劑組成物之較佳光 微影成像法。然而,此發明可在許多不同形式中被具體化 ’和這些具體實施例被提供所以本揭示是完整和完全的, 且將本發明的範圍完全傳達至諳熟該技藝者。 5 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
I 訂---- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7 五、發明說明(< ) 性聚合物更大。 聚合物的抗蝕刻性通常已知與Ohnishi參數成反比, Ohnishi參數以下式(1)計自算:
Ohnishi 參數= NT/Nc_N〇, 其中Ντ是聚合物中之原子總數,Nc是聚合物中之碳 原子數目和N〇是聚合物中的氧原子數目。 表1列出以式(1)計算之先前技藝聚合物和本發明聚合 ,物的Ohnishi參數。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) i 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表1 分類 Ohnishi 參 數 先前技藝聚合 聚(甲基金剛烷基丙烯酸酯-環 3.59 物 戊酸酯丙烯酸酯) 聚(三級-丁基原冰片烯羧酸酯 -順-丁烯二酸酐) 3.73 本發明聚合物 聚(2-甲基-2-原冰片基原冰片 烯羧酸酯-順-丁烯二酸酐) 3.32 聚(2-甲基-2-異冰片基原冰片 烯羧酸酯-順-丁烯二酸酐) 3.29 聚(8_乙基_8_三環[5·2·1·〇2,6]癸 基原冰片烯羧酸酯-順-丁烯二 酸酐) 7 3.18 tT---------^^1. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1269801 A7 B7 五、發明說明(L) 聚(2-甲基-2-金剛院基原冰片 3.18 烯羧酸酯-順-丁烯二酸酐) 聚(1-金剛烷基-1-甲基乙基原 3.17 冰片烯羧酸酯-順-丁烯二酸酐 ) 一般已知當Ohnishi參數小於或等於3.4時,較佳少 於或等於3.2,抗乾抗蝕刻性很好。從表1可預知,當與傳 統聚合物比較時,根據本發明之聚合物的抗乾蝕刻性被實 質上改良。 較佳根據本發明光敏性聚合物進一步包括能夠提高光 敏性聚合物所需要特性的另一單體。 也就是,根據本發明之光敏性聚合物爲一種具有第三 單體與第一和第二單體組合之三元共聚物是有利的。 第三單體較佳是具有二級環醇基之分子。具有二級環 醇基的第三單體增加聚合物的抗蝕刻性和顯著增加對下層 薄膜材料之黏著性。特別是,二級醇基(其爲化學穩定) 是有利的,因爲其可被維持長時間。 當做第三單體,更佳爲使用二級多環醇。例如,二級 C10到C15三環醇適合於當做第三單體使用。 根據本發明之另一三元共聚物是具有第四單體與第一 和第二單體組合之三元共聚物。 第四單體較佳是一種選自包括(甲基)丙烯酸,具有 G到C12脂族醇當做取代基的(甲基)丙烯酸酯,具有酸不 8 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
___ -l·— I 一一 0, ϋ ϋ ϋ-a ϋ ^1 ^1 I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1269801 A7 B7 五、發明說明(7) 穩定基當做取代基的(甲基)丙烯酸酯,和具有溶解抑制劑 基當做取代基的(甲基)丙烯酸酯。 第四單體依照使用於光敏性聚合物中所需要的性質選 擇。 爲了提高聚合物之黏著性,使用(甲基)丙烯酸或具有 (^到c12脂族醇當做取代基的(甲基)丙烯酸酯。 在其中嚴格要求增強對比之情形中,使用具有酸不穩 定基當做取代基的(甲基)丙烯酸。酸不穩定基係指一種當 其鍵結至聚合物時使聚合物在顯影溶液中非溶解,但當其 酸解時呈現溶解的基。 在其中大量親水性官能基存在於另-構成聚合物之單 體的情形中,未曝光區域也可以傳統的顯影溶液顯影’較 佳使用具有溶解抑制劑基當做取代基之(甲基)丙嫌酸酯作 爲單體。溶解抑制劑基係指一種不會被因曝光所產生的酸 酸解的疏水性基。 當必須提高抗顯影溶液的可濕性時,較佳使用(甲基) 丙烯酸酯。 較佳,側接至(甲基)丙烯酸酯之<^至Cn脂族醇是2-羥乙基;側接至(甲基)丙烯酸酯之酸不穩基是三級-丁基或 C6到C2G三級脂環族烴;及側接至(甲基)丙嫌酸酯之溶解 抑制劑基是甲基或C7到C2Q脂族烴。C7到Cm三級脂環族 烴的例子包括金剛烷基,原冰片基或異冰片基。 仍爲本發明之另一三元共聚物是具有第五單體與第一 和第二單體組合之三元共聚物。 9 _ ^紙張尺度適&中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公Θ ------------_ ! (請先閱讀背面之注音心事項再填寫本頁) 訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7 五、發明說明(2) (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 第五單體較佳是一種選自包括原冰片烯,原冰片烯-醇 ,具有(^到c12脂族醇當做取代基的原冰片烯,原冰片燦 羧酸,原冰片烯二羧酸酐,具有<^到c12脂族醇當做取代 基的原冰片烯羧酸酯,具有內酯基當做取代基的原冰片燦 羧酸酯,具有酸不穩定基當做取代基的原冰片烯羧酸酯和 具有溶解抑制劑基當做取代基的原冰片烯羧酸酯之單體。 根據經選擇單體的種類,第五單體也使用於依照光敏 性聚合物中所需要的性質選擇。 在必需提高聚合物的黏著性或減少具有聚合物當做主 要成分之光阻劑圖案的膨脹情形中,較佳使用原冰片烯-醇 ,有Q到C12脂族醇當做取代基之原冰片烯,具有Q到 c12脂族醇當做取代基的原冰片烯羧酸酯,原冰片烯二羧酸 酐或具有內酯基當做取代基的原冰片烯羧酸酯。 特別地,在其中使用原冰片烯二羧酸酐或具有內酯基 當做取代基之原冰片烯羧酸酯作爲單體的情形中,黏著性 被改良,和使用其所形成的光阻劑圖案具有無粗糙的優良 形狀。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在其中嚴格要求提高對比的情形中,使用具有酸不穩 定基當做取代基的原冰片烯羧酸酯。 在其中大量親水性官能基存在於另一構成聚合物之單 體的情形中,未曝光區域也可能以傳統的顯影溶液顯影, 較佳使用具有溶解抑制劑基當做取代基之原冰片烯羧酸酯 作爲單體。 當必須提高抗顯影溶液的可濕性時,較佳原冰片烯竣 10 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7 五、發明說明(y) 酸。 較佳,側接至原冰片烯之^至c12脂族醇是2-羥甲基 ,側接至原冰片烯羧酸酯之心至C12脂族醇是2-羥乙基; 側接至原冰片烯羧酸酯之內酯基是2,4二羥基-3,3-二甲基 丁內酯或2(3),4二羥基丁酸內酯;側接至原冰片烯羧酸酯 之酸不穩定基是三級-丁基或四氫呢喃基或1_烷氧基乙基; 和側接至原冰片烯羧酸酯之溶解抑制劑基是甲基。 當要求時,根據本發明之光敏性聚合物可爲具有第四 或第五聚合物聚合與第一’第二和第三單體之四元聚合物 。如上所述,可依照使用於光敏性聚合物中所需要的性質 調節單體比例。其中具有第一,第二,第四和第五單體之 四元聚合物也可作爲根據本發明之光敏性聚合物使用。 根據本發明之光敏性聚合物可以式(1)表示:
其中I是酸不穩定到C2G三級脂環族烴基;r2是 氫或甲基; h是氫,G到c12脂族醇,一種酸不穩定基或溶解抑 制劑基; R4是氫,羥基,Q到c12脂族醇,羧基,具有Cl到 11 t紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ' (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) i tr--------- 1269801 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(π) C12脂族醇側基之氧基羰基,具有內酯側基之氧基羰基,具 有酸不穩定側基之氧基羰基,具有溶解抑制劑側基之氧基 羰基或連接到r5之羧酸酸酐; r5是氫,羥基,q到C12脂族醇,羧基,有Q到c12 脂族醇側基之氧基羰基,具有內酯側基之氧基羰基,具有 酸不穩定側基之氧基羰基,具有溶解抑制劑側基之氧基羰 基或連接到R4之羧酸酸酐; X是1到5範圍之整數; 卜m,η,p和q是整數;和 l/(l + m+n + p+q)等於 〇·〇 到 0.3,m/(l + m + n + p + q)等於 〇_〇 到 〇·3,n/(l + m+n + p+q)等於 0.1 到 0.6, ?/(1 + ^^+11+戸+9)等於0.1到0.6,和9/(1 + 111+11+卩 + q)等於〇·〇到〇.5。 聚合物的重量平均分子量較佳在1,000到100,000範 圍。 最佳,Ri之例子,包括2-甲基-2-原冰片基,2-甲基-2-異冰片基,8·乙基-8-三環[5.2.1.02,6]癸基,2-甲基-2-金剛 烷基,2-乙基-2-金剛烷基或1-金剛烷基-1-甲基乙基。在 R3中,(^到C12脂族醇是2-羥乙基,酸不穩定基是三級-丁 基或<^8到C2G三級脂環族烴,且溶解抑制劑基是甲基或C7 到C2〇脂族烴。C7到C2Q脂族烴的例子包括異冰片基,原 冰片基或金剛烷基。 在R4或R5中,一般較佳(^到C12脂族醇是羥甲基, 具有<^到C12脂族醇側基之氧基羰基是2-羥基乙氧羰基, 12 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) i 訂--- ♦ 1269801 A7 B7 五、發明說明(〖I ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 具有內酯側基之氧基羰基是2,4二經基-3,3_二甲基丁酸內 酯基,或2(3),4二羥基丁內酸酯基,具有酸不穩定側基之 氧基簾基是三級-丁氧基幾基,四氫呢喃氧基羰基或1-院氧 基乙氧基羰基,和具有溶解抑制劑基側基之氧基羰基是甲 基氧基羰基。 因爲根據本發明光敏性聚合物的主鏈具有環結構,所 以其抗蝕刻性是大的。特別地,因爲(^8到c2G三級烴基鍵 結至主鏈,所以抗鈾刻性被進一步增加。亦即,當二級環 醇基鍵結至主鏈時,聚合物也顯示對下層的良好黏著性和 對顯影溶液之高可濕性且抗蝕刻性被進一步增加。 仆璺擴大S[光阳劑組成物 本發明的化學擴大型光阻劑組成物包括上述光敏性聚 合物和光酸產生劑。光酸產生劑較佳包含在15重量%之量 ,以光敏性聚合物的總重量爲基準。光酸產生劑較佳爲一 種具有高熱穩定性的物質。因此,適當的光酸產生劑包括 三芳基銃鹽,二芳基鑛鹽,磺酸鹽或N-羥基琥珀醯亞胺三 氟甲烷磺酸鹽。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 光酸產生劑的例子包括三苯基銃三氟甲烷磺酸鹽,三 苯基銃銻酸鹽,二苯基鐄三氟甲烷磺酸鹽,二苯基鐄銻酸 鹽,甲氧基二苯基鎭三氟甲烷磺酸鹽,二-三級-丁基二苯 基銚三氟甲烷磺酸鹽,2,6-二硝基苄基磺酸鹽,焦培酚參( 烷基-磺酸鹽),焦培酚參(烷基磺酸鹽),N-羥基琥珀醯亞胺 三氟甲烷磺酸鹽,原冰片烯-二羧醯亞胺三氟甲烷磺酸鹽, 13 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1269801 A7 ______^ 五、發明說明( 三苯基銃九氟丁烷磺酸鹽,二苯基鎭九氟丁烷磺酸鹽,甲 氧基二苯基鎭九氟丁烷磺酸鹽,二-三級-丁基二苯基鎭九 氟丁烷磺酸鹽,N-羥基琥珀醯亞胺九氟丁烷磺酸鹽,原冰 片烯-二羧醯亞胺九氟丁烷磺酸鹽,三苯基銃全氟辛烷磺酸 鹽,二苯基鎭全氟辛烷磺酸鹽,甲氧基二苯基鎭全氟辛烷 磺酸鹽,二-三級-丁基二苯基鎮三氟甲烷磺酸鹽,N-羥基 琥珀醯亞胺全氟辛烷磺酸鹽,或原冰片烯-二羧醯亞胺全氟 辛烷磺酸鹽。 較佳地,本發明的光阻劑組成物可進一步包括0.01到 1〇重量%的有機鹼,以光敏性聚合物的總重量爲基準。適 合之有機鹼包括三乙胺,三異丁胺,三異辛胺,二乙醇胺 ’三乙醇胺或其混合物。加入有機鹼以避免圖案變形,其 是由於在曝光區域所產生且然後擴散至未曝光區域內之酸 的料想不到之酸解所造成。 根據本發明的化學擴大型光阻劑組成物也可包括30 到200 ppm之有機或鹼性界面活性劑,其作用允許光阻劑 組成物均勻塗佈在基材上。 製備光敏件聚合物之方法 單體的合成 以如下列流程(1)表示,將環戊二烯溶解在有機溶劑中 ’然後具有C8到C2〇三級脂環族烴基當做取代基的丙嫌酸 酯加至其中,以製備第一單體(1): [反應流程1] 14 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) — --------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7 〇 C = 0 I 0 I 0)
五、發明說明(R
CH2 = CH
I
c = 〇 I 〇
I 其中心是〇8到C2G三級脂環族烴基。 較佳,Ri是2_甲基-2-原冰片基’ 2·甲基_2_異冰片基 ’ 8-乙基_8_三環[5.2.1.02’6]癸基’ 2-甲基-2_金剛院基’ 2-乙 基-2-金剛烷基或1-金剛烷基-1-甲基乙基。 的合成 將在上述方法中製備之單體⑴,第二單體(Π),第三 單體(III),第四單體(IV)和第五單體(V)溶解在有機溶劑中 ,例如,甲苯,於p : n : m : q : 1的混合物比,然後將聚 合作用引發劑,例如,偶氮二異丁腈(AIBN)加至其中以進 行聚合作用而製備聚合物,如下反應流程(2)表示,和聚合 作用比與在上式(1)中之定義相同: [反應流程2] — — — — — —----看——i 丨訂--------iMW. (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 n(°^y )+p(G)+q(cH2 (V) (III)
AIBN
-OH (II) C = 0 I 0 I Ri (l) W (g (T-r); (dv (
OH C = 0 .CHj . R2 ) C *= 〇 I 0 I Ri (IV) R2
0 I 15 1269801 A7 B7 五、發明說明(\七) 製備化璺櫨大型光阻劑組成物的方法和使用 其之光微影成像法 根據本發明之化學擴大型光阻劑組成物係藉由將在上 述方式中製得之光敏性聚合物和光酸產生劑溶解在適當溶 劑中,和將其混合而製得。於此,光酸產生劑混合於1到 15重量%之量,以聚合物重量爲基準。且,較佳藉由進一 步溶解〇.〇1到10重量%之有機鹼,以聚合物重量爲基準 ,完成光阻劑組成物。且,較佳30到200PPm之界面活性 劑進一步被包含在組成物中。 在上述方式中製備之化學擴大型光阻劑組成物可使用 於一般光微影成像方法中,和特別適合於形成精細圖案以 符合使用ArF準分子雷射當做曝光光源之0.25奈米或以下 的設計規則。 首先,將光阻劑組成物塗佈在其中形成的製圖目標材 料的基質,以形成具有預定厚度,較佳0.2到2微米之光 阻劑層。接著,在光阻劑層上進行預烘烤。預烘烤步驟在 70到160°C溫度進行30到360秒。在預烘烤步驟之後,使 用具有預定圖案之光罩將光阻劑層曝光,使用具有248奈 米或以下,較佳具有193奈米波長之ArF準分子雷射的波 長曝光光源。藉由曝光在包含在光阻劑層的光酸產生劑產 生酸。以如此所產生之酸的催化作用酸解光敏性聚合物, 如反應流程3所示。結果,大量親水基,例如,羧基,產 生在光阻劑層曝光部分。因此,在曝光區域和未曝光區域 之間產生光阻劑層之極性的顯著不同。也就是說,可顯著 16 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 晒 一 (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) i 訂--- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(\《) 地增加對比。 [反應流程3]。
0 0 0 K2 ^^(只Κ CH1 卞
(H00C-)R5 R4(-cooh) oh C = 0 I W I 0 ? 1 I H(Ri)
H 括弧內之r3表示不被酸解而是保留’因爲其爲一種溶 解抑制劑基或匕到c12脂族醇。 緊鄰R4括弧內之-COOH表示在其中R4爲具有羧基或 酸-不穩定基作爲取代基之氧基羰基的情形中’表示R4酸 解之後殘留之羧基。 在曝光之後,在顯影之前將光阻劑層熱處理一短時間 ,其稱爲後曝光-熱處理。爲了逐漸增加對比之目的實施後 曝光-熱處理,藉由以酸催化劑之酸解進一步活化曝光區域 ,以包含在光敏性聚合物之酯或酸酐解酸成羧基。 然後,使用適當顯影溶液實施顯影以完成光阻劑圖案 。在此,所使用的顯影溶液是一般顯影方法中的顯影溶液 ,例如,2·38重量%的氫氧化四甲銨(TmAH)。在溶解抑制 劑基鍵結至構成光阻劑層之光敏性聚合物的主鏈之情形中 17 丁 ^1 ·ϋ ΛΚΜβ ·ϋ ϋ ·ϋ β— ^1 ^1 emmt 1« l·— a·-— ammmf J ,I I emmf tmem I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4 ^"(21〇 χ的7公釐) 1269801
五、發明說明() 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ,因爲未曝光區域中的光阻劑層不易溶解在顯影溶液中, 不像傳統技藝,未曝光區域中的光阻劑層的厚度不會被減 少。 在形成光阻劑圖案之後,蝕刻製圖標的層以形成需要 的圖案。本發明的光阻劑圖案由光阻劑層形成,該光阻劑 層包括具有環主鏈和<:8到Cu η級脂環族烴側接於主鏈之 光敏性聚合物,且因此其抗蝕刻性是大的。 因此,可形成具有好外形之圖案,亦即,貞有精確標 準尺寸。 本發明現將參考下列實施例更詳細地描述且不應被解 釋爲對本發明之限制。 單體 實施例-U_金剛烷棊-1-甲棊原冰片嫌-2-羧酸酯的 將300毫升的THF放置_底燒瓶中和然後使用冰_鹽 浴冷卻到-24°C,然後將66.10克(1莫耳)之藉由簡單蒸觀 衍生自一^環戊—^嫌的環戊—^燦加入其中。接著,慢慢地加 入248·36克(1莫耳)之1-金剛烷基+甲基乙基丙烯酸酯以 在-24°c反應大約4個小時。然後,反應物的溫度慢慢地升 到室溫以反應大約24小時及使用真空蒸餾分離反應物產物 (產率:85%)。 實施例: 甲基原冰上[碁-^原冰片嫌-2-雜_醋的合成 18 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁)
Γ I μ· Γ iBM .一、 ϋ .1·· I A7 1269801 ______B7____ 五、發明說明(\/丨) 在與實施例1相同的方式中獲得反應物產物,除了使 用236_35克(1莫耳)之2·甲基-2-原冰片基丙烯酸酯代替1-金剛烷基-1-甲基乙基丙烯酸酯以外(產率:88%)。 實施例3 : 8_7,華_8_三環「5·2·1·〇2,β1癸某_5_原冰片烯_2_羧 酸酯的合成 在與實施例1相同的方式中獲得反應物產物,除了使 用234.33克(1莫耳)之8-乙基三環[5·2·1·〇2,6]癸基丙烯 酸酯代替1_金剛烷基_1_甲基乙基丙烯酸酯以外(產率:% %)。 實施例4 : 2.4-二镡某-3,3-二甲某丁酸內酯某-5-原冰片烯· 2-羚酸酯的合成 130.14克(1莫耳)之2,4-二羥基-3,3-二甲基丁內酯放置 在圓底燒瓶且溶解在無水二氯甲烷中,及將三乙胺加至所 得混合物中。其後,使用滴液漏斗將90·50克的丙烯醯氯 慢慢地滴至反應混合物中。使用薄膜色層分析法識別反應 的完成,然後使用過濾器過濾所產生之鹽。接著,移除作 爲溶劑之二氯甲烷,及使用乙醚萃取其餘反應物。在低壓 下移除乙醚,然後將開始的產物溶解在THF中,然後將 66克環戊二烯加至其中,然後反應大約24小時。使用薄 膜色層分析法鑑定丙烯酸酯完全被除去’則反應完成。使 用旋轉蒸發器移除THF溶劑’然後使用真空蒸餾分離反應 物產物(產率:95%)。 19 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱1 --— — — — — —--! ---訂!--· (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7 五、發明說明(θ) 實施例5 :合成2(3),4二羥基丁酸-內酯某-5-原冰片烯-2-羧 酸酯 在與實施例4相同之方式中進行反應,除了使用 120.09克(1毫莫耳)之2(3),4二羥基-丁內酯代替130.14克 (1毫莫耳)的2,4二羥基-3,3-二甲基丁酸內酯之外,分離反 應物產物(產率:97%)。 聚合物的合成 實方拒仿[1 θ :聚(1 _金岡[f太完基_ 1 -甲基乙基誦5-原冰片嫌一2靡竣酉愛 醋-順-丁烯二酸酐) 將10.8克在實施例1製得之1-金剛烷基-1-甲基乙基-5-原冰片烯-2-羧酸酯,和3.37克的順-丁烯二酸酐溶解在 7.1克的THF中。將0.112克的AIBN加至所得產物中,除 氣且在大約65°C之溫度聚合大約24小時。 聚合作用完全之後,將反應物質沈澱在3 : 1比例之 己烷和異丙基醇的混合溶液中,和再一次將沈澱物溶解在 THF中。然後,將所得產物沈澱在過量約10倍之於8 : 1 比例之正己烷和二乙醚的混合溶液中再沈澱二次。使用玻 璃過濾器過濾沈澱物,然後在維持在大約5(TC之真空烤箱 乾燥大約24小時以分離聚合物(產率:32%)。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 4,400 和 1.5〇 20 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) —————身 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------4^· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7__ 五、發明說明(P) (請先閱讀背面之注音S事項再填寫本頁) 實施例9 :聚(1-金剛烷某-1-甲某乙某-5-原冰片烯-2-羧酸 酯-順-丁烯二酸酐-3-羥某三環丨6.2.1.02,Ί-9-+—碳烯) 將5.3克1-金剛烷基-1-甲基乙基-5-原冰片烯-2-羧酸 酯,2.47克的順-丁烯二酸酐和1.38克之3-羥基三環 [6·2·1·02’7]-9-十一碳烯溶解在4.6克的乙基乙酸酯中。將 0.084克的ΑΙΒΝ加至所得產物中,除氣和在大約65°C之 溫度聚合大約24小時。 之後,在與實施例6相同之方式中進行相同步驟以分 離聚合物(產率30%)。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 5,000 和 1.32。 實施例10 :聚(2_甲某_2_原冰片某-5-原冰片烯-2-羧酸酯-順 -丁烯二酸酐-順-丁燏二酸酐-3-羥某三環『6.2.1.02,Ί-9Η- — 碳嫌) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在與實施例9相同之方式中進行聚合作用以分離聚合 物’除了使用8.21克2_甲基-2-原冰片基_5·原冰片嫌-2-竣 酸酯,4.9克的順-丁烯二酸酐和2.74克之3-羥基三環 [6·2·1·〇2’7]-9-^^ — 碳烯之外(產率:25%)。 所得聚合物之重量平均分子量和多分散性分別爲 5,700 和 1.72 〇 實施例11 ··聚(^8-7」某_8_三環丁5.2.1.02’6)癸某-5-原冰片烯- 22 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269謝 a7 五、發明說明(4) 2-羧酸酯-順-丁烯二酴酐_2·4二羥基-3,3-U基丁酸內酯基 暗冰片烯_2_羧酸酯1 將6克的在實施例3製得之8-乙基-8-三環[5·2·1·02,1] 癸基-5-原冰片烯-2-羧酸酯,2·45克的順-丁烯二酸酐,1· 26克的在實施例5製得之2,4二羥基-3,3-二甲基丁酸內酯 基-5-原冰片烯-2-羧酸酯溶解在2.45的克無水乙基乙酸酯 中。將0.410克的ΑΙΒΝ加至所得產物中,除氣且在大約 65°C之溫度聚合大約24小時。反應物產物沈澱在500毫升 之異丙醇中,然後過濾。然後,將沈澱溶解在THF中,然 後於500毫升之異丙醇中再沈澱二次以上。使用玻璃過濾 器過濾沈澱,然後在50°C真空烤箱乾燥大約24小時以分 離聚合物(產率:65%)。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 11,000 和 1.93 ° 實施例I2 :聚甲某-2-全剛烷某皮想翔酸酯-順 i_i -ϋ ϋ ί ϋ ^1 ϋ ϋ ^1 ^1 ^1 1 ^1 J 丨、 I MB - (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 1 在與實施例11相同之方式中進行聚合作用’除了使 1269801 Α7 Β7 五、發明說明(y^) 眚施例13 :聚(2-乙某-2-金剛烷基-5-原冰片烯-2:羧酸酯-順 -丁烯二酸酐-2,4二羥基-3,3-二甲基丁酸內酯基_5_-原冰片烯 -2-羧酸酯) 在與實施例11相同之方式中進行聚合作用,除了使 用2-乙基-2-金剛烷基-5-原冰片烯-2-羧酸酯代替8_乙基-8-三環[5·2·1.02,6]癸基-5-原冰片烯-2-羧酸酯以分離聚合物之 外(產率:68%)。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 15,000 和 2.1 〇 實施例14 :聚(8-人某-8·三環「5.2.1.02’6l癸某-5-原冰片烯-2羧酸酯-順_丁烯二酸酐-2Π),4二羥某丁酸內酯基-5-原冰 片烯-2-羧酸酯) 在與實施例11相同之方式中進行聚合作用,除了使 用在實施例5製得之1.21克2(3),4二羥基丁酸-內酯基-5-原冰片烯羧酸酯代替2,4二羥基-3,3-二甲基丁酸內酯基_ 5_原冰片烯_2-羧酸酯以分離聚合物之外。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 11,300 和 1·97 〇 宣施例I5丄聚(2_乙某金刷丨烷某原冰片輝_2·羧酸酯-順 iJ烯二殘酸酐·2(3),4二镡某丁酸內酯某·5_原片烯-2·羧 酸酯) 24 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7 五、發明說明(4) 在與實施例14相同之方式中進行聚合作用,除了使 用2-乙基-2-金剛院基-5-原冰片嫌-2-竣酸醋代替8-乙基-8_ 三環[5·2·1·〇2,6]癸基-5-原冰片烯-2-羧酸酯以分離聚合物之 外(產率:68%)。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 13,000 和 1.96。 實施例16 :聚((1-金剛烷基-1-甲基乙基)_5_原冰片烯-2-羧 酸酯-順-丁烯二酸酐-順式-5·原冰片烯·內向-2.3-一餘醅两不、 將5.3克的在實施例1製得之(1-金剛烷基_1_甲基乙基 )-5-原冰片烯-2-羧酸酯,2.47克的順-丁烯二酸酐和L38克 的順式-5-原冰片烯-內向-2,3-二羧酸酐溶解4.6克的在乙酸 乙酯中。將0.084克的AIBN加至反應物產物中,然後在 與實施例6相同的方式中進行聚合作用以分離聚合物(產率 :30%) 〇 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 13,000 和 L64。 實施例17 :聚(2-甲基_2_原冰片某-5_原冰片烯-2-餘丨丨丨百 -丁烯二酸酐-順式-5-原冰片烯-內向-2.3-二羧酪再干、 將8.21克的在實施例2製得之(2-甲基-2-原冰片基)_5_ 原冰片烯-2-羧酸酯,4.90克的順-丁烯二酸酐和2·74克的 順式-5-原冰片烯-內向-2,3-二羧酸酐溶解4·6克的在乙酸乙 酯中。將0.084克的ΑΙΒΝ加至反應物產物中,然後在與 25 iiii.i (請先閱讀背面之注音3事項再填寫本頁) 1T--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
Ms - 、
1/ 0 N V 干 I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 __B7 五、發明說明(j) 實施例6相同的方式中進行聚合作用以分離聚合物(產率: 30%) ° 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 12,000 和 1.72 實施ill :聚(8_匕基-8-三_還|~5.2丄〇2,61癸某_5_原冰片嫌_ 心羧_旨_順丁烯二酸基三環『6.2丄02,71_9_+ —碳蛘 羧酸酯) 將80毫莫耳的在實施例3得之8_乙基_8_三環 [5·2·1·02,6]癸基-5-原冰片嫌-2-竣酸酯,1〇〇毫莫耳的順_丁 嫌一酸酐’ 15晕臭耳的3-淫基三環[6·2·1·〇2,7]·9_-|*—^碳嫌 和5毫莫耳的5-原冰片烯-2-羧酸溶解在〇·5當量無水乙酸 乙酯中。將ΑΙΒΝ(1莫耳%)加至反應物產物中,且使用氮 氣沖洗大約2個小時,然後在大約65它溫度聚合大約24 小時。 然後在與實施例7相同的方式中分離6.7克的聚合物( 產率:3 0 % )。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 11,500 和 1·7 〇 亶三璟「5.2丄02,61癸某·5_原冰片烯-2:瘦酸酯•羥某三環[6·2·ι·ο2,7ι_9_+—磓輝 ildiZL基-5-原冰片烯-2-羧酸) 在與實施例18相同方式中進行聚合作用和分離,使 26 本紙張尺度刺㈣^iy^s)A4規^1〇 x 297公釐 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
I 1T---------· I2698〇i 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _E_____ 1 '發明說明(〆) 用8〇毫莫耳的在實施例3製得之8-乙基_8·三環[5.2丄02,6] 癸基-5-原冰片烯-2-羧酸酯,100毫莫耳的順_丁烯二酸酐, 10毫莫耳3-羥基三環[6·2·1·02,7]-9-十一碳烯和1〇毫莫耳 的2_趨乙基_5_原冰片稀羧酸酯,分離7.24克的聚合物 〇 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 12,30〇 和 1·65。 實舰例20 :聚(8-乙某-8·三環『5·2·1·〇2;^癸某_5_原汰片慊_
IzM酯-順-丁烯二酸酐-3-經基三環『6·υ·〇2,7·μ9_+一嘏烯 -丙烯酸) 將80毫莫耳的在實施例3製得之8_乙基-8-三環 [5·2·1·02’6]癸基_5_原冰片烯_2_羧酸酯 ,100毫莫耳的順-丁烯二酸酐,15毫莫耳的3-經基三 環[6·2·1·02’7]-9-十一碳嫌和5毫莫耳的丙儲酸溶解在〇·5當 量之無水乙酸乙酯中。然後,在與實施例相同方式中進 行聚合作用和分離以分離4.56克的聚合物。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 12,500 和 1.7。 實施例_21 :聚(8_乙基_8_三環『5.2.l·02,6l挙甚_s_唔冰片輝_ 2-羧酸酯-順-丁烯二酶酐3_某三環γ·?.1·02,71_9_+—碑j|:希 羥乙基丙烯酸酷、 在與實施例18相同方式中進行聚合作用和分離,使 27 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) liijr---------#.
Ι2698〇ι 五、發明說明() 用75毫莫耳的在實施例3製得之8-乙基-8-三環[5.2.1.02,6] 癸基_5_原冰片烯_2_羧酸酯,1〇〇毫莫耳的順-丁烯二酸酐, 15毫莫耳3-羥基三環[6·2·1·02,7]-9_十一碳烯和1〇毫莫耳 的2_羥乙基丙烯酸酯,分離5.74克的聚合物。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 13,2〇〇 和 1.65。 亶施避:聚(8-乙某·8·三環『5.2.1.02,61举甚-5-腹冰片烯- ΙΑΜΙ^ίΙ-丁烯二酸酐-順式-5-原冰片烯·內向ϋ二羧酸 酐-5-原冰片烯-2-羧酸) 在與實施例18相同方式中進行聚合作用和分離,使 用80毫莫耳的在實施例3製得之8-乙基-8-三環[5.2.1.02,6] 癸基_5_原冰片烯-2-羧酸酯,100毫莫耳的順-丁烯二酸酐, 15毫莫耳順式-5-原冰片烯-內向-2,3-二羧酸酐和5毫莫耳 的5-原冰片烯-2-羧酸,分離6.7克的聚合物。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 11,500 和 1,7 〇 實施例23 :聚(8-乙某-8-三環『5.2.1.02,βl挙某-5-原冰片烯 2-羧酸酯_順_丁烯二酸酐-順式-5-原冰片烯-內向-2,3-二羧西 酐-2-羥乙某-5-原冰片烯-2-羧酸酯) 在與實施例18相同方式中進行聚合作用和分離,使 用80毫莫耳的在實施例3製得之8-乙基-8-三環[5·2·1.〇2,6] 癸基-5-原冰片烯-2-羧酸酯,100毫莫耳的順-丁烯二酸酐, 28 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) amt ϋ ϋ ϋ an ha emamm i__— emmmm _1 ·ϋ I (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發翌笠明(”) 1〇笔吴忌順式_5_原冰片稀-內向_2,3-二竣酸酐和丨〇毫莫耳 的2-趣乙基原冰片嫌_2_竣酸酯,分離7.24克的聚合物 〇 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 12,30(^tn.65。 實魅避Unj_(8-乙棊三環癸某_5_原冰片烯一 2-·毯酸醍::順-丁嫌二酸酐-順式-5-¾^应嫌-內向_2·3_二錢酸 酐-丙烯酸1 將80毫莫耳的8-乙基-8-三環[5.2.1.02,6]癸基-5-原冰 片烯-2-羧酸酯,1〇〇毫莫耳的順-丁烯二酸酐,15毫莫耳 的順式-5-原冰片烯-內向-2,3-二羧酸酐和5毫莫耳的丙烯 酸溶解在1當量之乙酸乙酯中,在與實施例18相同方式中 進行聚合作用和分離,分離4.56克的聚合物。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 12,500 和 1.7。 實施例25 :聚⑺·乙某-8-三舉丨5.2·1·〇2’61癸基-5-原冰片盤^ 2-羧麵旨-順-Τ嫌二酪酐-順忒-5 -原 酐-2-羥乙某-5-原冰片後羧酸酯) 在與實施例18相同方式中進行聚合作用和分離’使 用75毫莫耳的在實施例3製得之8-乙基-8-三環[5.2·1·〇2’6] 癸基-5-原冰片烯_2_羧酸酯,1〇〇毫莫耳的順-丁烯二酸酐’ 15毫莫耳順式-5-原冰片烯-內向-2,3-二羧酸酐和1〇毫莫耳 29 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------.—訂--------- (請先閱讀背面之注音3事項再填寫本頁) 1269801 Α7 Β7 五、發明說明(4) 的2-羥乙基丙烯酸酯,分離5.74克的聚合物。 所得聚合物的重量平均分子量和多分散性分別爲 13,200 和 1.65。 製備光阻劑組成物之方法和使用其夕微影成像法 實施例26 將1.0克在實施例5中製得之共聚物,其藉由聚合1-金剛烷基-1-甲基乙基-5-原冰片烯-2-羧酸酯和順-丁烯二酸 酐於1 : 1比例,〇·〇2克當做光酸產生劑的三苯銃三氟甲烷 磺酸鹽和2毫克當作有機鹼的三異丁基胺溶解在6.0克的 丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)中製得。然後,使用0.2微 米過濾器過濾混合物,產生光阻劑組成物。抗反射層塗佈 在晶圓上,其中圖案標的物質已形成,然後將已取得的光 阻劑組成物旋轉塗佈至大約0.3奈米之厚度。 塗佈光阻劑組成物之晶圓在大約13〇t之溫度烘烤大 約90秒,使用界定預定圖案之光覃和ArF準分子雷射(NA :0.6)作爲曝光光源曝光,和在大約130°C溫度後烘烤大約 90秒。其後,所得產物使用2.38重量%TMAH顯影大約 60秒,藉此形成光阻劑圖案。 結果,在大約3.5毫焦耳/公分2之曝光劑量獲得 0.15微米線和空間光阻劑圖案。 奮施例ϋ 在與實施例26相同方式中製備光阻劑組成物’除了 30 "5^張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公ίΐ 一 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -—**----訂---------· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明(>/) 使用0·01克的三苯錡三氟甲烷磺酸鹽和0·01克的原冰片 烯-二羧基亞胺三氟甲烷磺酸鹽當做光酸產生劑以外,然後 在與實施例26相同的方式中進行微影成像法。 結果’在12毫焦耳/公分2之曝光劑量獲得大約〇.15 微米線和空間光阻劑圖案。 實施例Μ 在與實施例26相同方式中製備光阻劑組成物,使用 1.0克的藉由聚合於1 : 1比例之8-乙基_8_三環[5·2·1·02,6] 癸基-5-原冰片烯-2-羧酸酯和順-丁烯二酸酐之共聚物,在 實施例8製備之共聚物,然後在與實施例26相同的方式中 進行微影成像法。 結果’在5毫焦耳/公分2之曝光劑量獲得大約0.15 微米線和空間光阻劑圖案。 實施例 在與實施例26相同方式中製備光阻劑組成物,使用 1.0克的聚(1-金剛烷基-1-甲基乙基-5-原冰片烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸酐-3-羥基三環[6·2·1·02,7]-9_·]—碳烯),製備 於實施例9中,然後在與實施例%相同的方式中進行微影 成像法。 結果,在3.5毫焦耳/公分2之曝光劑量獲得大約 〇·16微米線和空間光阻劑圖案。 31 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 X 297公釐) ^---------Κ----訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1269801 A7 B7 五、發明說明(3°) 實施例30 (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 在與實施例26相同方式中製備光阻劑組成物,使用 1.0克的聚(8·乙基-8_三環[5.2.1.02,6]癸基-5-原冰片烯-2-羧 酸酯-順-丁烯二酸酐_2,4二羥基-3,3-二甲基丁酸內酯基-5-原冰片烯-2-羧酸酯),製備於實施例11中,0.02克當做光 酸產生劑之三苯銃三氟甲烷磺酸鹽及2毫克當做有機鹼的 三異丁胺溶解在8克PGMEA中,然後在與實施例26相同 的方式中進行微影成像法。 結果,在約17毫焦耳/公分2之曝光劑量獲得大約 0.13微米線和空間光阻劑圖案。 實施例31 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在與實施例26相同方式中製備光阻劑組成物’使用 1.0克的聚(2-甲基-2-金剛烷基-5-原冰片烯-2-羧酸酯-順-丁 烯二酸酐-2,4二羥基-3,3-二甲基丁酸內酯基-5-原冰片嫌_2-羧酸酯,製備於實施例12中,0.02克當做光酸產生劑之三 苯銃三氟甲烷磺酸鹽及2毫克當做有機鹼的三乙醇胺溶角军 在8克PGMEA中,然後在與實施例26相同的方式中實施 微影成像法。 結果,在約18毫焦耳/公分2之曝光劑量獲得大約 0.13微米線和空間光阻劑圖案。 實施例32 在與實施例26相同方式中製備光阻劑組成物’使$ 32 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1269801 A7 B7 五、發明說明(>7 I ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1.0克的聚乙基-2-金剛烷基-5-原冰片烯-2-羧酸酯-順-丁 烯二酸酐-2,4二羥基-3,3-二甲基丁酸內酯基_5_原冰片烯-2-羧酸酯),製備於實施例13中,0·02克當做光酸產生劑之 三苯銃三氟甲烷磺酸鹽及2毫克當做有機鹼的三異丁胺溶 解在8克PGMEA中,然後在與實施例26相同的方式中實 施微影成像法。 結果,在約23毫焦耳/公分2之曝光劑量獲得大約 0.13微米線和空間光阻劑圖案。 實施例33 在與實施例26相同方式中製備光阻劑組成物,使用 1.0克的聚(2-乙基-2-金剛烷基-5-原冰片烯-2-羧酸酯-2-順_ 丁烯二酸酐_2(3),4二羥基丁酸內酯基-5-原冰片烯-2-羧酸酯 ),製備於實施例15中,0.01克當做光酸產生劑之三苯銃 三氟甲烷磺酸鹽和〇,.〇2克三異癸胺及2毫克當做有機鹼 的三乙醇胺溶解在8克PGMEA中,然後,然後在與實施 例26相同的方式中實施微影成像法。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 結果,在約31毫焦耳/公分2之曝光劑量獲得大約 0.13微米線和空間光阻劑圖案。 眚施例Μ 在與實施例26相同方式中製備光阻劑組成物,使用 1.0克的聚(1-金剛烷基-1-甲基乙基)-5_原冰片烯羧酸醋-順-丁烯二酸酐順式原冰片烯-內向_2,3_二羧酸酐),製備 33 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1269801 A7 B7 五、發明說明(〆) 於實施例16中,0·〇2克當做光酸產生劑之三苯銃三氟甲烷 磺酸鹽及1毫克當做有機鹼的三異丁胺溶解在6克 PGMEA中,然後實施微影成像法。 結果,在約6毫焦耳/公分2之曝光劑量獲得大約 0.18微米線和空間光阻劑圖案。 抗乾式蝕刻性之測量 實施例35 將1.0克在實施例6到11和16到23中製備的光敏性 聚合物溶解在6克的PGMEA中,然後所得產物塗佈在矽 晶圓上。經塗佈光敏性聚合物之晶圓在大約130°C溫度預 烘烤大約90秒,然後測量聚合物層的厚度。接著,使用 Rainbow 4500進行反應性離子蝕刻(RIE)法,Rainbow 4500 是一種得自Lam公司之IRE設備。RIE法係與700W之功 率P//和在0.15托的壓力下實施,當供應CF4和CHF3氣 體時,每個蝕刻於10 sccm之流速。蝕刻法完成之後,測 量殘餘聚合物層的厚度以推衍其蝕刻速率。 爲了達到抗蝕刻性的可比較標準,在如上述相同方式 中測量SEPR430S的蝕刻速率,其是爲ShinEtsu公司製造 的深UV(240奈米到370奈米)的光敏性聚合物。亦即,在 上述相同方式中測量聚(甲基金剛烷基丙酸酯-環戊基酸酯 丙烯酸酯)和聚(三級-丁基原冰片烯羧酸酯-順丁烯二酸酐) 的飩刻率,其爲使用ArF準分子雷射之傳統光敏性聚合物 ,當做參考族組,和結果列在表2中。 34 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) •- -·ϋ k— ·ϋ ·ϋ ϋ 一 δ,a n ϋ ϋ 1 I .^1 I . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1269801 A7 B7 五、發明說明04) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表2 光敏性聚合物 蝕刻速 率(Α / 分鐘) 以 SEPR430S 的蝕刻速率爲 基準之正規化 蝕刻速率 標準 SEPR430S 388 1 參考組 (甲基金剛烷基丙烯酸酯-環戊酸酯丙烯酸酯) 497 1.28 聚(三級-丁基原冰片烯羧 酸酯-順-丁烯二酸酐) 537 1.38 實施例組 聚(1-金剛烷基-1-甲基乙 基-5-原冰片烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸酐) 422 1.09 聚(2-甲基-2-原冰片基-5- 原冰片烯-2-羧酸酯-順-丁 烯二酸酐) 431 1.11 聚(8-乙基-8-三環 [5·2·1·02,6]癸基-5-原冰片 烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸 酐) 428 1.10 聚(1-金剛烷基-1-甲基乙 基-5-原冰片烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸酐-3-羥基三 環[6.2·1·02,7]-9-十一碳烯) 424 1.09 35 (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) i tr--------- 迥 度 尺 張 紙 本 « 公 97 2 X 10 2 /V 格 規 A4 S)A N (C ί 標 豕 國 國 1269801
I A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、 發明說明(>7屮) 聚(2-甲基-2-原冰片基-5-原冰片烯-2-羧酸酯-順-丁 嫌二酸酐_3_經基三環 [6.2.1.02,7]-9-i^ — 碳烯) 432 1.11 聚(8-乙基-8-三環 5 ·2· 1 ·02’6]癸基-5,原冰片 稀-2-羧酸酯-順-丁烯二酸 酐-2,4-二羥基-3,3-二甲基 丁酸內醋基-5 -原冰片嫌-2-羧酸酯) 433 1.12 聚(1-金剛烷基-1-甲基乙 基-5-原冰片嫌-2-竣酸醋_ 順丁烯二酸酐-順式-5-原 冰片烯-內向-2,3-二羧酸 酐) 435 1.12 聚(8-乙基_8_三環[5.2.1.02 ’ 6]癸基-)5•原冰片儲-2- 羧酸酯-順-丁烯二酸酐-順 式-5-原冰片稀-內向-2,3-二羧酸酐) 432 1.11 聚(2-甲基-2-原冰片基_5_ 原冰片烯-2-羧酸酯-順-丁 烯二酸酐-順式-5-原冰片 烯-內向-2,3-二羧酸酐) 36 437 1.13 tT---------. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1269801 A7 B7 五、發明說明(3 <) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 聚(8-乙基-8-三環 [5.2.1.02,6]癸基-5-原冰片 烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸 酐-3-羥基三環[6.2.1.02,7]-9-十一^碳嫌-5-原冰片嫌-2-羧酸) 421 1.08 聚(8-乙基-8-三環 [5.2.1.02>]癸基-5-原冰片 烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸 酐-3-羥基三環[6.2.1.02’7]-9-十一^碳嫌-2-經基乙基-5-原冰片烯-2-羧酸酯) 429 1.08 聚(8-乙基-8-三環 [5.2.1.02’6]癸基-5-原冰片 烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸 酐-3-羥基三環[6.2.1.02,7]- 9-十一碳烯-2-丙烯酸) 435 1.12 聚(8-乙基-8-三環 [5.2.1.02,6]癸基-5-原冰片 烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸 酐-3-羥基三環[6_2·1·02,7]- 9-十一碳烯-2-羥乙基-丙 烯酸酯) 437 1.13 37 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 1269801 ___B7 五、發明說明(^心) 聚(8_乙基-8·三環 [5.2.1.02,6]癸基-5-原冰片 烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸 酐-順式-5-原冰片烯-內向-2,3-二羧酸酐-5-原冰片烯-2-羧酸) 458 1.18 聚(8-乙基-8-三環 [5.2.1.02,6]癸基-5-原冰片 烯-2-羧酸酯-順-丁烯二酸 酐-順式-5-原冰片烯-內向-2,3-二羧酸酐-2-羥乙基-5-原冰片烯-2-羧酸酯) 462 1.19 聚合物的鈾刻速率接近1暗示其抗蝕刻性與深UV傳 統光敏性聚合物的抗蝕刻性相同。 而傳統光敏性聚合物的飩刻速率是1.28和1.38,根據 本發明之光敏性聚合物的蝕刻速率小於或等於1.13,其表 示與使用ArF準分子雷射的傳統光敏性聚合物比較,根據 本發明之光敏性聚合物具有優良的抗蝕刻性。 根據本發明,因爲光敏性聚合物的主鏈爲環狀和C6到 C20三級脂環族烴基鍵結至聚合物主鏈,含其之光阻劑組成 物的抗蝕刻性同樣是大的。亦即,如果二級環醇基鍵結至 合物的主鏈,抗蝕刻性進一步增加且對比是優良的。此外 ,黏著至下層材料是優良的。在溶解抑制劑基鍵合至聚合 38 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -春 iii--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 1269801 _B7 五、發明說明(々1 ) 物的情形中,未曝光區域中的光阻劑層不易地溶解於顯影 溶液中。如果酸不穩定的龐大基鍵結至聚合物,光阻劑組 成物在曝光區域和不曝光區域之間的極性具有極大差異, 且因此對比被進一步增加。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 9 3 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

1269801 I 年月, D8 六、申請專利範圍 1. 一種光敏性聚合物,包括: (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 第一單體,其爲具有酸不穩定的〇8到c12三級脂環族 烴基當做取代基之脂環族烴羧酸酯,其中脂環族烴羧酸酯 是原冰片烯羧酸酯;和 可自由基聚合的第二單體,其中第二單體是順-丁烯二 酸酐。 2. 根據申請專利範圍第1項之光敏性聚合物,其中C8 到C2G三級脂環族烴基是2-甲基-2-原冰片基,2-甲基-2_異 冰片基,8-乙基-8-三環[5.2.1.02,6]癸基,2-甲基-2-金剛烷 基,2-乙基_2·金剛烷基或1·金剛烷基-1-甲基乙基。 3. —種光敏性聚合物,包括:; 第一單體,其爲具有酸不穩定的〇8到C12三級脂環族 烴基當做取代基之脂環族烴羧酸酯,其中脂環族烴羧酸酯 是原冰片烯羧酸酯; 可自由基聚合的第二單體,其中第二單體是順-丁烯二 酸酐;和 第三單體,具有二級環醇化合鍵結至其主鏈。 4. 根據申請專利範圍第3項之光敏性聚合物,其中C8 到C2G三級脂環族烴基是2-甲基-2-原冰片基,2_甲基-2-異 冰片基,8-乙基-8_三環[5.2.1.02’6]癸基,2-甲基-2-金剛烷 基,2-乙基-2-金剛烷基或1-金剛烷基-1-甲基乙基。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1269801 韻 C8 D8 六、申請專利範圍 (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 5. 根據申請專利範圍第3項之光敏性聚合物,其中二 級環醇是二級多環醇。 6. —種光敏性聚合物,包括: 第一單體,其爲具有酸不穩定的〇8到C12三級脂環族 烴基當做取代基之脂環族烴羧酸酯,其中脂環族烴羧酸酯 是原冰片烯羧酸酯; .可自由基聚合的第二單體,其中第二單體是順-丁烯二 酸酐;和 第三單體,其選自包括(甲基)丙烯酸,具有G到C12 脂族醇當做取代基的(甲基)丙烯酸酯,具有酸不穩定基當 做取代基的(甲基)丙烯酸酯,和具有溶解抑制劑基當做取 代基之(甲基)丙烯酸酯。 7·根據申請專利範圍第6項之光敏性聚合物,其中C8 到C2〇三級脂環族烴基是2-甲基-2-原冰片基,2-甲基-2-異 冰片基,8-乙基-8-三環[5.2.1.02,6]癸基,2-甲基-2-金剛烷 基,2-乙基-2-金剛烷基或1-金剛烷基-1-甲基乙基。 8.根據申請專利範圍第6項之光敏性聚合物,側接至( 甲基)丙烯酸酯之Q至C12脂族醇是2-羥乙基;其中側接 至(甲基)丙烯酸酯之酸不穩定基是三級-丁基或0:6到C20三 級的脂環族烴;和其中側接至(甲基)丙烯酸酯之溶解抑制 2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) § 1269801 ____«·""*---------- 六、申請專利範圍 劑基是甲基或〇7到c2◦脂族烴。 i —鬌 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一單轉利麵第6項之频_合物,宜中第 ;二::有Ci到Ci2脂族醇當做取代基之(甲細烯酸 =或具有___細_编如基臟酸)醋的單 10·一種光敏性聚合物,包括: 一第—單體,其爲具有酸不穩定的Cs到C12三級 烴基當做取代基之脂環族烴竣酸酯,宜 、 U日嫌[織目日_中脂職烴竣酸酯 是原冰片烯羧酸酯; 第一單體,其中第二單體是順·丁稀二 可自由基; 酸酐;和 ^自包括原冰片稀,原冰佐燦•醇,具有Cl至^ Ci2脂 族醇當做取代基_冰㈣,歸”_, 殘酸酐’驗C:l5fj ^12脂讎當_代_祕片職酸 酯,具有內酯基_冰片雜_,_酸不穩定基當做 取代基_冰片懸酸_肺__隱當做 的原冰片烯羧酸酯之第三單體。 A 11.根據申請專利範圍第10項之光敏性聚合物,宜中 那C8到C2G三級脂職烴基是2_甲基1原冰片基,2_甲其 -2-異冰片基,8_乙基_8_三環[mo、癸基,2_甲基_2_ = 剛烷基,2_乙基-2-金剛烷基或1-金剛烷基_丨_甲基乙基。' ‘紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A8B8C8D8 1269801 六、申請專利範圍 !2·根據申請專利範圍第10項之光敏性聚合物,其中 側接至原冰片烯之^至C12脂族醇是2_羥甲基;其中側接 至原冰片烯羧酸酯之(^至C12脂族醇是2_翔乙基;其中側 接至原冰片烯羧酸酯之內酯基是2,4二羥基-3,3_二甲基丁 內酯或2(3),4二羥基丁內酯;其中側接至原冰片烯羧酸酉旨 之酸不穩定基是三級-丁基或四氫呢喃基或卜院氧基乙基; 和其中側接至原冰片烯羧酸酯之溶解抑制劑基是甲基。 I3·根據申請專利範圍第10項之光敏性聚合物,其中 第三單體是原冰片烯二羧酸酐或具有內酯基當做取代基的 原冰片烯羧酸酯之單體。 14.根據申請專利範圍第13項之光敏性聚合物,其中 內酯基是2,4二羥基-3,3-二甲基丁內酯或2(3),4二羥基丁 內酯。 15·—種光敏性聚合物,包括·· 第一單體,其爲具有酸不穩定的(:8到Cl2三級脂環族 烴基當做取代基之脂環族烴羧酸酯,其中脂環族烴羧酸酯 是原冰片稀竣酸酯; 可自由基聚合的第二單體,其中第二單體是順-丁烯二 酸酐;和 二種或以上的選自包括第三單體,第四單體和第五單 4 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) Γ請先閱讀背面之注意事项'再填寫本頁) 訂 1269801 as ____g_ 六、申請專利範圍 •體之單體, 其中弟二單體是一種具有二級環醇基鍵結至主鏈之單 體; 其中第四單體是選自包括(甲基)丙烯酸,具有q到 Cl2脂族醇當做取代基的(甲基)丙烯酸酯,具有酸不穩定基 當做取代基的(甲基)丙烯酸酯,和具有溶解抑制劑基當做 取代基的(甲基)丙烯酸酯的單體;和 其中第五單體是一種選自包括原冰片烯,原冰片烯-醇 ,具有q到Cu脂族醇當做取代基的原冰片烯,原冰片稀 羧酸,原冰片烯二羧酸酐,具有C1到Cn脂族醇當做取代 基的原冰片烯羧酸酯,具有內酯基當做取代基的原冰片烯 竣酸酯,具有酸不穩定基當做取代基的原冰片烯羧酸酷和 具有溶解抑制劑基當做取代基的原冰片嫌竣酸酯之單體。 16·根據申請專利範圍第is項之光敏性聚合物,其中 弟一^阜體疋一^級多运醇,其中側接至(甲基)丙烯酸醋之^ ^ 至C!2脂族醇是2-羥乙基;其中(甲基)丙烯酸側接醋之酸 不穩基是三級-丁基或C6到C2〇三級脂環族烴;其中側接至 (甲基)丙烯酸酯之溶解抑制劑基是甲基或a到脂族火莖 ;其中側接至原冰片烯的Ci-Cu脂族醇是經甲基;其中側 接至原冰片烯羧酸酯之心至C1Z脂族醇是2_經乙基/其中 側接至原冰片烯羧酸酯之內酯基是2,4二經基_3,3_二^_ 丁內酯或2(3),4二羥基丁內酯;其中側接至原冰片稀竣酉^ 酯之酸不穩定基是三級-丁基或四氫呢喃基或卜焼氧基乙^ 5 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
1269801 C8 D8 六、申請專利範圍 ;和其中側接至原冰片烯羧酸酯之溶解抑制劑基是甲基。 6 (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐〉
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