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TWI264345B - Chemical mechanical polishing pad dresser - Google Patents

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TWI264345B
TWI264345B TW094147166A TW94147166A TWI264345B TW I264345 B TWI264345 B TW I264345B TW 094147166 A TW094147166 A TW 094147166A TW 94147166 A TW94147166 A TW 94147166A TW I264345 B TWI264345 B TW I264345B
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TW
Taiwan
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resin
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superabrasive
metal
resin layer
Prior art date
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TW094147166A
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TW200626300A (en
Inventor
Chien-Min Sung
Original Assignee
Chien-Min Sung
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Application filed by Chien-Min Sung filed Critical Chien-Min Sung
Publication of TW200626300A publication Critical patent/TW200626300A/zh
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Publication of TWI264345B publication Critical patent/TWI264345B/zh

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    • B24B53/02Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces of plane surfaces on abrasive tools
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    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Description

1264345 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明大體系關於一種用於修整或者調節一化學機械 拋光(CMP)墊的裝置與方法。因此,本發明涉及化學與材 料科學領域。 【先前技術】 許多工業使用化學機械拋光(CMP )過程來拋光某些 工件。特別是電腦製造工業尤其倚重於CMP過程來拋光陶 瓷晶圓、矽晶圓、玻璃晶圓、石英晶圓及金屬晶圓。此等 拋光過程通常必須使該晶圓緊靠一個由諸如聚亞安酯的耐 用有機物質所製造的旋轉拋光墊。並使用一種化學研磨 液,該化學研磨液包含一種能分解該晶圓物質的化學製品 及疋數里之用於物理腐姓該晶圓表面的磨粒。該研磨液 不斷地被添加至該旋轉CMP拋光墊,則施加於該晶圓上的 化學與機械力的雙重作用致使以所要求的方式拋光。 對於達到拋光品質,重要的是在整個拋光墊上該等磨 粒的分佈情況。該拋光墊的頂部通過纖維或者小孔隙抓持 該等顆粒,其提供足夠大的摩擦力,以防止該等顆粒因該 拋光墊的回轉運動所施加的離心力而被甩離該拋光墊。因 此,使該拋光墊頂部盡可能保持柔軟、盡可能使該等纖維 保持直立、及確保有足夠可用於接收新設置之磨粒的開孔 是重要的。 然而,對於維持該拋光墊表面會産生一個問題,該問 題是來自m該研磨液及該修整器的拋光碎屑堆積。 1264345 此堆積會導致該拋光墊頂部“釉化”或硬化、使該等纖維 、應、’且因此使得該拋光塾表面不易抓持研磨液的磨粒。 這些影響顯著降低了該抛光墊的全面拋光性能。此外,對 於許多拋光墊,使其用於抓持研磨液的孔被堵塞,並使該 抛光塾之拋光表面的整體粗糙度降低且極爲不均。通過利 用 CMP修整器對該拋光墊表面進行“精梳,,與“裁 ^ 使其仔以恢復。此過程被稱爲“修整”或者“調整” 該CMP拋光墊。許多類型的裝置和過程已經被用於此目的。 。亥衣置的其中一例爲具有許多超硬結晶顆粒(諸如附著於 一個金屬基體表面的鑽石顆粒)的圓盤。 超大規模集成(ULSI )是一種在單一半導體晶圓上放 置至少1百萬個電路元件的技術。除已存在的密度極大的 問題外’隨著現在朝尺寸小型化方面發展,與以前相比較, ULSI在尺寸與材料兩方面已經變得更爲精致。因此,需要 CMP工業能提供適應這些進展的拋光材料與技術。舉例而 吕,必須使用更低的CMp拋光壓力,研磨液中的磨粒尺寸 更j及/、尺寸與性質不會過度拋光晶圓的拋光塾。此外, 必須使用降低該拋光墊中的粗糙度、能適應更小磨粒且不 過度修整該拋光墊的修整器。 提供前述該等修整器存在著大量問題。首先,該等超 級磨粒必須顯著小於那些典型地被用於當前已知修整操作 中的顆粒。—般而言,該等超級磨粒是如此小,以致:統 的金屬基體通常不適合於固定和保持它們。此外,★亥等超 級磨粒的尺寸更小意味著必須精確地將該顆粒頂端高度控 1264345 制在同一水平上,方能均句地修整該抛光塾,。傳統CMp 修整為此使磨粒頂端的高度變化大於5 〇 μπι而不會使修整 性能受到損害。然而,舉例而言,如果要求一修整器修整 一個CMP拋光塾且實現2〇 μπι或更小的均勻粗糖度深度, 那麼這樣的變化將使其變得無效。 除正確固定非常小的超級磨粒所存在的問題外,在加 熱過程中金屬有扭曲和起皺的傾向,導致在獲得一具有被 平整至一狹窄公差範圍内的超級磨粒頂端的CMP修整器時 φ 産生另外的問題。儘管諸如聚合樹脂之類的其他基底材料 已爲我們所知,此等材料一般不能保持超級磨粒到足以進 行CMP拋光塾修整的程度。 , 因此,適合於修整一滿足半導體尺寸不斷減小的CMp 工業要求的CMP拋光墊的CMP修整器仍是我們探索的目 ^標。 【發明内容】 因此’本發明提供適合於整飾用於如上所述的精密拋 春光應用的CMP拋光墊的CMP修整器和方法。一方面,這樣 的一種CMP修整器可包括一樹脂層和被固定在該樹脂層中 的超級磨粒。已發現通過在每一超級磨粒的至少一部分與 該樹脂層之間設置一金屬鍍層,該樹脂層中該超級磨粒的 附著力與沒有這樣一種金屬鍍層的超級磨粒相比得到提 高。該超級磨粒的一外露部分可至少部分地自該樹脂層突 出,且實質上可突出至一預定高度。該金屬鍍層實質上可 沿每一超級磨粒和树脂層的介面延伸,且該超級磨粒的該 1264345 > 突出部分實質上可在該金屬鍍層之外。此外,該金屬鍍層 可以化學鍵結至每一超級磨粒的至少一部分上,且該金屬 鍍層4順次以機械力結合至該樹脂層的至少一部分上。 本發明另外包括提高根據一預定方式被固定在一固化 樹脂層中的超級磨粒的附著力的方法。此等方法可包括在 每一超級磨粒的至少一部分與該樹脂層之間設置一金屬鍍 層,以便每一超級磨粒包括一至少部分地從該樹脂層中突 出的外露部分。該外露部分實質上可在該金屬鍍層之外。 參 該金屬鍛層可具有一個提供增加與該樹脂層以機械力结合 的表面。 本發明還包含製造一具有提高的磨粒附著力和此處所 - 述性能特徵的CMP修整器的方法。一方面,這樣_種方法 , 可包括在一樹脂層中設置超級磨粒,以便每一超級磨粒具 有一個至少部分地從該樹脂層突出的外露部分。該超級磨 粒可包括一被設置在該超級磨粒的至少一部分與該樹脂層 之間的金屬鍍層。每一超級磨粒的該外露部分實質上可在 春該金屬鍍層之外。同樣,可定位該超級磨粒以便其實質上 突出至一預定高度。 爲根據该預疋方式影響沒超級磨粒的設置,可使用各 種方法。然而,一方面,該超級磨粒可通過提供具有一個 工作表面的臨時基底、應用一分隔層至該臨時基底的該工 作表面而設置在該樹脂層中。超級磨粒可至少部分地設置 在該分隔層中,且至少部分地從相對於該臨時基底的該工 作表面的該分隔層突出。一至少部分未被固化的樹脂材料 1264345 可被應用至相對於該臨時基底的該工作表面的該分隔層, 且然後被固化以保護該超級磨粒。該臨時基底和該分隔層 可被除去,以使該突出的超級磨粒外露。 &這裏已相當完全地概括了本發明的各種特徵,因此我 們能更好地理解隨後料細描述,且因此能更好地瞭解對 本技術的當前貢獻。根據隨後對本發明的詳細#,結合隨 附的權利要求書’或可通過本發明的實踐認識到,本發明 的其他特徵將變得更爲清楚。 x 【實施方式】 定義 在描述和主張本發明時,下面的術語在使用時和如下 所陳述的定義一致。 除非上下文中另外有明確說明,單數形式“ 一”及 “該”包括多個物件。因此,舉例而言,對於“一顆粒”, =表不包括一粒顆粒或多粒這樣的顆粒,而對於“該樹 脂”則表示包括一個或者多個這樣的樹脂。 "" 触如此處所用,“樹脂”指有機化合物的半固體或者固 収合成無定形混合物。同樣地,“樹脂層,,指一層有機化 :物的半固體或者固體合成無定形混合物。該樹脂最好爲 由—個或多個單體的聚合作用所形成的聚合體或共聚物。 么如此處所用,“超硬”和“超磨,,可交換使用,且指 維氏硬度爲大約4〇〇〇 Kg/mm2或更高的結晶、或者多晶材 料、或者此等材料的混合物。此等材料可包括(無限制音、 圖)鑽石與立方氮化棚(cBN),以及熟悉此項技術的人: 9 1264345 所知道的其他材料。儘管超磨材料惰性非常高,且因此而 難與其形成化學鍵’然而衆所周^,某些諸如鉻及鈦的反 應性兀素可在某些溫度下與超磨材料發生化學反應。 如此處所用,“金屬鍍層’,和“金屬層,,可交換使 用,且指被應用到至少一部公_初M 1 丨刀起級磨粒上的連續或不連續 金屬鑛層。
如此處所用,“金屬的,,指—種金屬,或者兩種或更 多金屬的合金。大量金屬材料爲熟悉此項技術的人士所 知’諸如鋁、銅、鉻、鐵、鋼、不銹鋼、鈦、鎢、鋅、锆、 銷等,包括其合金和化合物。 如此處所用,“顆粒,,和“砂粒,,可交換使用,且當 .、—超磨材料結合使用日寺’指這樣材料的微粒形態。此等 顆粒或者砂粒可爲各種形狀,包括圓形、橢圓形、正方形、 自形體等,以及爲許多特殊的網目尺寸^此項技術 知,如爲美國網目的情況下,“網目’,it — „ / 孔數。 指母早位面積上的 人如此處所用,“冶金結合”指兩種或者更多金屬的社 1此#結合可㈣等金屬之間簡單的機械鎖定或者社 :,諸如通過液態金屬及其固化作用的纏結所産生的: σ。此外,此等結合實質上可爲 、、’° 生的典型的離子鍵合。“堵如金屬之間發 如此處所用,“化學鍵”和“化學鍵接,,可交 产生且:旨在原子之間施加足夠大以在該等原子間的介面處 産生-個二元固體化合物的引力的分子鍵合。: 10 1264345 、’及磨粒的h况下,或爲在立方氮化硼中的氮化物或硼化物 的情況下,本發明中的化學鍵一般爲碳化物。 如此處所用,“機械結合”和“機械式結合”可交換 使用,且指主要通過摩擦力形成的兩個物體或層之間的一 個結合介面。在某些情形中,該等被結合的物體之間的摩 擦力可通過擴大該等物體之間的接觸表面積來增加,且可 通過利用其他特殊的幾何和物理結構,諸如用一個物體實 質上圍繞另一個物體而增加。 如此處所用,“黃銅合金”和“銅焊合金,,可交換使 用,且指包含足夠數量反應性元素以允許在該合金和一超 、及磨粒之間形成化學鍵的合金。該合金或可爲固體,或可 • 爲其中具有一種反應性元素溶解物的金屬載體溶劑的液體 • 〃夜另外,銅焊接可被用於指在一超級磨粒與一種 黃銅合金之間形成化學鍵。 如此處所用,對於超級磨粒或顆粒,“塗層”、‘‘鍍 ^ 八有塗層的指沿著已與一種活性金屬,或活性 至屬合金緊密接觸的顆粒的外表面的至少一部分的面積, 且指在該顆粒和該合金之間包含化學鍵或基於該活性金屬 或活性金屬合金的液化作用或者固化作用而將包含這樣的 化學鍵的面積。在某些方面,該鍍層可爲一實質上包住或 封閉所有超級磨粒的層。應瞭解此等層在某些場合中被限 疋至某一最小厚度。此外,應瞭解這樣的一鍍層可被應用 到—單獨基礎上的顆粒或顆粒群上,且因此這樣的一鍍層 在合併入該等超級磨粒進入一個工具内之前作爲—單獨的 11 1264345 步驟而實現,舉例而言, 以形士甘 圯圯成可與一個支撐基體結合 粒或命7 外,將大量具有塗層的顆 況 次在 >又有另外的磨粒的情 口…在一起是可能的,且被 身 用作其本身的工具和其本 :―工具’而無需結合進-個支撐基體内。 濃度、數量、溶解度和1 n _ 又7 /、他數值貧料在此可以以一範 阁的形成給出。應瞭解這樣的範圍 > 砌 你乾W形式僅僅是爲方便、簡
:、巴見,且應靈活解釋爲不僅包括作爲該範圍限制而明確 :述的數值,$時還包括所有的單獨數值和被包含在那個 把圍内的子範目,就如同I_數值和子範圍被明確敍述一 樣0 舉例而言,1至5的濃度範圍應被解釋爲不僅包括被 明確敍述的限制數值1和5,而且還包括諸如2、7、3 6、 4·2之類的單獨數值,及諸如卜2 5、 18 —3 2、2m 的子範圍等。應用該解釋時不必考慮該範圍的幅度或被描 述的該特徵,且同樣應用於僅描述一端點的開式範圍,諸 如“大於25”或“小於10” 。 發明 本發明提供基於樹脂的CMP修整器,並包括用於該等 修整器的使用與製造的方法。本發明人已發現,一樹脂層 中超級磨粒的附著力可通過在該超級磨粒和該樹脂層之間 没置一金屬鍛層而得到提尚。第一圖顯示一嵌入一樹脂層 14中的超級磨粒12。一金屬鍍層1 6設置於該超級磨粒i 2 與該樹脂層14之間。與諸如鑽石之類的超磨材料相對而 12 1264345 吕較光/月和惰性的表面相比, 榭脂厣14沾植山 μ至屬鍍層16能提供與該 树月曰摩14的提鬲的機械結合。 超級磨粒的表面的該樹 ®,與直接結合至- 曰S相比,該全屬伊声 16 -個通過該樹脂層14提 4屬鍍層16 了具有 、s剎田产外 ’、9力的機械結合的結合表面1 8。 通過利用在該結合表面上呈 ^ ^ /& ^ ^ /、百相對粗糙結構的金屬鍍層, 该起級磨粒和該金屬鍍厣 古 一 士二 9 間的機械結合可進一步得到提 问。一方面,附著力同 ^ j通過根據一預定方式設置該 起級磨粒而得到提高。 ^ ^ - ΛΑ „ 寻°又置可爲每一超級磨粒分配足 夠數S的樹脂層材料 從阿附者力。本發明的另一方面, 一種加強材料1 9可idr 、, 皮/4、加至該樹脂層的至少一部分,以 增加超級磨粒的附著力。 、某一作% ^兄中,可能特別期望避免金屬污染工 件,:者甚至避免金屬污染工件是至關重要的。同樣地, 在本毛月的方面,塗鍍該超級磨粒的該金屬鍍層實質上 不I伸越過该樹脂層的表面。換言之,從該樹脂層突出的 每一超級磨粒的該外露部分實質上在該金属鍍層之外,因 此允a午忒超級磨粒的表面與該工件接觸,而不是與該金屬 鍍層接觸。此結構在其中金屬薄片可能導致損壞被拋光晶 圓的CMP應用中可能特別有用。 應注意本發明並不局限於特殊的金屬或金屬組合。通 過利用中間金屬鍍層提高一樹脂層中超級磨粒的附著力 的一般思想自然應包含許多變更,對於熟悉此項技術的人 士一旦擁有本發明此等變更將顯而易見,因此在此應考慮 將此等變更包括在内。本發明的一方面,該金屬鍍層可爲 13 1264345
一在該超級磨粒上的鍍層。該鍍層可以一單層的形式實 現,或通過生成多層而實現。一方面,該金屬鍍層可通過 氣體汽相沈積技術、電鍍、燒結、銅焊或熟悉該技術的人 士所知道的任何其他金屬塗鑛方法施加。提供的該金屬可 爲一種純金屬、一種金屬複合物或一種金屬合金。因爲許 多類型的超級磨粒可能因溫度非常高而受到破壞,因此熔 化溫度較低的金屬合金可能是有用的。一方面,該金屬鍍 層可爲一完全環繞該等超級磨粒的鍵層。該金屬鍍層然後 可從該超級磨粒的外露部分蝕刻掉。另一方面,該金屬錄 層可能不爲一連續的鍍層,但實質上可沿每一超級磨粒和 樹脂層的介面延伸,因此有助於增加該樹脂層中的附著 力。本發明的另一方面,該金屬鍍層可由多重金屬鍍層組 成,該等多重金屬鍍層實質上爲純金屬、金屬複合物和金 屬合金的任何組合。 提咼一樹脂層中附著力的任何金屬或包含爲熟悉此項 技術的人士所知的化合物的金屬被認爲在本發明的範圍之 内。對於本發明有用的金屬實例包括(但不局限於 <
^ 领〇J (Cu)、始(Co)和鎳(Ni),包括諸如Ni〜P、 Νι· R夕相 r Nl—B之類的相 關合金和混合物,其中P (鱗)4 B (㈤可由諸如用於 無電鍍塗層的溶液混合。金屬鍍層同樣可能包括Ni_w / 共同沈澱的混合物。一方面,可採用多重塗層,: 如百先通過真空沈積法喷塗—薄層(舉例來說,q 5微 π或Cr或Si,隨後噴塗無電鍍塗層1砰或 此外,可加熱處理一種内碳化物成形塗層,使1與該超 14 1264345 因此而增加粘著力。另一方面 磨粒起反應以形成化學鍵 可如同在隨附的於2002年9月:……方面’ 干y月 Μ日申請、序 1 0/254, 057 號,和於 2003 年 7 a ΟΓ ^ ^ 月 25 日申請、序號禹筮 ^/627,44!號的美國申請案中所 。爲弟 义1定用一熔化銅焊塗層, 其全部内容在此以引用的方式卄Α 士 ^ 、 式亚入本文中。同樣一種有機 金屬偶合劑可被用於增強該全屬供思j 至屬鍍層和該樹脂層的結合。 在該金屬鍍層和該樹脂層間利用擔只 曰门扪用妆械結合的本發明的若干
方面,有用的金屬鍍層可能包括一個粗糙表面。一個這樣 的粗糙表面實例爲具有尖端的鎳。具有相對光滑表面的金 屬鑛層同樣可通過機械的方法或化學的方法變得粗糙。 我們期望各種機械和/或化學結合結構能提高該樹脂 層中該超級磨粒的附著力。_員似的機械裝置作用於該 樹脂層/金屬介面和該金屬/超級磨粒介面並不是必需的。 舉例而言,該金屬鍍層可主要通過化學鍵接束缚至該超級 磨粒,且主要通過機械結合束缚至該樹脂層。在其他方面, 化學鍵在結合該金屬鍍層至該超級磨粒和該樹脂層中起主 要作用。如此處所描述,多重金屬鍍層可被用來提高該樹 脂層中該超級磨粒的附著力。一方面,具有尖端的鎳可被 用來與該樹脂層的至少一部分形成堅固的機械結合。在電 艘該具有尖端的鎳之前,可在該超級磨粒之上沈積鈦、鶴、 鉻或任何其他有用金屬的一中間層。該中間層可與該超級 磨粒的至少一部分化學地結合,且與該具有尖端的鎳的至 少一部分冶金地結合,因此而提高該樹脂層中該超級磨粒 的附著力。 15 1264345 % 在那些將一種金屬銅焊合金或用作一主要金屬鍍層、 或用作一中間金屬鍍層的具體實施例中,爲與該超级磨粒 和/或任何另外的金屬鍍層實現期望的結合,在一種金屬 銅:^ δ至中可包括大量反應性元素。可與一金屬載體形成 5至的^種反應性元素爲熟悉此項技術的人士所知,且可 取決於各種因素來選擇一種特殊的反應性元素。用於包含 在本發明中所用的一種銅焊合金中的適合反應性元素的若 干貫例包括(但不局限於)由下列各物組成的群中選出的 物:銘(Α1)、硼(Β)、鉻(Cr)、鋰(Li)、鎂(Mg)、鉬 (Mo)、锰(Mri)、鈮(Nb)、矽(Si)、钽(Ta)、鈦(Ti)、 飢(V)、鹤(W)、錘(Zr),及其混合物。除該(該等) 反應性元素之外,根據本發明用來形成一鑛層的銅焊合金 可至少包括一種用作載體或者溶劑的其他金屬。熟悉此項 技術的人士所認識的任何金屬都可被用作這樣的一種載體 或溶劑,尤其是那些已知的用來製造超磨工具的更是如 此。然而,在本發明的一方面,此等金屬可包括(此僅系 舉例而言,無限定意圖)鈷(Co)、銅(Cu)、鐵(Fe)、 鎳(Ni),及其合金。 如上所提及,將一種反應性元素與另一金屬形成合金 的一個目的在於降低该反應性元素的有效炼點,同時還維 持其與一超級磨粒化學結合的能力。如此項技術中所知 諸如鑽石之類的許多超磨材料的熱穩定性極限在大約 90 0。(:至大約1 20 0QC的範圍内。同樣地,在本發明的—方 面,可選擇該活性金屬合金的該等成分與精確比率,以提 16 1264345 供-種其炫點在所使用的該特殊超磨材料的熱穩定性極限 範圍内或比其低的合金。實際上’可選擇一種溶劑金屬且 使其與適當數量的反應性元素結合,以降低兩種元件的炫 化溫度且産生-種其溶化溫度小於12⑽。c左右的金屬銅焊 合金。另一方面,該熔化溫度可低於9〇〇(3C左右。此外, 添加貝貝上不活波的金屬材料到該熔化銅焊合金中,可減 弱超級磨粒的惡化並因此而增加該具有塗層的超級磨粒的 整體強度。對於能附著用於一工具中的具有塗層的超級磨 粒強度的方法的附加討論可在隨附的幾個申請案中找到: 2002年9月24日中請的美國專利中請案第1q/254,g57號; 2〇〇3年7月25日申請的第1〇/627 441號;及2〇〇4年12 月9日申請的題名爲“溶融銅焊塗錢超級磨粒及相關方法 (Molten Braze-Coated Superabrasive Particles and
Assented Methods),,的申請案。這些申請案都被編在 代理人案件目I彔2G3〇3.CIP2號之下,所有這三個申請案 的内容在此都以引用的方式並入本文中。 那些熟悉該項技術的人士應該認識到,特定活性金屬 和其他特定載體金屬的許多組合可以不同比率或數量形成 合金,以獲得-種可以化學的方式結合至該超級磨粒且具 有合適溶點的合金。然而’一方面’該反應性元素的含量 可至少爲該合金的1%左右。另—方面,該元件的數量可至 /爲0亥合金的5%左右。 現討論樹脂層,許多樹脂材料爲熟悉此項技術的人士 所知’其在用於本發明的若干具體實施例中時是有用的, 17 1264345 且在這裏認爲复沾 任何具有足夠二本發明範圍之内。該樹脂層可爲 的ρ /,強度以附著本發明的該超級磨粒的可固化 戍、力 〆①曰。使用一相對較硬且附著一個很少杻曲 4 /又有扭曲的承 ^ 5, 千旦表面的樹脂層是有益的。這允許該修敕 态至少部分从+ #丄 ^ ^ 、中並入非常小的超級磨粒,且附著這此
級磨粒維持相對水平和-致的…固化方法可以: =、、二此員技術的人士所知的任何加工,該加工導致該樹 月^材料攸至少一易彎狀態到至少一剛硬狀態的相變。固化 可(但不限於)通過使該樹脂材料外露於諸如紫外線、紅 外線、及微波輻射之類的熱、電磁輻射形式的能量,以及 諸如電子束之類的粒子轟擊、有機催化劑、無機催化劑, 或任何爲熟悉此項技術的人士所知的其他固化方法而發 生本舍明的一方面,邊樹脂層可爲一種熱塑性材料。熱 塑性材料可分別通過冷卻和加熱而可逆地硬化和軟化。另 一方面,該樹脂層可爲一種熱固性材料。熱固性材料不能 和熱塑性材料一樣可逆地硬化和軟化。換言之,一旦固化 發生,該加工實質上就不可逆。 在本發明的具體實施例中有用的樹脂材料包括(但不 局限於):包括烷基化脲一甲醛樹脂、三聚氰胺—甲醛樹 脂及烷基化苯代三聚氰二胺一甲醛樹脂的氨基樹脂;包括 乙烯基丙烯酸酯、丙烯酸醋化環氧樹脂、丙烯酸酯化聚氨 酯、丙烯酸酯化聚酯、丙烯酸酯化丙烯酸樹脂、丙烯酸酯 化聚醚、乙烯基醚、丙烯酸酯化油、丙烯酸酯化矽、及相 關的甲基丙烯酸酯的丙烯酸醋樹脂;諸如聚氨酯醇酸樹脂 18 1264345 的醇酸樹脂;聚酯樹脂;反應性聚氨酯樹脂;諸如可炼酉分 S全树脂和g分搭清漆樹脂之類的盼酸樹脂;盼酸/乳膠樹脂· 諸如又S分環氧樹脂之類的環氧樹脂;異氰酸自旨樹脂;異氛 脈酸醋;包括烷基矽氧烷樹脂的聚矽氧烷樹脂;反應性乙 稀树月曰,以商標名Bake 1 i te銷售的樹脂,包括聚乙烯樹 脂、聚丙烯樹脂、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚苯乙烯樹脂、 苯氧基樹脂、二萘嵌苯樹脂、聚砜樹脂、乙烯共聚物樹 脂、丙烯腈一丁二烯一苯乙烯樹脂、丙烯酸樹脂及乙烯 樹脂;丙烯酸樹脂;聚碳酸酯樹脂;及其混合物和組合。 本發明的一方面,該樹脂可爲環氧樹脂。另一方面,該樹 脂材料可爲聚酰亞胺樹脂。另一方面,該樹脂材料可爲聚 碳酸酯樹脂。另一方面,該樹脂材料可爲聚氨酯樹脂。 的遠树脂材料的特性。<方面 層可通過在該樹脂層的至少一 合物而變得容易。 在該樹脂材料中可包括許多添加劑,以有助於其使 用。舉例而言,可利用另外的交聯劑和填料來改進該樹脂 層的固化特性。另外,可使用溶劑來改變處於未固化狀態 面’該金屬鍍層結合至該樹脂 一部分中包括一種有機金屬化 用於本發明的若干具體實施例中的該超級磨粒可從各
19 1264345 具的特疋目的。然而,—方面,該超級磨粒可爲鑽石,包 括天然鑽石、合成鑽石和多晶鑽石(PCD)。另-方面,該 超級磨粒可爲立方氮化石朋(cBN),或爲單晶體,或爲多晶 體。另一方面,該超級磨粒可爲一種從由SlC、A1 203、Zr02 及WC組成的群申選出的成分。 熟悉此項技術的人士在擁有本公開後本發明的各個方 面的4多用途將顯而易見。具有塗層的超級磨粒可被設置 在各種形狀和尺寸的工具中,包括一維工具、二維工具和 瞻三維工具。工具可並入一單層或多層具有塗層的超級磨 粒。在一樹脂基體中並入一單層具有塗層的超級磨粒的工 具的貫例爲一 CMP修整器。 如此處所描述,傳統金屬基體CMP修整器不適合於結 合非常小的超級磨粒。本發明的範圍希望包括對修整一 CMP 拋光墊有用的所有可能尺寸的超級磨粒。然而,本發明的 各個方面特別地實現某些尺寸的CMP修整器中超級磨粒的 附著力’該等尺寸對先前用於具有外露顆粒且以一種形式 •安置的金屬工具中是不可行的。一方面,超級磨粒的尺寸 可在大約30微米至大約200微米的範圍内。另一方面, 超級磨粒的尺寸可在大約1 〇 〇微米至大約1 5 0微米的範圍 内。 本發明的若干具體實施例同樣提供如此處所述的具有 提高超級磨粒的附著力的CMP修整器。參照第二圖,該CMP 修整器20可包括一樹脂層14、根據一預定方式附著在該 樹脂層14中的超級磨粒12、及設置在每一超級磨粒12和 20 1264345 該樹脂層1 4之間的一金屬鍍層1 6。如此處所敍述,和沒 有該金屬鍍層的超級磨粒相比,該金屬鍍層1 6增加該樹 脂層14中該超級磨粒1 2的附著力。一方面,該樹脂層14 可被結合至一個支撐基底22。 爲使該CMP修整器20修整一 CMP拋光墊,該超級磨 粒1 2應至少部分地從該樹脂層1 4突出。該突出超級磨粒 12能切入該CMP拋光墊一深度,該深度實質上爲該突出的 距離。本發明的一方面,該超級磨粒能突出至一預定高度。 ® 每一超級磨粒的該等高度實質上可相同,或者它們可根據 该修整器的特殊應用而變化。舉例而言,靠近該CMP修整 為中心的超級磨粒所突出的高度可比靠近該修整器周邊的 - 該超級磨粒所突出的高度大。 - 如果該突出超級磨粒12至少部分地外露,即在該金 屬鍛層16之外,則該CMP修整器的修整作用可得以加強。 本發明的一方面,每一超級磨粒12的突出表面積26的至 • 少一部分可實質上在該金屬鍍層16之外。另一方面,實 貝上母一超級磨粒丨2的所有突出表面積26都可在該金屬 ^ 1 6之外。通過熟悉此項技術的人士所知道的任何方 匕括研磨、拋光、酸蝕刻、喷沙等,可自該突出表面 積26除去該金屬鍍層16。 根據本發明的若干具體實施例的用於製作一 CMP修整 器白勺各錄士一^ ^ _ 法可爲熟悉此項技術的人士所預料到。一般而 ° ^於製作—⑽修整器的方法可包括根據—預定方式 在紂知層中設置超級磨粒,以便該超級磨粒至少部分地 21 1264345 從該樹脂層突出。如此處所描述’該超級磨粒塗鍍—設置 在至少該超級磨粒和該樹脂層之間以提 J n、l考力的金屬鍍 層。本發明的一方面,在固化該樹脂材料 a 月1】,一牙重增強 材料可被應用到该超級磨粒附近的該樹 u日增的至少一部分 中。該增強材料可保護該樹脂層免受酸的腐餘和提供抗磨 性。-方® ’該增強材料爲一種陶瓷粉末。該陶瓷粉末可 以是爲熟悉此項技術的人士所知的任何 刀 u U充扮末,包括氧 化鋁、碳化鋁、二氧化矽、碳化矽、氧 甘、曰人^ > 石反化銘^及 其此a物。一方面,該陶瓷粉末爲碳 ^ 乃一方面,該 陶究粉末爲m m m粉末爲:氧化石夕。 根據-預定方式設置超級磨粒可通過將膠水應用到一 個基底上、在該基底上生成壓痕以接㈣#_而完成, 或通過熟悉此項技術的人士所知的任何其他方法^成另 外的方法可在美國專利第6,039,641和5 38〇 39:號w 到’其内容在此以引用的方式並入本文。 各種逆鑄造方法可被用爽制、生士 饭用木裊造本發明的該CMP修整 器。如第三圖所示,一間隔層 j被應用至一個臨時基 底34的一個工作表面32。該間 "間隔層36具有至少部分地設 置在其中的塗鍵金屬的超級磨^^ 杻38,该超級磨粒38至少 部分地從面對該臨時基底34的兮 幻Θ工作表面32的該間隔層 36突出。將塗鍍金屬的超級磨 又1選間隔層内以便該 超級磨粒突出至一預定高度的 —又门度的任何方法都可用於本發明 中。方面,如弟四圖所示,★ 。亥間^層36被設置在該臨 時基底34的工作表面32上。_ 種固疋劑可根據需要應用 22 1264345
至該工作表面32,以有助於該間隔層36固定至該臨時基 底34 °超級磨粒38沿著與該工作表面32相對的該間隔層 3 6的一側設置。一種固定劑可根據需要應用至該間隔層 36 ’以附著該超級磨粒38實質上沿該間隔層36固定。用 於該間隔層任一表面上的固定劑可以是爲熟悉此項技術的 人士所知的任何粘合劑,諸如(並不限於)聚乙烯醇、聚 乙烯醇縮丁駿、聚乙二醇、石職、酚醛樹脂、4鼠乳化液、 丙稀fee秘脂或其組合。一方面,該固定劑爲霧化丙稀酸膠。 ..... ^〇 乙 内’壓力機42可用來施力至該超級磨粒38。該壓力機42 由爲冰悉此項技術的人士所知的能施力至該超級磨粒3 8 的任何材料構成。若干實例包括(並不限於)金屬、木材、 塑膠、橡膠、聚合體、玻璃、合成物、陶瓷及其組合。根 據應用,更柔軟的材料可提供優於較硬材料的益處。舉例 而言,如果使用不同尺寸的超級磨粒,一強壓力機可能僅 推動該等最大的超級磨粒穿過該間隔層36而抵達該工作 表面32。在本發明的一方面,該壓力機42由一種多孔橡 膠構成。由冑如-種硬橡膠之類的較軟材料構《的壓力機 42可稍與該超級磨粒38的形狀一致,且因此更有效地推 動更小及更大的超級磨粒穿過該間隔層36而抵達嗜工 表面32 〇 μ 卞 制士 于反邳對均勻的材 ,成。有用材料的實例包括(但不局限於)橡膠、塑膠 %、石墨、粘土、磁帶、金屬、粉末及其組合。―;面 23 1264345 該間隔層可爲包含金屬或其他粉末與膠接劑的軋製板。舉 例而3 ’该金屬可爲不銹鋼粉末和聚乙二醇膠接劑。可利 用各種膠接劑,其爲熟悉此項技術的人士所知,諸如(但 不局限於)聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙二醇、石臘、 酴.樹脂、堪乳化液、丙稀酸樹脂及其組合。 另一方面,如第五圖所示,該塗鍍金屬的超級磨粒⑽ 可沿该臨時基底34的該工作表面32設置。可根據需要鹿 用種钻合劍至5玄工作表面3 2 ’以附著該超級磨粒3 8實 • 貝上沿該臨時基底3 4固定。一間隔層3 6然後可被應用至 该工作表面3 2,以便該超級磨粒3 8被設置在其中,如第 二圖所示。可利用一壓力機42來使該間隔層36更有效地 , 與該工作表面3 2及該超級磨粒3 8結合。 - 參照第六圖,一種至少部分未固化的樹脂材料62可 應用至面對該臨時基底34的該工作表面32的該間隔層 36。在製造過程中,一個模具66可用來包含該未固化的 樹脂材料62。在固化該樹脂材料62之後,一樹脂層形 ® 成,該樹脂層與每一超級磨粒38的至少一部分結合。一 個永久性基底6 8可結合至該樹脂層6 4 ,以有助於在修整 一 CMP拋光墊時的使用。一方面,該永久性基底68可通 過合適的固定劑結合至該樹脂層64。該結合可通過使該永 久性基底68和該樹脂層64之間的接觸表面粗糙而變得容 易。另一方面,該永久性基底68可與該樹脂材料62相關 聯,且因此由於固化而連結至該樹脂層64。該模具66和 該臨時基底34可隨後從該CMP修整器除去。 24 1264345 如第七圖所示,該間隔層已經從該樹脂層64除去。 這可通過剝離、磨削、喷沙、刮擦、揉搓、磨蝕等實現。 位於該超級磨粒38的該突出端74上的該金屬鍍層72的 若干部分可通過酸蝕刻、磨削、喷沙或任何爲熟悉此項技 術的人士所知的加工除去。該超級磨粒3 8從該樹脂層Μ 穴出的距離近似地等於該現在被除去的間隔層的厚度。該 樹脂層64可被酸蝕刻掉,以進一步外露該超級磨粒38。
設置超級磨粒進入該間隔層内的各種方法之間的差別 可依據除去該間隔層而看出。在其中該超級磨粒被壓進該 間隔層内的那些方面中,緊鄰超級磨粒的該間隔層材料將 稍微朝該臨時基底的該工作表面偏斜。換言之,由於該超 級磨粒被壓進該間隔層,所以圍繞一個單獨超級磨粒的該 間隔層材料在該工作表面的相對側上可能稍微凹曲。在該 修整器的製造過程中,這個凹陷將被樹脂材料充滿,且因 此一旦該樹脂層被固化後該樹脂材料將通過毛細作用到達 該超級磨粒的側。對於其中該間隔層被壓到該超級磨粒上 的那些方®,恰恰相反。在這些實例中,緊鄰一超級磨粒 的該間隔層材料將稍微自該臨時基底的該工作表面偏斜。 換言之,由於在該超級磨粒周圍該間隔層受力,所以圍繞 一皁獨超級磨粒的該間隔層材料在該工作表面的相對側上 可能稱微凸起。這個凸形突出可能導致在該樹脂層令圍繞 每-超級磨粒形成一個微小的凹陷。這個微小的凹陷可能 降低附著力,1而導致先期的超級磨粒從該樹脂層脫落。匕 對於這些方面。提高附著力的各種方法可爲熟悉此項技術 25 1264345 的人士所採用。舉例而言,在固化該樹脂層之前,可加熱 該間隔層以減少圍繞一超級磨粒的該間隔層的微小凸形突 出。同樣,可將另外的樹脂材料應用到圍繞該超級磨粒的 該樹脂層中的微小凹陷中。 該臨時基底可由任何能支擇該樹脂層且能經受此處所 述的該壓力機壓力的材料製成。實例材料包括玻璃、金屬、 木材、陶莞、聚合冑、橡勝、塑膠等。#參照第三圖,該 在該工作表面32上應 臨時基底34具有一個工作表面32
用一間隔層36。該工作表面32可水平、傾斜、平坦、彎 曲或爲任何其他對於製造一 CMp修整器有用的形狀。使該 工作表面32變粗糙以改進該超級磨粒38的方位。當一超 級磨粒被壓至一個非常光滑的臨時基底上時,該等超級磨 粒的一個平坦表面更有可能平行於該臨時基底排列。在這 種情形下,當該間隔層㈣去&,該_級磨粒的該平坦表 面將彳文省树知層犬出。使該臨時基底的該表面變得粗链將 産生有助於排列該超級磨粒的凹陷和凹谷,以便單獨的超 級磨粒的該等頂端將從該樹脂層突出。 本毛明的備擇方面包含-種在-樹脂層中設置超級 磨粒的方法°胃方法可能包括提供-種作爲-層安置的樹 脂材料’在該樹脂材料上設置超級磨粒,將該超級磨粒壓 進該樹脂材料中,1固化該樹脂材料以形成-樹脂層。第 八圖顯示一個在其上施. …用一树脂材料層8 4的永久性基底 82。具有金屬鏡層的和紐& , , 超、及磨粒86沿著該樹脂材料層84的 該表面設置。一種固定恭丨-Γ + 疋Μ可用來至少部分地固定該超級磨 26 1264345 粒86至該樹脂材料層84。通過爲熟悉此項技術的人士所 知的任何方法,可根據一預定方式安置該超級磨粒86。第 八圖顯示通過一個模板88所安置的超級磨粒。 現苓照第九圖,一壓力機9 2可用來設置該超級磨粒8 6 至乂 σ卩刀地進入该樹脂材料層8 4内。一方面,該超級磨 粒86突出於該樹脂層δ4之上至一預定高度。該樹脂材料 層8 4卩返後被固化以形成一固化樹脂層。一方面,該樹脂 層爲一種熱塑性樹脂。在這種情況下,爲接收該超級磨粒 86,可通過加熱軟化該熱塑性塑膠,且隨後將其冷卻以固 化該熱塑性塑膠形成一固化樹脂層。該樹脂材料層Μ可 以是熟悉此項技術的人士所知的任何樹脂材料,但條件是 在固化之前,該未固化的樹脂材料的粘性足以支撐該超級 磨粒,或提供用於該超級磨粒的另外形式的物理支撐。如 此處所描述,在固化該樹脂I 84後,該金屬鍍層的至少 邰刀可從該突出超級磨粒86的至少一部分除去。
-、取:¾ + %、明的具有塗層的超級磨 此等實例僅起說明作用,並不因此
安置以粘上一個直徑爲 U米左右的鑽石砂粒通過一種無電鍍 鹽還原劑)塗鍍上鎳,以形成1 30微 #。該有塗層的鑽石砂粒用一個模板 爲 1〇〇mm
27 !264345 3亥有塗層的鑽石砂粒形 ^ ^鑽石即距間爲500微米的網格 圖形。該板被放置在一個鋼模且的 ° 、, ,u巧愣,、的履部且用聚酰亞胺樹脂 黏末覆盍。隨後,該完整的總成被壓至5〇MPa的壓力和 的溫度持續10分鐘。該由聚酰亞胺加固後的板爲7_厚, 在其-側上具有形成一網格的塗有錄的鑽石砂粒。具有碳 匕夕石y粒的一種傳統砂輪被用來研磨該表面,以將塗有鎳 $鑽石外露至60微米左右。隨後,使用王水溶液溶解外 .露在該聚酰亞胺樹脂表面上剩餘的錄。最後的産品爲外露 鑽石的一拋光墊調節器。該鑽石被牢牢地嵌在該有尖端的 鎳塗層中,而該塗層又通過該聚酰亞胺牢固粘結。 實例2 隨後爲如同實例1 一樣的相同過程,然而此處是用一 '種酚醛樹脂代替聚酰亞胺樹脂,且該形成溫度被降低至 200。。 。 實例3 .隨後爲如同實例1 一樣的相同過程,然而此處該基板 上被再塗上一層大約60微米厚的粘土。在熱壓制後,該 粘土被刮掉,使從該聚酰亞胺樹脂層突出的塗有錄的鑽石 外露。然後通過用酸蝕刻該鎳而外露該鑽石。 實例4 隨後爲如同實例1 一樣的相同過程,然而在用鎳塗鍍 後’该鑽石被再塗上〇· 5微米的鈦,並在700。(:的溫度下 熱處理30分鐘,以在該用於增加結合強度的介面處形成
TiC。 28 1264345 實例5 隨後爲如同實例1 一樣的相同過程,然而該被壓制的 ♦醜亞fe:树脂圓盤爲1 mm厚’且被粘合在一個42 〇不銹鋼 背襯上以形成一拋光墊調節器。 實例6 尺寸爲大約6 5微米的鑽石砂粒被塗有用來達到平均 尺寸爲大約1 3 0微米的有尖端的鎳。該具有塗層的砂粒與 種壞氧膠接劑混合以形成一種研磨液。該研磨液被遍佈 在一個聚乙烯對苯二酸(PET)片上。一刀片被用來使該研 磨液變薄,以便其包含一層具有塗層的鑽石。該環氧樹脂 然後通過紫外線固化處理以使其硬化。隨後,圓形盤由該 娘氧樹脂片沖孔形成。用丙烯酸塗料將該等圓盤粘合到不 銹鋼基底上,同時使鑽石避開該膠。用一細砂紙拋光該外 露表面並將該環氧樹脂除去至該外露的鎳塗層大約一 ^的 回度用一種王水溶液來蝕刻掉該外露的鎳,因此而使該 鑽石外路。最終的産品爲一鑽石砂粒被牢固地鑲嵌在—種 環氧樹脂基體中的拋光墊調節器。 實例7 尺寸爲大約65微米的鑽石砂粒被塗有用來實現平均 尺寸爲大、約13G微米的有尖端的鎳。該塗有鎳的鑽石砂粒 然後通過-PET片上的—個模板設置。隨後,沈積環氧 脂以覆蓋該單層砂粒。固化處理之後,衝壓該ρΕτ片以= 成圓盤。該等圓盤然後被粘合到不銹鋼基底上,且然後用> 砂紙打磨該上表面並用酸蝕刻該上表面。 … 29 1264345 當然,應瞭解上述的設置僅僅是用於舉例說明本發明 原理的應用。在不偏離本發明的精神與範圍時,熟悉此項 技術的人士可設想出許多更改和替代設置,且該等附加的 權利要求書旨在覆盖此專更改和安置。因此,儘管上面結 合被認爲是目前本發明最好的實踐和較佳具體實施例的特 性和細節描述了本發明,但是對於熟悉此項技術的人士來 說,在不偏離此處所陳述的該等原理和概念時,許多更改, 包括(但不局限於)··對尺寸、材料、形狀、形式、功能 馨#操作方式、總成及用途所做的變化將顯而易見。 【圖式簡單說明】 第一圖爲根據本發明的一個具體實施例的一被嵌入一 - 樹脂層中的超級磨粒的橫斷面視圖; 第一圖爲根據本發明的一個具體實施例一個CMP修整 器的橫斷面視圖。 第二圖爲根據本發明的一個具體實施例、被設置在— _ 個自品:基底上的塗鍍金屬的超級磨粒的橫斷面視圖; a第四圖爲根據本發明的一個具體實施例、被設置在一 個臨時基底上的塗錢金屬的超級磨粒的橫斷面視圖; 第五圖爲根據本發明的一個具體實施例、被設置在一 ^ 2基底上的塗鍍金屬的超級磨粒的橫斷面視圖;
弟六圖爲根據本發明的一個具體實施例、被設置在一 樹脂層中的塗_ ‘ M — X至屬的超級磨粒的橫斷面視圖; 第圖爲根據本發明的一個具體實施例一⑽p修整器 的橫斷面視圖; 30 1264345 第八圖爲根據本發明的一個具體實施例、沿著一層樹 脂材料設置、塗鍍金屬的超級磨粒的橫斷面視圖; 第九圖為根據本發明的一個具體實施、被壓進一層樹 脂材料内、塗鍍金屬的超級磨粒的橫斷面視圖。 【主要元件符號說明】
1 2超級磨粒 14樹脂層 1 6金屬鏡層 1 8結合表面 1 9加強材料 20 CMP修整器 2 2支樓基底 2 6突出表面積 3 2工作表面 34臨時基底 36間隔層 38超級磨粒 42壓力機 31

Claims (1)

1264345 十、申請專利範圍: 1 . -種提高固定在-固化樹脂層中超級磨粒附著力 的方法,其包含: 在每一超級磨粒的至少一部分與該樹脂層之間設置一 金屬鍍層,以便每一超級磨粒包括至少部分地從該樹脂層 突出的外露部分,該外露部分實質上在該金屬鍍層之外。 2 ·如申請專利範圍第1項所沭沾七、l ^ β 貝尸坏述的方法,其中該金屬 鍍層爲一單層。 • 3·如申請專利範圍第1項所述的方法 鍍層爲一合金。 4·如申請專利範圍第1項所述的方法 - 鍍層包括多層。 . 5.如申請專利範圍帛i項所述的方法…… ㈣的至少一部分以化學的方式結合至每—超級磨粒,且 该金屬鍍層的至少一部分以機械 飞的方式結合至該樹脂層。 6 ·如申請專利範圍第1 • 5 貝所述的方法,其中和結合 主超級磨粒表面的該樹脂層相 邻八目士 邳比,该金屬鍍層的至少一 口丨刀具有一個通過該樹脂層 难钺械結合的表面。 7 ·如申請專利範圍第6項所 鍍屏的5小一加乂 貝所述的方法,其中該金屬 曰的至乂 。卩分具有一個粗輪表面 8 ·如申請專利範圍第7項所冲^ # ; ^ 所述的方法 表面爲有尖端的鎳。 9 ·如申請專利範圍第丨項 鍍屛a紅4 貝所述的方法 田舄鈷、銅、鎳,包括合金及 其中該金屬 其中該金屬 其中該金屬 其中該粗糙 其中該金屬 32 1264345 1〇·如申請專利範圍第1項所述的方法 根據-預定方式被固定在該樹脂層中。 11 .如申請專利範圍第1項所述的方法 艘層爲一錢層。 I2.如申請專利範圍第1項所述的方法 磨粒爲鑽石。 其中該超級 其中該金屬 其中該超級 …如申請專利範圍第"員所述的方法,其中該超級 磨粒爲立方氮化石朋。
14.如申請專利範圍帛丨項所述的方法,其中該超級 磨粒的尺寸爲大約30微米至大約2〇〇微米。 15 .如申請專利範圍第14項所述的方法,其中該超 級磨粒的尺寸爲大約1〇〇微米至大約150微米。 16. 一種具有如申請專利範圍第1項所述的提高的超 級磨粒附著力的CMP修整器,其包含: 一樹脂層; 固定在遠樹脂層中的超級磨粒,每一超級磨粒包括一 至少部分地從該樹脂層突出的外露部分;及 一設置在每一超級磨粒的至少一部分和該樹脂層之間 的金屬鐘層’以便每一超級磨粒的該外露部分實質上在該 金屬鍵層之外’與沒有該金屬艘層的超級磨粒相比,該金 屬鍍層增加了該超級磨粒附著力。 17 ·如申請專利範圍第a項所述的CMP修整器,其 中δ玄金屬鏡層貫質上沿每一超級磨粒和樹脂層的介面延 伸0 33
18 ·如申請專利範圍第 中該超級磨粒實質上突出至 19 ·如申請專利範圍第 中該金屬鍍層爲一單層。 20。如申請專利範圍第 中省金屬鍍層爲一合金。 21 ·如申請專利範圍第 中該金屬鍍層包括多層。 22 ·如申請專利範圍第 中5亥金屬鍍層爲一錢層。 16 項所逑的 CMP 修整器 ,其 ~予j ’定高度。 16 項所述的 CMP 修整器 ,其 16 項所迷的 CMP 修整器 ,其 16 項所述的 CMP 修整器, 其 16 項所述的 CMP 修整器, 其 23·如申請專利範圍第16項 中該全屬鲈®的石I 、 的CMP修整器,:i 乂至屬鍍層的至少一部分以化 - 磨粒,且該全屬#; 、式結合至每一超級 樹脂層。 祛械的方式結合至該
24 ·如申請專利範圍第16項 中該金屬鍍層的至少一部分1有、、P修整态, ^〖刀具有—個粗糙表面。 25 ·如申請專利範圍第24頊 ^ 員所迷的CMP修整器, 中4粗糙表面爲具有尖端的鎳。 26 ·如申請專利範圍第1 6頊所、+、仏 0負所述的CMP修整器, 中該金屬鍍層爲鈷'銅、鎳,包括 匕括5金及其混合物。 27 ·如申請專利範圍第1 6頊所、+、。 負所述的CMP修整器, 中該樹脂層包含由下列各物組成的群中選出的成分: 虱基樹脂、丙烯酸酯樹脂、醇酸樹脂、聚酯樹脂、 應性聚氨酯樹脂、酚醛樹脂、酚醛/乳膠樹脂、環氧樹廢 其 其 其 其 反 34 1264345 了〜戈酕柄"知、異氰脲酸酯、聚矽氧烷樹脂、反應性乙烯 /月曰|乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚笨乙烯樹脂、笨氧基 樹脂、二萘嵌苯樹脂、聚颯樹脂、丙烯腈一丁二烯一苯 乙烯樹脂、两稀酸樹月旨、聚石炭酸酉旨樹脂、$醜亞胺樹脂及 其混合物。 28 ·如申請專利範圍第27項所述的CMP修整器,其 中該樹脂層爲環氧樹脂。 2 9如申清專利範圍第27項所述的CMP修整器,其 中該樹脂層爲聚碳酸酯樹脂。 3〇 ·如申請專利範圍第27項所述的cMp修整器,其 中該樹脂層爲聚酰亞胺樹脂。 31如申凊專利範圍第16項所述的CMP修整器,其 中該超級磨粒爲鑽石。 32如申请專利範圍第16項所述的〇ΜΡ修整器,其 中該超級磨粒爲立方氮化爛。 33.如申請專利範圍第16項所述的cMp修整器,其 ’ 中該超級磨粒的尺寸爲大約30微米至大約2〇〇微米。 34 .如申睛專利範圍第33項所述的cMp修整器,其 中該超級磨粒的尺寸爲大約1〇〇微米至大約15〇微米。 35 . —種用於製造如申請專利範圍第16項所述的CMp 修整器的方法,其包含: 在一樹脂層中設置超級磨粒,以便每一超級磨粒具有 一至少部分地從該樹脂層突出的外露部分,該超級磨粒包 括一設置在該超級磨粒的至少一部分與該樹脂層之間的金 35 1264345 屬鍍層,以便母一超級磨粒的該外露部分實質上在該金屬 鍍層之外。 36 .如申請專利範圍第35項所述的方法,其中該超 級磨粒根據一預定方式被設置在該樹脂層中。 37 .如申請專利範圍第35項所述的方法,其中該超 級磨粒實質上突出至一預定高度。 38 ·如申請專利範圍第37項所述的方法,其中在一 樹脂層中設置超級磨粒進一步包含·· • 提供一個具有一個工作表面的臨時基底; 應用一間隔層至該臨時基底的該工作表面,該間隔層 具有至少部分地設置進該間隔層内的超級磨粒,該超級磨 _粒至少部分地從面對該臨時基底的該工作表面的該間隔層 突出; 應用一種至少部分未被固化的樹脂材料至面對該臨時 基底的該工作表面的該間隔層; 固化該至少部分未被固化的樹脂材料以形成一樹脂 ™ 層; 從該間隔層除去該臨時基底;及 從該樹脂層除去該間隔層。 39如申明專利範圍第38項所述的方法,其中應用 一間隔層進一步包括: 應用該間隔層至該臨時基底的該工作表面;以及 將超級磨粒壓進該間隔層。 4〇.如申請專利範圍第38項所述的方法,其中應用 36 1264345 % 一間隔層進一步包括: 沿該臨時基底的該工作表面設置超級磨粒;以及 將該間隔層壓到該超級磨粒上,以便該超級磨粒至少 部分地被設置在該間隔層内。 41 ·如申請專利範圍第4〇項所述的方法,其進一步 包含應用一種固定劑至該臨時基底的該工作表面,以便在 應用該間隔層期間多數具有塗層的超級磨粒實質上附著不 動。
42 .如申請專利範圍第38項所述的方法,其進—步 包括在應用該間隔層和該超級磨粒之前使該臨時基底的二 工作表面變粗糙。 X 43 ·如申請專利範圍帛35 J員所述的方法,其中在— 树月曰層中设置超級磨粒進一步包含: 提供一種作爲一層安置的樹脂材料; 在該樹脂材料上設置超級磨粒; 將該超級磨粒壓進該樹脂材料令;以及 固化該樹脂材料以形成一樹脂層。 44 .如申請專利範圍第43項所述的方法,其中固化 该樹脂材料進一步包括: 加熱該樹脂材料以便該樹脂材料至少部分地在該超級 磨粒周圍流動;以及 冷卻該樹脂材料以形成一樹脂層。 45.如申請專利範圍第35項所述的方法,其進一步 包含通過罐樹脂層以外露該超級磨教而從該外露部分 37 1264345 4去該金屬鍍層。 勺八46.如申請專利範圍第351員所述的方法,直進一步 ::::-種增強材料到接近該超級磨粒的該樹脂層的至 強^7.如中請專利範圍第461貝所述的方法,其中該增 強材料爲陶瓷粉末。 τ 咨队48 ·如中請專利範圍第47 $所述的方法,i中該陶 = 末包含選自由下列各物組成的群中的成分:氧化銘、 :。、s、一軋化矽、碳化矽、氧化锆、一碳化鉛及其混合 其中該陶 • 49 .如申請專利範圍第48項所述的方法 瓷粉末爲碳化矽。 其中該陶 5〇 ·如申請專利範圍第48項所述的方法 瓷粉末爲碳化鋁。 其中該陶 5卜如申請專利範圍第48項所述的方法 瓷粉末爲二氧化矽。 其進一步 52 .如申請專利範圍第35項所述的方法 〜 包含添加-種有機金屬偶合劑到該樹脂層的至少二 53.如申請專利範圍第35項所述的方法,其中該樹 脂層包含由下列各物組成的群中選出成分:氨基樹脂、丙 烯酸罐、醇酸樹脂、聚醋樹脂、反應性聚氨醋樹脂、 驗酸樹脂、祕/乳膠樹脂、環氧樹脂、異氰酸醋樹脂、 異氰脲㈣、W氧燒樹脂、反應性乙稀樹脂、聚乙稀樹 脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、苯氧基樹脂、二萘喪 38 1264345 苯樹脂、聚颯樹脂、丙烯腈一 丁二烯一苯乙烯樹脂、丙烯 酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酰亞胺樹脂及其混合物。 54 ·如申請專利範圍第53項所述的方法,其中該樹 脂層爲環氧樹脂。 55 ·如申請專利範圍第53項所述的方法,其中該樹 脂層爲聚碳酸酯樹脂。 56 ·如申請專利範圍第53項所述的方法,其中該樹 脂層爲聚酰亞胺樹脂。 • 57 ·如申請專利範圍第35項所述的方法,其中該超 級磨粒爲鑽石。 58 ·如申請專利範圍第35項所述的方法,其中該超 - 級磨粒爲立方氮化硼。 十一、圖式: 如次頁 39
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