TWI253321B - Thin plate for blocking electromagnetic wave - Google Patents

Description

1253321 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於遮斷電磁波用之薄板，更詳細爲關於： 配置在CRT、PDP等之顯示器的前面，遮斷由顯示器所發 生的電磁波，而且，能夠良好辨識顯示器的影像，利用金 屬層（薄膜）網目的電磁波遮斷用薄板。 【先前技術】 (技術槪要）近年來，伴隨電氣電子機器的機能高功 能化和增加利用，電磁雜訊干擾（Electro Magnetic Interference:EMI)增加。電磁波雜訊可以大略分爲：傳 導雜訊和輻射雜訊。傳導雜訊有使用雜訊濾波器等之方法 。另一方面，輻射雜訊由於係電磁性絕緣空間故，有以金 屬做成框體，在電路基板間插入金屬板，以金屬箔包覆纜 線等之方法。這些方法雖對於電路或電源方塊之電磁波有 遮斷效果，但是要使用於遮斷CRT、電漿顯示器面板（以 下，也稱爲P D P )等之由顯示器前面所發生的電磁波時， 由於不透明之故，並不適合。 電漿顯示器面板係具有資料電極和螢光層之玻璃與具 有透明電極之玻璃的組合體，一動作時，電磁波、近紅外 線、以及熱會大量產生。通常爲了遮斷電磁波，係在電漿 顯示器面板的前面設置前面板。由顯示器前面所發生的電 磁波之遮斷性，需要30MHz〜1 GHz的3 OdB以上的機能。 另外，由顯示器前面所發生的波長8 0 0〜1 lOOiim之近紅 1253321 (2) 外線也會使其他的VTR、空調機的遠端操作（遙控操作） 裝置等之機器誤動作，所以需要加以遮斷。另外，爲了容 易辨識顯示器的顯示影像，不使容易見到電磁波遮斷用的 金屬網目（線）部份，電磁波遮斷用薄板需要具有適度的 透明性（可見光透過性、可見光透過率）。 另外，電漿顯示器面板係以大型畫面爲其特徵，例如 ’有37型、42型，另外有更大型之尺寸。因此，電磁波 遮斷用薄板之線數通常在縱以及橫方向有數千條，設置有 由線所包圍的多數之開口部。但是，該開口部由於接著劑 層露出之故，在蝕刻時，受到蝕刻液之攻擊，接著劑層會 著色，另外，由於蝕刻後之剝離抗蝕劑膜之鹼性的剝離液 的關係，有接著劑層劣化之問題點。 (先前技術）爲了提升顯示器影像的辨識性，前面板 被要求有電磁波遮斷和適度透明性（可見光的透過率）和 無所期望以外之著色、沒有剝離之均勻而穩定的網目構造 〇 具有網目構造者中，在日本專利特開平5-283889號 公報中揭示有：由基板/透明固牢層/網目圖案狀之無電 解電鍍層所形成的電磁波薄板材料。另外，以光阻法形成 電磁波遮斷薄板之金屬網目的方法係揭示在日本專利特開 平0 9-2 93 9 8 9號公報。另外’將以微影法在銅箔形成幾何 學圖形之含銅箔塑膠薄膜積層在塑膠板的電磁波遮斷構造 體係揭不在日本專利特開平1 0 - 3 3 5 8 8 5號公報。但是，在 上述任何一種方法中’電磁波遮斷薄板雖都具有網目構造 -6 - 1253321 (3) ，即使具有防鏽層，但是都只在金屬層的網目部，並不涵 蓋基材以及接著劑層的全面而形成防鏽層’也無全面形成 之暗示。另外，通常電磁波遮斷用薄板係基材側成爲觀看 側之故，也有難於由接地用電極部取得接地之缺點。 另外，圖案（相當於本發明之網目）的形成法係在圖 案狀抗蝕劑上設置黑色層和圖案狀金屬層’在與抗蝕劑一 同淸洗後，設置防鏽層而成之具有透明基體/黑色層/圖 案狀金屬層/防鏽層之電磁波遮斷材’係揭示在日本專利 特開平11-298185號公報。但是，在透明基體和黑色層或 者金屬層之間，以及開口部無法設計防鏽層，圖案（網目 )之形成並非蝕刻法，所以也有無法形成精細之網目的問 題。由於（腐蝕）工程之際的蝕刻液作用，存在露出開口 部而成爲透光部的接著劑層及基材產生變黃等之著色，影 響顯示器的影像之色調，或者降低接著劑層之接著力的情 形。另外，由於由蝕刻液中滲透於接著劑層或基材中的金 屬離子（Fe + 3等），也有色補正用而添加於接著劑中的色 素或近紅外線吸收用之色素劣化之情形。另外如第7圖所 示般，將電磁波遮斷用薄板介由接著劑與其他透明基材或 者顯示器積層時，由於在網目開口部的凹部殘留氣泡B， 在氣泡和接著劑的界面之光散射，而存在霧狀（霧化）上 升之問題。另外，在此種電磁波遮斷用薄板進而積層近紅 外線吸收濾光器層，以獲得具有電磁波遮斷性和近紅外線 遮斷性之兩性能的濾光器，係揭示在日本專利特開2 0 0 0 -22 75 1 7號公報。 1253321 (4) 但是，在電磁波遮斷用薄板的製造工程上，需要另外 介由接著劑以積層近紅外線吸收濾光器的工程，工程數、 材料費也增加。 【發明內容】 因此，本發明係爲了解決此種問題點而完成者。其目 的在於不增加積層工程數而可以便宜提供：配置於CRT、 P D P等之顯示器的前面，遮斷由顯示器所發生的電磁波以 及近紅外線之兩方，而且，也沒有由於接著劑層中的氣泡 殘留所產生的霧狀上升，顯示器影像之辨識性優異的電磁 波遮斷用薄板。 本發明係一種電磁波遮斷用薄板，其特徵爲具備：透 明基材；及設置於基材的一面之透明防鏽層；及設置於防 鏽層，而具有形成開口部之線部的網目狀金屬層，防鏽層 係設置在線部和對應開口部的部份之兩方。 如依據本發明，可以提供：配置在PDP等之顯示器 的前面，遮斷由顯示器所發生的電磁波，而且，網目的線 部份係非辨識性，能滿足電磁波遮斷性、透明性之兩特性 ，而且，可將任何一面當成觀看側，在蝕刻或抗蝕劑剝離 等之製造工程時，基材或接著劑層的變色、剝離等之劣化 或變質少，可以橫跨長時期而良好辨識影像。 本發明係一種電磁波遮斷用薄板’其特徵爲：金屬層 的線部之線寬爲5〜2 5 // m ’線部間的間距爲1 5 0〜5 0 0 β m 〇 (5) 1253321 如依據本發明，網目的線部份係非辨識性’得以提供 滿足電磁波遮斷性、透明性之兩特性的電磁波遮斷用薄板 〇 本發明係一種電磁波遮斷用薄板，其特徵爲：在金屬 層的一面設置黑化處理層。 如依據本發明，由於網目的線部份係非辨識性’可以 提供能夠良好辨識影像的電磁波遮斷用薄板。 本發明係一種電磁波遮斷用薄板，其特徵爲：在金屬 層的基材之相反面設置追加防鏽層。 如依據本發明，得以提供：可將基材面設置於P D P 側，電極的引出工程數減少，也不需要額緣狀的黑色印刷 ，影像的辨識性無閃爍而良好的電磁波遮斷用薄板。 本發明係一種電磁波遮斷用薄板，其特徵爲：在網目 狀的金屬層的開口部塡充透明樹脂，金屬層和透明樹脂變 成平坦狀。 如依據本發明，得以提供：開口部的凹凸被埋住，作 業性優異的電磁波遮斷用薄板。 本發明係一種電磁波遮斷用薄板，其特徵爲：塡充在 網目狀的金屬層的開口部之透明樹脂，係含有：吸收可見 光線中的波長5 7 0〜6 0 5 nm頻帶之光的色調補正用光線吸 收劑以及/或者吸收近紅外線波長8 00〜llOOnm頻帶之 光的近紅外線吸收劑。 本發明係一種電磁波遮斷用薄板，其特徵爲：在基材 或者追加防鏽層之任一種之外方設置吸收可見光線中的波 -9- 1253321 (6) 長5 7 0〜6 0 5 nm頻帶之光的色調補正用光線吸收劑層以及 /或者吸收近紅外線波長 800〜UOOnm頻帶之光的近紅 外線吸收劑層。 如依據本發明，得以提供：遮斷由PDP所發生的近 紅外線以及電磁波之兩者，防止起因於此等之弊害，而且 可見光線會透過，且吸收起因於由PDP所發生的氖原子 之發光光譜的黃〜橙色之發光，以防止影像的色調著色爲 橙色，可以良好辨識顯示器影像之電磁波遮斷用薄板。 【實施方式】 參考圖面以詳細說明本發明之一實施形態。 但是，本發明並非只限制於此形態之意。 第1圖係本發明之電磁波遮斷用薄板的平面圖。 第2圖係模型顯示本發明之電磁波遮斷用薄板的一部 份之斜視圖。 (全體之構造）如第1圖所示般，本發明之電磁波遮 斷用薄板1係由：基板1 1 ;及設置於基材11上的網目部 1 03 ;及包圍網目部1 03之接地用框部1 〇 1所形成。如第 2圖所示般，其中，網目部1 03係由具有多數的開口部（ 也稱爲單元）1 0 5之線部1 〇 7所形成。接地用框部1 0 1在 設置於顯示器之情形時，係被接地。 另外，線部107係介由接著劑層13而接著在·透明基 材1 1的一面，此線部1 0 7係由積層構造的導電材層1 0 9 所形成。另外，可藉由無電解電鍍、蒸鍍等直接在基材 -10- 1253321 (7) 1 1上形成導電材層1 Ο 9時，也可以省略接著劑層1 3。線 部1 〇 7係開口部1 0 5在平面內緊密鄰接配置之格子狀的網 巨。 藉由線部1 0 7和開口部1 〇 5而構成網目部1 〇 3。線部 1 0 7的寬度係如第2圖所示般’稱爲線寬W，線和線之間 隔則稱爲間距Ρ。 第3Α圖以及第3Β圖係第2圖之ΑΑ剖面圖以及ΒΒ 剖面圖。 第4圖係說明導電材層之構造的剖面圖。 鲁 (導電材層之構造）第3 Α圖係顯示橫貫開口部之剖 面，開口部1 0 5和線部1 〇 7係交互構成，第3 B圖係顯示 縱貫線部1 07之剖面，由導電材層1 〇9所形成的線部1 07 係連續形成。如第3 A圖、第3 B圖、第4圖所示般，導 電材層1 0 9係具有金屬層2 1 ;以及最好至少設置於金屬 層21的觀察面之黑化處理層23A或者23B。更好爲覆蓋 黑化處理層2 3 A以及/或者2 3 B般，設置防鏽層2 5 A以 及/或者2 5 B，防鏽層至少可設置於黑化處理層2 3 A側。 · 另外，也存在於網目部的開口部1 0 5之防鏽層2 5 A係設 爲透明之層。只設置在網目部的線部1 0 7上之防鏽層2 5 B ，則可爲透明或者不透明之其中一種。 該防鏽層25 A、25B係具有金屬層21以及黑化處理 層2 3 A、2 3 B之防鏽機能，而且，也防止黑化處理層2 3 A 、23B之脫落。另外，令人驚訝的是，該防鏽層25A以及 2 5 B在介由接著劑層1 3而與基材1 1積層後，可以保護該 -11 - 1253321 (8) 接著劑層1 3。如上述般，因應需要，也可在金屬層2 1的 另一面設置黑化處理層2 3 B以及防鏽層2 5 B (追加防鏽層 25B)，也可在金屬層21的兩面設置黑化處理層23A、23B 以及防鏽層2 5 A、2 5 B。最好之形態爲，在觀看側設置黑 化處理層2 3 A以及防鏽層2 5 A。 (發明要點）在習知技術中，係更使金屬層2 1的蝕 刻進行至防鏽層，只在線部1 07部殘留防鏽層25 A。但是 ，在本發明中，蝕刻係在金屬層2 1全層被蝕刻去除之時 間點便停止，也在基材1 1側的開口部1 0 5殘留防鏽層 2 5 A，即發現藉由做成在全面設置防鏽層2 5 A之形態，該 防鏽層25 A保護接著劑層1 3。即在習知的開口部1 05中 ，接著劑層1 3露出之故，蝕刻時，受到蝕刻液的攻擊而 著色，另外，由於蝕刻後之剝離抗蝕劑膜之鹼性的剝離液 而劣化、變質，接著力降低’但是如有本發明之防鏽層 2 5 A，則可以防止此現象，另外，也可以防止由於蝕刻液 之鐵或鈉所致的污染，或由於這些金屬（離子）所致的使 光線吸收劑變極色。 另外，通常電磁波遮斷用薄板1係多數設該基材Η 側爲觀看側，但是在本發明之電磁波遮斷用薄板1中’在 通常之黑化處理層23Α面，因應需要而在兩方的黑化處 理層23Α、23Β設置同質的防鏽層25Α、25Β之故，即使 將黑化處理層2 3 Β設置於基材1 1的相反面’也可藉由防 鏽層25Β而得到保護，所以不易產生黑化處理層23 Β之 粒子掉落等，將哪一側設爲觀看側都可以。如將金屬層 -12- 1253321 Ο) 2 1設爲觀看側’則接地用框部丨〇丨（機能上爲電極部）露 出之故’容易接地。另外，防鏽層（追加防鏽層）25 B、 黑化處理層2 3 B極爲薄之故，不會成爲接地之妨礙。另外 ，1 1雖係藉由黑化處理所形成，但是，可援用黑化處理 層2 3 A或者2 3 B之形成時的黑化處理，在工程縮短、成 本面也有利。 在本說明書中，雖將本發明之電磁波遮斷用薄板1記 載爲CRT、PDP等之顯示器用爲主體，但是不用說也可以 使用在顯示器以外的電磁波遮斷用。 另一方面，PDP係以大型畫面爲其特徵，電磁波遮斷 用薄板 1之大小（外形尺寸）例如在 37型中爲 620X830 mm之程度，在42型中爲580X980mm之程度， 也有更大型尺寸。因此，電磁波遮斷用薄板之線數雖也依 據網目的大小而不同，但是通常在縱以及橫向會有數千條 。該線之寬必須以「// m」單位之精度，而形成在一定範 圍內。開口部1 05如也著色爲所期望以外的顏色時，人們 在觀看顯示器影像時，人們會感覺到極強的不協調。即本 發明之電磁波遮斷用薄板係藉由將透明之防鏽層2 5 A形 成在也含開口部1 〇 5之全面，接著劑層1 3或者基材1 1不 會著色，具有電磁波遮斷性和適度的透明性故，所以影像 的辨識性優異。另外’防鏽層25 A和接著劑層1 3或者後 述的平坦化層2 9之折射率有差異，相對地，防鏽層2 5 A 之折射率高，接著層1 3或者後述之平坦化層29的折射率 低，也可以期待反射防止、對比提升等之光學作用之效果 -13- 1253321 (10) 作爲本發明之電磁波遮斷用薄板1的導電材層1 〇 9， 係在金屬層21的至少其中一面設置黑化處理層2 3 a以及 /或者2 3 B，另外，至少在該導電材層！ 〇 9的基材n側 之面，防鏽層2 5 A以及/或者2 5 b也設置在線部以及開 口部之其中一個位置。 介由接著劑層1 3而將該導電材層1 〇 9與透明基材1 1 積層後，以微影法做成網目狀。接著，將透明樹脂塡充於 開口部1 05內，作爲平坦化層29而使金屬層側平坦化， 另外因應需要，設置吸收特定波長之近紅外線或者近紅外 線與特定波長的可見光線之光線吸收劑層3 1 A、3 1 B。如 將此種電磁波遮斷用薄板配置於顯示器的前面，則可遮斷 由顯示器所發生的電磁波以及近紅外線，沒有接著劑層內 的氣泡所致的霧狀、白化，無網目之濃淡不均，黑或者白 之點狀線狀的缺點極少，而且具有適度的透明性，可以良 好辨識顯示器所顯示的影像。 (製造方法之槪要）本發明之電磁波遮斷用薄板1係 可以：首先準備至少在觀看側進行黑化處理以及在基材 1 1側設置防鏽層的導電材層1 09，介由接著劑將該導電材 層1 0 9積層於透明的薄膜狀之基材1 1的一面後，在導電 材層1 09面設置抗蝕劑層1 09呈網目圖案狀。除了防鏽層 2 5 A，介由蝕刻去除未以抗蝕劑層1 〇 9 a所覆蓋之部份的導 電材層109後，去除抗蝕劑層l〇9a之微影法予以製造。 另外，也可以使用既存的設備，藉由連續進行這些製造工 -14- 1253321 (11) 罕壬之^工彳壬’能夠局品質以及局產品率’生產效率高地 予以生產（第8圖）。 說明本發明之電磁波遮斷用薄板丨的各層的材料以及 形成。 (導電材層）遮斷電磁波之導電材層1 09例如具有金 '銀 '銅、鐵、鎳、鉻等具有可以充分遮斷電磁波之程度 的導電性之金屬層2丨。金屬層2 1可以不是單體，也可以 爲合金或者多層。金屬層2 1在爲鐵時，則以低碳未淨鋼 或者低碳鋁全淨鋼等之低碳鋼、Ni-Fe合金、恆範合金鋼 (invar )爲佳，另外，在進行陰極電著時，由電著之容 易性’以銅或者銅合金箔爲佳。該銅箔雖可使用輥軋銅箔 、電解銅箔，但是由厚度的均勻性、與黑化處理以及/或 者鉻酸鹽（處理）層之密接性、以及能夠1 0 // m以下的 薄膜化之方面，以電解銅箔爲佳。該金屬層2 1的厚度爲 1〜100/zm之程度，更好爲5〜20//m。在此以下厚度中 ，雖然藉由微影法之網目加工容易，但是金屬的電氣電阻 値增加，有損電磁波遮斷效果，在此以上時，無法獲得所 期望的高精細之網目形狀，其結果爲，實質的開口率降低 ，光線透過率降低，另外視角也降低，影像的辨識性降低 。這些金屬層2 1通常係預先將當作金屬層者介由接著劑 層13而接著積層在基材11上。但是，藉由無電解電鍍（ 或者在無電解電鍍層之上另外進行電解電鍍亦可）、蒸鍍 等方法而直接在基材1 1上直接形成亦可。在此情形時’ 接著劑層1 3也可以省略。 -15- 1253321 (12) 金屬層2 1的表面粗度以Rz値Ο . 5〜1 0 v m爲佳。在 此以下時，即使黑化處理，外光會鏡面反射，影像的辨識 性劣化。在此以上時，在塗佈接著劑或抗蝕劑時，會無法 佈滿表面全體，產生氣泡。表面粗度 Rz係依據】13-B 0 6 Ο 1所測量之1 〇點平均値。 (黑化處理）爲了吸收投向電磁波遮斷用薄板1之外 光以提升顯示器的影像辨識性，需要在網目狀的導電材層 1 0 9之金屬層2 1觀看側進行黑化處理，以獲得對比感。 該黑化處理係使金屬層2 1面粗糙化以及/或者黑化即可 ，可以使用金屬氧化物、金屬硫化物之形成或種種之手法 。在鐵之情形時，通常在在蒸汽中，以4 5 0〜4 7 0 °C之溫 度，曝露1〇〜20分鐘，以形成1〜2//m程度之氧化膜（ 黑化膜），當然也可以藉由濃硝酸等之藥品處理以獲得氧 化膜（黑化膜）。另外，在銅箔之情形時，以將銅箔在由 硫酸、硫酸銅以及硫酸鈷等所形成的電解液中，進行陰極 電解處理，使附著陽離子性粒子之陰極電著爲佳。藉由設 置該陽離子性粒子予以粗糙化，同時也可以獲得黑色。該 陽離子性粒子雖可使用銅粒子、銅與其他金屬之合金粒子 ，但是最好爲銅-鈷合金的粒子。 在本說明書中，倂同粗糙化以及黑色化而稱爲黑化處 理。該黑化處理之合適黑濃度爲〇 · 6以上。另外，黑濃度 之測量方法係使用 COLOR CONTROL SYSTEM 之 GRETAG SPM100-11 (CHYMOT公司製造，商品名），觀看 視野角1 〇度、觀看光源D 5 0、照明形式係設定爲濃度標 1253321 (13) 準 ANSI T，在白色校正後，測量試驗片。另外，該黑 化處理之光線反射率以在5 °/。以下爲佳。光線反射率係依 據 JI S - Κ 7 1 0 5，利用能見度計（h a z e m e t e r ) Η Μ 1 5 0 (村上 色彩公司製造，商品名）予以測量。 (合金粒子）上述陽離子性粒子雖可使用銅粒子、銅 和其他金屬的合金粒子，但是最好使用銅-鈷合金粒子。 如使用銅-鈷合金粒子，黑化程度顯著提升，可以良好吸 收可見光。評估電磁波遮斷用薄板之辨識性的光學特性係 以依據JIS-Z8729之表色系「L*、a*、b*、ΔΕ*」表示色 調。該「a*」以及「b*」之絕對値小者，導電材層109變 成非辨識性，影像的對比感變高，結果會使得影像的辨識 性變優異。如使用銅-鈷合金粒子，與銅粒子比較，可使 「a*」以及「b*」小至接近0。 另外，銅-鈷合金粒子的平均粒子直徑以0 . 1〜1 // m 爲佳。在此以上時，如使銅-鈷合金粒子的粒子直徑變大 ，則金屬層2 1的厚度變薄，在與基材1 1積層之工程中， 銅箔會斷掉，而使加工性惡化，另外，密集粒子的外觀欠 缺緻密性’不均狀變得顯著。在此以下時，粗糙化不足， 所以影像的變性變差。 (防鏽層）爲了防止金屬層21以及/或者黑化處理 之防鏽機能和黑化處理的脫落或變形，至少在黑化處理金 屬層21之黑化處理層23A、23B設置防鏽層25A以及/ 或者2 5 B。該防鏽層2 5 A、2 5 B則可使用鎳以及/或者鋅 以及/或者銅的氧化物、或者鉻酸鹽處理層。鎳以及/或 - 17- 1253321 (14) 者鋅以及/或者銅之氧化物的形成可以周知的濺 ’厚度以0.001〜1/^m之程度，更好爲0.001〜〇 程度。 (鉻酸鹽處理）鉻酸鹽處理係對於被處理材 鹽處理液之處理。該塗佈方法可以使用滾輪塗佈 塗佈、擠壓塗佈、靜電霧化法、浸漬法等，塗佈 不水洗而予以乾燥即可。在單面施以鉻酸鹽處理 輪塗佈等在單面塗佈，在兩面施行時，可以浸漬 鉻酸鹽處理液通常使用含C r Ο 2之3 g /1的水溶液 也可以使用在無水鉻酸水溶液添加不同之氧羧酸 ，將6價鉻的一部份還原爲3價鉻之鉻酸鹽處理 ，依據6價鉻之附著量的多寡，雖然會著色爲由 黃褐色，但是3價鉻爲無色，如管理3價和6價 以獲得實用上沒有問題之透明性。氧羧酸鹽化合 酒石酸、丙二酸、檸檬酸、乳酸、乙二醇、甘油 、卞酯（benzyl )、羥戊酸等單獨或者合倂使用 係依據化合物而不同’添加量可以一面掌握對於 還原而進行。 具體爲可以 Alfurf 1 000 (日本油漆公司製 鹽處理劑商品名）、PM-284(日本Parkerizing公 鉻酸鹽處理液商品名）等。另外’鉻酸鹽處理可 黑化處理的效果，所以特別好。 黑化處理層2 3 A、2 3 B至少設置在觀看側 2 5 A、2 5 B至少設置在基板1 1側即可，對比提高 鍍法爲之 丨· 1 μ m 之 塗佈鉻酸 、窗簾式 後，可以 時，以滾 法進行。 。此外， 鹽化合物 液。另外 淡黃色至 鉻，則可 物可以將 、托品酸 。還原性 3價鉻之 造，鉻酸 司製造， 以更提局 ，防鏽層 ，顯示器 1253321 (15) 的影像辨識性變好。另外，也可設置在其他面，即顯示器 面側，可以抑制由顯示器所發生的遊走光線，可以更提升 影像的辨識性。

接著，以接著劑1 3將透明基材1 1積層在防鏽層2 5 A 〇 (基材）只要有可耐使用條件或製造之透明性、絕緣 性、耐熱性、機械強度等，基材1 1的材料可以使用各種 材料。例如’有聚對苯二甲酸乙二酯·聚對苯二甲酸丁二 酯等·聚乙烯奈（polyethlenenaphthalate) ·聚對苯二甲 酸乙二酯-間苯二酸共聚物·對苯二甲酸-環己烷二甲醇_ 乙烯二醇共聚物·聚對苯二甲酸乙二酯/聚乙烯奈（ polyethlenenaphthalate)之共押出薄膜等之聚醚系樹脂、 尼龍6 ·尼龍6 6 ·尼龍6 1 0等之聚醯胺系樹脂、聚丙烯· 聚甲基戊烯等之聚烯烴系樹脂、聚氯乙烯等之乙烯系樹脂 、聚丙烯酸酯·聚甲基丙烯酸酯·聚甲斟丙烯酸甲酯等之 丙烯系樹脂、聚醯亞胺·聚醯胺醯亞胺·聚醚醯亞胺等之 醯亞胺系樹脂、多芳化合物·聚硕·聚醚硕·聚苯醚·聚 苯撐硫化物（P P S ) •聚醯胺·聚醚酮·聚醚腈·聚醚酮 醚·聚醚亞硫酸鹽等之工程樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯等 之苯乙烯系樹脂等。 基材1 1可爲以這些樹脂爲主成分的共聚合樹脂，或 者混合體（含合金），或者由多數層形成的積層體。該基 材也可爲延伸薄膜，雖也可爲未延伸薄膜’但是在提升強 度的目的上，通常雖使用12〜1 000 // ηι之程度，但是以 -19- 1253321 (16) 5〇〜700//m爲適當，更適當爲1〇〇〜5〇〇"m。在此以下 之厚度時’機械強度不足，會產生變形或撓曲等，在此以 上時，變成多餘，成本上也是一種浪費。 基材Π雖使用由這些樹脂之至少1層形成的薄膜、 薄板、基板狀，但是在本說明書中，將這些形狀總稱爲薄 膜。通常以聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯環烷酸等之聚酯 系的薄膜’其透明性、耐熱性好，成本也便宜，所以可以 適當加以使用，以聚對苯二甲酸乙二酯最好。另外，透明 性雖然愈高愈好，最好可見光線透過率在8〇%以上。 鲁 基材1 1係可在塗佈前，先對塗佈面進行電暈放電處 理 '電漿處理、臭氧處理、框架處理、底漆（也稱爲底塗 層 '接著促進劑、易接著劑）塗佈處理、預熱處理、除塵 埃處理、蒸鍍處理、鹼性處理等之容易接著處理。因應需 要’該樹脂薄膜也可添加塡充劑、可塑劑、代電防止劑等 之添加劑。 (積層法）積層（也稱貼合）法係在基材1 1或者導 電材層1 09之一方塗佈接著劑或者黏著劑，因應需要予以 ® 乾燥，加熱或者不加熱予以加壓，介由接著劑1 3而接合 基材11和導電材層109。之後因應需要，在30〜80 °C之 溫度下予以老化。另外，基材1 1本身或者基材1 1爲多數 層時之積層面例如如爲離子聚合物樹脂、乙烯-醋酸乙烯 共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚物等 等之熱接著性的樹脂時，可以只在加熱下予以加壓即可。 (接著劑）接著劑1 3並無特別限定，例如可以使用 -20- 1253321 (17) 丙烯樹脂、聚酯樹脂、尿烷樹脂、環氧樹脂、氯乙烯-醋 酸乙烯共聚物樹脂等。另外，以使用因蝕刻液所致之染色 或者劣化少，加工合適性好的熱硬化型樹脂而由該業者稱 爲乾貼合法之方法爲佳。另外，紫外線（UV )、電子射 ί泉（E B )等之電離放射線予以硬化（反應）之電離放射 線硬化型樹脂也可以。電離放射線硬化型樹脂例如可以使 用聚酯（間）丙烯酸酯、尿烷（間）丙烯酸酯、環氧（間 )丙烯酸酯等之預聚合物（至低聚合物）、三羥甲丙烷三 (間）丙烯酸酯、二季戍四醇六（間）丙烯酸酯等之單體 '或者這些之混合物（此處，（間）丙烯酸酯係指丙烯酸 酯或者偏丙烯酸酯）。 (乾貼合）所謂乾貼合法係塗佈分散或者溶解於溶媒 之接著劑而使之乾燥，重疊貼合基材而予以積層後，以 3 〇〜1 2 0 °C予以數小時〜數日間老化，以使接著劑硬化， 以積層2種材料之方法。另外，改良乾貼合法之無溶劑貼 合法亦可，不分散或者溶解於溶媒，而塗佈接著劑本身予 以乾燥，重疊貼合基材予以積層後，以3〇〜12(rc予以數 小時〜數日間老化，以使接著劑硬化，以積層2種材料之 方法。 乾貼合法或者無溶劑貼合法所使用的接著層的接著劑 係可使用以熱或者紫外線、電子射線等之電離放射線而硬 化的接著劑。熱硬化接著劑具體可以使用：2液硬化型之 接著劑’例如由聚酯尿烷樹脂、聚醚尿烷樹脂或者丙烯尿 院樹脂等形成之尿烷系接著劑、丙烯系接著劑、聚酯系接 -21 - (18) 1253321 著劑、聚醯胺系接著劑、聚醋酸乙烯系接著劑、還氧系接 著劑、橡膠系接著劑等，其中以2液硬化型尿烷系接著劑 爲佳。 2液硬化型尿烷系樹脂具體爲例如由多官能基異氰酸 酯和羥基含有化合物的反應所獲得之聚合物，具體爲例如 可以使用由三烯二興氰酸環聚合物、二苯甲烷二興氰酸環 聚合物、聚亞甲基-聚二苯興氰酸環聚合物等之芳香族聚 興氰酸環聚合物、或者環亞甲基二興氰酸環聚合物、二甲 苯二興氰酸環聚合物、非完整二興氰酸環聚合物等之脂肪 族（至脂環式）聚興氰酸環聚合物等之多官能基異氰酸酯 ，和聚醚系聚醇、聚酯系聚醇、聚丙烯酸聚醇等之羥基含 有化合物之反應所獲得的2液型尿烷系樹脂。 最好爲配合以不會因蝕刻液而導致染色、劣化之苯乙 烯一順丁烯二酸共聚合聚合物所變性的聚酯聚尿烷樹脂和 脂肪族異氰酸酯之接著劑。 在乾貼合法中，可將以這些爲主成分的接著劑組成物 溶解或者分散於有機溶媒，將其例如以滾輪塗佈、反向滾 輪塗佈、凹版塗佈、凹版反向塗佈、凹版偏置塗佈、滾塗 塗佈、線軸塗佈、缺角塗佈、刀片式塗佈、浸漬塗佈、流 動式塗佈、噴霧式塗佈等之塗佈法加以塗佈，乾燥溶劑等 ，以形成本發明之貼合用接著層。最好爲滾輪塗佈、反向 滾輪塗佈法。 該接著劑1 3之膜厚以0. 1〜20 β m (乾燥狀態）之程 度，更好爲1〜1 〇 # m。一形成該接著層，即刻積層貼合 -22- 1253321 (19) 基材後，以3 0〜1 2 0 °C、數小時〜數曰間予以老化’使接 著劑硬化予以接著。該接著劑的塗佈面可爲基材側、導電 材部側之任何一側。最好爲經過粗糙化之銅箔側’橫跨粗 糙面之全體，如此可以抑制積層體產生氣泡。 無溶劑貼合法基本上雖與乾貼合法相同’但是’不將 接著劑組成物溶解或者分散於有機溶媒’所以雖原樣使用 接著劑組成物，但是可以因應需要’爲了降低黏度’加熱 加溫接著劑組成物而使用。 (黏著劑）黏著劑可使用周知之以感壓接著之黏著劑 。黏著劑並不特別限定，例如可以使用天然橡膠系、丁基 橡膠·聚異戊二烯·聚異丁烯·聚氯丁二烯·苯乙烯一丁 二烯共聚合樹脂等之合成橡膠系樹脂、二甲基聚矽氧烷等 之矽系樹脂、丙烯系樹脂、聚乙烯乙酸酯-乙烯一乙烯乙 酸酯共聚合體等之乙烯乙酸酯系樹脂、尿烷系樹脂、丙烯 脂、碳化氫系樹脂、院基酌樹脂、松香·松香甘油三酯· 氫化松香等脂松香系樹脂。 (橡膠系黏著劑）此處橡膠系黏著劑以在氯丁二烯橡 膠、腈丁二烯橡膠、丙烯橡膠、苯乙烯一丁二烯橡膠、苯 乙烯一異戊二烯〜苯乙烯、苯乙烯一丁二烯一苯乙烯、苯 乙烯一乙烯-丁二烯一苯乙烯、丁基橡膠、聚異丁烯橡膠 、天然橡膠、聚異戊二烯橡膠等脂黏著橡膠之一或者其之 多數配合酚系樹脂、變性酚樹脂、酮樹脂、醇酸樹脂、松 香系樹脂、香豆酮樹脂、苯乙烯系樹脂、石油樹脂、氯乙 烯系樹脂等之黏著賦予材料之一或者多數者爲有效。 -23- 1253321 (20) 橡膠系黏著劑與丙烯系接著材比較，耐藥品性、耐膨 潤性、耐溫度性、黏著性、以及剝離強度優異之故，接著 部份即使曝露在酸性或者鹼性之物質中，也不會剝離。另 外，橡膠系黏著材在酸性或者鹼性的藥液中幾乎不會發生 加水分解，黏著壽命長。 (藉由黏著劑之接著劑層的形成）將這些樹脂或者這 些之混合物當成乳膠、水分散液、或者有機溶媒液，以網 版印刷或者缺角塗佈等之周知的印刷或者塗佈法加以印刷 或者塗佈，因應需要，予以乾燥後，與另一方的材料重疊 加壓即可。 第5 A圖以及第5 B圖系說明以捲取捲筒狀之加工的 平面圖以及側面圖。 具體之積層方法，通常係在以帶狀連續捲取之捲筒狀 (也稱爲捲取捲筒）進行。第5A圖係平面圖，在由捲取 捲筒所捲出之伸張狀態下，電磁波遮斷用薄板1以一定間 隔貼著。第5B圖係側面圖，導電材層1 09和基材1 1係相 互積層著。首先，在捲取捲筒之金屬層21形成黑化處理 層23A、23B以及防鏽層25A、25B，獲得導電材層109。 接著，在導電材層1 〇 9的防鏽層2 5 A塗佈接著劑1 3予以 乾燥後，疊合基材1 1而加壓。另外，因應需要，在3 0〜 8 0 °C之環境下，進行數小時〜數日的老化（養生、硬化） ，獲得捲取捲筒2。 (微影法）如第8圖所示，對於該積層體之導電材層 1 0 9面設置抗蝕劑層1 〇 9 a呈網目圖案狀，以蝕刻去除未 -24- (21) 1253321 以抗鈾劑層1 〇 9 a所覆蓋的部份之導電材層後’以去除抗 蝕劑層1 〇 9 a之微影法，做成網目狀。 (遮蔽）首先，以微影法將基材Π和導電材層1〇9 的導電材層1 〇 9面做成網目狀。此工程也係加工以帶狀連 續捲取爲捲筒狀之積層體。一面連續或者間歇地運送該積 層體，一面在不鬆弛而伸張之狀態下，進行遮蔽、蝕刻、 抗蝕劑剝離。 首先，遮蔽例如係將感光性抗飩劑層1 〇9a全面塗佈 於導電材層1 〇 9上，乾燥後，以特定圖案（網目之線部） 版（母版）予以密接曝光，而曝光爲特定圖案狀。感光性 抗蝕劑在爲負型（曝光部硬化）時，設開口部爲遮光，線 部爲透光之圖案。另外，在感光性抗蝕劑爲正型（曝光部 溶解）時，設開口部爲透光，線部爲遮光圖案。曝光之光 源例如可使用水銀燈。予以水中顯影，施以硬膜處理等， 加以烘烤。 抗蝕劑之塗佈係連續或者間歇地一面運送捲取捲筒狀 的帶狀積層體（基材11和導電材層109 )，一面對於該 導電材層1 0 9面以浸漬、窗簾式塗佈、流動等之方法進行 酪蛋白、PVA、明膠等之抗蝕劑塗佈。另外，抗蝕劑也可 以不以塗佈方式爲之，而使用乾薄膜抗蝕劑，作業性得以 提升。在烘烤酪蛋白時’雖在200〜3 0(TC進行，但是爲 了防止積層體之變形，以儘可能在低溫進行爲佳。 (蝕刻）遮蔽後，進行蝕刻（腐蝕）。使用於該蝕刻 之蝕刻液，在連續進行蝕刻之本發明中，以容易循環使用 -25- 1253321 (22) 之氯化鐵、氯化銅之溶液爲佳。另外，該蝕刻係與製造倉虫 刻帶狀連續之鋼材，特別是厚度2 0〜8 0 // m之薄板的彩 色電視映像管用的影像光罩的設備基本上相同之工程。即 可以援用該影像光罩的既存的製造設備，由遮蔽至蝕刻可 以連貫連續生產，效率極爲好。蝕刻後，進行水洗、藉由 鹼性液之抗蝕劑剝離、洗淨，予以乾燥即可。 (著色防止效果）在該蝕刻時，對於全體吹以蝕刻液 之故，金屬層2 1以外的部份也受到蝕刻液的攻擊。特別 是在開口部1 〇 5形成後，在習知之情形下，接著劑層13 係露出，該接著劑層1 3由於蝕刻液的影響而著色。一著 色時，依據JIS-Z8729之表色系「L*、a*、b*、ΔΕ*」所 表示的色調中，該「L*」、「a*」以及「b*」變大，影像 的辨識性降低。 可是在本發明中，存在於基材1 1側的防鏽層2 5 A不 單在線部1 〇 7，也殘留在網目的開口部1 〇 5。因此，該防 鏽層2 5 A保護接著劑層1 3。因此，該接著劑層1 3不受到 蝕刻液的影響，不會著色，所以影像的辨識性不降低。另 外，與平坦化層2 9之接著性也不會降低。 (剝離防止效果）另外，在蝕刻後的抗蝕劑層1 09 a 之剝離上，利用鹼性之剝離液以進行剝離，在習知情形下 ，接著劑層1 3由於鹼性液之影像而可見到剝離。可是’ 在本發明中，在網目的開口部1 0 5也殘留防鏽層2 5 A，所 以該防鏽層25 A保護接著劑層1 3。因此’該接著劑層1 3 不受到鹼性之剝離液的影響，不會剝離。 -26- 1253321 (23) (污染防止效果）另外，通常接著劑層1 3係由蝕刻 液中的鐵或鈉所污染，但是在本發明中，防鏽層2 5 A保 護接著劑層1 3之故，也可以防止此污染。如沒有鐵或鈉 之污染，則不會有搭載於顯示器而曝露於高溫多溼等之特 殊環境時，偶而發生之電磁波遮斷用薄板1表面的水氣濡 溼現象，外觀上也優異。理由雖不太確定，一般推測爲防 鏽層25A係以金屬氧化物爲主體，表面張力大，水氣之 濡濕性好的原因。如此，藉由也在開口部1 0 5部份形成防 鏽層25 A，可以發現多數的特異的作用以及效果。 (網目）網目部1 〇 3係由多數具有開口部1 〇 5之線部 1 07所形成。開口部1 〇5的形狀並不特別限定，例如，可 使用正三角形、2等邊3角形等之3角形、正方形、長方 形、菱形、梯形等之4角形、5角形、6角形（龜甲形） ' 5角形等之η角形、圓形、橢圓形等。組合這些開口部 的多數而成爲網目。 由開口率、網目的非辨識性、以及影像的辨識性，網 目部1 0 3的線部1 〇 7之直線部的寬W設爲特定値± 3 0 %之 範圍內，而且，連接與透明基板正交的線切斷面（橫斷面 )之形狀的上底和下底的腹部（開口部周圍之側面）的曲 率半徑設爲上述金屬層厚度的1·5〜3.0倍。最好爲網目 部1 0 3的線寬W爲5〜2 5 // m，線和線的間距爲！ 5 〇〜5 〇 〇 μ m，另外，如後述般，關於網目部1 〇 3的外圍部附近的 1〜5 0網目，或者〇 . 1 5〜1 5 m m之部份，線部的寬度分布 也可設爲特定値±30%之範圍外。 (24) 1253321 通常在大型的電漿顯示器面板用的電磁波遮斷用薄板 形成數千條以上的直的線，而且，個別會相交。抑制該線 部1 〇 7的線寬之偏差，而且限制連接線部1 〇 7的切斷面之 形狀的上底和下底之腹部的曲率半徑。藉此，可以獲得具 有電磁波遮斷性和適度的透明性，網目的濃淡不均少，而 且，特別是黑和白之點狀以及線狀缺點襖，而且，顯示光 的閃燦少，且外光的反射受到抑制，具有優異影像辨識性 的電磁波遮斷用薄板1。 線部1 〇 7的寬W之偏差例如如設線寬1 4 # m時，爲 14±4.2/zm，範圍則爲9.8〜18.2//；〇1，如在此範圍內，網 目的濃淡不均、黑以及/或者白的點狀以及線狀的缺點便 不會發生。假如，線寬有寬窄，則網目會有濃度不均。另 外，在寬窄大時，人們在觀看顯示器影像時，寬的部份成 爲黑點缺點，窄的部份成爲白點缺點。對於全體之影像， 如有洞和白點以及/或者黑點時，人們會感覺到極強的不 協調。 但是’如依據本發明之電磁波遮斷用薄板1，以連續 微影法製造，藉由將線寬的偏差控制在特定的範圍內，網 目的濃淡不均極少發生，而且，電磁波遮蔽性以及透明性 也沒有問題。另外，網目的濃淡不均或黑以及/或者白的 點狀以及線狀的缺點’在抗蝕劑塗佈時，雖也發生抗蝕劑 液體之飛沫也附著在不需要的部份，但是藉由以連續微影 法製造，變得極少。 另外’線部1 07之寬W的控制，也可除掉連接於網 -28- 1253321 (25) 目部1 〇 3的外圍部之部份的外圍部的部份。此係網目部 1 〇 3結束，全面成爲由金屬層21所形成的接地用框部1 〇 i 之故，規則性斷掉，另外，在接地用框部1 0 1內圈的網目 外圍部中，朝向接地用框部1 01有使線寬暫時變寬等之別 的目的之處理故。該外圍部係由接地用框部1 0 1之內圈起 爲1〜50網目，或者0. 1 5〜1 5mm，更好爲1〜25網目， 或者 0.3〜7.5 mm 〇 如此，在將連接線部1 〇 7與透明基板1 1正交的線部 1 0 7的切斷橫斷面之形狀的上底和下底之腹部的曲率半徑 設爲上述金屬層厚度的1 . 5〜3 · 0倍，而且，線寬設爲特 定値± 3 0 %上，係以抗鈾劑的種類或蝕刻工程的條件予以 控制。例如，期望抗蝕劑使用乾抗蝕劑或液體抗蝕劑，另 外，触刻條件爲設蝕刻液的波美度（Baume )爲35度以 上，蝕刻液使用氯化銅或者氯化鐵水溶液，蝕刻液的溫度 設爲35度以上，蝕刻液的噴灑流速設爲2000ml/分以上 ，而且，使噴灑噴嘴晃動、左右搖動以進行蝕刻。 另外，爲了控制線寬，線部1 〇 7的曲率半徑設爲比要 獲得上述圖案版之線寬的產品之線寬還大，藉由儘可能使 腐蝕量變大，使鈾刻液的蝕刻速度慢，可以溶液控制曲率 半徑、線寬。 另外，連接線部1 07的上底和下底之腹部的曲率半徑 係以切片機（m i c r 0 t0 m e )將與透明基板1 1正父的線邰 1 0 7切片，濺鍍白金箔後，以2 0 0 0倍的電子顯微鏡攝取 該線部1 〇 7的切斷面，由此攝取的相片中’由上底端値和 -29- 1253321 (26) 下底端値推算求得。但是，藉由蝕刻所形成的腹部的形狀 不一定要爲真圓形，也可爲接近略圓形之圓周線，梯形之 斜線的線。 總之’含上底右端和下底右端或者上底左端和下底左 端的線部份只要爲金屬層厚度的1 . 5〜3.0倍之曲率半徑 即可。另外，曲率半徑不必要爲一定，也可以改變，只要 在金屬層厚度的1.5〜3.0倍之範圍即可。 另外’線成爲電磁波遮斷用薄板的下部面之偏斜角， 在第1圖之圖示中，雖顯示爲45度，但是並不限定於此 ’爲了波紋之解除等，可以適當加權顯示器的發光特性或 畫素的排列等而適當加以選擇。 (平坦化）網目一形成時，網目的線部1 07雖有金屬 的厚度，但是開口部1 0 5係金屬層2 1被去除而成爲空洞 ，結果爲，開口部1 0 5對於線部1 0 7相對成爲凹部。導電 材層1 09如此成爲凹凸狀態。該凹凸在下一工程被塗佈接 著劑（或者黏著劑）時，由該接著劑等所埋住。但是，網 目形成後，即刻貼合在其他構件（例如）顯示器（表面版 )時，凹凸則露出，作業性不單變差，在該開口部1 0 5的 凹部內會殘留氣泡，光會在氣泡和接著劑的界面成爲散射 ，霧狀變多，而成爲白化狀態，所以以埋住該凹部予以平 坦化爲佳。 平坦化雖係在該凹部塗佈透明樹脂予以塡充而埋住， 但是如不進入到凹部的角落處，氣泡殘留，而透明性劣化 。因此，以溶劑等加以稀釋，以低黏度予以塗佈、乾糙， -30- 1253321 (27) 一面使空氣脫離一面進行塗佈，以形成平坦化層2 9。 平坦化層29透明性高，與構成網目的金屬之接著性 好，與下一工程之接著劑的接著性好者即可。但是，平坦 化層2 9的表面如有突起、凹陷、不均時，在平坦化層2 9 上塗佈接著劑，與其他覆蓋體3 2積層時的接著劑中的氣 泡殘留效果也變得不完全。另外，在將電磁波遮斷用薄板 設置於顯示前前面時，會產生波紋、干涉不均、牛頓流動 ，並不理想。理想之方法爲：樹脂係以溶劑稀釋紫外線硬 化樹脂使其爲低黏度化狀態下加以塗佈，使該樹脂流動於 開口部1 0 5之凹部內全區域予以塡充之，使溶劑乾燥後， 以平面性優異，有剝離性之基材予以積層，以熱或者紫外 線使塗佈樹脂硬化，剝離去除剝離性基材。平坦化層29 的表面由於轉印平面性基材之表面，所以形成平滑的面。 剝離性基材例如可舉出使矽樹脂爲離型層，塗佈在表面之 2軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯。 使用於平坦化層29之樹脂並無特別限制，可使用各 種天然或者合成樹脂、熱或者電離放射線硬化樹脂等，由 樹脂的耐久性、塗佈性、平坦化容易度、平面性等，以尿 烷（間）丙烯酸酯、聚酯（間）丙烯酸酯、環氧（間）丙 婦酸酯等之預聚合物（或者低聚合物）、三羥甲丙烷三（ 間）丙烯酸酯、二季戍四醇六（間）丙烯酸酯等之單體、 或者這些預聚合物和單體之混合物所形成的紫外線硬化樹 脂° (近紅外線吸收劑）另外，以在使用於平坦化層29 -31 - 1253321 (28) 的樹脂添加吸收近紅外線的特定波長頻帶之近紅外線吸收 劑爲佳。藉由吸收近紅外線的特定波長頻帶，可以遮蔽來 自顯示器所輻射的近紅外線，可以防止藉由該近紅外線之 遠端操作裝置等以近紅外線動作的機器之誤動作。此處， 近紅外線的特定波長爲7 8 0〜1 200nm。特別期望吸收800 〜1 100 nm之波長頻帶的80%以上。該近紅外線吸收劑（ 稱爲NIR吸收劑）並無特別限制，可以使用在近紅外線 區域有急遽之吸收，可見光頻帶的光透過性高，而且，在 可見光區域沒有特定波長之大的吸收的色素等。NIR吸收 劑係使用肽花青系化合物、亞氨系化合物、二亞氨系化合 物、二硫醇金屬複合物系化合物等。這些的NIR吸收劑 可以使用單獨1種，但是最好使用2種以上混合。例如， 二亞氨系化合物和肽花青系化合物的混合系。另外，由 PDP所發出的可見光區域通常多數爲氖原子之發光光譜的 橘色，以含有可某種程度吸收可見光中的5 70〜6 0 5 nm附 近頻帶的色調補正用光線吸收劑爲佳。該色素有花青系化 合物、肽花青系化合物、奈花青系化合物、奈醌系化合物 、思醌系化合物、二硫醇金屬複合物等。這些近紅外線吸 收劑和色調補正用光線吸收劑可因應需要添加其中一種或 者兩種。 (NIR吸收層）NIR吸收層31B、31 A係各設置於平 坦化層2 9側以及/或者相反側的基材1 1側。在設置於平 坦化層29面時，爲第1圖所示之NIR吸收層31B，在設 置於基材1 1面時，爲第1圖所示之NIR吸收層3 1A。 1253321 (29) NIR吸收層31B以及NIR吸收層31A係以接著劑積層具 有NIR吸收劑的市售薄膜（例如，東洋紡績公司製造， 商品名N 〇 2 8 3 2 )，也可使結合劑含有先前的n I R吸收劑 而加以塗佈。結合劑可以使用聚酯樹脂、聚尿烷樹脂、丙 烯樹脂或者利用以熱或者紫外線等可以硬化之環氧基、丙 嫌酸醋、間丙烯酸酯、異氰酸酯基等之反應的硬化型等。 依據本發明之電磁波遮斷用薄板一般係另外介由接著 劑層與別的覆蓋體積層而使用。被覆蓋體32可舉出：透 明基板（保護層或者補強層）、在該透明基板上進而形成 反射防止層、厚塗層、防污層、防眩層等而成的各種機能 性薄板，或者顯示器本體等。覆蓋體可設於基材1 1側、 導電材層1 09側、或者其之兩側。第7圖係顯示在導電材 層1 〇 9側積層覆蓋體3 2之情形。在此圖中，係導電構件 上介由接著劑層3 3而積層覆蓋體3 2。在此情形下，如沒 有注意開口部內的空氣由接著劑充分予以置換時，會在開 口部內殘留氣泡B。在此情形下，如接著劑層3 3不直接 在導電材層109上而是在平坦化層29塗佈接著材，則可 以防止在此種接著劑3 3中殘留氣泡B。 (反射防止層）也可以在電磁波遮斷用薄板的觀看側 設置反射防止層（稱爲A R層）。反射防止層係防止反射 可見光線用，其構造可使用市售之單層、多層者。多層者 係交互積層高折射率層和低折射率層者’高折射率層有氧 化鈮、氧化鈦、氧化鉻、ΙΤ〇等’低折射率層有矽氧化物 、氟化鎂等。另外’也有具有散射外光的微細凹凸表面之 -33- 1253321 (30) 層者。 (厚塗層、防污層、防眩層）另外，也可以在反射防 止（A R )層設置厚塗層、防污層、防眩層。厚塗層係以 J I S - K 5 4 Q 0之鉛筆硬度試驗，具有η以上之硬度的層，以 4或者電離放射線使聚酯（間）丙j：希酸酯、尿院（間）丙 烯酸酯、環氧（間）丙烯酸酯等之多官能基（間）丙烯酸 酯硬化。防污層係撥水性、撥油性之塗層，可以使用矽氧 烷基、氟化矽烷基化合物等。防眩層係具有散射反射外光 之微細凹凸表面的層。 · (薄板化）如上述班切斷以連續帶狀的捲取捲筒狀態 所製造的構件，獲得1片1片的電磁波遮斷用薄板1。將 該電磁波遮斷用薄板1黏貼在當成覆蓋體之玻璃、樹脂等 之透明基板，另外，因應需要，與A R層、厚塗層、防污 層、防眩層組合而成爲顯示器前面板。該基板在大型的顯 示器，係具有厚度 1〜1 〇 n m之剛性，另外，在文字顯示 管等之小型的顯示器，係使用厚度0 · 0 1〜0 · 5 mm之樹脂薄 膜，因應顯示器的大小或用途，可以適度選擇。或者也可 ® 以直接接合、積層於顯示器的前面。 有將本發明之電磁波遮斷用薄板直接積層於顯示器表 面之形態。 說明（直接貼合）。在此情形，成爲網目狀的金屬層 側係成爲觀看側，可至少在該金屬層側設置黑化處理層。 接地用框部101露出表面之故，容易引出電極，可容易接 地。另外，不在接地用框部1 0 1設置平坦化層。另外，防 -34- 1253321 (31) 鏽層2 5 B、黑化處理2 3 B係極爲薄之層，所以不成爲接地 之妨礙。另外，該接地用框部1 〇 1係被黑化處理，黑色面 成爲觀看側，所以不需要設置在前面玻璃板的額緣狀之黑 色印刷，可以縮短工程，成本面也有利。 接著，說明具體的實施例。 (實施例1)作爲含金屬層2 1之導電材層1 09係準 備具有由平均粒子直徑〇.3/zm之銅-鈷合金粒子所形成 的黑化處理層2 3 A、2 3 B，以及另外設於其上的鉻酸鹽（ 處理）層2 5 A、2 5 B之厚度1 0 # m的電解銅箔。以2液硬 化型尿烷系接著劑貼合該銅箔的鉻酸鹽處理層面側和由厚 度100/i m之透明2軸延伸PET(聚對苯二甲酸乙二酯）薄 膜A43 00(東洋紡績公司製造，商品名）所形成的基材後， 在5 6°C老化4日。接著劑爲使用主劑Takelac A-310(多元 醇）和硬化劑A-10(異氰酸酯）（兩者都是武田藥品工業公 司製造，商品名），塗佈量爲在乾燥後之厚度7 // m。鉻 酸鹽處理爲利用0.1 %濃度之Alsurfl 000 (日本塗料公司製 造，鉻酸鹽處理劑商品名），進行4(TC、1分鐘浸漬之處 理，水洗後，在8 0 °C乾燥1 0分鐘。 接著’藉由微影法之網目的形成係援用以連續之帶狀 由遮蔽進行至蝕刻爲止之彩色電視機影像光罩用的製造線 。首先’對於該貼合薄膜的導電材層外表面的全體以垂流 法塗佈由酪蛋白形成的感光性抗蝕劑。送往下一工作站， 利用開口部爲正方形，線寬2 2 // m、線間隔（間距）3 0 0 V m、偏斜角角度4 9度、接地用電極不的寬5 mm的圖案 -35- 1253321 (32) 版（光罩），利用水銀燈進彳T密接曝光。一個接一個地一 面運送工作站，一面以水顯影，進行硬膜處理，進而以 8 0 °C進行燃燒處理。 另外，送往下一工作站，蝕刻液係使用4 0 °C、4 0 °波 美度之氯化鐵水溶液，以使側面蝕刻有效的噴灑法進行噴 灑，蝕刻去除開口部的電解銅箔、黑化處理，在位於基材 側的鉻酸鹽處理層殘留之狀態下，形成網目的開口部。一 個接一個地運送工作站，水洗之，剝離抗蝕劑，洗淨，另 外，以80°C乾燥，獲得實施例1之電磁波遮斷用薄板。 (實施例2 )對於鉻酸鹽（處理）層不含氧化鋅外， 與實施例1相同處理，獲得實施例2之電磁波遮斷用薄板 〇 (實施例3 )代替鉻酸鹽（處理）層，以電鍍法利用 氧化鎳外，與實施例1同樣處理，獲得實施例3之電磁波 遮斷用薄板。 (實施例4 )代替鉻酸鹽（處理）層，以電鍍法利用 氧化鎳以及氧化鋅外，與實施例1同樣處理，獲得實施例 4之電磁波遮斷用薄板。 (實施例5 )代替鉻酸鹽（處理）層，以電鍍法利用 氧化鎳、氧化鋅以及氧化銅外，與實施例1同樣處理，獲 得實施例5之電磁波遮斷用薄板。 (比較例1 )不設置基材側之鉻酸鹽（處理）層25A 外，與實施例1同樣處理，獲得比較例1之電磁波遮斷用 薄板。 -36- 1253321 (33) (實施例6 )在實施例1之電磁波遮斷用薄板的網目 部表面塗佈下述組成的平坦化層組成物，貼合厚度5 0 // m 之SP-PET20-BU (Tocero公司製造，表面離型處理PET薄 膜商品名）後，利用高壓水銀燈，進行2 0 0mj/cm2之曝光 (換算爲 365nm)。然後，一剝離 SP-PET20-BU時，網 目部的開口部藉由平坦化層組成物所塡充，得以獲得平坦 化之實施例2的電磁波遮斷用薄板。 平坦化層組成物係利用 N-乙烯- 2 -吡咯酮（ pyrrolidone) 20質量部、二環戊烯丙烯酸酯25質量部、 低聚酯丙烯酸酯（東亞合成（股份）製造，M- 8 060 ) 5 2 質量部、1-氫氧環己醋苯基銅（Ciba-Geigy公司製造， Yirga curel 84 ) 3 質量部。 (實施例7 )使實施例6之平坦化層組成物含有硫醇 鎳-鎳複合物1質量部以外，與實施例6同樣處理，獲得 電磁波遮斷用薄板。 (實施例8 )對於實施例6的平坦化層面以黏著劑積 層NIR薄膜N〇 2 8 3 2 (東洋紡績公司製造，近紅外線吸收薄 膜商品名）外，與實施例6相同處理，獲得電磁波遮斷用 薄板。 (實施例9 )(直接貼合）與不是銅一鈷合金粒子的 鉻酸鹽（處理）層之面貼合PET薄膜外，與實施例1相 同處理，另外，與實施例6相同形成平坦化層，獲得實施 例9之電磁波遮斷用薄板。

將實施例以及比較例的電磁波遮斷用薄板搭載於PDP 1253321 (34) 面板，以目視觀察顯示影像的辨識性，另外測量紅外線吸 收性。 (結果）在實施例1〜8中，於顯示在PDP顯示器的 影像，都沒有閃爍，也沒見到白以及/或者黑點狀、線狀 缺點、霧狀（白化），辨識性良好。另外，測量光線透過 率，在波長 8 0 0〜1 l〇〇nm頻帶的近紅外線透過率爲低於 2〇%。在實施例9的電磁波遮斷用薄板中，以黏著劑將基 材面設置於PDP顯示器，顯示光反射之散亂光少，也沒 有閃爍，影像的辨識性良好，另外，電極的引出工程數也 少，也不需要設置在玻璃基板之額緣狀的黑色印刷。 另外，以螢光X射線分析裝置（RIX3 0 00、Rigaku公 司製造，商品名）將實施例1〜9之接著劑層測試其F e、 N a，沒有檢測出，開口部也沒有見到白濁、著色。另外， 設置於P D P顯示器，連續經過1 0小時以顯示影像，也沒 有見到異常。 在比較例1中，開口部有若干白濁，在顯示於PDP 顯示器的影像其對比差’辨識性也不好。 如依據本發明之電磁波遮斷用薄板，配置在CRT、 PDP等之顯示器的前面，遮蔽由顯示器所發生的電磁波， 而且，網目的線部份爲非辨識性，滿足電磁波遮斷性、透 明性之兩特性，而且’將任何一面當成觀看側，都可以良 好辨識影像。 【圖式簡單說明】 -38· 1253321 (35) 第1圖係本發明之電磁波遮斷用薄板的zp面圖。 第2圖係模型顯示本發明之電磁波遮斷用薄板的一部 份之斜視圖。 第3A圖係第2圖之AA剖面圖。 第3B圖係第2圖之BB剖面圖。 第4圖係說明導電材層之構造的剖面圖。 第5 A圖係說明捲取捲筒狀之加工的平面圖。 第5 B圖係說明捲取捲筒狀之加工的剖面圖。 第6圖係黏貼於顯示器面之本發明的電磁波遮斷用薄 板的剖面圖。 第7圖係顯示具有覆蓋體之電磁波遮斷用薄板的剖面 圖。 第8圖係顯示電磁波遮斷用薄板的製造方法® ° 主要元件對照表 1 電 磁 波 遮 斷用薄板 11 基 材 13 接 著 劑 層 2 1 金 屬 層 23 A、 23B 黑 化 處 理 層 25 A、 25B 防 鏽 層 29 平 坦 化 層 3 1 A、 3 1 B NIR 吸 收 層 32 覆 蓋 體 -39- 1253321 (36) 10 1 接地用框部 103 網目部 105 開口部 107 線部 109 導電材層

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Claims (1)

1253321 (1) 拾、申請專利範圍 1 . 一種電磁波遮斷用薄板，其特徵爲具備： 透明基材；及 設置於基材的一面之透明防鏽層；及 設置於防鏽層上，而具有形成開口部之線部的網目狀 金屬層， 防鏽層係設置在線部和對應開口部的部份之兩方。 2 .如申請專利範圍第1項記載之電磁波遮斷用薄板， 其中，金屬層的線部之線寬爲5〜2 5 // m，線部間的間距 爲 150 〜50 0// mo 3 ·如申請專利範圍第1項記載之電磁波遮斷用薄板， 其中，在金屬層的一面設置黑化處理層。 4 ·如申請專利範圍第1項記載之電磁波遮斷用薄板， 其中，在金屬層的基材之相反面設置追加防鏽層。 5 ·如申請專利範圍第1項記載之電磁波遮斷用薄板， 其中，在網目狀的金屬層的開口部塡充透明樹脂，金屬層 和透明樹脂變成平坦狀。 6 ·如申請專利範圍第5項記載之電磁波遮斷用薄板， 其中，塡充在網目狀的金屬層的開口部之透明樹脂，係含 有··吸收可見光線中的波長5 7 0〜6 0 5 n m頻帶之光的色調 補正用光線吸收劑以及/或者吸收近紅外線波長8〇〇〜 1 1 0 Onm頻帶之光的近紅外線吸收劑。 7 .如申請專利範圍第4項記載之電磁波遮斷用薄板， 其中，在基材或者追加防鏽層之任一種之外方設置吸收可 -41 - 1253321 (2) 見光線中的波長5 7 0〜6 0 5 nm頻帶之光的色調補正用光線 吸收劑層以及/或者吸收近紅外線波長8 0 0〜llOOnm頻 帶之光的近紅外線吸收劑層。

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