JP2003249791A

JP2003249791A - ディスプレイ用光透過性電磁波シールドフィルタ及びその基材とその製造方法

Info

Publication number: JP2003249791A
Application number: JP2002047414A
Authority: JP
Inventors: Hiroaki Takahashi; 宏明高橋; Hajime Nakamura; 一中村; Masamitsu Fukuyama; 正充福山; Hiroshi Nomura; 宏野村
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Resonac Corp
Priority date: 2002-02-25
Filing date: 2002-02-25
Publication date: 2003-09-05

Abstract

(57)【要約】【課題】電磁シールドフィルタ基材において、用いる
接着剤を改善し、基材の平滑性を確保し、かつ耐薬品
性、信頼性をもったディスプレイ用光透過性電磁波シー
ルドフィルタ及びその基材とその製造方法を提供する。【解決手段】金属薄箔のフォトエッチング法にて形成
された電磁波シールド層１１と、透明プラスチックフィ
ルム１４と、電磁波シールド層１１と透明プラスチック
フィルム１４の間に設けた接着剤層１２、１３とからな
るディスプレイ用光透過性電磁波シールドフィルタ基材
であって、接着剤層１２、１３は、複数層の接着剤から
なる。接着剤層の金属薄箔１１に接する層１２の接着剤
は、フォトエッチング工程での耐熱性、耐薬品性を有す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ用光
透過性電磁波シールドフィルム及びその基材とその製造
方法であり、ディスプレイの前面から発生する電磁波を
遮蔽することができる光透過性電磁波シールドフィルム
基材に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、社会の高度情報化には、めざまし
いものがある。これらを達成するのに必要不可欠なもの
の一つにディスプレイが挙げられる。ＴＶはもちろんの
こと、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、分
析機器、ゲーム機、自動車の車載モニタ、携帯電話機等
いたるところで多用されている。また、各々の大型化・
軽量化はめざましいものがある。

【０００３】一方で、電気、電子機器から放射される電
磁波は大きな社会問題になりつつある。電磁波により周
囲の機器にノイズが入って誤動作させる恐れがある。電
気、電子機器そのものの増加やそれぞれの機器の制御に
コンピュータが多用されることから、障害が起り易く、
重大な事故につながる可能性がある。また、人体に対す
る健康障害の危険性も指摘されている。欧米ではすでに
法規制がなされており、日本でもメーカ団体の自主規制
がある。この電磁波の遮蔽（シールド）方法としては、
機器筐体そのものを金属体又は、高導電体にしたり、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入する、ケーブルに
金属薄箔を巻きつける等の方法がある。

【０００４】しかし、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマ）、Ｅ
Ｌなどのディスプレイ表面から放射される電磁波につい
ては、前述のような方法をとると、ディスプレイ本来の
最も重要な“見る”という機能が満たされなくなってし
まう。そこでディスプレイ表面に対する電磁波シールド
には、電磁波シールド性と視認性を得るための透明性の
両方が求められる。ディスプレイ表面に取付ける電磁波
シールドフィルタについて、図４を用いて説明する。電
磁波シールドフィルタ６には、ディスプレイ表面に設置
されるため、高い透明性と電磁シールド性の両立が要求
されるており、表面に反射防止層６１、中間に保持の為
の硬質透明基板（ガラス、アクリル板等）６２、そして
電磁波シールド層６３より成る。各々の部材は、硬質透
明基板６２に粘着剤を使って貼り合わされる。

【０００５】電磁波シールド性と透明性を両立する方法
として、種々の方法が提案されている。なかでも特開平
１０−４１６８２号公報に開示されるように、透明プラ
スチックフィルムと導電材料とを接着剤で接着し、導電
材料にケミカルエッチングプロセスにより幾何学図形
（単純には網目の形）を形成させたシールドフィルムを
ディスプレイ前面に配する方法が最も良い特性が得られ
ることがわかっている。この製造方法および材料は、フ
レキシブル印刷配線板の製造法に準じたものであり、設
備、手法としてはほぼ確立された工法である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＣＲ
Ｔ、ＰＤＰ用途に用いる電磁波シールドフィルタは、汎
用のフレキシブルプリント基板を含む配線板と比べると
サイズが非常に大きいばかりでなく、光透過性の確保と
表示品質を確保するために、高透明な材料を用いるばか
りでなく、電磁波シールド層のパターン加工には、非常
に微細な細線を欠陥無く全面に形成する必要があり、こ
の製造工程において歩留向上の障害となっており、価格
低減の隘路となっている。また当然画面の歪みは発生し
てはならず、この目的のため、電磁波シールド層にも高
い平面性が要求される。

【０００７】この歩留向上および平面性の確保の双方に
影響する因子として、加工に供する基材の品質がある。
この基材は、銅箔等の金属薄箔とＰＥＴ等の透明プラス
チックフィルムを、接着剤を用い、熱ロールラミネート
法によって連続的に貼りあわせることによって製造され
るのが効率、価格的にも最適である。ここに用いられる
接着剤は、高い透明性を有し、一般的にアクリル系、ま
たはエポキシ系、ポリエステル系、およびそれらの配合
品が用いられる。透明性は本来接着剤が有する特性であ
り、選定すれば問題はないが、以下の要求にも対応する
必要がある。基板となる透明プラスチックフィルムは一般に耐熱
性が低く、銅箔との貼り付け時温度はなるべく低い方が
好ましい。特に価格、透明性、表面平滑性の点より考え
て、ＰＥＴフィルムは最も有力な材料であるが、このフ
ィルムを使用するためには、１２０℃以下の温度で貼り
合わせる必要がある。これ以上の温度では、熱、圧力に
よる影響で、フィルム自体に変形が生じ、基材の平滑性
が確保されない。金属薄箔のエッチング工程では、酸・アルカリの高
温度処理工程がありそれに耐える事。より詳細には、金
属薄箔のエッチング加工に用いられる液は強酸で４０℃
程度の液温である。また用いたエッチング用レジストの
除去には、強アルカリ液でやはり４０℃程度の液温であ
る。接着剤の耐薬品性が低いと、このエッチング工程の
処理中に変色や浮き、表面の変質が生じ、透明性が失わ
れてしまう。長期の信頼性が必要。これは最終的な製品構成によ
って変わるが、一般的には、８０℃×１０００時間。６
０℃×９５％×１０００時間処理等の処理によって評価
される。この条件で処理された時、変色や膨れ等の目に
見える変質があってはならない。

【０００８】従来の基材の製造方法では、透明プラスチ
ックフィルム上に接着剤を連続塗布し、銅箔等の金属薄
箔と熱ラミネートして製造される。この熱ラミネートの
際、熱により軟化するのは接着剤のみである。その結
果、金属薄膜と接着剤の密着力を確保するためには、接
着剤の十分な軟化が必要となる。この密着力は、加工時
の金属薄箔の回路剥がれや、製品の信頼性を考慮した場
合、最低でも１００ｇｆ／ｃｍ程度は必要と考えられ
る。

【０００９】また熱ラミネートでは、貼りあわせ時の加
熱時間が瞬時である。このの接着剤の十分な軟化と加熱
時間が短いことを両立させるため、製造時の熱ロールの
温度は接着剤のＴｇを大幅に上回った設定、圧力も大き
な設定とする必要がある。

【００１０】さらに光透過性電磁波シールドフィルム用
途として、上記〜の条件を満たす為には、耐熱性・
耐薬品性・信頼性を重要視するため、用いる接着剤には
比較的Ｔｇの高い高分子量の材料を中心に配合すること
が好ましくなる。この様な配合では、接着剤の軟化温度
が上がり、また軟化の程度も低くなる。

【００１１】以上の結果として銅箔／透明プラスチック
フィルムの貼り付け時温度・圧力が高くなり、材料の中
でも耐熱性の劣るプラスチックフィルムが変形し、上記
に記載した基材の平滑性を確保することが困難とな
る。

【００１２】本発明は、上記問題を鑑みなされたもので
あって、電磁シールドフィルタ基材において、用いる接
着剤を改善し、基材の平滑性を確保し、かつ耐薬品性、
信頼性をもったディスプレイ用光透過性電磁波シールド
フィルタ及びその基材とその製造方法を提供することを
目的とする。

【００１３】

【課題を解決しようとする手段】すなわち、本発明は、
従来基材が一つの接着剤層で形成されていたため、全て
の要求を同時に満足することが困難であったことに対
し、接着剤層を複数層で構成することにより、各層に各
要求を分担して満足させることを目指したものである。
生産上では、層数が増えるほど製造コストが上がる為、
層数は少ないほうが好ましい。鋭意検討した結果、２層
の接着剤層を用いることにより、要求特性を満足させる
ことが判った。更に詳しく述べると、まず金属薄膜に接
着剤を塗布する。次に透明プラスチックフィルム上に接
着剤を連続塗布する。そして、塗布した両接着剤同士を
熱ラミネートするものである。

【００１４】本発明は、金属薄箔のフォトエッチング法
にて形成された電磁波シールド層と、透明プラスチック
フィルムと、電磁波シールド層と透明プラスチックフィ
ルムの間に設けた接着剤層とからなるディスプレイ用光
透過性電磁波シールドフィルタ基材であって、前記接着
剤層は、複数層の接着剤からなるディスプレイ用光透過
性電磁波シールドフィルタ基材である。

【００１５】また、本発明は、上記接着剤層の金属薄箔
に接する層の接着剤は、フォトエッチング工程での耐熱
性、耐薬品性を有するディスプレイ用光透過性電磁波シ
ールドフィルタ基材である。

【００１６】そして、本発明は、金属薄箔のフォトエッ
チング法にて形成された電磁波シールド層と、透明プラ
スチックフィルムと、電磁波シールド層と透明プラスチ
ックフィルムの間に設けた接着剤層とからなるディスプ
レイ用光透過性電磁波シールドフィルタ基材の製造方法
であって、金属薄箔上にフォトエッチング工程での耐熱
性、耐薬品性を有する接着剤からなる層を形成する工程
と、透明プラスチックフィルム上に接着剤層を形成する
工程と、フォトエッチング工程での耐熱性、耐薬品性を
有する接着剤からなる層を形成した金属薄箔と、接着剤
層を形成した透明プラスチックフィルムとを、接着剤同
士を向かい合わせてラミネート法によって貼り合わせる
工程とを有するディスプレイ用光透過性電磁波シールド
フィルタ基材の製造方法である。

【００１７】更に、本発明は、反射防止層と、硬質透明
板と、基材とからなるディスプレイ用光透過性電磁波シ
ールドフィルタであって、前記基材は、上記の基材であ
るディスプレイ用光透過性電磁波シールドフィルタであ
る。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を説明する。
以下、本発明のディスプレイ用光透過性電磁波シールド
フィルタ及びその基材とその製造方法について、図１及
び図２を用いて詳細に説明する。図１は、実施例の光透
過性電磁波シールドフィルタ基材の構成説明図である。
図２は、実施例の光透過性電磁波シールドフィルタ基材
の製造装置のラミネート機の概略説明図である。

【００１９】本発明によって得られる基材１の構成は、
図１に示すように、銅箔１１、第１の接着剤層１２、第
２の接着剤層１３、透明基板１４からなる。以下の説明
は、本基材１を生産するための工程順に示す。本基材１
に用いる金属薄箔１１は、銅、ニッケル、アルミ等の金
属薄箔であれば品種を限定するものではないが、価格、
細線加工性、生産性を考慮した場合銅箔が最適と考えら
れる。また銅箔１１の品種としては、印刷配線板用に市
販されているものが好ましい。この銅箔１１は、第１の
接着剤層１２と接する面に化学処理が施されており、接
着剤層１２との密着力が向上し、製品化後の信頼性に関
しても良好な結果が得られやすい利点がある。銅箔１１
の厚さとすると、汎用品として１８、または１２μｍ以
下等の薄い箔が使用可能である。

【００２０】この銅箔１１の上に第１の接着剤層１２を
形成する。使用する接着剤は、透明で、金属薄箔のエッ
チング工程での耐薬品性が得られ、製品化後の信頼性試
験に耐えることを要求される。材質としては、主材とし
てアクリル系、エポキシ系、ポリエステル系、またはそ
れらの混合物等がある。またこの接着剤のガラス転移温
度は４０℃以上が好ましい。理由は、エッチング工程で
の着色防止のためである。この層のＴｇが低いと、エッ
チング工程で晒される高温度処理液によって軟化し、そ
の液の色が付着してしまうからである。一般的なエッチ
ング工程での処理液温度は４０℃程度であり、接着剤層
のＴｇとしては、約４０℃程度あれば着色がないことを
確認している。また工程での液温度を下げることによっ
て、接着剤層１２の軟化が抑制され、色は付着しにくく
なるが、工程の速度も伴って下げる必要が生じるので、
生産性が劣ってしまう。

【００２１】第１の接着剤層１２の形成方法としては、
連続塗布方式を用いた。本方式は、接着剤を溶剤に溶い
た液を銅箔１１上に所定厚さで塗り、乾燥して溶剤を除
去する方法である。溶剤除去後の接着剤層１２の厚さ
は、薄い方が塗布工程での速度向上が可能で好ましい
が、あまり薄いと塗布膜の欠陥が増加してしまう。一般
的には３〜２０μｍ程度と考えられる。本塗布の工程
は、連続して行われ、塗布、溶媒除去の工程を経由して
ロール状に巻き取る。

【００２２】また本方式によれば、金属薄箔１１上に塗
布により第１の接着剤層１２を形成するため、従来の熱
と圧力で接着する従来方式に比べ、金属薄箔１１／接着
剤層１２界面の接着力は、大きな値が得られるばかりで
なく、安定している利点もある。

【００２３】次に透明基板１４上に第２の接着剤層１３
を形成する。透明基板１４としては、透明なプラスチッ
クフィルムを用いる。本用途に適したプラスチックフィ
ルムとしては、アクリル、ポリカーボネート、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリエステル等があるが、透明
性、フィルムの平滑性、取り扱い易さ、価格、各種厚さ
品の入手のし易さ等からポリエステルフィルム（以下、
「ＰＥＴフィルム」と表記する）が最適と考えられる。
このＰＥＴフィルム１４上に第２の接着剤１３を塗布法
によって形成する。塗布方式は、前述の銅箔１１上への
第１の接着剤１２形成方式と同一のため、省略する。

【００２４】第２の接着剤層１３は、低温度で前述の金
属薄箔１１／第１の接着剤層１２と透明基板１４とを接
着することを目的としている。今回使用したＰＥＴフィ
ルム１４は、本用途に最適な基材ではあるが、このフィ
ルム製造時に面内４方向に伸ばしながら製膜するため、
高温処理を施すと内部に存在する応力が開放され、収縮
や歪み等の変形を生じる欠点もある。

【００２５】従来の基材では、最終製品での信頼性を確
保する為比較的高いＴｇ（４０℃以上）の接着剤を利用
しており、この接着剤を用いて連続的に銅箔と接着剤を
塗布したＰＥＴフィルムを貼りあわせしようとすると、
熱ラミネート時のロール表面温度は１３０℃以上の温度
が必要となり、ＰＥＴフィルムの変形が発生し、歪みや
シワの原因となり、生産歩留を大幅に低下させている。

【００２６】本発明で使用する第２の接着剤１３は、第
１の接着剤と同じ、または、基材加工時に薬液に接触し
ないため、第１の接着剤１２より低Ｔｇの接着剤が利用
できる。次に第１の接着剤を塗布した銅箔１１と、第２
の接着剤を塗布したＰＥＴフィルム１４の接着剤同士を
向かい合わせて熱ラミネートする。この方法によれば、
接着剤のわずかな軟化で両者を接着させることが可能で
あり、ラミネート時の熱ロールの表面温度を、接着剤の
Ｔｇ近くまで下げられるばかりでなく、圧力の下げるこ
とが可能となり、ＰＥＴフィルム１４の変形が抑えられ
て、高品質、高性能な基材を得ることができる。

【００２７】またこの第１の接着剤層１２／第２の接着
剤層１３の界面の密着力は、全面で接着していること、
外気と直接触れないこと等により、１００ｇｆ／ｃｍ以
上で十分な信頼性を得ることが可能であることも確認で
きた。

【００２８】なお、接着剤のＴｇ（ガラス転移温度）
は、ＤＳＣ（示差走査熱量計）［島津製作所（株）製、
ＤＳＣ−５０］を用い、試料を入れたアルミニウム製セ
ルを装着し、−４０℃から昇温速度２０℃／分で１５０
℃まで加熱し、１５０℃で３分保持した後、降温速度２
０℃／分で室温付近まで冷却したときに現れる発熱量
（Ｊ／ｇ）の点を測定した。

【００２９】以降に実施例に於いて本発明を具体的に述
べるが、本発明はこれに限定されるものではない。実施
例１を説明する。金属薄箔１１として印刷配線板用銅箔
１８μｍ厚さ品（商品名；ＢＨＹ−２２Ｂ−Ｔ、株式会
社ジャパンエナジー製、以下「銅箔」と略記）を用い、
透明プラスチックフィルムとしては、ポリエステルフィ
ルム１２５μｍ厚さ品（商品；エンブレットＳ、ユニチ
カ(株）製、以下「フィルム」と略記）を用いた。

【００３０】まず銅箔１１に第１の接着剤を塗布した。
第１の接着剤は、ポリエステル系接着剤（商品名；バイ
ロンＵＲ−１４００、東洋紡績(株)製）を用いた。この
接着剤はＴｇ８３℃である。この接着剤を銅箔１１上に
連続的に塗布、乾燥した。乾燥時の条件は１２０℃×１
分、乾燥後の接着剤層１２の厚さは、１０μｍとした。

【００３１】次にフィルム１４上に同じ接着剤を塗布し
た。塗布条件は銅箔１１上への塗布と同じ。厚さも同じ
１０μｍである。

【００３２】この両塗布品を連続的にロールラミネート
した。ラミネート機の概要を図２に示した。この設備の
構造は一般的であり、被ラミネート材の巻き出し装置
２、ラミネート前の予備加熱装置３、加熱・加圧可能な
ラミネートロール４、巻き取り装置５より成る。予備加
熱装置３は、低い温度の被ラミネート物が加熱・加圧ロ
ール４に接触すると急激な温度変化で変形し、皺が入っ
てしまうので予め被ラミネート物を加熱して、温度変化
を緩やかにするために設置されるものであり、フィルム
や薄い金属等を処理する場合には、必須の設備である。

【００３３】次に両塗布品の接着剤層同士を連続ラミネ
ートによって貼り合わせた。ラミネート時の速度として
は、生産性を考慮して２ｍ／分に固定した（以下の実施
例でも同じ）。ラミネート条件について種々検討した結
果、予備加熱による非ラミネート物温度が７０〜８０
℃、ラミネートロール表面温度１０５℃、圧力１０Ｋｇ
／ｃｍにおいて良好な結果が得られた。

【００３４】実施例２を説明する。使用した金属薄箔１
１は実施例１と同じ。第２の接着剤としては、ダイヤナ
ールＢＲ−６４（三菱レイヨン(株)製アクリル樹脂）を
用いた。この接着剤のＴｇは５５℃である。金属薄箔１
１及びフィルム１４上への接着剤塗布条件は実施例１と
同じ。ラミネート条件について種々検討した結果、予備
加熱による被ラミネート物温度が５５〜６５℃、ラミネ
ートロール表面温度９５℃、圧力１０ｋｇｆ／ｃｍにお
いて良好な結果が得られた。

【００３５】実施例３を説明する。金属薄箔１１として
印刷配線板用銅箔１２μｍ厚さ品（商品名；ＳＱ−ＶＬ
Ｐ、三井金属鉱業株式会社ジャパンエナジー製、以下
「銅箔」と略記）を用いた。まず銅箔１１に第３の接着
剤を塗布した。第３の接着剤は、エポキシ系樹脂（商品
名；アラルダイトＬＳＡＣ６００６、旭チバ（株）製）
１００部に対して、メチルテトラヒドロ無水フタル酸６
０部、２メチル４エチルイミダゾール０．５部の配合の
ものを用いた。この硬化後の接着剤のＴｇは８８℃であ
る。この接着剤を銅箔１１上に連続的に塗布、乾燥し
た。乾燥時の条件は１２０℃×１分、乾燥後の接着剤層
１２の厚さは、１０μｍとした。

【００３６】次に貼り合わせるフィルムとして、ポリエ
ステルフィルム２５μｍ厚さに粘着剤が１０μｍ塗布さ
れた粘着フィルム（商品名；ヒタレックスＬ−８１１
０、日立化成工業(株)製）１４を用いた。この粘着剤は
Ｔｇ−５℃である。ラミネート条件について種々検討し
た結果、予備加熱による被ラミネート物温度が２５℃
（室温）、ラミネートロール表面温度も２５℃（室
温）、圧力１５ｋｇｆ／ｃｍにおいて良好な結果が得ら
れた。

【００３７】比較例１を説明する。実施例１で使用した
接着剤を１層のみで基材を製造した。手順としては、フ
ィルムに接着剤を塗布し、銅箔とラミネートした。接着
剤の厚さは１０μｍであり、塗工条件は実施例１と同
じ。

【００３８】ラミネート条件について種々検討した結
果、予備加熱による被ラミネート物温度が１１５〜１３
０℃、ラミネートロール表面温度１５０℃、圧力２０ｋ
ｇｆ／ｃｍにおいて良好な結果が得られた。

【００３９】比較例２を説明する。接着剤としては、ダ
イヤナールＢＲ−６４（三菱レイヨン(株)製アクリル樹
脂）を用いた。この接着剤のＴｇは５５℃である。この
接着剤を１層のみで基材を製造した。手順としては、フ
ィルムに接着剤を塗布し、銅箔とラミネートした。接着
剤の厚さは１０μｍであり、塗工条件は実施例１と同
じ。

【００４０】ラミネート条件について種々検討した結
果、予備加熱による被ラミネート物温度が１００〜１１
０℃、ラミネートロール表面温度１２０℃、圧力２０ｋ
ｇｆ／ｃｍにおいて良好な結果が得られた。

【００４１】実施例１−３及び比較例１、２の結果を図
３に示す。これをみると、実施例１−３においては、歪
み、シワが無く良好であったが、比較例１、２では、軽
微な歪みやシワが発生しており、不良であった。

【００４２】以上実施例で説明したように、本発明で得
られた光透過性電磁シールドフィルタ基材は、その接着
剤層を２層で構成させることで低温度の工程で製造可能
となり、結果として製品の信頼性確保は勿論のこと、形
状に優れ、高品質な電磁シールドフィルムを高歩留で生
産できる。

【００４３】

【発明の効果】本発明によれば、電磁シールドフィルタ
基材において、用いる接着剤を改善し、基材の平滑性を
確保し、かつ耐薬品性、信頼性をもったディスプレイ用
光透過性電磁波シールドフィルタ及びその基材とその製
造方法を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の光透過性電磁波シールドフィルタ基材
の構成説明図。

【図２】実施例の光透過性電磁波シールドフィルタ基材
の製造装置のラミネート機の概略説明図。

【図３】実施例及び比較例の測定結果を説明する図表。

【図４】電磁シールドフィルタの概要の説明図。

【符号の説明】

１光透過性電磁波シールドフィルタ基材１１銅箔１２、１３接着剤層１４透明基板２巻き出し装置３予備加熱装置４ラミネートロール５巻き取り装置６電磁シールドフィルタ６１反射防止層６２硬質透明板６３電磁波シールド層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ // Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 9:00 9:00 (72)発明者福山正充茨城県下館市大字五所宮1150番地日立化成工業株式会社五所宮事業所内 (72)発明者野村宏茨城県下館市大字五所宮1150番地日立化成工業株式会社五所宮事業所内Ｆターム(参考） 4F100 AB01A AB17 AB33A AK01B AK41G AK42 AR00D AR00E BA03 BA05 BA10A BA10B BA10D CB00C EJ15A GB41 JB01C JD08A JJ03C JK12E JL11C JM02A JN01B JN01E JN06D 4F211 AD03 AD08 AE03 AG01 AG03 AH73 TA03 TA04 TC02 TD11 TH06 TN09 TN43 TN50 TQ03 5E321 AA04 BB21 CC16 GG05 GH01 5G435 AA14 BB02 BB05 BB06 GG33 KK07 LL07 LL08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】金属薄箔のフォトエッチング法にて形成
された電磁波シールド層と、透明プラスチックフィルム
と、電磁波シールド層と透明プラスチックフィルムの間
に設けた接着剤層とからなるディスプレイ用光透過性電
磁波シールドフィルタ基材であって、前記接着剤層は、複数層の接着剤からなることを特徴と
するディスプレイ用光透過性電磁波シールドフィルタ基
材。
【請求項２】上記接着剤層の金属薄箔に接する層の接
着剤は、フォトエッチング工程での耐熱性、耐薬品性を
有する請求項１記載のディスプレイ用光透過性電磁波シ
ールドフィルタ基材。
【請求項３】金属薄箔のフォトエッチング法にて形成
された電磁波シールド層と、透明プラスチックフィルム
と、電磁波シールド層と透明プラスチックフィルムの間
に設けた接着剤層とからなるディスプレイ用光透過性電
磁波シールドフィルタ基材の製造方法であって、金属薄箔上にフォトエッチング工程での耐熱性、耐薬品
性を有する接着剤からなる層を形成する工程と、透明プ
ラスチックフィルム上に接着剤層を形成する工程と、フ
ォトエッチング工程での耐熱性、耐薬品性を有する接着
剤からなる層を形成した金属薄箔と、接着剤層を形成し
た透明プラスチックフィルムとを、接着剤同士を向かい
合わせてラミネート法によって貼り合わせる工程とを有
することを特徴とするディスプレイ用光透過性電磁波シ
ールドフィルタ基材の製造方法。
【請求項４】反射防止層と、硬質透明板と、基材とか
らなるディスプレイ用光透過性電磁波シールドフィルタ
であって、前記基材は、請求項１又は２に記載の基材であることを
特徴とするディスプレイ用光透過性電磁波シールドフィ
ルタ。